JP7104001B2 - Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、磁性薄膜の製造に用いられるＢＮ含有スパッタリングターゲット及びその製造方法に関し、特にＦｅとＰｔとＢＮ（窒化ホウ素）とを含むＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット及びその製造方法に関する。
ハードディスクドライブなどの磁気記録媒体のグラニュラー構造磁性薄膜を製造するためのスパッタリングターゲットとして、強磁性金属であるＦｅ又はＣｏを主成分として、ＳｉＯ２などの酸化物、Ｂ（ホウ素）、Ｃ（炭素）、ＢＮ（窒化ホウ素）などの非磁性材を含む焼結体が用いられている。ＢＮは潤滑剤として優れた性能を発揮するが、焼結性が劣るために高密度の焼結体を製造することが難しく、スパッタリング中にパーティクルが発生し、製品歩留まりが低下し、機械加工性が悪いなどの問題があった。
かかる問題を解決するために、ＢＮとＳｉＯ２を合金化して焼結性を改善する方法（特許文献１）、Ｆｅ－Ｐｔ合金粉末を使用することで酸化鉄の形成を抑制してスパッタリングターゲットの酸素含有量を低下させる方法（特許文献２）、粉砕して板状あるいは薄片にした金属原料粉末を六方晶系ＢＮと混合して六方晶系ＢＮの結晶の向きを揃える方法（特許文献３）などが提案されている。
特許文献１には、非磁性材料である六方晶系ＢＮ粒子をＳｉＯ２粒子とともにＦｅ－Ｐｔ系の母材金属に分散させることによって、スパッタリング時に発生するパーティクル量を低減した高密度のスパッタリングターゲットを提供すること、及びＢＮとＳｉＯ２とを相互に拡散させた状態で含有させることにより、六方晶系ＢＮの焼結性を著しく向上できることが開示されている。具体的な製造方法として、Ｆｅ、Ｐｔ、ＳｉＯ２及びＢＮの各原料粉末を、媒体撹拌ミルを用いて３００ｒｐｍで２時間混合して得られる混合粉末をホットプレスした後、熱間等方加圧加工を行うことが記載されている。また、得られるＦｅ－Ｐｔ系磁性材焼結体は、加圧面に対する断面において、バックグラウンド強度に対する六方晶系ＢＮ（００２）面のＸ線回折ピーク強度比が１．５０以上であり、結晶化したＳｉＯ２であるクリストバライト（１０１）面のＸ線回折ピーク強度比が１．４０以下であることが記載されている。さらに、ＳｉＯ２を含まない点を除いて同じ製造条件で製造した比較例（Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系、Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ－酸化物系、及びＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ－非磁性材系）においては、パーティクル数が６４５個以上と著しく多くなっていることが記載されている。
特許文献２には、Ｆｅ－Ｐｔ合金粉末を使用することによって、酸素量を４０００ｗｔｐｐｍ以下まで低減したＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系の磁性材焼結体を作製できること、作製された焼結体は、機械加工性が良好となり、割れやチッピングの発生を抑制できるために異常放電やパーティクルの発生が少ないことが開示されている。具体的な製造方法として、粒径が０．５μｍ以上１０μｍ以下のＦｅ－Ｐｔ合金粉末、及びＢＮ粉末を乳鉢に投入して均一に混合した混合粉末をホットプレスした後、熱間等方加圧加工を行うことが記載されている。粒径が０．５μｍ以上１０μｍ以下のＦｅ－Ｐｔ合金粉末を用いることは、Ｆｅの形態を酸化しにくい形態とするための必須要件である。また、Ｆｅ粉末、Ｐｔ粉末及びＢＮ粉末を、媒体撹拌ミルを用いて３００ｒｐｍで２時間混合する点を除いて同じ製造条件で製造した比較例（Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系、Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ－非磁性材系）においては、酸素含有量が１１５００ｗｔｐｐｍ以上と高く、チッピングが発生したことが記載されている。
