JP7133908B2 - 積層セラミックコンデンサ - Google Patents

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Description

本発明は、積層セラミックコンデンサに関する。
積層セラミックコンデンサの耐電圧性能向上のため、内部電極の重なり部分の面積を大きくすることが知られている(例えば、特許文献1参照)。耐電圧を向上させるため、複数の内部電極の辺を積層方向で合致させないことが知られている(例えば、特許文献2参照)。内部電極の先端部が丸みを有することが知られている(例えば、特許文献3参照)。
特開2000-306761号公報 特開2009-200092号公報 特開平9-260185号公報
しかしながら、特許文献1~3の技術では、積層セラミックコンデンサの耐電圧性能が十分ではない。
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、高耐圧な積層セラミックコンデンサを提供することを目的とする。
本発明に係る積層セラミックコンデンサは、セラミックを主成分とする誘電体層と、内部電極と、が交互に積層され、積層された複数の前記内部電極が交互に対向する2端面に露出するように形成され、略直方体形状を有する積層体と、前記2端面に形成された1対の外部電極と、を備え、前記1対の外部電極が対向する第1方向において、前記複数の内部電極における前記外部電極と接続していない端のうち最も外側に位置する第1端と、当該外部電極と接続していない端のうち最も内側に位置する第2端と、の距離をL1(mm)、前記複数の誘電体層の各々の層厚をt1(μm)、前記複数の誘電体層の積層数をNとしたとき、t1×L1/Nは10以上であり、前記複数の内部電極と複数の誘電体層の面方向において前記第1方向に交差する第2方向において、前記積層体の同じ端面に対して、前記複数の内部電極の端のうち最も外側に位置する第1端と、前記複数の内部電極の端のうち最も内側に位置する第2端と、の距離をW1(mm)としたとき、t1×W1/Nは10以上であり、前記複数の内部電極における前記外部電極と接続していない端の角部の曲率半径をR(mm)としたとき、R>W1かつR>L1であり、前記複数の内部電極の前記第1方向における端の位置は、前記積層体の積層方向において周期的に配置され前記複数の内部電極の前記第2方向における端の位置は、前記積層体の積層方向において周期的に配置されていることを特徴とする。
上記積層セラミックコンデンサにおいて、前記積層体の積層方向のいずれかの箇所に、前記誘電体層の3倍以上の厚みを有する厚膜誘電体層を備えていてもよい。
上記積層セラミックコンデンサにおいて、前記誘電体層はチタン酸バリウムを主成分としてもよい。
上記積層セラミックコンデンサにおいて、前記一対の外部電極の一方が接続された内部電極のうち前記端の位置が同じである隣接する一定数の内部電極と、前記一対の外部電極の他方が接続された内部電極のうち前記端の位置が同じである隣接する一定数の内部電極と、を1グループとして、グループごとに前記端の位置が異なっていてもよい。
上記積層セラミックコンデンサにおいて、前記端の位置が同じ隣接する複数の一定数の内部電極を1グループとして、グループごとに前記端の位置が異なっていてもよい。
本発明によれば、高耐圧な積層セラミックコンデンサを提供することができる。
図1は、第1実施形態における積層セラミックコンデンサの部分断面斜視図である。 図1のA-A断面図である。 図1のB-B断面図である。 (a)および(b)は1つのコンデンサを示す図である。 第1比較形態における積層セラミックコンデンサの断面図である。 第1実施形態における積層セラミックコンデンサの断面図である。 第1実施形態の一例を示す積層セラミックコンデンサの断面図である。 第2比較形態における積層セラミックコンデンサの断面図である。 第1実施形態における積層セラミックコンデンサの断面図である。 算出したX位置に対する応力を示す図である。 第1実施形態の一例を示す積層セラミックコンデンサの断面図である。 第3比較形態における積層セラミックコンデンサのZ方向から見た場合の内部電極の重なり関係を示す図である。 第1実施形態に係る内部電極の平面形状を示す図である。 (a)および(b)は内部電極の重なりを示す図である。 内部電極の重なりを示す図である。 (a)および(b)は第2実施形態に係る積層セラミックコンデンサ100aの積層構造を例示する図である。 実施例1,2および比較例1~3における各サンプルの各寸法を示す図である。
