JP7227823B2 - 試料支持体 - Google Patents

Description

本発明は、試料支持体に関する。

質量分析等を行うために生体試料等の試料をイオン化するイオン化法として、マトリックス支援レーザ脱離イオン化法（ＭＡＬＤＩ：Matrix-Assisted Laser Desorption/Ionization）、表面支援レーザ脱離イオン化法（ＳＡＬＤＩ：Surface-Assisted Laser Desorption/Ionization）、脱離エレクトロスプレーイオン化法（ＤＥＳＩ：Desorption Electrospray Ionization）等が知られている。マトリックス支援レーザ脱離イオン化法は、レーザ光を吸収するマトリックスと呼ばれる低分子量の有機化合物を試料に加え、これにレーザ光を照射することにより、試料をイオン化する方法である。表面支援レーザ脱離イオン化法は、表面に微細な凹凸構造を有するイオン化基板に試料を滴下し、これにレーザ光を照射することにより、試料をイオン化する方法である。脱離エレクトロスプレーイオン化法は、試料に対して、帯電した微小液滴（charged-droplets）を照射することにより、試料を脱離・イオン化する方法である。

また、試料の成分の位置情報（試料を構成する分子の二次元分布情報）を維持しつつ試料の成分をイオン化することを可能とする試料支持体として、第１表面、及び第１表面とは反対側の第２表面、並びに、第１表面及び第２表面のそれぞれに開口する複数の貫通孔を有する基板を備えるものが知られている（例えば、特許文献１参照）。このような試料支持体においては、試料に基板の第２表面が接触させられると、基板において、試料の成分が、複数の貫通孔を介して第２表面側から第１表面側に移動し、第１表面側に留まる。

特許第６０９３４９２号公報

上述したようなイオン化法においては、その対象として、凍結された試料が用いられる場合がしばしばある。その場合に、上述したような試料支持体においては、複数の貫通孔を介して試料の成分をいかに均一に移動させ得るかが重要となる。

本発明は、特に凍結された試料を用いる場合に、複数の貫通孔を介して試料の成分を均一に移動させることができる試料支持体を提供することを目的とする。

本発明の試料支持体は、試料のイオン化用の試料支持体であって、第１表面、及び第１表面とは反対側の第２表面、並びに、第１表面及び第２表面のそれぞれに開口する複数の貫通孔を有する基板と、基板に取り付けられたフレームと、を備え、フレームの熱伝導率は、１．０Ｗ／ｍ・Ｋ以下である。

この試料支持体では、凍結された試料に基板の第２表面が接触させられて、その状態で試料が解凍されると、基板において、試料の成分が、複数の貫通孔を介して第２表面側から第１表面側に移動し、第１表面側に留まる。このとき、フレームの熱伝導率が１．０Ｗ／ｍ・Ｋ以下であるため、例えばフレームを素手でハンドリングしたとしても、フレームを介した試料への熱伝導が抑制され、その結果、試料の解凍が均一に進行する。試料の解凍が均一に進行すると、試料と基板の第２表面とが均一に接触し、その結果、試料の成分が、複数の貫通孔を介して第２表面側から第１表面側に確実に移動する。よって、この試料支持体によれば、特に凍結された試料を用いる場合に、複数の貫通孔を介して試料の成分を均一に移動させることができる。

本発明の試料支持体では、複数の貫通孔のそれぞれの幅は、１～７００ｎｍであり、基板の厚さは、１～５０μｍであってもよい。これにより、凍結された試料に基板の第２表面が接触させられて試料が解凍された場合に、基板において、試料の成分を、複数の貫通孔を介して第２表面側から第１表面側にスムーズに移動させ、第１表面側に適切な状態で留まらせることができる。

本発明の試料支持体では、基板は、バルブ金属又はシリコンを陽極酸化することにより形成されていてもよい。これにより、複数の貫通孔を有する基板を容易に且つ確実に得ることができる。

本発明の試料支持体では、基板及びフレームのそれぞれの材料は、電気絶縁性の材料であってもよい。これにより、例えば、脱離エレクトロスプレーイオン化法において、高電圧が印加された微小液滴照射部が第１表面に近付けられても、微小液滴照射部と試料支持体との間での放電の発生が抑制される。したがって、脱離エレクトロスプレーイオン化法において、特に凍結された試料を用いる場合に、帯電した微小液滴の照射によって試料の成分を確実にイオン化することができる。

