JP6451424B2 - 高耐久性低屈折率膜 - Google Patents
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Description
但し、式(1)中、前記膜Aとは成膜直後の膜をいい、前記膜Bとは成膜後、高温高湿中(温度80℃、相対湿度85%RHの条件)で2000時間保持した後の膜をいう。
但し、式(1)中、前記膜Aとは成膜直後の膜をいい、前記膜Bとは成膜後、高温高湿中(温度80℃、相対湿度85%RHの条件)で2000時間保持した後の膜をいう。
(但し、式(2)中、Rは1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表す。)
(但し、式(3)R1は1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表し、nは0〜8の整数を表す。)
先ず、ケイ素アルコキシド(A)としてテトラメトキシシラン(TMOS)を、フルオロアルキル基含有のケイ素アルコキシド(F)としてトリフルオロプロピルトリメトキシシラン(TFPTMS)を用意し、ケイ素アルコキシド(A)の質量を1としたときのフルオロアルキル基含有のケイ素アルコキシド(F)の割合(質量比)が0.6になるように秤量し、これらをセパラブルフラスコ内に投入して混合することにより混合物を得た。このケイ素アルコキシド(A)とフルオロアルキル基含有のケイ素アルコキシド(F)の合計量1質量部に対して1.0質量部となる量のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)を有機溶媒(D)として添加し、30℃の温度で15分間撹拌することにより第1液を調製した。なお、ケイ素アルコキシド(A)としては、単量体を予め3〜5程度重合させたオリゴマーを使用した。
ケイ素アルコキシド(A)とフルオロアルキル基含有のケイ素アルコキシド(F)の混合物を1質量部としたときの水(B)の割合を、以下の表1に示すように変更して組成物を調製したこと以外は、実施例1−1と同様にして膜を形成した。
ケイ素アルコキシド(A)とフルオロアルキル基含有のケイ素アルコキシド(F)の混合物を1質量部としたときの有機酸(C)の割合を、以下の表1に示すように変更したこと、分散させたヒュームドシリカ粒子の種類を、平均粒径が45nm、比表面積(BET値)が170m2/gのヒュームドシリカ粒子(日本アエロジル社製 商品名:「AEROSIL R974(登録商標)」)に変更したこと、及びシリカゾル(E)の割合を、加水分解物中のSiO2分1質量部に対するシリカゾル(E)のSiO2分が以下の表1に示す割合になるように変更して組成物を調製したこと以外は、実施例1−1と同様にして膜を形成した。
ケイ素アルコキシド(A)とフルオロアルキル基含有のケイ素アルコキシド(F)の混合物を1質量部としたときの有機溶媒(D)の割合、有機溶媒(D)の種類、無機酸又は有機酸(C)の割合、無機酸又は有機酸(C)の種類を、以下の表1に示すように変更したこと、及び第1液に第2液を添加する際のウォーターバスの温度を63℃に変更して組成物を調製したこと以外は、実施例1−1と同様にして組成物を調製した。なお、実施例3−1では、組成物を調製する際の上記ウォーターバスの温度のみ変更した。また、表中、「PGME」はプロピレングリコールモノメチルエーテルを示す。
ケイ素アルコキシド(A)の質量を1としたときのフルオロアルキル基含有のケイ素アルコキシド(F)の割合、ケイ素アルコキシド(A)とフルオロアルキル基含有のケイ素アルコキシド(F)の混合物を1質量部としたときの水(B)の割合、有機酸(C)の割合、有機溶媒(D)の割合を、以下の表2に示す割合になるように変更したこと、シリカゾル(E)の割合を、加水分解物中のSiO2分1質量部に対するシリカゾル(E)のSiO2分が以下の表2に示す割合になるように変更したこと、及び分散させたヒュームドシリカの種類を、平均粒径が37nm、比表面積(BET値)が260m2/gのヒュームドシリカ粒子(日本アエロジル社製 商品名:「AEROSIL R106(登録商標)」)に変更して組成物を調製したこと以外は、実施例1−1と同様にして膜を形成した。
先ず、ケイ素アルコキシド(A)としてテトラメトキシシラン(TMOS)を用意し、このケイ素アルコキシド(A)1質量部に対して1.5質量部となる量のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)を有機溶媒(D)として添加し、30℃の温度で15分間撹拌することにより第1液を調製した。なお、ケイ素アルコキシド(A)としては、単量体を予め3〜5程度重合させたオリゴマーを使用した。
ケイ素アルコキシド(A)としてテトラメトキシシラン(TMOS)の代わりに、テトラエトキシシラン(TEOS)を用いて組成物を調製したこと以外は、実施例5−1と同様にして膜を形成した。
無機酸又は有機酸(C)の種類を、以下の表2に示すように変更して組成物を調製したこと以外は、実施例5−1と同様にして膜を形成した。
分散させたヒュームドシリカ粒子の種類を、平均粒径が42nm、比表面積(BET値)が210m2/gのヒュームドシリカ粒子(日本アエロジル社製 商品名:「AEROSIL RX300(登録商標)」)に変更したこと、及びシリカゾル(E)の割合を、加水分解物中のSiO2分1質量部に対するシリカゾル(E)のSiO2分が以下の表2に示す割合になるように変更して組成物を調製したこと以外は、実施例5−1と同様にして膜を形成した。