以下、図面を参照しつつ、実施形態について説明する。
(第1実施形態)
まず、積層セラミックコンデンサについて説明する。図1は、第1実施形態における積層セラミックコンデンサの部分断面斜視図である。図2は、図1のA-A断面図である。図3は、図1のB-B断面図である。図1から図3に示すように、積層セラミックコンデンサ100は、直方体形状を有する積層体10と、積層体10のいずれかの対向する両端面に設けられた外部電極20,30とを備える。積層体10は、誘電体として機能するセラミック材料を含む複数の誘電体層11と、複数の内部電極12とが、交互に積層された構成を有する。誘電体層11および内部電極12の積層方向をZ方向、外部電極20と外部電極30が対向する方向をY方向、Y方向とZ方向に直交する方向をX方向とする。
各内部電極12の端縁は、積層体10の外部電極20が設けられた端面と、外部電極30が設けられた端面とに、交互に露出している。これにより、各内部電極12は、外部電極20と外部電極30とに、交互に導通している。図2および図3において、内部電極12aが外部電極20と電気的に接続され、内部電極12bが外部電極30に電気的に接続されている。これにより、積層セラミックコンデンサ100は、複数のセラミックコンデンサが積層された構成を有する。また、積層体10において、誘電体層11と内部電極12との積層方向の両端面は、カバー層13によって覆われている。例えば、カバー層13の主成分は、誘電体層11の主成分と同じである。図2のように、Y方向において内部電極12a,12bの端縁の位置が異なっている。また、図3のように、X方向において内部電極12a,12bの端縁の位置が異なっている。詳細は後述する。
外部電極20,30および内部電極12は、Ni(ニッケル)、Cu(銅)、Sn(スズ)、Ag(銀)、Pd(パラジウム)、Au(金)、Pt(白金)等の金属を主成分とする。誘電体層11は、例えば一般式ABOで表されるペロブスカイト構造を有するセラミック材料を主成分とする。誘電体層11に含まれるペロブスカイト構造のセラミック材料としては、例えばBaTiO(チタン酸バリウム)、SrTiO(チタン酸ストロンチウム)、CaTiO(チタン酸カルシウム)、MgTiO(チタン酸マグネシウム)、CaZrO(ジルコン酸カルシウム)、CaTiZr1-x(チタン酸ジルコン酸カルシウム)、BaZrO(ジルコン酸バリウム)、PbTiZr1-x(チタン酸ジルコン酸鉛:PZT)等を用いる。誘電体層11に含まれるセラミック材料はTiO(酸化チタン)でもよい。誘電体層11は、例えば焼結体であり、マクロには結晶方位に対し等方的である。ペロブスカイト構造を有するセラミック材料は化学量論的な組成から外れていてもよく、例えばMg(マグネシウム)、Mn(マンガン)、V(バナジウム)、Cr(クロム)、および希土類元素(Y(イットリウム)、Dy(ジスプロシウム)、Tm(ツリウム)、Ho(ホルミウム)、Tb(テルビウム)、Yb(イッテルビウム)、Er(エルビウム)、Sm(サマリウム)、Eu(ユウロピウム)、Gd(ガドリニウム))、Co(コバルト)、Li(リチウム)、B(ホウ素)、Na(ナトリウム)、K(カリウム)並びにSi(シリコン)の少なくとも1つの酸化物、またはガラス等が添加されていてもよい。なお、各誘電体層11は、略同一の厚みを有しているが、所定のバラツキを有していてもよい。例えば、各誘電体層11は、各誘電体層11の平均厚みの±10%の範囲のバラツキを有していてもよい。また、各誘電体層11の厚みに上記バラツキが有る場合には、誘電体層11の各々の厚みとは、各誘電体層11の平均厚みのことを意味する。