本発明の試料支持体では、フレームの材料は、セラミックス又はガラスであってもよい。これにより、熱伝導率が１．０Ｗ／ｍ・Ｋ以下である電気絶縁性のフレームを容易に得ることができる。特にフレームの材料がセラミックス又はガラスであると、凍結した試料の解凍が進行する際に、試料が収縮するのを抑制することができる。

本発明の試料支持体では、フレームの材料は、樹脂であってもよい。これにより、熱伝導率が１．０Ｗ／ｍ・Ｋ以下である電気絶縁性のフレームを容易に得ることができる。本発明の試料支持体では、樹脂は、ＰＥＴ、ＰＥＮ又はＰＩであってもよい。これにより、熱伝導率が１．０Ｗ／ｍ・Ｋ以下である電気絶縁性のフレームをより容易に得ることができる。

本発明の試料支持体では、フレームの厚さは、１０～５００μｍであってもよい。これにより、例えば、脱離エレクトロスプレーイオン化法において、微小液滴照射部が第１表面に近付けられても、微小液滴照射部とフレームとの物理的な干渉が生じ難くなる。したがって、脱離エレクトロスプレーイオン化法において、微小液滴照射部を第１表面に近付けて、第１表面に対して、帯電した微小液滴を照射することにより、複数の貫通孔を介して第１表面側に移動した試料の成分を確実にイオン化することができる。

本発明の試料支持体では、フレームは、可視光に対して透過性を有してもよい。これにより、フレームを介した試料の視認性が向上するため、試料に基板の第２表面を確実に接触させることができる。

本発明の試料支持体では、フレームは、可撓性を有してもよい。これにより、試料支持体の取扱いの容易性を向上させることができる。

本発明の試料支持体では、基板は、複数の基板であり、フレームは、複数の基板にそれぞれ対応する複数のフレームであり、複数のフレームは、少なくとも１列に配列された状態で互いに接続されていてもよい。これにより、対応する基板及びフレームを必要な分だけ切り離して使用することができる。

本発明によれば、特に凍結された試料を用いる場合に、複数の貫通孔を介して試料の成分を均一に移動させることができる試料支持体を提供することが可能となる。

一実施形態の試料支持体の平面図である。 図１に示されるII－II線に沿っての試料支持体の断面図である。 図１に示される試料支持体の基板の拡大像である。 図１に示される試料支持体を用いた質量分析方法の工程を示す図である。 図１に示される試料支持体を用いた質量分析方法の工程を示す図である。 図１に示される試料支持体を用いた質量分析方法が実施される質量分析装置の構成図である。 変形例の試料支持体の斜視図である。 変形例の試料支持体を用いた質量分析方法の工程を示す図である。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
［試料支持体］

図１及び図２に示されるように、試料支持体１は、基板２と、フレーム３と、接着層４と、を備えている。基板２は、第１表面２ａ及び第２表面２ｂ、並びに、複数の貫通孔２ｃを有している。第２表面２ｂは、第１表面２ａとは反対側の表面である。各貫通孔２ｃは、第１表面２ａ及び第２表面２ｂのそれぞれに開口している。本実施形態では、複数の貫通孔２ｃは、基板２の全体に一様に（均一な分布で）形成されており、各貫通孔２ｃは、基板２の厚さ方向（第１表面２ａ及び第２表面２ｂが互いに対向する方向）に延在している。

基板２は、電気絶縁性の部材である。本実施形態では、基板２の厚さは、１～５０μｍであり、各貫通孔２ｃの幅は、１～７００ｎｍ程度である。基板２の厚さ方向から見た場合における基板２の形状は、例えば、直径が数ｍｍ～数ｃｍ程度の略円形である。基板２の厚さ方向から見た場合における各貫通孔２ｃの形状は、例えば、略円形である（図３参照）。なお、貫通孔２ｃの幅とは、基板２の厚さ方向から見た場合における貫通孔２ｃの形状が円形である場合には、貫通孔２ｃの直径を意味し、当該形状が円形以外の形状である場合には、貫通孔２ｃに収まる仮想的な最大円柱の直径（有効径）を意味する。

