JP7141826B2 - 光センサ素子の正孔捕集層形成用組成物および光センサ素子 - Google Patents
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Description
近年、小型化、軽量化、安価、意匠性の観点から光電変換層に有機材料を用いた有機光センサが開発され、注目されている。
有機光センサは、光電変換層、電荷(正孔、電子)捕集層、電極(陽極、陰極)および光学フィルタ等を備えて構成される。
これらの中でも光電変換層および電荷捕集層は、一般に真空蒸着法によって形成されているが、真空蒸着法には、量産プロセスによる複雑性、装置の高コスト化、材料の利用効率等の点で問題がある。
しかもPEDOT/PSS水分散液は、固形分が凝集し易いという性質を有しているため、塗布膜の欠陥が生じやすい、塗布装置の目詰まりや腐食を発生させやすいという問題があるうえ、耐熱性という点でも不十分であり、量産化する上で種々の課題が残されている。
外部電界を加えることで受光感度の向上や応答速度の向上が期待できる一方、電極から正孔および電子注入が起こり、それによって暗電流が増加する。
この暗電流の増加は、検出感度の低下要因となることから、受光感度が高い素子を作製するためには、高い光電変換効率を示しつつ、暗電流を抑制することが重要となる。
1. 分子量200~2,000の電荷輸送性物質と、有機溶媒とを含むことを特徴とする光センサ素子の正孔捕集層形成用組成物、
2. 前記電荷輸送性物質が、アニリン誘導体およびチオフェン誘導体から選ばれる少なくとも1種である1の光センサ素子の正孔捕集層形成用組成物、
3. 電子受容性ドーパント物質を含む1または2の光センサ素子の正孔捕集層形成用組成物、
4. 前記電子受容性ドーパント物質が、アリールスルホン酸化合物を含む1~3のいずれかの光センサ素子の正孔捕集層形成用組成物、
5. 前記アリールスルホン酸化合物が、式(D1)で表されるナフタレンもしくはアントラセンスルホン酸化合物、ナフタレントリスルホン酸またはポリスチレンスルホン酸である4の光センサ素子の正孔捕集層形成用組成物、
6. 前記Aが、ナフタレン環を表す5の光センサ素子の正孔捕集層形成用組成物、
7. 有機シラン化合物を含む1~6のいずれかの光センサ素子の正孔捕集層形成用組成物、
8. 1~7のいずれかの光センサ素子の正孔捕集層形成用組成物から作製された正孔捕集層と、それに接するように設けられた光電変換層とを有する光センサ素子、
9. 前記光電変換層が、フラーレン誘導体を含む8の光センサ素子、
10. 前記光電変換層が、主鎖にチオフェン骨格を含むポリマーを含む8の光センサ素子、
11. 前記光電変換層が、フラーレン誘導体および主鎖にチオフェン骨格を含むポリマーを含む8の光センサ素子
を提供する。
また、本発明の組成物は均一有機溶液であるため量産プロセスへの適合性が高く、また凹凸を有する下地の陽極を平坦化させつつ高い均一成膜性を示すため、素子の高歩留まりを実現することができる。
さらに、本発明の組成物から作製される正孔捕集層は、高い耐熱性を示すため、成膜後の種々の高温プロセスに耐えることができる。
本発明に係る光センサ素子の正孔捕集層形成用組成物は、分子量200~2,000の電荷輸送性物質と、有機溶媒とを含む。
本発明で用いる電荷輸送性物質の分子量は200~2,000であるが、導電性という点を考慮すると、下限として好ましくは300以上、より好ましくは400以上であり、溶媒に対する溶解性向上という点を考慮すると、上限として好ましくは1,500以下、より好ましくは1,000以下である。
これらアニリン誘導体およびチオフェン誘導体の具体例としては、例えば、国際公開第2005/043962号、国際公開第2013/042623号、国際公開第2014/141998号等に開示されたものが挙げられる。
炭素数1~20のアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等の炭素数1~20の直鎖または分岐鎖状アルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、ビシクロブチル基、ビシクロペンチル基、ビシクロヘキシル基、ビシクロヘプチル基、ビシクロオクチル基、ビシクロノニル基、ビシクロデシル基等の炭素数3~20の環状アルキル基などが挙げられる。