図2および図3のように、積層体10のZ方向の厚さをT、積層体10のY方向の長さをL、および積層体10のX方向の幅をWとする。誘電体層11の各々の厚さをt1とする。Y方向の内部電極12aと内部電極12bとの重なり幅をLiとする。Y方向において内部電極12aの外部電極30側の端のうち最も外側の端の位置Y1と、最も内側の端の位置Y2と、の距離をずらし量L1とする。また、Y方向において内部電極12bの外部電極20側の端のうち最も外側の端の位置Y1と、最も内側の端の位置Y2との距離をずらし量L1とする。本実施形態においては、内部電極12aのずらし量L1と内部電極12bのずらし量L1とは同じ値に設定されているが、異なっていてもよい。最も外側の内部電極12の端から積層体10の近い方の端面までの距離をエンドマージンEMとする。内部電極12のX方向の幅をWiとする。X方向において、積層体10の同じ端面側において、内部電極12の端のうち最も外側の端の位置X1と、最も内側の端の位置X2と、の距離をずらし量W1とする。最も外側の内部電極12の端から積層体10の近い方の端面までの距離をサイドマージンSMとする。誘電体層11の積層数Nとする。
発明者らは、積層セラミックコンデンサの耐電圧が低くなる原因として、以下のような電歪効果を考えた。内部電極12aと内部電極12bとの間に電圧が印加されたとき、電歪効果により積層体10内に応力が発生し、応力が集中する箇所にクラック等が発生する。このクラック等により、積層セラミックコンデンサが破壊されると考えた。
図4(a)および図4(b)は、1つのセラミックコンデンサを示す図である。図4(a)に示すように、厚さt1の誘電体層11の上下に内部電極12aおよび12bが設けられている。図4(b)に示すように、内部電極12aに、内部電極12bに対し正の電圧が印加される。このとき誘電体層11には積層方向に電界が加わる。このため電歪効果により誘電体層11は矢印50のように積層方向に伸びるような変位が生じる。
図5は、第1比較形態における積層セラミックコンデンサの断面図である。図5に示すように、外部電極20に接続された内部電極12aを点線で示し、外部電極30に接続された内部電極12bを実線で示す。Y方向における内部電極12aの端の位置はほぼ一致し、内部電極12bの端の位置もほぼ一致している。誘電体層11のうち電歪効果により変位が生じる領域は、Z方向に内部電極12に挟まれた領域40である。領域40は、領域40以外の誘電体層11と区別するため、ハッチングの方向を誘電体層11と逆に傾斜させている。積層体10内において、変位量が急激に変化するところに応力が集中しやすい。よって、矢印42aの内部電極12の端の箇所に応力が集中し易くなる。
電歪効果による積層された誘電体層11全体の変位量ΔDtは、1層の誘電体層11の変位量ΔDに誘電体層11の積層数Nを乗じたものとなる。つまり、ΔDt=ΔD×Nとなる。また、1層の誘電体層11における変位量ΔDは誘電体層11内の電界の大きさの2乗に比例する。電界の大きさは誘電体層11の厚さt1に反比例する。つまりΔD∝1/(t1)である。よって、ΔDt∝N/(t1)である。
図6は、本実施形態における積層セラミックコンデンサ100の断面図である。図6に示すように、Y方向における内部電極12aの端の位置が異なり、内部電極12bの端の位置が異なる。この例では、内部電極12aの端のY方向の位置を0、+L、0、および-Lと順に3水準で変化させている。内部電極12bの端のY方向の位置を0、+L(-L)、0、および+L(-L)と順に3水準で変化させている。1周期Pには誘電体層11が8層含まれる。このとき、ずらし量L1は2Lである。
1周期Pあたり、位置-2L、-L、0、Lおよび2Lにおいて内部電極12aと内部電極12bとで挟まれる誘電体層11の層数は、それぞれ、0層、1層、6層、8層および8層となる。よって、各位置における全体の変位量ΔDtは以下となる。
位置-2L:0
位置-L :(2/8)×N×ΔD
位置 0 :(6/8)×N×ΔD
位置 L :(8/8)×N×ΔD
位置 2L:(8/8)×N×ΔD
応力は、位置に対する変位量の傾きに対応する。よって、各位置間における応力は以下となる。