フレーム３は、第３表面３ａ及び第４表面３ｂ、並びに、開口３ｃを有している。第４表面３ｂは、第３表面３ａとは反対側の表面であり、基板２側の表面である。開口３ｃは、第３表面３ａ及び第４表面３ｂのそれぞれに開口している。フレーム３は、電気絶縁性の部材であり、フレーム３の熱伝導率は、１．０Ｗ／ｍ・Ｋ以下である。本実施形態では、フレーム３の材料は、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）又はＰＩ（ポリイミド）であり、また、フレーム３の厚さは、１０～５００μｍ（より好ましくは、１００μｍ以下）である。更に、本実施形態では、フレーム３は、可視光に対して透過性を有しており、また、フレーム３は、可撓性を有している。基板２の厚さ方向から見た場合におけるフレーム３の形状は、例えば、一辺が数ｃｍ程度の矩形である。基板２の厚さ方向から見た場合における開口３ｃの形状は、例えば、直径が数ｍｍ～数ｃｍ程度の円形である。なお、フレーム３の熱伝導率の下限値は、例えば、０．１Ｗ／ｍ・Ｋである。

フレーム３は、基板２に取り付けられている。本実施形態では、基板２の第１表面２ａのうち基板２の外縁に沿った領域と、フレーム３の第４表面３ｂのうち開口３ｃの外縁に沿った領域とが、接着層４によって互いに固定されている。接着層４の材料は、例えば、放出ガスの少ない接着材料（低融点ガラス、真空用接着剤等）である。試料支持体１では、基板２のうちフレーム３の開口３ｃに対応する部分が、複数の貫通孔２ｃを介して第２表面２ｂ側から第１表面２ａ側に試料の成分を移動させるための実効領域Ｒとして機能する。

図３は、基板２の厚さ方向から見た場合における基板２の拡大像ある。図３において、黒色の部分は貫通孔２ｃであり、白色の部分は貫通孔２ｃ間の隔壁部である。図３に示されるように、基板２には、略一定の幅を有する複数の貫通孔２ｃが一様に形成されている。実効領域Ｒにおける貫通孔２ｃの開口率（基板２の厚さ方向から見た場合に実効領域Ｒに対して全ての貫通孔２ｃが占める割合）は、実用上は１０～８０％であり、特に６０～８０％であることが好ましい。複数の貫通孔２ｃの大きさは互いに不揃いであってもよいし、部分的に複数の貫通孔２ｃ同士が互いに連結していてもよい。

図３に示される基板２は、Ａｌ（アルミニウム）を陽極酸化することにより形成されたアルミナポーラス皮膜である。具体的には、Ａｌ基板に対して陽極酸化処理を施し、酸化された表面部分をＡｌ基板から剥離することにより、基板２を得ることができる。なお、基板２は、Ｔａ（タンタル）、Ｎｂ（ニオブ）、Ｔｉ（チタン）、Ｈｆ（ハフニウム）、Ｚｒ（ジルコニウム）、Ｚｎ（亜鉛）、Ｗ（タングステン）、Ｂｉ（ビスマス）、Ｓｂ（アンチモン）等のＡｌ以外のバルブ金属を陽極酸化することにより形成されてもよいし、Ｓｉ（シリコン）を陽極酸化することにより形成されてもよい。
［イオン化法及び質量分析方法］

試料支持体１を用いたイオン化法及び質量分析方法について説明する。ここでのイオン化法は、脱離エレクトロスプレーイオン化法である。脱離エレクトロスプレーイオン化法は、大気圧雰囲気中で実施されため、試料の直接分析が可能となり、試料を手軽に交換して観察及び分析を行い得る点で有利である。なお、図４及び図５では、試料支持体１において、貫通孔２ｃ及び接着層４の図示が省略されている。また、図１及び図２に示される試料支持体１と図４及び図５に示される試料支持体１とでは、図示の便宜上、寸法の比率等が異なっている。

まず、試料のイオン化用の試料支持体として、上述した試料支持体１を用意する（第１工程）。試料支持体１は、イオン化法及び質量分析方法の実施者によって製造されることにより用意されてもよいし、試料支持体１の製造者又は販売者等から譲渡されることにより用意されてもよい。

続いて、図４の（ａ）に示されるように、スライドグラス（載置部）６の載置面６ａに試料Ｓを載置する（第２工程）。試料Ｓは、例えば組織切片等の薄膜状の生体試料（含水試料）であり、凍結された状態にある。続いて、図４の（ｂ）に示されるように、試料Ｓに基板２の第２表面２ｂが接触するように載置面６ａに試料支持体１を載置する（第２工程）。このとき、基板２の厚さ方向から見た場合に試料Ｓが実効領域Ｒ内に位置するように、試料支持体１を配置する。続いて、図５の（ａ）に示されるように、電気絶縁性のテープ７を用いてフレーム３をスライドグラス６に固定する。この状態で、試料Ｓが解凍されると、図５の（ｂ）に示されるように、基板２においては、例えば毛細管現象によって、試料Ｓの成分Ｓ１が複数の貫通孔２ｃ（図２参照）を介して第２表面２ｂ側から第１表面２ａ側に移動し、例えば表面張力によって、試料Ｓの成分Ｓ１が第１表面２ａ側に留まる。