その具体例としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、2,2,3,3-テトラフルオロプロピル基、2,2,2-トリフルオロ-1-(トリフルオロメチル)エチル基、ノナフルオロブチル基、4,4,4-トリフルオロブチル基、ウンデカフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5-ノナフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5-オクタフルオロペンチル基、トリデカフルオロヘキシル基、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-ウンデカフロオロヘキシル基、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-デカフルオロヘキシル基、3,3,4,4,5,5,6,6,6-ノナフルオロヘキシル基等が挙げられる。
特に、R1~R6は、水素原子、フッ素原子、メチル基、フェニル基またはジフェニルアミノ基(Y2およびY3がフェニル基である-NY2Y3)がより好ましく、R1~R4が水素原子であり、かつ、R5およびR6が同時に水素原子またはジフェニルアミノ基がより一層好ましい。
また、Z3は、ハロゲン原子が好ましく、フッ素原子がより好ましく、存在しないこと(すなわち、非置換の基であること)がより一層好ましい。
kおよびlとしては、式(H1)で表されるアニリン誘導体の溶解性を高める観点から、好ましくは、k+l≦8であり、より好ましくは、k+l≦5である。
また、式(H2)で表されるアニリン誘導体の溶媒に対する溶解性を高めるとともに、得られる薄膜の均一性を高めることを考慮すると、R11およびR13が共に水素原子であることが好ましい。
特に、R11およびR13が共に水素原子であり、R12およびR14が、それぞれ独立して、フェニル基(このフェニル基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、チオール基、リン酸基、スルホン酸基、カルボキシル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のチオアルコキシ基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のハロアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、炭素数2~20のアルキニル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数7~20のアラルキル基、または炭素数1~20のアシル基で置換されていてもよい。)、または上記式(H4)で表される基であることが好ましく、R11およびR13が、共に水素原子であり、R12およびR14が、それぞれ独立して、フェニル基、またはR19’およびR20’が共にフェニル基である下記式(H4′)で表される基がより好ましく、R11およびR13が、共に水素原子であり、R12およびR14が、共にフェニル基であることがより一層好ましい。
また、mとしては、化合物の入手容易性、製造の容易性、コスト面などを考慮すると、2~4が好ましく、溶媒への溶解性を高めることを考慮すると、2または3がより好ましく、化合物の入手容易性、製造の容易性、製造コスト、溶媒への溶解性、得られる薄膜の透明性等のバランスを考慮すると、2が最適である。
また、p、qおよびrは、当該化合物の溶解性を高めるという点から、それぞれ1以上、かつ、p+q+r≦20が好ましく、それぞれ1以上、かつ、p+q+r≦10がより好ましい。さらに、高い電荷輸送性を発現させるという点から、それぞれ1以上、かつ、5≦p+q+rが好ましく、qが1、pおよびrがそれぞれ1以上、かつ、5≦p+q+rがより好ましい。
特に、正孔捕集層の透明性を高めるという点から、式(H2)で示されるアニリン誘導体を用いることが好ましく、中でも上記mが2であるベンジジン誘導体を用いることがより好ましく、下記式(g)で示されるジフェニルベンジジンを用いることがより一層好ましい。
電子受容性ドーパント物質は、正孔捕集層形成用組成物に使用する少なくとも一種の溶媒に溶解するものであれば、特に限定されない。
有機シラン化合物としては、トリアルコキシシラン、ジアルコキシシランなどが挙げられるが、とりわけ、アリールトリアルコキシシラン、アリールジアルコキシシラン、フッ素原子含有トリアルコキシシラン、フッ素原子含有ジアルコキシシラン化合物が好ましく、式(S1)または(S2)で表されるシラン化合物がより好ましい。
なお、固形分とは、正孔捕集層形成用組成物を構成する、有機溶媒以外の成分を意味する。
また、電荷輸送性物質と電子受容性ドーパント物質の物質量(mol)比も、発現する電荷輸送性、電荷輸送性物質等の種類を考慮して適宜設定されるものではあるが、通常、電荷輸送性物質1に対し、電子受容性ドーパント物質0.1~10、好ましくは0.2~5.0、より好ましくは0.5~3.0である。