位置-2.5L:0
位置-1.5L:(2/8)×N×ΔD/L
位置-0.5L:(4/8)×N×ΔD/L
位置0.5L :(2/8)×N×ΔD/L
位置1.5L :0
この例では、応力が最大となる位置は-0.5Lであり、応力の最大値は、NおよびΔDに比例しL(すなわちL1)に反比例する。ΔDは(t1)に反比例するから、応力の最大値はNに比例しL(すなわちL1)および(t1)に反比例する。つまり、応力の最大値∝N/[(t1)×L1)]である。積層セラミックコンデンサの耐電圧BDVは応力の最大値に反比例すると、耐電圧BDVは以下となる。
BDV∝[(t1)×L1)]/N (式1)
実際は、BDVは[(t1)×L1)]/Nに厳密には比例しなくとも、[(t1)×L1)]/Nが大きくなるとBDVが大きくなるという相関が成り立つ。積層セラミックコンデンサ100の小型化、大容量化のためには、t1は小さくNは大きくすることになる。よって、耐電圧BDVは低くなる方向となる。そこで、本実施形態ではずらし量L1を大きくする。これにより、耐電圧BDVを向上できる。
上記考察に基づけば、電歪効果を有する誘電体層11であれば、式1または同様の相関が成り立つ。また、内部電極12の端をY方向にずらすパターンによらず、式1は一般的に成り立つ。
図7は、本実施形態の一例を示す積層セラミックコンデンサ100の断面図である。図7に示すように、隣接する2層の内部電極12aおよび2層の内部電極12bを1グループとして、内部電極12aおよび12bの端のY方向の位置を0、L(-L)、0、および-L(+L)と順に変化させている。この例では1周期には誘電体層11が16層含まれる。このように変化させるグループに含まれる誘電体層11の層数は任意である。
また、位置0のグループ内の内部電極12aを1層および内部電極12bを1層とし、位置Lおよび-Lのグループ内の内部電極12aを2層および内部電極12bを2層とすることもできる。このように、1つのグループ内の内部電極12の層数を変化させることもできる。
さらに、内部電極12a,12bの端のY方向の位置を0、L、2L、L、0、-L、-2L、および-Lのように3水準以外の水準で変化させることもできる。
図8は、第2比較形態における積層セラミックコンデンサの断面図である。図8に示すように、外部電極20に接続された内部電極12aを点線で示し、外部電極30に接続された内部電極12bを実線で示す。X方向における内部電極12の端の位置がほぼ一致している。誘電体層11のうち電歪効果により変位が生じる領域は、Z方向に内部電極12に挟まれた領域40である。領域40は、領域40以外の誘電体層11と区別するため、ハッチングの方向を誘電体層11と逆に傾斜させている。積層体10内において、変位量が急激に変化するところに応力が集中しやすい。よって、矢印42bの内部電極12の端の箇所に応力が集中し易くなる。
図9は、本実施形態における積層セラミックコンデンサ100の断面図である。図9に示すように、X方向における内部電極12の端の位置が異なる。この例では、隣接する1層の内部電極12aと1層の内部電極12bを1グループとして、内部電極12の端のX方向の位置を0、+W、0、および-Wと順に3水準変化させている。1周期Pには誘電体層11が8層含まれる。このとき、ずらし量W1は2Lである。
1周期Pあたり、位置-2W、-W、0、Wおよび2Wにおいて含まれる誘電体層11の層数は、それぞれ、0層、1層、5層、8層および8層となる。よって、各位置における全体の変位量ΔDtは以下となる。
位置-2W:0
位置-W :(1/8)×N×ΔD
位置 0 :(5/8)×N×ΔD
位置 W :(8/8)×N×ΔD
位置 2W:(8/8)×N×ΔD
応力は、位置に対する変位量の傾きに対応する。よって、各位置間における応力は以下となる。
位置-2.5W:0
位置-1.5W:(1/8)×N×ΔD/W
位置-0.5W:(1/2)×N×ΔD/W
位置0.5W :(3/8)×N×ΔD/W
位置1.5W :0
