JP7136764B2 - 転写膜、転写膜の製造方法、転写膜の使用方法、及びコンポーネントのコーティング方法 - Google Patents
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Description
2 基板
3 金型
4 インサート
5 コンポーネント
11 キャリア膜
12 第1分離層
13 深絞りメンブレン
14 第2分離層
15 転写プライ
15r 転写プライの残部
16 TOMベースコート
151 第1転写層
152 第2転写層
153 第3転写層
Claims (13)
- キャリア膜(11)及び当該キャリア膜から分離可能な転写プライ(15)を備える転写膜(1)であって、
前記転写膜は、コンポーネント(5)に前記転写プライ(15)を転写するために提供され、
前記キャリア膜(11)と前記転写プライ(15)との間に深絞り加工用のメンブレン(13)が配設され、
前記メンブレン(13)と前記キャリア膜(11)との間に第1分離層(12)が配設され、前記メンブレン(13)と前記転写プライ(15)との間に第2分離層(14)が配設され、
前記第1分離層(12)及び前記第2分離層(14)の少なくとも一方は、メラミンホルムアルデヒド樹脂と架橋したワニス、又はワックスを含むか、メラミンホルムアルデヒド樹脂と架橋したワニス、又はワックスからなり、
前記メンブレン(13)は、130℃~160℃の範囲の温度で500%から1500%を超える伸縮性を有して形成され、
前記第2分離層(14)は、1μm未満の層厚を有し、
前記メンブレン(13)と前記キャリア膜(11)との間に配設された前記第1分離層(12)による、前記キャリア膜(11)の、前記メンブレン(13)からの分離力は、前記メンブレン(13)と前記転写プライ(15)との間に配設された前記第2分離層(14)による、前記メンブレン(13)の、前記転写プライ(15)からの分離力よりも5倍~10倍小さく、
前記メンブレン(13)と前記転写プライ(15)との間に配設された前記第2分離層によって、前記メンブレン(13)の分離力が、2つの隣接した転写層(151~153)間の密着力よりも30%~70%小さい、ことを特徴とする、転写膜(1)。 - 前記メンブレン(13)は、10μm~200μmの範囲の層厚を有するワニス層として形成され、及び/又は、
前記メンブレン(13)は、ポリウレタンから形成され、及び/又は、
前記メンブレン(13)は、透明、半透明又は不透明に形成され、及び/又は、
前記メンブレン(13)は、装飾又はモチーフを有し、及び/又は、
前記メンブレン(13)は、表面全体に形成されておらず、
前記メンブレン(13)は、前記転写膜(1)のエッジ領域に形成されておらず、及び/又は、
前記エッジ領域において、前記メンブレン(13)は、当該メンブレン(13)を剥離するためのハンドリング性を有することを特徴とする、請求項1に記載の転写膜(1)。 - 前記メンブレン(13)は、印刷層として形成され、及び/又は、
前記メンブレン(13)は、複数の層から形成され、及び/又は、
前記メンブレン(13)は、均一な層として形成されていることを特徴とする、請求項1又は2に記載の転写膜(1)。 - 前記転写プライ(15)は、転写層(151~153)から形成された多層体として形成されており、及び/又は、
前記転写プライ(15)は、前記メンブレン(13)と対向する第1転写層(151)と、第2転写層(152)と、第3転写層(153)と、を有し、
前記第1転写層(151)は、保護層として形成されており、
前記保護層は、2μm~50μmの範囲の層厚で、PMMA系のワニスから形成された保護ワニスとして形成されており、及び/又は、
前記保護層は、2μm~50μmの範囲の層厚で、PMMA(ポリメチルメタクリレート)系のワニス又はPVDF(ポリビニリデンフルオライド)及びPMMAの混合物系のワニスから形成された保護ワニスとして形成されていることを特徴とする、請求項1~3の何れかに記載の転写膜(1)。 - 前記第2転写層(152)は、単一又は多層の装飾層として形成されており、
前記第2転写層(152)は、着色層として形成されており、
前記着色層は、1μm~10μmの範囲の層厚を有するPMMA系のワニスから形成されていることを特徴とする、請求項4に記載の転写膜(1)。 - 前記第3転写層(153)は、ベースコート層として形成されており、
前記ベースコート層は、1μm~5μmの範囲の層厚を有するように形成されていることを特徴とする、請求項4又は5に記載の転写膜(1)。 - 前記第1分離層(12)及び/又は前記第2分離層(14)は、モンタン酸エステルワックス又はポリエチレンワックスから形成され、かつ/又は、前記第1分離層(12)は、1μm未満の層厚を有することを特徴とする、請求項1~6の何れかに記載の転写膜(1)。