そして、本発明において用いる正孔捕集層形成用組成物の粘度は、作製する薄膜の厚み等や固形分濃度を考慮し、塗布方法に応じて適宜調節されるものではあるが、通常25℃で0.1~50mPa・s程度である。
塗布の際、組成物の粘度と表面張力、所望する薄膜の厚さ等を考慮し、ドロップキャスト法、スピンコート法、ブレードコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、ダイコート法、インクジェット法、印刷法(凸版、凹版、平版、スクリーン印刷等)などといった各種ウェットプロセス法の中から最適なものを採用すればよい。
膜厚は、通常1~200nm程度であるが、好ましくは3~100nm程度、より好ましくは5~30nmである。膜厚を変化させる方法としては、組成物中の固形分濃度を変化させたり、塗布時の溶液量を変化させたりするなどの方法がある。
[陽極層の形成]:透明基板の表面に陽極材料の層を形成して透明電極を製造する工程
陽極材料としては、インジウム錫酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)等の金属酸化物や、ポリチオフェン誘導体、ポリアニリン誘導体などの高電荷輸送性有機化合物を用いることができる。また、透明基板としては、ガラスあるいは透明樹脂からなる基板を用いることができる。
陽極材料の層(陽極層)の形成方法は、陽極材料の性質に応じて適宜選択され、通常、昇華性化合物を用いたドライプロセス(蒸着法)か電荷輸送性化合物を含むワニスを用いたウェットプロセス(特にスピンコート法かスリットコート法)のいずれかが採用される。
また、透明電極として市販品も好適に用いることができ、この場合、素子の歩留を向上させる観点からは、平滑化処理がされている基盤を用いることが好ましい。市販品を用いる場合、本発明の光センサ素子の製造方法は、陽極層を形成する工程を含まない。
使用する透明電極は、洗剤、アルコール、純水等で洗浄してから使用することが好ましい。例えば、陽極基板では、使用直前にUVオゾン処理、酸素-プラズマ処理等の表面処理を施すことが好ましい(陽極材料が有機物を主成分とする場合、表面処理を行わなくともよい)。
上記方法に従い、陽極材料の層上に、本発明の正孔捕集層形成用組成物を用いて正孔捕集層を形成する。
光電変換層は、n型半導体材料からなる薄膜であるn層と、p型半導体材料からなる薄膜であるp層とを積層したものであっても、これら材料の混合物からなる非積層薄膜であってもよい。
n型半導体材料としては、フラーレン、[6,6]-フェニル-C61-酪酸メチルエステル(PC61BM)、[6,6]-フェニル-C71-酪酸メチルエステル(PC71BM)等が挙げられる。一方、p型半導体材料としては、レジオレギュラーポリ(3-ヘキシルチオフェン)(P3HT)、PTB7、PDTP-DFBT、特開2009-158921号公報および国際公開第2010/008672号に記載されているようなチエノチオフェンユニット含有ポリマー類等の主鎖にチオフェン骨格を含むポリマー、CuPC,ZnPC等のフタロシアニン類、テトラベンゾポルフィリン等のポルフィリン類などが挙げられる。
これらの中でも、n型材料としては、PC61BM、PC71BMが、p型材料としては、PTB7等の主鎖にチオフェン骨格を含むポリマー類が好ましい。
なお、ここでいう「主鎖にチオフェン骨格」とはチオフェンのみからなる2価の芳香環、またはチエノチオフェン、ベンゾチオフェン、ジベンゾチオフェン、ベンゾジチオフェン、ナフトチオフェン、ナフトジチオフェン、アントラチオフェン、アントラジチオフェンなどのような1以上のチオフェンを含む2価の縮合芳香環を表し、これらは上記R1~R6で示される置換基で置換されていてもよい。
光電変換層の形成方法は、n型半導体あるいはp型半導体材料の性質に応じて適宜選択され、通常、昇華性化合物を用いたドライプロセス(特に蒸着法)か材料を含むワニスを用いたウェットプロセス(特にスピンコート法かスリットコート法)のいずれかが採用される。
必要に応じて、光電変換層と陰極層の間に電子捕集層を形成してもよい。
電子捕集層を形成する材料としては、酸化リチウム(Li2O)、酸化マグネシウム(MgO)、アルミナ(Al2O3)、フッ化リチウム(LiF)、フッ化マグネシウム(MgF2)、フッ化ストロンチウム(SrF2)などが挙げられる。
電子捕集層の形成方法は、その材料の性質に応じて適宜選択され、通常、昇華性化合物を用いたドライプロセス(特に蒸着法)か材料を含むワニスを用いたウェットプロセス(特にスピンコート法かスリットコート法)のいずれかが採用される。