W0を一定値として、Wを以下の5つの場合について各位値の応力を計算した。Wは、W=0.5×W0、0.75×W0、1.0×W0、1.5×W0、2.0×W0の5つの場合である。W=0.5×W0のときの最大応力を1として規格化している。
図10は、算出したX方向の位置に対する応力(ストレス)を示す図である。図10に示すように、Wを大きくすると応力の最大値が小さくなる。応力の最大値はX方向の位置が-0.5Wのときであり、Wに反比例する。
このように応力の最大値は、NおよびΔDに比例しW(すなわちW1)に反比例する。ΔDは(t1)に反比例するから、応力の最大値はNに比例しW(すなわちW1)、t1に反比例する。つまり、応力の最大値∝N/[(t1)×W1)]である。積層セラミックコンデンサの耐電圧BDVは応力の最大値に反比例すると、耐電圧BDVは以下となる。
BDV∝[(t1)×W1)]/N (式2)
実際は、BDVは[(t1)×W1)]/Nに厳密には比例しなくとも、[(t1)×W1)]/Nが大きくなるとBDVが大きくなるという相関が成り立つ。積層セラミックコンデンサの小型化、大容量化のためには、t1は小さくNは大きくすることになる。よって、耐電圧BDVは低くなる方向となる。そこで、本実施形態ではずらし量W1を大きくする。これにより、耐電圧BDVを向上できる。
上記考察に基づけば、電歪効果を有する誘電体層11であれば、式2または同様の相関が成り立つ。また、内部電極12をX方向にずらすパターンによらず、式2は一般的に成り立つ。
図11は、本実施形態の一例を示す積層セラミックコンデンサの断面図である。図11に示すように、隣接する3層の内部電極12を1グループとして、内部電極12の端のX方向の位置を0、W、0、および-Wと順に変化させている。この例では1周期Pには誘電体層11が12層含まれる。このように変化させるグループに含まれる誘電体層11の層数は任意である。
また、位置0のグループ内の内部電極12を2層とし、位置Wおよび-Wのグループ内の内部電極12を3層とすることもできる。このように、1つのグループ内の内部電極12の層数を変化させることもできる。
さらに、内部電極12の端のX方向の位置を0、W、2W、W、0、-W、-2W、および-Wのように3水準以外の水準で変化させることもできる。
図12は、第3比較形態における積層セラミックコンデンサのZ方向から見た場合の内部電極12a,12bの重なり関係を示す図である。図12において、誘電体層11を実線で示し、外部電極20に接続された内部電極12aを太破線で示し、外部電極30に接続された内部電極12bを細破線で示す。図12に示すように、第3比較形態においては、X方向において、内部電極12aの端部の位置と内部電極12bの端部の位置とが異なっている。この場合、電歪効果に起因する応力が分散される。しかしながら、図12の太点線の丸で示す領域のように、内部電極12aのY方向に延びる辺と内部電極12bのX方向に延びる辺とが直交している。このように、辺同士が直交する領域において、応力が集中することになる。
図13は、本実施形態に係る内部電極12aの平面形状を示す図である。図13に示すように、内部電極12aは、外部電極20に接続されていない各角部に丸みを有している。なお、図13では内部電極12aを例示しているが、内部電極12bも同様の平面形状を有する。すなわち、内部電極12bは、外部電極30に接続されていない各角部に丸みを有している。各角部の曲率半径をRとする。なお、外部電極20,30に接続されている角部は、丸みを有していてもよく、直角であってもよい。
図14(a)に示すように、曲率半径Rは、W1よりも大きくなっている。これにより、X方向において端部の位置が異なる内部電極12aと内部電極12bとの間で、一方のY方向に延びる辺と他方のX方向に延びる辺とが直交せずに斜めに交差する。それにより、応力が分散する。なお、図14(b)に示すように、X方向の端部の位置が重なる内部電極12aと内部電極12bとの間では、一方のY方向に延びる辺と他方のX方向に延びる辺とは直交しない。