特許文献３には、六方晶系ＢＮは二次元の結晶構造を有しているため、焼結体中において、この六方晶系ＢＮの結晶の向きがランダムになっていると、電気伝導に影響を及ぼし、異常放電を発生させることから、六方晶系ＢＮの結晶の向きを一方向に揃えることにより安定的なスパッタリングを可能にすることが開示されている。具体的には、Ｆｅ－Ｐｔ系焼結体スパッタリングターゲットにおいて、スパッタ面に対して垂直断面における六方晶系ＢＮ（００２）面のＸ線回折ピーク強度に対する、スパッタ面に対して水平面における六方晶系ＢＮ（００２）面のＸ線回折ピーク強度の強度比を２以上とすること、及びスパッタ面に対して垂直断面における六方晶ＢＮ相の平均厚みを３０μｍ以下とした薄片状又は板状とすることが記載されている。また、具体的製造方法として、Ｆｅ－Ｐｔ合金粉末を、媒体撹拌ミルを用いて３００ｒｐｍで２時間処理して平均粒子径１０μｍとした後、平均粒子径８μｍの薄片状六方晶ＢＮとＶ型混合機で混ぜ合わせ、さらに乳鉢で混合するか又は１５０μｍ目の篩で混合して得られる混合粉末をホットプレスした後、熱間等方加圧加工を行うことが記載されている。さらに、Ｆｅ－Ｐｔ合金粉末を前処理せずに直接ＢＮ粉末と混合する点を除いて同じ製造条件で製造した比較例（Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系、Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ―非磁性材系、Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ－酸化物系）においては、パーティクル数が６１６個以上と著しく多くなっていることが記載されている。
以上、特許文献１～３の比較例は、Ｆｅ粉末、Ｐｔ粉末及びＢＮ粉末を媒体撹拌ミル、Ｖ型撹拌機、乳鉢などで混合して得た混合粉末をホットプレス及び熱間等方加圧加工するものであるが、いずれもパーティクル数を低減できていない。
本発明の目的は、特許文献１～３に開示されている発明とは異なるアプローチにより、高い相対密度を有するＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットのパーティクル発生の問題を解決することにある。
本発明者らは、Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットにおけるパーティクル発生の原因がＢＮ粒子の凝集にあると考え、ＢＮ粒子の凝集を回避して、ＢＮ粒子を均一微細に分散させることにより、パーティクル発生を低減させることができるＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットを提供できることを見出した。
本発明によれば、以下の態様のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットが提供される。
［１］Ｆｅ、Ｐｔ及びＢＮを含むＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットであって、当該スパッタリングターゲットを下記の手順：
（１）当該スパッタリングターゲットから４ｍｍ角の試料片を切断し、当該試料片を粉砕して、粉砕物を調製し、
（２）当該粉砕物を目開き１０６μｍ及び３００μｍの篩を用いて分級し、３００μｍの篩を通過し１０６μｍの篩上に残った粉末を採取し、
（３）当該粉末を、２００℃に加熱した王水中に浸漬し、粉末を溶解させた残渣含有溶液を調製し、
（４）当該残渣含有溶液をＪＩＳ Ｐ ３８０１に規定される５種Ａのろ紙でろ過し、ろ紙上の残渣を８０℃で乾燥させて、残渣粉末を調製し、
（５）当該残渣粉末を、界面活性剤を含む水に分散させて、試料溶液を調製し、
（６）当該試料溶液を粒度分析計にかけ、粒度分布を測定する
で測定した場合に、王水溶解後の残渣は、体積基準の９０％径（Ｄ９０）が５．５μｍ以下であり、かつ１μｍ未満の微細粒子が３５％以下である粒度分布を有することを特徴とするＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット。