陰極材料としては、アルミニウム、マグネシウム-銀合金、アルミニウム-リチウム合金、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、カルシウム、バリウム、銀、金などが挙げられ、複数の陰極材料を積層したり、混合したりして使用することができる。
陰極層の形成方法は、その材料の性質に応じて適宜選択されるが、通常、ドライプロセス(特に蒸着法)が採用される。
必要に応じて、光電流の整流性をコントロールすること等を目的として、任意の層間にキャリアブロック層を設けてもよい。
キャリアブロック層を形成する材料としては、酸化チタン、酸化亜鉛などが挙げられる。
キャリアブロック層の形成方法は、その材料の性質に応じて適宜選択され、通常、昇華性化合物を用いる場合は蒸着法が、材料が溶解したワニスを用いる場合はスピンコート法か、スリットコート法のいずれかが採用される。
封止法としては、端部にUV硬化樹脂を付着させた凹型ガラス基板を、不活性ガス雰囲気下、光センサ素子の成膜面側に付着させ、UV照射によって樹脂を硬化させる方法や、真空下、スパッタリング等の手法によって膜封止タイプの封止を行う方法などが挙げられる。
(1)グローブボックス:米国VAC社製グローブボックスシステム
(2)蒸着装置:アオヤマエンジニアリング(株)製、真空蒸着装置
(3)測定装置:(株)小坂研究所製、全自動微細形状測定機ET-4000A
(4)電流値測定に用いた装置:アジレント(株)製、4156Cプレシジョン半導体パラメータ・アナライザ
(5)光電流測定に用いた光源装置:分光計器(株)製、SM-250ハイパーモノライトシステム
[調製例1]
PTB7(1-Material社製)20mgおよびPC61BM(フロンティアカーボン社製、製品名:nanom spectra E100)30mgが入ったサンプル瓶の中にクロロベンゼン2.0mLを加え、80℃のホットプレート上で15時間撹拌した。この溶液を室温まで放冷した後、1,8-ジヨードオクタン(東京化成工業(株)製)60μLを加えて撹拌し、溶液A1(光電変換層用組成物)を得た。
[調製例2]
N,N-ジメチルアセトアミド(以下、DMAc)10.0gにフェニルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)0.717g(3.61mmol)と、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)0.394g(1.81mmol)とを加えて室温で撹拌し、シラン化合物溶液S1を得た。
[実施例1-1]
上記式(d)で表されるフェニルテトラアニリン67.1mg(0.152mmol)と国際公開第2006/025342号記載の方法に従って合成した(以下、同様)上記式(D2)で表されるアリールスルホン酸化合物136.9mg(0.152mmol)との混合物に、DMAc3.33gと2,3-ブタンジオール1.67gとを加えて、室温で超音波を照射しながら撹拌して固形分を溶解させた。更にそこへ、シクロヘキサノール(以下、CHN)5.0gを加えて撹拌し、淡緑色溶液を得た。得られた淡緑色溶液を、孔径0.2μmのシリンジフィルターでろ過して、正孔捕集層形成用組成物B1を得た。
なお、上記式(d)で表されるフェニルテトラアニリンは、ブレティン・オブ・ケミカル・ソサエティ・オブ・ジャパン(Bulletin of Chemical Society of Japan)、1994年、第67巻、p.1749-1752に記載されている方法に従って合成した。
酸化型フェニルトリアニリン105.3mg(0.301mmol)と上記式(D2)で表されるアリールスルホン酸化合物204.0mg(0.226mmol)との混合物に、DMAc5.00gを加えて、室温で超音波を照射しながら撹拌して固形分を溶解させた。更にそこへ、CHN5.0gを加えて撹拌し、濃緑色溶液を得た。得られた濃緑色溶液を、孔径0.2μmのシリンジフィルターでろ過して、正孔捕集層形成用組成物B2を得た。
なお、酸化型フェニルトリアニリンは、国際公開第2008/010474号に記載されている方法に従って合成した。
上記式(c)で示されるオリゴアニリン化合物58.9mg(0.086mmol)と上記式(D2)で表されるアリールスルホン酸化合物160.9mg(0.161mmol)との混合物に、DMAc5.00gを加えて、室温で超音波を照射しながら撹拌して固形分を溶解させた。更にそこへ、CHN5.0gを加えて撹拌し、濃緑色溶液を得た。得られた濃緑色溶液を、孔径0.2μmのシリンジフィルターでろ過して、正孔捕集層形成用組成物B3を得た。
なお、上記式(c)で示されるオリゴアニリン化合物は、国際公開第2014/141998号記載の方法に従って合成した。