図15に示すように、曲率半径RがW1よりも大きいことで、2層の内部電極12aの間で、一方のY方向に延びる辺と他方のX方向に延びる辺とが直交せずに斜めに交差する。また、2層の内部電極12bの間で、一方のY方向に延びる辺と他方のX方向に延びる辺とが直交せずに斜めに交差する。それにより、応力が分散される。さらに、曲率半径Rは、L1よりも大きいことが好ましい。この場合、2層の内部電極12aの間で一方のY方向に延びる辺と他方のX方向に延びる辺との交差角度がより小さくなり、2層の内部電極12bの間で一方のY方向に延びる辺と他方のX方向に延びる辺との交差角度がより小さくなる。それにより、応力がより分散される。
本実施形態によれば、一対の外部電極20,30は、積層体10の対向する面に設けられ、複数の内部電極12の各々の一端が外部電極20および30いずれかに接続されている。このような積層セラミックコンデンサにおいて、t1×L1/Nを一定以上とする。ここで、L1(mm)は、Y方向(外部電極20と外部電極30とが対向する方向)において、複数の内部電極12における外部電極20,30と接続していない端のうち最も外側に位置する第1端Y1と、複数の内部電極12における端のうち最も内側に位置する第2端Y2と、の距離である。t1(μm)は、複数の誘電体層11の各々の層厚である。Nは、複数の誘電体層11の積層数である。
これにより、電歪効果に起因した応力を分散し、耐電圧を向上できる。t1×L1/Nは、1より大きいことが好ましく、10以上がより好ましく、20以上がより好ましい。t1×L1/Nが大きいと、積層体10のY方向の幅が大きくなる。よって、t1×L1/Nは100以下が好ましい。
誘電体層11の電歪効果が大きいと、応力が大きくなり耐電圧が低くなる。よって、ずらし量L1を大きくすることが好ましい。電歪効果の大きい材料として、チタン酸バリウムを主成分とする焼結体が挙げられる。
複数の内部電極12のY方向における外部電極20,30と接続されていない端の位置は周期的に配置されていることが好ましい。これにより、応力をより均一に分散できる。よって、応力をより分散することができ、耐電圧をより向上できる。
Y方向における端の位置が同じ隣接する一定数の内部電極12aと内部電極12bのうち端の位置が同じ隣接する一定数の内部電極12bを1グループとして、グループごとに端の位置が異なることが好ましい。これにより、応力をより均一に分散できる。よって、応力をより分散することができ、耐電圧をより向上できる。
動作電圧が高くかつ大型の積層セラミックコンデンサは、電歪効果による応力が大きい。よって、動作電圧が100V以上、または200V以上の積層セラミックコンデンサにおいて、ずらし量L1を大きくすることが好ましい。また、積層体10の長さLおよび幅Wが各々10mm以上の積層セラミックコンデンサにおいて、ずらし量L1を大きくすることが好ましい。
また、t1×W1/Nを一定以上とする。ここで、W1(mm)は、X方向(内部電極12と誘電体層11の面方向において第1方向(Y方向)と交差する第2方向)において、複数の内部電極12の端のうち最も外側に位置する第1端と、複数の内部電極12の端のうち最も内側に位置する第2端と、の距離である。t1(μm)は、複数の誘電体層11の各々の層厚である。Nは、複数の誘電体層11の積層数である。
これにより、電歪効果に起因した応力を分散し、耐電圧を向上できる。t1×W1/Nは、1より大きいことが好ましく、10以上がより好ましく、20以上がより好ましい。t1×W1/Nが大きいと、積層体10のX方向の幅が大きくなる。よって、t1×W1/Nは100以下が好ましい。
誘電体層11の電歪効果が大きいと、応力が大きくなり耐電圧が低くなる。よって、ずらし量W1を大きくすることが好ましい。
複数の内部電極12のX方向における端の位置は周期的に配置されていることが好ましい。これにより、応力をより均一に分散できる。よって、応力をより分散することができ、耐電圧をより向上できる。
X方向における端の位置が同じ隣接する複数の一定数の内部電極12を1グループとして、グループごとに端の位置が異なることが好ましい。これにより、応力をより均一に分散できる。よって、応力をより分散することができ、耐電圧をより向上できる。