［２］Ｐｔを１０ｍｏｌ％以上５５ｍｏｌ％以下含む、上記［１］に記載のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット。
［３］Ａｇ、Ａｕ、Ｂ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕから選択される１種以上の元素、及び／又は
Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔａ又はＺｒの酸化物又はＣから選択される１種以上の非金属成分をさらに含む、上記［１］又は［２］に記載のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット。
［４］ＢＮ及び非金属成分を１０ｍｏｌ％以上５５ｍｏｌ％以下含む、上記［１］～［３］のいずれか１に記載のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット。
［５］Ｆｅ粉末、Ｐｔ粉末及びＢＮ粉末を媒体撹拌ミルに投入して、１００ｒｐｍ以上２００ｒｐｍ以下の回転数で２時間以上６時間以下、混合して原料粉末混合物を調製し、
当該原料粉末混合物のうち目開き３００μｍ篩を通過した粉末を採取して、焼結することを特徴とする、上記［１］～［４］のいずれか１に記載のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットの製造方法。
［６］焼結は、６００℃以上１２００℃以下の焼結温度、及び３０ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下の焼結圧力で行われることを特徴とする、上記［５］に記載の製造方法。
［１］Ｆｅ、Ｐｔ及びＢＮを含むＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットであって、当該スパッタリングターゲットを下記の手順：
（１）当該スパッタリングターゲットから４ｍｍ角の試料片を切断し、当該試料片を粉砕して、粉砕物を調製し、
（２）当該粉砕物を目開き１０６μｍ及び３００μｍの篩を用いて分級し、３００μｍの篩を通過し１０６μｍの篩上に残った粉末を採取し、
（３）当該粉末を、２００℃に加熱した王水中に浸漬し、粉末を溶解させた残渣含有溶液を調製し、
（４）当該残渣含有溶液をＪＩＳ Ｐ ３８０１に規定される５種Ａのろ紙でろ過し、ろ紙上の残渣を８０℃で乾燥させて、残渣粉末を調製し、
（５）当該残渣粉末を、界面活性剤を含む水に分散させて、試料溶液を調製し、
（６）当該試料溶液を粒度分析計にかけ、粒度分布を測定する
で測定した場合に、王水溶解後の残渣は、体積基準の９０％径（Ｄ９０）が５．５μｍ以下であり、かつ１μｍ未満の微細粒子が３５％以下である粒度分布を有することを特徴とするＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット。
［２］Ｐｔを１０ｍｏｌ％以上５５ｍｏｌ％以下含む、上記［１］に記載のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット。
［３］Ａｇ、Ａｕ、Ｂ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕから選択される１種以上の元素、及び／又は
Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔａ又はＺｒの酸化物又はＣから選択される１種以上の非金属成分をさらに含む、上記［１］又は［２］に記載のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット。
［４］ＢＮ及び非金属成分を１０ｍｏｌ％以上５５ｍｏｌ％以下含む、上記［１］～［３］のいずれか１に記載のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット。
［５］Ｆｅ粉末、Ｐｔ粉末及びＢＮ粉末を媒体撹拌ミルに投入して、１００ｒｐｍ以上２００ｒｐｍ以下の回転数で２時間以上６時間以下、混合して原料粉末混合物を調製し、