上記式(c)で示されるオリゴアニリン化合物の酸化型化合物51.4mg(0.075mmol)と上記式(D2)で表されるアリールスルホン酸化合物152.7mg(0.169mmol)との混合物に、DMAc5.00gを加えて、室温で超音波を照射しながら撹拌して固形分を溶解させた。更にそこへ、CHN5.0gを加えて撹拌し、濃緑色溶液を得た。得られた濃緑色溶液を、孔径0.2μmのシリンジフィルターでろ過して、正孔捕集層形成用組成物B4を得た。
なお、上記式(c)で示されるオリゴアニリン化合物の酸化型化合物は、国際公開第2014/119782号記載の方法に従って合成した。
上記式(g)で示されるN,N’-ジフェニルベンジジン(東京化成工業(株)製、以下同様)87.0mg(0.259mmol)と、上記式(D2)で表されるアリールスルホン酸化合物116.7mg(0.129mmol)との混合物に、DMAc5.0gを加えて、室温で超音波を照射しながら撹拌して固形分を溶解させた。更にそこへ、CHN5.0gを加えて撹拌し、淡黄色溶液を得た。得られた淡黄色溶液を、孔径0.2μmのシリンジフィルターでろ過して、正孔捕集層形成用組成物B5を得た。
N,N’-ジフェニルベンジジン61.0mg(0.181mmol)と、上記式(D2)で表されるアリールスルホン酸化合物122.8mg(0.136mmol)との混合物に、DMAc4.82gを加え、室温で超音波を照射しながら撹拌して固形分を溶解させた。更にそこへ、CHN5.0gを加えて撹拌後、調製例2で得られたシラン化合物溶液S1 0.204gを加え、淡黄色溶液を得た。得られた淡黄色溶液を、孔径0.2μmのシリンジフィルターでろ過して、正孔捕集層形成用組成物B6を得た。
上記式(l)で示されるチオフェン誘導体101.2mg(0.228mmol)と上記式(D2)で表されるアリールスルホン酸化合物102.8mg(0.114mmol)との混合物に、DMAc5.0gを加えて、室温で超音波を照射しながら撹拌して固形分を溶解させた。更にそこへ、CHN5.0gを加えて撹拌し、赤橙色溶液を得た。得られた赤橙色溶液を、孔径0.2μmのシリンジフィルターでろ過して、正孔捕集層形成用組成物B7を得た。
なお、上記式(l)で示されるチオフェン誘導体は、国際公開第2005/043962号記載の方法に従って合成した。
上記式(c)で示されるオリゴアニリン化合物37.4mg(0.055mmol)と5-スルホサリチル酸(関東化学(株)製)166.3mg(0.654mmol)との混合物に、DMAc5.00gを加えて、室温で超音波を照射しながら撹拌して固形分を溶解させた。更にそこへ、CHN5.0gを加えて撹拌し、濃緑色溶液を得た。得られた濃緑色溶液を、孔径0.2μmのシリンジフィルターでろ過して、正孔捕集層形成用組成物B8を得た。
N,N’-ジフェニルベンジジン56.7mgと、ポリスチレンスルホン酸(富山薬品工業(株)、FUNCHEM PSS、平均分子量14,000)45.4mgとの混合物に、DMAc2.5gを加え、室温で超音波を照射しながら撹拌して固形分を溶解させた。更にそこへ、CHN2.5gを加えて撹拌し、褐色懸濁溶液として正孔捕集層形成用組成物B9を得た。
N,N’-ジフェニルベンジジン64.5mgと、1,3,6-ナフタレントリスルホン酸(富山薬品工業(株)製、FUNCHEM NTSH)37.7mgとの混合物に、DMAc2.5gを加え、室温で超音波を照射しながら撹拌して溶解させた。更にそこへ、CHN2.5gを加えて撹拌し、褐色溶液を得た。得られた褐色溶液を、孔径0.2μmのシリンジフィルターでろ過して、正孔捕集層形成用組成物B10を得た。
超音波を照射して再分散させたPEDOT/PSS(Heraeus製Clevios P VP AI 4083)を孔径0.45μmのシリンジフィルターでろ過して、正孔捕集層形成用組成物C1を得た。
[実施例2-1]
正極となるITO透明導電層を2mm×20mmのストライプ状にパターニングした20mm×20mmのガラス基板を15分間UV/オゾン処理した後、基板上に調製した正孔捕集層形成用組成物B1をスピンコート法により塗布した。このガラス基板を、ホットプレートを用いて、50℃で5分間、さらに230℃で20分間加熱することで正孔捕集層を形成した。
その後、不活性ガスにより置換されたグローブボックス中で、形成した正孔捕集層に溶液A1を滴下し、スピンコート法により成膜した。
次に、有機半導体層が形成された基板と負極用マスクを真空蒸着装置内に設置して、装置内の真空度が1×10-3Pa以下になるまで排気し、抵抗加熱法によって、負極となるアルミニウム層を80nmの厚さに蒸着した。
最後に、ホットプレートで80℃,10分間加熱することで、ストライプ状のITO層とアルミニウム層とが交差する部分の面積が2mm×2mmである光センサ素子を作製した。