続いて、試料Ｓが乾燥したら、図６に示されるように、質量分析装置１０のイオン化室２０内のステージ２１上に、スライドグラス６、試料Ｓ及び試料支持体１を載置する。イオン化室２０内は、大気圧雰囲気である。続いて、基板２の第１表面２ａのうち実効領域Ｒに対応する領域に対して、帯電した微小液滴Ｉを照射することにより、第１表面２ａ側に移動した試料Ｓの成分Ｓ１をイオン化し、イオン化された成分である試料イオンＳ２を吸引する（第３工程）。本実施形態では、例えばステージ２１をＸ軸方向及びＹ軸方向に移動させることにより、基板２の第１表面２ａのうち実効領域Ｒに対応する領域に対して、帯電した微小液滴Ｉの照射領域Ｉ１を相対的に移動させる（つまり、当該領域に対して、帯電した微小液滴Ｉを走査する）。以上の第１工程、第２工程及び第３工程が、試料支持体１を用いた脱離エレクトロスプレーイオン化法に相当する。

イオン化室２０内では、ノズル２２から、帯電した微小液滴Ｉが噴射され、イオン輸送管２３の吸引口から試料イオンＳ２が吸引される。ノズル２２は、二重筒構造を有している。ノズル２２の内筒には、高電圧が印加された状態で溶媒が案内される。これにより、ノズル２２の先端に達した溶媒に、片寄った電荷が付与される。ノズル２２の外筒には、ネブライズガスが案内される。これにより、溶媒が微小液滴となって噴霧され、溶媒が気化する過程で生成された溶媒イオンが、帯電した微小液滴Ｉとして出射される。

イオン輸送管２３の吸引口から吸引された試料イオンＳ２は、イオン輸送管２３によって質量分析室３０内に輸送される。質量分析室３０内は、高真空雰囲気（真空度１０^－４Torr以下の雰囲気）の条件下にある。質量分析室３０内では、試料イオンＳ２がイオン光学系３１で収束され、高周波電圧が印加された四重極質量フィルタ３２に導入される。高周波電圧が印加された四重極質量フィルタ３２に試料イオンＳ２が導入されると、当該高周波電圧の周波数によって決定される質量数を有するイオンが選択的に通過させられ、通過させられたイオンが検出器３３で検出される（第４工程）。四重極質量フィルタ３２に印加する高周波電圧の周波数を走査することにより、検出器３３に到達するイオンの質量数を順次変化させて、所定の質量範囲の質量スペクトルを得る。本実施形態では、帯電した微小液滴Ｉの照射領域Ｉ１の位置に対応するように検出器３３にイオンを検出させて、試料Ｓを構成する分子の二次元分布を画像化する。以上の第１工程、第２工程、第３工程及び第４工程が、試料支持体１を用いた質量分析方法に相当する。
［作用及び効果］

試料支持体１では、凍結された試料Ｓに基板２の第２表面２ｂが接触させられて、その状態で試料Ｓが解凍されると、基板２において、試料Ｓの成分Ｓ１が、複数の貫通孔２ｃを介して第２表面２ｂ側から第１表面２ａ側に移動し、第１表面２ａ側に留まる。このとき、フレーム３の熱伝導率が１．０Ｗ／ｍ・Ｋ以下であるため、例えばフレーム３を素手でハンドリングしたとしても、フレーム３を介した試料Ｓへの熱伝導が抑制され、その結果、試料Ｓの解凍が均一に進行する。試料Ｓの解凍が均一に進行すると、試料Ｓと基板２の第２表面２ｂとが均一に接触し、その結果、試料Ｓの成分Ｓ１が、複数の貫通孔２ｃを介して第２表面２ｂ側から第１表面２ａ側に確実に移動する。よって、試料支持体１によれば、特に凍結された試料Ｓを用いる場合に、複数の貫通孔２ｃを介して試料Ｓの成分Ｓ１を均一に移動させることができる。