当該原料粉末混合物のうち目開き３００μｍ篩を通過した粉末を採取して、焼結することを特徴とする、上記［１］～［４］のいずれか１に記載のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットの製造方法。
［６］焼結は、６００℃以上１２００℃以下の焼結温度、及び３０ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下の焼結圧力で行われることを特徴とする、上記［５］に記載の製造方法。
本発明のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットは、９０％以上の相対密度を有し、マグネトロンスパッタリング時のパーティクル発生数を低減できる。
以下、添付図面を参照しながら、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットは、下記の手順：
（１）当該スパッタリングターゲットから約４ｍｍ角の試料片を切断し、当該試料片を粉砕し、粉砕物を調製し、
（２）当該粉砕物を目開き１０６μｍ及び３００μｍの篩を用いて分級し、３００μｍの篩を通過し１０６μｍの篩上に残った粉末を採取し、
（３）当該粉末を、２００℃に加熱した王水（塩酸：硝酸＝３：１）中に浸漬し、粉末を溶解させた残渣含有溶液を調製し、
（４）当該残渣含有溶液をＪＩＳ Ｐ ３８０１に規定される５種Ａのろ紙（東洋濾紙株式会社製分析用濾紙Ｎｏ．５Ａ）でろ過し、ろ紙上の残渣を８０℃で乾燥させて、残渣粉末を調製し、
（５）当該残渣粉末を、界面活性剤を含む水に分散させて、試料溶液を調製し、
（６）当該試料溶液を粒度分析計にかけ、粒度分布を測定する
で測定した場合に、王水溶解後の残渣は、体積基準の９０％径（Ｄ９０）が５．５μｍ以下であり、かつ１μｍ未満の微細粒子が３５％以下である粒度分布を有することを特徴とする。
（１）当該スパッタリングターゲットから約４ｍｍ角の試料片を切断し、当該試料片を粉砕し、粉砕物を調製し、
（２）当該粉砕物を目開き１０６μｍ及び３００μｍの篩を用いて分級し、３００μｍの篩を通過し１０６μｍの篩上に残った粉末を採取し、
（３）当該粉末を、２００℃に加熱した王水（塩酸：硝酸＝３：１）中に浸漬し、粉末を溶解させた残渣含有溶液を調製し、
（４）当該残渣含有溶液をＪＩＳ Ｐ ３８０１に規定される５種Ａのろ紙（東洋濾紙株式会社製分析用濾紙Ｎｏ．５Ａ）でろ過し、ろ紙上の残渣を８０℃で乾燥させて、残渣粉末を調製し、
（５）当該残渣粉末を、界面活性剤を含む水に分散させて、試料溶液を調製し、
（６）当該試料溶液を粒度分析計にかけ、粒度分布を測定する
で測定した場合に、王水溶解後の残渣は、体積基準の９０％径（Ｄ９０）が５．５μｍ以下であり、かつ１μｍ未満の微細粒子が３５％以下である粒度分布を有することを特徴とする。
試料溶液を調製する際に用いる界面活性剤は、残渣粉末が水中で凝集することを防止して、個々の粒子に分離した状態で分散させることができればよく、特に限定されない。後述する実施例では、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテルを含む１５％濃度の界面活性剤０．１５ｇを水３０ｍｌに希釈して用いた。
本発明において「溶解残渣」とは、スパッタリングターゲットの成分のうち金属類を除く固形成分であり、王水（濃塩酸（特級）と濃硝酸（特級）の３：１（体積比）混合液）に溶解させて得られる残渣を意味する。
スパッタリングターゲットが金属成分としてＡｇ（銀）を含む場合には、Ａｇは王水に溶解しないため、最初に粉末を硝酸に浸漬させてＡｇを溶解させて得られる残渣を王水に浸漬させ溶解させて得られる残渣である。同様に、スパッタリングターゲットが金属成分としてＣｒ（クロム）を含む場合には、Ｃｒは王水に溶解しないため、最初に粉末を塩酸に浸漬させてＣｒを溶解させて得られる残渣を王水に浸漬させ溶解させて得られる残渣である。