正孔捕集層形成用組成物B1の代わりに、正孔捕集層形成用組成物B2を用い、230℃で20分間加熱する代わりに、120℃で10分間加熱した以外は、実施例2-1と同様の方法で、光センサ素子を作製した。
正孔捕集層形成用組成物B1の代わりに、正孔捕集層形成用組成物B3を用いた以外は、実施例2-1と同様の方法で、光センサ素子を作製した。
正孔捕集層形成用組成物B1の代わりに、正孔捕集層形成用組成物B4を用い、230℃で20分間加熱する代わりに、120℃で10分間加熱した以外は、実施例2-1と同様の方法で、光センサ素子を作製した。
正孔捕集層形成用組成物B1の代わりに、正孔捕集層形成用組成物B5を用いた以外は、実施例2-1と同様の方法で、光センサ素子を作製した。
正孔捕集層形成用組成物B1の代わりに、正孔捕集層形成用組成物B6を用いた以外は、実施例2-1と同様の方法で、光センサ素子を作製した。
正孔捕集層形成用組成物B1の代わりに、正孔捕集層形成用組成物B7を用い、230℃で20分間加熱する代わりに、230℃で30分間加熱した以外は、実施例2-1と同様の方法で、光センサ素子を作製した。
正孔捕集層形成用組成物B1の代わりに、正孔捕集層形成用組成物B8を用い、230℃で20分間加熱する代わりに、230℃で15分間加熱した以外は、実施例2-1と同様の方法で、光センサ素子を作製した。
正孔捕集層形成用組成物B1の代わりに、正孔捕集層形成用組成物B9を用いた以外は、実施例2-1と同様の方法で、光センサ素子を作製した。
正孔捕集層形成用組成物B1の代わりに、正孔捕集層形成用組成物B10を用いた以外は、実施例2-1と同様の方法で、光センサ素子を作製した。
正孔捕集層形成用組成物B1の代わりに、正孔捕集層形成用組成物C1を用い、230℃で20分間加熱する代わりに、150℃で20分間加熱した以外は、実施例2-1と同様の方法で、光センサ素子を作製した。
作製した光センサ素子の暗電流(A/cm2)および波長550nm光を照射した際に発生した光電流(A/cm2)の測定を行い、光電流と暗電流の比を求めることにより、材料の特性評価を行った。評価結果を表1に示す。また、あわせて、各正孔捕集層の厚さも表1に示す。
なお、電流測定は、次の方法により行った。光センサ素子を光源装置内に設置し、ITO電極を陽極、Al電極を陰極として-1Vの電圧を印加した際の電流値を記録することで行った。光未照射時の電流値を暗電流とし、波長550nm(光量4.96mW/cm2)の光を照射した時の電流値を光電流として計測した。
このように、本発明の正孔捕集層形成用組成物を用いることで、感度の高い光センサ素子を製造できることがわかる。
Claims (10)
- 正孔捕集層と、それに接するように設けられた光電変換層とを有する光センサ素子であって、
前記正孔捕集層が、分子量200~2,000の電荷輸送性物質と、アリールスルホン酸化合物のみからなる電子受容性ドーパント物質と、有機溶媒とを含み、
前記電荷輸送物質が、下記式(H1)~(H3)で示されるアニリン誘導体またはチオフェン誘導体からなる群より選ばれる少なくとも一種である光センサ素子の正孔捕集層形成用組成物から作製されたものである光センサ素子。
式(H2)中、R 7 ~R 10 は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、チオール基、リン酸基、スルホン酸基、カルボキシル基、Z 1 で置換されていてもよい、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のチオアルコキシ基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基もしくは炭素数2~20のアルキニル基、Z 2 で置換されていてもよい、炭素数6~20のアリール基もしくは炭素数7~20のアラルキル基、または炭素数1~20のアシル基を表し、R 11 ~R 14 は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラジニル基、フラニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、チエニル基(これらの基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、チオール基、リン酸基、スルホン酸基、カルボキシル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のチオアルコキシ基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のハロアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、炭素数2~20のアルキニル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数7~20のアラルキル基または炭素数1~20のアシル基で置換されていてもよい。)、または式(H4)で表される基を表す(ただし、R 11 ~R 14 の少なくとも1つは水素原子である。)、mは、2~5の整数を表す。Z 1 およびZ 2 は上記と同じ意味を表し、
