JP7163456B2 - イオン化方法及び質量分析方法 - Google Patents
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Description
図15に示すように、第1の変形例に係る試料支持体2Aは、基板21に枠体22が設けられておらず、基板21の一面21aに粘着テープTが直接貼り付けられている点で、試料支持体2と主に相違する。粘着テープTは、粘着面Taが基板21の一面21aに対向し、且つ、基板21の外縁よりも外側に延在する部分を有するように、一面21aの外縁部に貼り付けられている。これにより、図15に示すように、粘着面Taを基板21の外縁及び試料台1の載置面1aに貼り付けることができる。その結果、試料支持体2Aは、粘着テープTによって試料台1に対して固定される。試料支持体2Aによれば、例えば表面に凹凸を有する試料10の質量分析を行う場合等において、試料10に対する基板21の追従性を向上させることができる。
図16に示すように、第2の変形例に係る試料支持体2Bは、基板21の外縁よりも外側に延在する部分を有する枠体122を備える点で、試料支持体2と主に相違する。このような枠体122により、試料支持体2Bを持ち運ぶ際等において、基板21の端部の破損を適切に抑制することができる。さらに、図16に示すように、枠体122において基板21の外縁よりも外側に延在する部分には、ネジ30を挿通させるための挿通孔122aが設けられている。この場合、例えば挿通孔122aに対応する位置にネジ孔1bを有する試料台1Aを用いることで、ネジ留めによって試料支持体2Bを試料台1Aに確実に固定することができる。具体的には、挿通孔122a及びネジ孔1bにネジ30を挿通させることで、試料支持体2Bを試料台1Aに固定することができる。
図17に示すように、第3の変形例に係る試料支持体2Cは、基板21の他面21bの外縁部に設けられ、一面21aから他面21bに向かう方向を向く粘着面24aを有する粘着層24を備える点で、試料支持体2と主に相違する。粘着層24は、例えば測定対象の試料10の厚みに応じて予め設定された厚さを有する両面テープ等である。例えば、粘着層24の一方の粘着面24bは、予め基板21の他面21bの外縁部に貼り付けられており、粘着層24の他方の粘着面24aは、試料支持体2Cを試料台1に固定する際に、載置面1aに貼り付けられる。試料支持体2Cによれば、試料支持体2Cを試料台1に固定する構成を単純化することができる。
Claims (10)
- 一面から他面にかけて貫通する複数の貫通孔が設けられた基板と、導電性材料からなり、少なくとも前記一面において前記貫通孔が設けられていない部分を覆う導電層と、を備える試料支持体が用意される第1工程と、
試料が試料台に載置され、前記他面が前記試料に対向するように前記試料支持体が前記試料上に配置され、前記試料支持体と前記試料台との間に配置される接着層を介して前記試料支持体が前記試料と接触するように前記試料台に固定される第2工程と、
前記試料支持体が前記接着層を介して前記試料台に固定された状態で前記一面にレーザが照射されることにより、毛細管現象によって前記他面側から前記貫通孔を介して前記一面側に移動した前記試料がイオン化される第3工程と、を含むイオン化方法。 - 前記接着層は、前記試料支持体に接着される第1粘着面と前記試料台に接着される第2粘着面とを有する両面テープである、請求項1に記載のイオン化方法。
- 前記接着層は、導電性を有する、請求項1又は2に記載のイオン化方法。
- 前記基板はバルブ金属又はシリコンを陽極酸化することにより形成されている、請求項1~3のいずれか一項に記載のイオン化方法。
- 前記貫通孔の幅は1~700nmである、請求項1~4のいずれか一項に記載のイオン化方法。
- 前記基板の厚さは5~10μmである、請求項1~5のいずれか一項に記載のイオン化方法。
- 前記試料支持体が、前記基板の前記一面の外縁部に取り付けられた枠体を更に備える、請求項1~6のいずれか一項に記載のイオン化方法。
- 導電性材料からなり、一面から他面にかけて貫通する複数の貫通孔が設けられた基板を備える試料支持体が用意される第1工程と、
試料が試料台に載置され、前記他面が前記試料と接触するように前記試料支持体が前記試料上に配置され、前記試料支持体と前記試料台との間に配置される接着層を介して前記試料支持体が前記試料台に固定される第2工程と、
前記試料支持体が前記接着層を介して前記試料台に固定された状態で前記一面にレーザが照射されることにより、毛細管現象によって前記他面側から前記貫通孔を介して前記一面側に移動した前記試料がイオン化される第3工程と、を含むイオン化方法。 - 請求項1~8のいずれか一項に記載のイオン化方法の各工程と、
前記第3工程においてイオン化された前記試料が検出される第4工程と、
前記イオン化された前記試料の検出結果に基づいて、前記試料を構成する試料分子の二次元分布図を画像化する第5工程と、を含む、質量分析方法。 - 前記第3工程での前記レーザの照射、及び前記第4工程でのイオン化された前記試料の検出は、前記レーザの照射位置を変えながら当該照射位置毎に行われる、請求項9に記載の質量分析方法。
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