JP7110731B2 - 貫通電極基板及びその製造方法 - Google Patents
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Description
図1から図5を参照しながら、本開示の一実施形態に係る貫通電極基板について説明を行う。
貫通電極基板100の変形例として図3のように、貫通孔103の内壁に金属層105が設けられてもよい。金属層105が設けられなくても充填物109が導電性物質であれば、充填物109が貫通電極として機能する。しかし、充填物109が非導電性物質である場合には、金属層105を設けることで電極を貫通孔103内に形成することができる。金属層105には、金属材料を用いることができる。例えば、銅、金、スズ、銀、ニッケル、クロムなどが用いられることができる。図示はしないが、貫通孔103の内壁と金属層105との間に絶縁層等の金属層と異なる層が設けられてもよい。
図6から図15を参照して、本実施形態の貫通電極基板100の製造方法の一例について説明する。
本開示者らは、基板101をレーザによって照射して貫通孔103を設ける際、図8で示すような凸部50が貫通孔103を取り囲むように基板101の第1の面101aに形成されることを見出した。
Claims (14)
- 第1の面及び前記第1の面とは反対側の第2の面を有する基板と、
前記第1の面及び前記第2の面にかけて前記基板を貫通する貫通孔と、
前記貫通孔内に充填された充填物と、を含み、
前記充填物は、前記第1の面側に突き出た凸部を有し、
前記充填物の前記第1の面側の、前記凸部を含む表面の三次元中心面平均表面粗さは、0.2μm以下である、貫通電極基板。 - 前記充填物は導電性物質である、請求項1に記載の貫通電極基板。
- 前記導電性物質は金属である、請求項2に記載の貫通電極基板。
- 前記充填物の前記第1の面側の前記表面上に絶縁層を含む、請求項1から3の何れか一項に記載の貫通電極基板。
- 前記充填物の前記第1の面側の前記表面上に配線層を含む、請求項1から3の何れか一項に記載の貫通電極基板。
- 前記貫通孔の内壁に金属層をさらに有し、
前記充填物が非導電性物質である、請求項4又は5に記載の貫通電極基板。 - 第1の面及び前記第1の面とは反対側に位置する第2の面を有する基板に、前記第1の面及び前記第2の面にかけて前記基板を貫通する貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔内に充填物を充填する工程と、
前記充填物の第1の面側の表面及び前記基板の前記第1の面を研磨するとともに前記第1の面側の前記表面に凸部を形成する工程と
を含む、貫通電極基板の製造方法。 - 前記充填物は導電性物質である、請求項7に記載の貫通電極基板の製造方法。
- 前記導電性物質は金属である、請求項8に記載の貫通電極基板の製造方法。
- 前記充填物の前記第1の面側の表面上に絶縁層を形成する工程をさらに含む、請求項7から9の何れか一項に記載の貫通電極基板の製造方法。
- 前記充填物の前記第1の面側の表面上に配線層を形成する工程をさらに含む、請求項7から9の何れか一項に記載の貫通電極基板の製造方法。
- 前記貫通孔の内壁に金属層を形成する工程をさらに含み、
前記充填物が非導電性物質である、請求項10又は11に記載の貫通電極基板の製造方法。 - 前記凸部は、平面視において直線形状または円弧形状を有する、請求項1に記載の貫通電極基板。
- 前記凸部は、平面視において直線形状または円弧形状を有する、請求項7に記載の貫通電極基板の製造方法。
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