有機溶媒(D)の種類を、以下の表2に示すように変更したこと、分散させたヒュームドシリカ粒子の種類を、平均粒径が42nm、比表面積(BET値)が210m2/gのヒュームドシリカ粒子(日本アエロジル社製 商品名:「AEROSIL RX300(登録商標)」)に変更したこと、及びシリカゾル(E)の割合を、加水分解物中のSiO2分1質量部に対するシリカゾル(E)のSiO2分が以下の表2に示す割合になるように変更したこと、及び調製後の組成物中に含まれる上記凝集体の大きさが150nmになるように制御して組成物を調製したこと以外は、実施例5−1と同様にして膜を形成した。なお、表中、「PGME」はプロピレングリコールモノメチルエーテルを示す。
無機酸又は有機酸(C)の種類を、以下の表2に示すように変更したこと、及び分散させたヒュームドシリカ粒子の種類を、平均粒径が34nm、比表面積(BET値)が150m2/gのヒュームドシリカ粒子(日本アエロジル社製 商品名:「AEROSIL RX200(登録商標)」)に変更して組成物を調製したこと以外は、実施例5−1と同様にして膜を形成した。
分散させたヒュームドシリカ粒子の種類を、平均粒径が37nm、比表面積(BET値)が260m2/gのヒュームドシリカ粒子(日本アエロジル社製 商品名:「AEROSIL R106(登録商標)」)に変更したこと、シリカゾル(E)の割合を、加水分解物中のSiO2分1質量部に対するシリカゾル(E)のSiO2分が以下の表2に示す割合になるように変更したこと、及び調製後の組成物中に含まれる上記凝集体の大きさが20nmになるように制御して組成物を調製したこと以外は、実施例5−1と同様にして膜を形成した。なお、凝集体の大きさの制御は、上記ホモミクサーの代わりに、0.5mmφのジルコニアビーズを用いて、ペイントシェーカーにて15時間振とうし、十分に分散させることにより行った。
ケイ素アルコキシド(A)としてテトラメトキシシラン(TMOS)の代わりに、テトラエトキシシラン(TEOS)を用い、ケイ素アルコキシド(A)1質量部に対してフルオロアルキル基含有のケイ素アルコキシド(F)を、以下の表2に示す割合で、かつ上述の実施例1−1と同様の手順により混合したこと、及び水(B)の割合、有機酸(C)の割合、有機溶媒(D)の割合を、ケイ素アルコキシド(A)とフルオロアルキル基含有のケイ素アルコキシド(F)の混合物1質量部に対して、以下の表2に示す割合に変更して組成物を調製したこと以外は、実施例5−1と同様にして膜を形成した。
気相法(乾式法)で得られたヒュームドシリカ粒子の代わりに、湿式法で得られた平均粒径が20nm、比表面積(BET値)が130m2/gのコロイダルシリカ粒子(日産化学工業社製 商品名:「ST-O」)を分散させたシリカゾル(E)を用い、加水分解物中のSiO2分1質量部に対するシリカゾル(E)のSiO2分が以下の表2に示す割合になるように変更したこと、及び有機溶媒(D)の種類を変更して組成物を調製したこと以外は、実施例5−1と同様にして膜を形成した。
気相法(乾式法)で得られたヒュームドシリカ粒子の代わりに、湿式法で得られた平均粒径が20nm、比表面積(BET値)が130m2/gのコロイダルシリカ粒子(日産化学工業社製 商品名:「ST-O」)を分散させたシリカゾル(E)を用いたこと以外は、実施例5−1と同様にして組成物を調製した。また、焼成時の温度を500℃で、焼成時間を180分としたこと以外は、実施例5−1と同様にして膜を形成した。
焼成時の温度を50℃で、焼成時間を10分としたこと以外は、実施例1−1と同様にして膜を形成した。
実施例1−1〜実施例5−10及び比較例1−1〜比較例6−2で得られた膜について、空隙率、接触角、屈折率、膜中のシリカ粒子の平均一次粒径、膜中のシリカ構造体に占めるシリカ粒子部の割合を評価した。これらの結果を以下の表3、表4に示す。
Claims (4)
- 基材又は基材の上に形成された層上に、ヒュームドシリカ粒子同士が凝集する凝集体とケイ素アルコキシドの加水分解物を含む組成物を塗布し、焼成することにより得られた低屈折率膜であり、
空隙率が42〜55%の範囲であり、
成膜直後の屈折率が1.19〜1.24の範囲であり、
下記式(1)から算出される屈折率の変化率が8%以下であり、
前記低屈折率膜の内部に前記低屈折率膜の外部に繋がる凝集粒子間の空孔が存在する低屈折率膜。
屈折率の変化率(% =(膜Bの屈折率/膜Aの屈折率−1)×100 (1)
但し、式(1)中、前記膜Aとは成膜直後の膜をいい、前記膜Bとは成膜後、高温高湿中(温度80℃、相対湿度85%RHの条件)で2000時間保持した後の膜をいう。 - 膜中の前記ヒュームドシリカ粒子の平均一次粒径が5〜50nmの範囲である請求項1記載の低屈折率膜。
- 膜中の前記ヒュームドシリカ粒子と前記ケイ素アルコキシドの加水分解物で構成されるシリカ構造体に占めるシリカ粒子部が50〜99質量%である請求項2記載の低屈折率膜。
- 膜表面の接触角が85〜125°である請求項1ないし3いずれか1項に記載の低屈折率膜。
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