スパッタリングターゲットが金属成分としてＡｇ（銀）を含む場合には、Ａｇは王水に溶解しないため、最初に粉末を硝酸に浸漬させてＡｇを溶解させて得られる残渣を王水に浸漬させ溶解させて得られる残渣である。同様に、スパッタリングターゲットが金属成分としてＣｒ（クロム）を含む場合には、Ｃｒは王水に溶解しないため、最初に粉末を塩酸に浸漬させてＣｒを溶解させて得られる残渣を王水に浸漬させ溶解させて得られる残渣である。
Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットの成分のうち、Ｆｅ及びＰｔ並びに他の金属成分は、王水に溶解するため、残渣はＢＮ、Ｃ、酸化物及び窒化物などの非金属成分である。これらの溶解残渣は、スパッタリングの際のパーティクル発生原因となる非磁性材の粒子である。
本発明のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットは、王水溶解後の残渣が体積基準の９０％径（Ｄ９０）が５．５μｍ以下であり、かつ、１μｍ未満の微細粒子が３５％以下である粒度分布を有することを特徴とする。すなわち、本発明のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットの非金属成分の５５％以上は、粒子径１μｍ以上５．５μｍ以下の範囲内に分布しており、大きすぎる粒子や小さすぎる粒子の含有率は低い。図１に示す組織観察図からも、濃い灰色乃至黒色で示される非金属粒子は、大きすぎる粒子や小さすぎる粒子がなく、一定範囲内に収まることがわかる。
本発明のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットにおいて、王水溶解後の残渣は、体積基準の９０％径（Ｄ９０）が５．５μｍ以下であり、５．３μｍ以下であることが好ましく、５．２μｍ以下であることがより好ましい。また、１μｍ未満の微細粒子は３５％以下であり、３４％以下であることがより好ましい。王水溶解後の残渣は非金属成分であり、体積基準の９０％径（Ｄ９０）が５．５μｍを超えて大きくなるとスパッタリング時のパーティクル数が著しく増加し、１μｍ未満の微細粒子が３５％を超えて増加すると相対密度が低くなり、スパッタリングターゲットとして実用化できない。また、１μｍ未満の微細粒子が増えると、微細粒子が凝集して、スパッタリングターゲットの組織中に大きな非金属成分の領域を形成することになり、パーティクル発生の原因となる。
本発明のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットは、Ａｇ、Ａｕ、Ｂ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕから選択される１種以上の元素、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔａ又はＺｒの酸化物又はＣをさらに含み得る。酸化物としては、ＳｉＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｏ２、ＴｉＯ、ＴｉＯ２、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＺｒＯ２が好ましく、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＺｒＯ２がより好ましく、１種または２種以上の酸化物を含んでいてもよい。
Ｐｔの総量は、Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット全体の１０ｍｏｌ％以上５５ｍｏｌ％以下、好ましくは１５ｍｏｌ％以上５０ｍｏｌ％以下とすることができ、上記範囲内であればＦｅ－Ｐｔ系合金の磁気特性を良好に維持することができる。
Ａｇ、Ａｕ、Ｂ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕの総量は、Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット全体の０ｍｏｌ％以上２０ｍｏｌ％以下、好ましくは０ｍｏｌ％以上１５ｍｏｌ％以下とすることができ、上記範囲内であればＦｅ－Ｐｔ系合金の磁気特性を良好に維持することができる。