式(H3)中、R 21 ~R 24 は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、シラノール基、チオール基、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、リン酸エステル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、ニトロ基、Z 1 で置換されていてもよい、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基もしくは炭素数2~20のアルキニル基、Z 2 で置換されていてもよい、炭素数6~20のアリール基もしくは炭素数7~20のアラルキル基、炭素数1~20のアシル基、スルホン酸基、-NHY 1 、-NY 2 Y 3 、-OY 4 、-SY 5 または-SiY 6 Y 7 Y 8 を表し、Y 1 ~Y 8 は、それぞれ独立して、Z 1 で置換されていてもよい、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基もしくは炭素数2~20のアルキニル基、またはZ 2 で置換されていてもよい、炭素数6~20のアリール基もしくは炭素数2~20のヘテロアリール基を表し、XおよびYは、それぞれ独立して、Z 2 で置換されていてもよい、チオフェン環を表し、ジチイン環に含まれる2つの硫黄原子は、それぞれ独立してSO基またはSO 2 基であってもよい。p、qおよびrは、それぞれ独立して0または1以上の整数で、p+q+r≦20を満足する数である。Z 1 およびZ 2 は上記と同じ意味を表す。} - 前記Aが、ナフタレン環を表す請求項2記載の光センサ素子。
- 前記正孔捕集層形成用組成物において、さらに有機シラン化合物を含む請求項1~3のいずれか1項記載の光センサ素子。
- 前記有機シラン化合物が、アリールトリアルコキシシラン、アリールジアルコキシシラン、フッ素原子含有トリアルコキシシラン、およびフッ素原子含有ジアルコキシシラン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む請求項1~4のいずれか1項記載の光センサ素子。
- 前記有機シラン化合物が、フェニルトリメトキシシランおよび3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシランを含む請求項5記載の光センサ素子。
- 前記電荷輸送性物質と前記電子受容性ドーパント物質の物質量(mol)比が、電荷輸送性物質1に対し、電子受容性ドーパント物質0.1~10である請求項1~6のいずれか1項記載の光センサ素子。
- 前記光電変換層が、フラーレン誘導体を含む請求項1~7のいずれか1項記載の光センサ素子。
- 前記光電変換層が、主鎖にチオフェン骨格を含むポリマーを含む請求項1~7のいずれか1項記載の光センサ素子。
- 前記光電変換層が、フラーレン誘導体および主鎖にチオフェン骨格を含むポリマーを含む請求項1~7のいずれか1項記載の光センサ素子。
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Citations (7)
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KR20050017169A (ko) * | 2003-08-08 | 2005-02-22 | 삼성에스디아이 주식회사 | 애노드 표면 개질층을 사용하는 유기 전계 발광 소자 |
JP5024498B2 (ja) | 2003-09-11 | 2012-09-12 | 日産化学工業株式会社 | 電荷輸送性ワニス、電荷輸送性薄膜および有機エレクトロルミネッセンス素子 |
TW200517469A (en) * | 2003-10-30 | 2005-06-01 | Nissan Chemical Ind Ltd | Charge-transporting compound, charge-transporting material, charge-transporting varnish, charge-transporting thin film, and organic electroluminescent device |