動作電圧が高くかつ大型の積層セラミックコンデンサ100は、電歪効果による応力が大きい。したがって、動作電圧が100V以上、または200V以上の積層セラミックコンデンサにおいて、ずらし量W1を大きくすることが好ましい。また、積層体10の長さLおよび幅Wが各々10mm以上の積層セラミックコンデンサにおいて、ずらし量W1を大きくすることが好ましい。
さらに、内部電極12は、外部電極20,30と接続されていない各角部に丸みを有している。各角部の曲率半径Rは、W1よりも大きくなっている。これにより、X方向において端部の位置が異なる2層の内部電極12間で、一方のY方向に延びる辺と他方のX方向に延びる辺とが直交せずに斜めに交差する。それにより、電歪効果に起因する応力を分散することができる。
(第2実施形態)
図16(a)は、第2実施形態に係る積層セラミックコンデンサ100aの積層構造を例示する図である。図16(a)で例示するように、積層セラミックコンデンサ100aが第1実施形態に係る積層セラミックコンデンサ100と異なる点は、積層体10における積層方向のいずれかの箇所に、誘電体層11の3倍以上の厚みを有する厚膜誘電体層11aが備わっている点である。
厚膜誘電体層11aは、他の誘電体層11と比較して厚いことから、他の誘電体層11と比較して、応力に対して大きい強度を有する。それにより、電歪効果により積層体10内に発生した応力を分散することができる。その結果、耐電圧を向上させることができる。
厚膜誘電体層11aは、他の誘電体層11と比較して3倍以上の厚みを有していることが好ましい。また、積層体10のZ方向において下側のカバー層13の上面の位置をゼロとして上側のカバー層13の下面の位置をTiとした場合に、厚膜誘電体層11aは、積層体10における積層方向において、1/3・Ti以上2/3・Ti以下の間に設けられていることが好ましい。また、図16(b)で例示するように、2層以上の厚膜誘電体層11aが、互いに離間して設けられていてもよい。
上記各実施形態に係る積層セラミックコンデンサを作製した。内部電極12および外部電極20,30はニッケルを主成分とした。誘電体層11は、チタン酸バリウムを主成分とした。実施例1~4および比較例1~3を作製した。作製したサンプルの耐電圧BDVを測定した。BDVの測定は、外部電極20と外部電極30との間に直流電圧を印加し、昇圧速度を50秒/1kVとし、サンプルが破壊された電圧を耐電圧BDVとした。
図17は、実施例1~4および比較例1~3における各サンプルの各寸法を示す図である。図17に示すように、積層体10の長さLを14mmとした。積層体10の幅Wを19mmとした。実施例1および比較例1では積層体10の厚さTを3.3mmとし、実施例2~4および比較例2,3では4.1mmとした。内部電極12の幅Wiは、実施例1~4および比較例1~3のいずれにおいても15mmとした。なお、内部電極12の幅は全ての内部電極12で同じである。実施例1~4ではずらし量W1を1.2mmとし、比較例1~3では0.019mmとした。実施例1~4ではサイドマージンSMを0.8mmとし、比較例1~3では2mmとした。内部電極12aと12bとの重なり幅Liは、実施例1~4および比較例1~3のいずれにおいても11mmとした。実施例1~4では、ずらし量L1を1.3mmとし、比較例1~3では0.019mmとした。実施例1~4ではエンドマージンEMを0.85mmとし、比較例1~3では1.5mmとした。実施例1~4では曲率半径Rを2.5mmとし、比較例1~3では0.003mmとした。実施例1,4および比較例1では誘電体層11の厚さt1を26.1μmとし、実施例2,3および比較例2では35.6μmとし、比較例3では27.3μmとした。実施例1,3,4および比較例1,3では積層数Nを68とし、実施例2および比較例2では81とした。実施例1~3および比較例1~3では、厚膜誘電体層11aを設けなかった。実施例4では、厚さtaが誘電体層11の3倍の78.3μmの厚膜誘電体層11aを積層方向の中央に1層設けた。