また、試料支持体１では、各貫通孔２ｃの幅が１～７００ｎｍであり、基板２の厚さが１～５０μｍである。これにより、凍結された試料Ｓに基板２の第２表面２ｂが接触させられて、その状態で試料Ｓが解凍された場合に、基板２において、試料Ｓの成分Ｓ１を、複数の貫通孔２ｃを介して第２表面２ｂ側から第１表面２ａ側にスムーズに移動させ、第１表面２ａ側に適切な状態で留まらせることができる。

また、試料支持体１では、基板２が、バルブ金属又はシリコンを陽極酸化することにより形成されている。これにより、複数の貫通孔２ｃを有する基板２を容易に且つ確実に得ることができる。

また、試料支持体１では、基板２及びフレーム３のそれぞれの材料が電気絶縁性の材料である。これにより、例えば、脱離エレクトロスプレーイオン化法において、高電圧が印加された微小液滴照射部であるノズル２２が第１表面２ａに近付けられても、ノズル２２と試料支持体１との間での放電の発生が抑制される。ノズル２２と試料支持体１との距離が縮められると、イメージングにおいてエレクトロスプレー（帯電した微小液滴のスプレー）の拡散が抑えられるため、空間分解能を向上させることができる。そのため、上述したようにノズル２２を第１表面２ａに近付け得ることは、試料Ｓの成分Ｓ１を確実にイオン化する上で極めて有効である。したがって、脱離エレクトロスプレーイオン化法において、特に凍結された試料Ｓを用いる場合に、帯電した微小液滴Ｉの照射によって試料Ｓの成分Ｓ１を確実にイオン化することができる。

また、試料支持体１では、フレーム３の材料がＰＥＴ、ＰＥＮ又はＰＩである。これにより、熱伝導率が１．０Ｗ／ｍ・Ｋ以下である電気絶縁性のフレーム３を容易に得ることができる。

また、試料支持体１では、フレーム３の厚さが１０～５００μｍ（より好ましくは、１００μｍ以下）である。これにより、例えば、脱離エレクトロスプレーイオン化法において、ノズル２２が第１表面２ａに近付けられても、ノズル２２とフレーム３との物理的な干渉が生じ難くなる。したがって、脱離エレクトロスプレーイオン化法において、ノズル２２を第１表面２ａに近付けて、第１表面２ａに対して、帯電した微小液滴Ｉを照射することにより、複数の貫通孔２ｃを介して第１表面２ａ側に移動した試料Ｓの成分Ｓ１を確実にイオン化することができる。

また、試料支持体１では、フレーム３が可視光に対して透過性を有している。これにより、フレーム３を介した試料Ｓの視認性が向上するため、試料Ｓに基板２の第２表面２ｂを確実に接触させることができる。

また、試料支持体１では、フレーム３が可撓性を有している。これにより、試料支持体１の取扱いの容易性を向上させることができる。
［変形例］

本発明は、上述した実施形態に限定されない。例えば、図７に示されるように、試料支持体１は、複数の基板２と、複数の基板２にそれぞれ対応する複数のフレーム３と、を備え、複数のフレーム３は、少なくとも１列に配列された状態で互いに接続されていてもよい。これにより、対応する基板２及びフレーム３を必要な分だけ切り離して使用することができる。なお、その場合にフレーム３が可撓性を有していれば、少なくとも１列に配列された状態で互いに接続された複数のフレーム３をロール状に巻き取った状態で、試料支持体１の取り扱うことができる。

また、フレーム３の材料は、ＰＥＴ、ＰＥＮ又はＰＩ以外の樹脂であってもよい。その場合にも、熱伝導率が１．０Ｗ／ｍ・Ｋ以下である電気絶縁性のフレーム３を容易に得ることができる。また、フレーム３の材料は、セラミックス又はガラスであってもよい。その場合にも、熱伝導率が１．０Ｗ／ｍ・Ｋ以下である電気絶縁性のフレーム３を容易に得ることができる。特にフレーム３の材料がセラミックス又はガラスであると、凍結した試料Ｓの解凍が進行する際に、試料Ｓが収縮するのを抑制することができる。なお、熱伝導率が０．１Ｗ／ｍ・Ｋであるフレーム３を実現することができれば、フレーム３の材料は、特に限定されない。また、フレーム３は、例えば顔料によって、着色されていてもよい。これにより、試料支持体１を用途に応じて分類することができる。