US7862747B2 (en) | 2004-08-31 | 2011-01-04 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Arylsulfonic acid compound and use thereof as electron-acceptor material |
WO2006088940A2 (en) * | 2005-02-14 | 2006-08-24 | The Johns Hopkins University | Neoplasia screening compositions and methods of use |
KR101440410B1 (ko) | 2006-07-18 | 2014-09-15 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 전하수송성 바니시 |
JP5359173B2 (ja) | 2007-12-05 | 2013-12-04 | 東レ株式会社 | 光起電力素子用電子供与性有機材料、光起電力素子用材料および光起電力素子 |
TWI447099B (zh) * | 2008-01-29 | 2014-08-01 | Nissan Chemical Ind Ltd | Aryl sulfonic acid compounds and the use of electron acceptables |
EP2307483B1 (en) | 2008-07-18 | 2015-04-22 | University Of Chicago | Semiconducting polymers |
EP2339659B1 (en) * | 2008-10-09 | 2016-02-10 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Charge-transporting varnishes |
JP5488473B2 (ja) | 2008-11-19 | 2014-05-14 | 日産化学工業株式会社 | 電荷輸送性ワニス |
CN102460760B (zh) * | 2009-06-03 | 2014-08-27 | 富士胶片株式会社 | 光电转换元件,其制备方法,光传感器,成像装置及其驱动方法 |
JP2012004239A (ja) * | 2010-06-15 | 2012-01-05 | Fujifilm Corp | 有機薄膜太陽電池 |
WO2013029733A1 (en) | 2011-08-26 | 2013-03-07 | Merck Patent Gmbh | Organic semiconductor formulation |
WO2013042613A1 (ja) * | 2011-09-20 | 2013-03-28 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置、液晶パネルの駆動方法 |
CN105121393B (zh) * | 2013-04-22 | 2018-06-15 | 默克专利有限公司 | 改进的富勒烯衍生物及相关材料、方法和器件 |
CN105531267B (zh) * | 2013-09-11 | 2018-11-30 | 默克专利有限公司 | 环己二烯富勒烯衍生物 |
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Patent Citations (7)
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---|---|---|---|---|
WO2005043962A1 (ja) | 2003-10-31 | 2005-05-12 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1,4−ジチイン環を有する化合物を含む電荷輸送性有機材料 |
WO2010110164A1 (ja) | 2009-03-26 | 2010-09-30 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 有機光電変換素子、それを用いた太陽電池及び光センサアレイ |
WO2013042623A1 (ja) | 2011-09-21 | 2013-03-28 | 日産化学工業株式会社 | 電荷輸送性ワニス |
WO2014119782A1 (ja) | 2013-02-04 | 2014-08-07 | 日産化学工業株式会社 | 有機薄膜太陽電池用バッファ層及び有機薄膜太陽電池 |
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