非金属成分であるＢＮ、酸化物及びＣは、磁気記録媒体のグラニュラー構造磁性薄膜の粒界材として機能する。ＢＮ、酸化物及びＣの総量は、Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット全体の１０ｍｏｌ％以上５５ｍｏｌ％以下であることが好ましく、１５ｍｏｌ％以上５０ｍｏｌ％以下であることがより好ましく、２０ｍｏｌ％以上４５ｍｏｌ％以下であることが特に好ましい。
ＢＮの含有量は、Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット全体の１０ｍｏｌ％以上５５ｍｏｌ％以下であることが好ましく、１５ｍｏｌ％以上５０ｍｏｌ％以下であることが好ましく、２０ｍｏｌ％以上４５ｍｏｌ％以下であることが特に好ましい。上記範囲内であれば、ＢＮが磁気記録媒体のグラニュラー構造磁性薄膜の粒界材として機能する。
酸化物の含有量は、Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット全体の０ｍｏｌ％以上２０ｍｏｌ％以下であることが好ましく、０ｍｏｌ％以上１５ｍｏｌ％以下であることが特に好ましい。上記範囲内であれば、酸化物がＢＮやＣと共に磁気記録媒体のグラニュラー構造磁性薄膜の粒界材として機能する。
Ｃの含有量は、Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット全体の０ｍｏｌ％以上２０ｍｏｌ％以下であることが好ましく、０ｍｏｌ％以上１５ｍｏｌ％以下であることが特に好ましい。上記範囲内であれば、ＣがＢＮや酸化物と共に磁気記録媒体のグラニュラー構造磁性薄膜の粒界材として機能する。
本発明のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットは、Ｆｅ粉末、Ｐｔ粉末及びＢＮ粉末を媒体撹拌ミルに投入して、１００ｒｐｍ以上２００ｒｐｍ以下の回転数で２時間以上６時間以下、混合して原料粉末混合物を調製し、当該原料粉末混合物のうち目開き３００μｍの篩を通過した粉末を採取して、焼結することにより製造することができる。媒体撹拌ミルの回転数が低すぎるとＢＮを均一に分散することができず、回転数が高すぎると微細な粒子が形成されてしまい、所望の分散状態を達成することができないので好ましくない。
Ｆｅ粉末としては、平均粒径１μｍ以上１０μｍ以下のものを用いることが好ましい。平均粒径が小さすぎると発火の危険性や不可避不純物濃度が高くなる可能性が生じ、平均粒径が大きすぎるとＢＮを均一に分散することができないので好ましくない。
Ｐｔ粉末としては、平均粒径０．１μｍ以上１０μｍ以下のものを用いることが好ましい。平均粒径が小さすぎると不可避不純物濃度が高くなる可能性が生じ、平均粒径が大きすぎるとＢＮを均一に分散することができないので好ましくない。
ＢＮ粉末としては、平均粒径２μｍ以上１０μｍ以下のものを用いることが好ましい。上記範囲外だと所望の分散状態を達成することができないので好ましくない。
Ｃ粉末としては、平均粒径２μｍ以上１０μｍ以下のものを用いることが好ましい。上記範囲外だと所望の分散状態を達成することができないので好ましくない。
その他追加成分として用いる金属粉末としては、平均粒径０．１μｍ以上２０μｍ以下のものを用いることが好ましい。平均粒径が小さすぎると不可避不純物濃度が高くなる可能性が生じ、平均粒径が大きすぎると均一に分散することができないので好ましくない。
その他追加成分として用いる酸化物粉末としては、平均粒径１μｍ以上５μｍ以下のものを用いることが好ましい。上記範囲外だと所望の分散状態を達成することができないので好ましくない。
焼結は、６００℃以上１２００℃以下、好ましくは７００℃以上１１００℃以下の焼結温度、及び３０ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下、好ましくは５０ＭＰａ以上１００ＭＰａ以下の焼結圧力で行われることが望ましい。焼結温度が低すぎると相対密度が低くなり、焼結温度が高すぎるとＢＮが分解する恐れがあるので好ましくない。