比較例1~3では、耐電圧BDVがそれぞれ535V,549V,538Vと低くなった。これは、[(t1)×L1]/Nおよび[(t1)×W1]/Nの値が1未満となっていることで、電歪効果に起因する応力が分散されなかったからであると考えられる。また、曲率半径RがW1よりも大きくないことで、内部電極12aのY方向に延びる辺と内部電極12bのX方向に延びる辺とが直交し、辺同士が直交する領域において応力が集中したからであると考えられる。
比較例1~3に対し、実施例1~3では、耐電圧BDVがそれぞれ1483V,1497V,1550Vと十分に高い値となった。これは、[(t1)×L1]/Nおよび(t1)×W1]/Nの両方の値が10以上となったことに加えて、曲率半径RがW1よりも大きくなり内部電極12aのY方向に延びる辺と内部電極12bのX方向に延びる辺とが斜めに交差したことで、応力が十分に分散したからであると考えられる。また、曲率半径RがL1よりも大きくなったことで、2層の内部電極12aの間または2層の内部電極12bの間において、一方のY方向に延びる辺と他方のX方向に延びる辺とが斜めに交差し、応力がさらに分散したことも貢献していると考えられる。
さらに、実施例4では、誘電体層11の厚さt1が実施例1と同じであるものの、耐電圧BDVが1549Vとさらに高い値となった。これは、厚膜誘電体層11aを設けたことで、応力がさらに分散したからであると考えられる。
以上、本発明の実施例について詳述したが、本発明はかかる特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
10 積層体
11 誘電体層
11a 厚膜誘電体層
12 内部電極
13 カバー層
20,30 外部電極
100 積層セラミックコンデンサ

Claims (5)

  1. セラミックを主成分とする誘電体層と、内部電極と、が交互に積層され、積層された複数の前記内部電極が交互に対向する2端面に露出するように形成され、略直方体形状を有する積層体と、
    前記2端面に形成された1対の外部電極と、を備え、
    前記1対の外部電極が対向する第1方向において、前記複数の内部電極における前記外部電極と接続していない端のうち最も外側に位置する第1端と、当該外部電極と接続していない端のうち最も内側に位置する第2端と、の距離をL1(mm)、前記複数の誘電体層の各々の層厚をt1(μm)、前記複数の誘電体層の積層数をNとしたとき、t1×L1/Nは10以上であり、
    前記複数の内部電極と複数の誘電体層の面方向において前記第1方向に交差する第2方向において、前記積層体の同じ端面に対して、前記複数の内部電極の端のうち最も外側に位置する第1端と、前記複数の内部電極の端のうち最も内側に位置する第2端と、の距離をW1(mm)としたとき、t1×W1/Nは10以上であり、
    前記複数の内部電極における前記外部電極と接続していない端の角部の曲率半径をR(mm)としたとき、R>W1かつR>L1であり、
    前記複数の内部電極の前記第1方向における端の位置は、前記積層体の積層方向において周期的に配置され
    前記複数の内部電極の前記第2方向における端の位置は、前記積層体の積層方向において周期的に配置されていることを特徴とする積層セラミックコンデンサ。
  2. 前記積層体において、積層方向のいずれかの箇所に、前記誘電体層の3倍以上の厚みを有する厚膜誘電体層を備えることを特徴とする請求項1に記載の積層セラミックコンデンサ。
  3. 前記誘電体層はチタン酸バリウムを主成分とすることを特徴とする請求項1または2に記載の積層セラミックコンデンサ。
  4. 前記1対の外部電極の一方が接続された内部電極のうち前記端の位置が同じである隣接する一定数の内部電極と、前記1対の外部電極の他方が接続された内部電極のうち前記端の位置が同じである隣接する一定数の内部電極と、を1グループとして、グループごとに前記端の位置が異なる請求項1~3のいずれか一項に記載の積層セラミックコンデンサ。
  5. 前記端の位置が同じ隣接する複数の一定数の内部電極を1グループとして、グループごとに前記端の位置が異なる請求項4に記載の積層セラミックコンデンサ。
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