また、上述した実施形態では、基板２に１つの実効領域Ｒが設けられていたが、基板２に複数の実効領域Ｒが設けられていてもよい。また、上述した実施形態では、基板２の全体に複数の貫通孔２ｃが形成されていたが、基板２のうち少なくとも実効領域Ｒに対応する部分に複数の貫通孔２ｃが形成されていればよい。また、上述した実施形態では、１つの実効領域Ｒに１つの試料Ｓが対応するように試料Ｓが配置されたが、１つの実効領域Ｒに複数の試料Ｓが対応するように試料Ｓが配置されてもよい。

また、フレーム３に、開口３ｃとは別の開口を形成し、その開口を利用して、テープ７で試料支持体１をスライドグラス６に固定してもよい。また、テープ７以外の手段（例えば、接着剤、固定具等を用いる手段）で試料支持体１をスライドグラス６に固定してもよい。一例として、図８に示されるように、ジェル８を用いて、試料支持体１をスライドグラス６に固定してもよい。その場合、ジェル８は、凍結した試料Ｓを取り扱う低温環境において固まらない材料（例えば、グリセロール等）であることが好ましい。手順としては、フレーム３における基板２側の表面のうち、基板２が固定されていない領域（例えば、フレーム３の四隅等）にジェル８を塗布する。このとき、ジェル８が基板２の実効領域Ｒにはみ出さないように、当該領域にジェル８を塗布する。続いて、試料Ｓに基板２の実効領域Ｒを接触させつつ、スライドグラス６の載置面６ａに試料支持体１を載置する。なお、フレーム３の材料が樹脂である場合、静電気を利用して試料支持体１をスライドグラス６に固定することも可能である。

また、試料Ｓは、含水試料に限定されず、乾燥試料であってもよい。試料Ｓが乾燥試料である場合には、試料Ｓの粘性を低くするための溶液（例えばアセトニトリル混合液等）が試料Ｓに加えられる。これにより、例えば毛細管現象によって、複数の貫通孔２ｃを介して基板２の第１表面２ａ側に試料Ｓの成分Ｓ１を移動させることができる。

また、試料支持体１は、脱離エレクトロスプレーイオン化法以外の他のイオン化法に用いられてもよい。他のイオン化法においては、フレーム３は、導電性を有していてもよい場合がある。また、他のイオン化法においては、基板２自体が導電性を有していてもよい場合、又は、基板２に導電膜が形成されていてもよい場合がある。なお、導電膜の材料は、試料（例えば、タンパク質等）との親和性が低い金属が好ましく、例えば、Ａｕ（金）、Ｐｔ（白金）、Ｃｒ（クロム）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｔｉ（チタン）等が好ましい。

１…試料支持体、２…基板、２ａ…第１表面、２ｂ…第２表面、２ｃ…貫通孔、３…フレーム。

Claims (10)

1. 脱離エレクトロスプレーイオン化法用の試料支持体であって、
   外部に露出した第１表面、及び前記第１表面とは反対側において外部に露出した第２表面、並びに、前記第１表面及び前記第２表面のそれぞれに開口する複数の貫通孔を有する基板と、
   前記基板に取り付けられたフレームと、を備え、
   前記フレームの熱伝導率は、１．０Ｗ／ｍ・Ｋ以下であり、
   前記基板及び前記フレームのそれぞれの材料は、電気絶縁性の材料である、試料支持体。
2. 前記複数の貫通孔のそれぞれの幅は、１～７００ｎｍであり、
   前記基板の厚さは、１～５０μｍである、請求項１に記載の試料支持体。
3. 前記基板は、バルブ金属又はシリコンを陽極酸化することにより形成されている、請求項１又は２に記載の試料支持体。
4. 前記フレームの材料は、セラミックス又はガラスである、請求項１～３のいずれか一項に記載の試料支持体。
5. 前記フレームの材料は、樹脂である、請求項１～３のいずれか一項に記載の試料支持体。
6. 前記樹脂は、ＰＥＴ、ＰＥＮ又はＰＩである、請求項５に記載の試料支持体。
7. 前記フレームの厚さは、１０～５００μｍである、請求項１～６のいずれか一項に記載の試料支持体。
8. 前記フレームは、可視光に対して透過性を有する、請求項１～７のいずれか一項に記載の試料支持体。
9. 前記フレームは、可撓性を有する、請求項１～８のいずれか一項に記載の試料支持体。
10. 前記基板は、複数の基板であり、
    前記フレームは、前記複数の基板にそれぞれ対応する複数のフレームであり、
    前記複数のフレームは、少なくとも１列に配列された状態で互いに接続されている、請求項１～９のいずれか一項に記載の試料支持体。

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