- 前記第1分離層(12)はポリエチレンワックスから形成され、前記第2分離層(14)はモンタン酸エステルワックスから形成されていることを特徴とする、請求項7に記載の転写膜(1)。
- TOMを用いた、請求項1~8の何れかに記載の転写膜(1)の使用方法であって、
前記TOMは、基板(2)を積層し、当該基板(2)の裏面をTOMベースコート(16)でコーティングし、かつ積層されかつコーティングされた前記基板(2)を3次元のコンポーネント(5)に適用する工程を含み、
前記転写膜(1)の前記キャリア膜(11)は、前記基板(2)に対する前記コーティングの前又は後に剥離され、前記メンブレン(13)は、前記積層されかつコーティングされた前記基板(2)を前記コンポーネント(5)に適用した後に前記転写プライ(15)から剥離され、かつ/又は、
前記TOMは、前記転写膜(1)を前記コンポーネント(5)に適用する工程を含み、
前記キャリア膜(11)は、前記転写膜(1)を前記コンポーネント(5)に適用する前に前記メンブレン(13)から剥離され、前記メンブレン(13)は、前記転写膜(1)を前記コンポーネント(5)に適用した後に前記転写プライ(15)から剥離されることを特徴とする、方法。 - 請求項1~8の何れかに記載の転写膜(1)の製造方法であって、
前記転写膜(1)は、キャリア膜(11)と、当該キャリア膜から分離可能な転写プライ(15)と、前記キャリア膜(11)と前記転写プライ(15)との間に配設されたメンブレン(13)と、を有し、
前記メンブレン(13)は、キャスト法、又はスクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷若しくはインクジェット印刷により製造又は適用され、
前記方法は、TOMを用いて行われ、当該TOMは、基板(2)を積層し、当該基板(2)の裏面をTOMベースコート(16)でコーティングし、かつ積層されかつコーティングされた前記基板(2)を3次元のコンポーネント(5)に適用する工程を含み、
前記転写膜(1)の前記キャリア膜(11)は、前記基板(2)に対する前記コーティングの前又は後に剥離され、前記メンブレン(13)は、前記積層されかつコーティングされた前記基板(2)を前記コンポーネント(5)に適用した後に前記転写プライ(15)から剥離され、かつ/又は、
前記方法は、TOMを用いて行われ、当該TOMは、前記転写膜(1)を前記コンポーネント(5)に適用する工程を含み、
前記キャリア膜(11)は、前記転写膜(1)を前記コンポーネント(5)に適用する前に前記メンブレン(13)から剥離され、前記メンブレン(13)は、前記転写膜(1)を前記コンポーネント(5)に適用した後に前記転写プライ(15)から剥離されることを特徴とする、方法。 - 前記メンブレン(13)は、複数の連続したパス又は複数の層から製造され、
前記メンブレン(13)を形成するため、適用される層は、当該適用される層に追加の層が適用されて前記メンブレン(13)を形成する前に、少なくとも部分的にタッチドライの状態にされ、かつ/又は、追加の層が前記適用される層に適用されて前記メンブレン(13)を形成する前に、完全に乾燥されるか乾燥されることを特徴とする、請求項10に記載の方法。 - 前記メンブレン(13)を形成するために、既に適用した層の少なくとも表面をエッチングするように次層を適用して、均一な層を形成することを特徴とする、請求項10又は11に記載の方法。
- 請求項1~8の何れかに記載の転写膜(1)で又は請求項1~8の何れかに記載の転写膜(1)の転写プライ(15)を有する転写膜(1)でコンポーネント(5)をコーティングする方法であって、
前記方法は、TOMを用いて行われ、当該TOMは、基板(2)を積層し、当該基板(2)の裏面をTOMベースコート(16)でコーティングし、かつ積層されかつコーティングされた前記基板(2)を前記コンポーネント(5)に適用する工程を含み、
前記転写膜(1)の前記キャリア膜(11)は、前記基板(2)に対する前記コーティングの前又は後に剥離され、前記メンブレン(13)は、前記積層されかつコーティングされた前記基板(2)を前記コンポーネント(5)に適用した後に前記転写プライ(15)から剥離され、かつ/又は、
前記方法は、TOMを用いて行われ、当該TOMは、前記転写膜(1)を前記コンポーネント(5)に適用する工程を含み、
前記キャリア膜(11)は、前記転写膜(1)を前記コンポーネント(5)に適用する前に前記メンブレン(13)から剥離され、前記メンブレン(13)は、前記転写膜(1)を前記コンポーネント(5)に適用した後に前記転写プライ(15)から剥離されることを特徴とする、方法。
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