本発明のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットを製造する際に、熱間等方加圧加工を行わないことが好ましい。熱間等方加圧加工により金属成分が硬くなり、ＢＮ粒子を破砕し過ぎてしまうと考えられる。
以下、実施例及び比較例により、本発明を具体的に説明する。以下の実施例及び比較例におけるスパッタリングターゲットの相対密度、パーティクル数及び粒度分布の測定方法は以下のとおりである。
［相対密度］
置換液として純水を用いて、アルキメデス法で密度を測定する。焼結体の質量を測定し、焼結体を置換液中に浮遊させた状態で浮力（＝焼結体の体積）を測定する。焼結体の質量（ｇ）を焼結体の体積（ｃｍ３）で除して実測密度（ｇ／ｃｍ３）を求める。焼結体の組成に基づいて計算した理論密度との比率（実測密度／理論密度×１００）が相対密度である。
置換液として純水を用いて、アルキメデス法で密度を測定する。焼結体の質量を測定し、焼結体を置換液中に浮遊させた状態で浮力（＝焼結体の体積）を測定する。焼結体の質量（ｇ）を焼結体の体積（ｃｍ３）で除して実測密度（ｇ／ｃｍ３）を求める。焼結体の組成に基づいて計算した理論密度との比率（実測密度／理論密度×１００）が相対密度である。
［パーティクル数］
焼結体を直径１５３ｍｍ、厚さ２ｍｍに加工し、直径１６１ｍｍ、厚さ４ｍｍのＣｕ製パッキングプレートにインジウムでボンディングして、スパッタリングターゲットを調製する。このスパッタリングターゲットをマグネトロンスパッタリング装置に取り付け、出力５００Ｗ、ガス圧１ＰａのＡｒガス雰囲気下で、４時間放電した後、４０秒間のスパッタリングで基板上に付着したパーティクル数をパーティクルカウンターで測定する。
焼結体を直径１５３ｍｍ、厚さ２ｍｍに加工し、直径１６１ｍｍ、厚さ４ｍｍのＣｕ製パッキングプレートにインジウムでボンディングして、スパッタリングターゲットを調製する。このスパッタリングターゲットをマグネトロンスパッタリング装置に取り付け、出力５００Ｗ、ガス圧１ＰａのＡｒガス雰囲気下で、４時間放電した後、４０秒間のスパッタリングで基板上に付着したパーティクル数をパーティクルカウンターで測定する。
［粒度分布］
スパッタリングターゲットから約４ｍｍ角の試料片を切断し、粉砕機（大阪ケミカル（株）製ワンダーブレンダー）で破砕する。受皿の上に目開き１０６μｍと３００μｍの篩をセットして、破砕した粉末を最大振幅で１分間、電磁振動式篩分器（株式会社伊藤製作所製 MS-200）で分級し、３００μｍの篩を通過し１０６μｍの篩の上に残った粉末を採取する。採取した粉末を２００℃のホットプレート上で加熱した王水（１００ｍｌ：関東化学（株）製の特級塩酸：製品番号18078-00と特級硝酸（比重１．３８）：製品番号28163-00とを体積比率３：１で混合した）に、反応が停止するまで１時間浸漬する（１回目）。抽出した残渣を２００℃のホットプレート上で加熱した新たな王水１００ｍｌ中に１時間浸漬する（２回目）。反応が停止していることを確認し、王水中の残渣を抽出する。抽出した残渣を２００℃のホットプレート上で加熱した新たな王水１００ｍｌ中に１時間浸漬する（３回目）。３回目の残渣含有王水をＮｏ．５Ａ（ＪＩＳ Ｐ ３８０１ ５種Ａ）のろ紙（孔径７μｍ）でろ過し、ろ紙上の残渣を純水でビーカー中に洗い流し、再度Ｎｏ．５Ａのろ紙でろ過する。ろ紙を８０℃のホットプレート上に広げて１５分間乾燥して、残渣粉末を回収する。残渣粉末１０ｍｇと、水３０ｍｌと、１５％界面活性剤（直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル）０．１５ｇを１００ｍｌのビーカーに入れ、超音波ホモジナイザー（US-150T（定格出力１５０Ｗ）、株式会社日本精機製作所）でＶ－ＬＥＶＥＬが２００～３００μＡになるように調整し、５分間分散処理を行い、試料溶液を得る。この試料溶液を、粒度分析計（MT-3300EX II（レーザー回折・散乱法、測定範囲０．０２～２０００μｍ）、マイクロトラック・ベル株式会社）を用いて表１に示す条件で２回測定する。２回の測定値について、１０パーセント径（Ｄ１０）、５０パーセント径（Ｄ５０）及び９０パーセント径（Ｄ９０）が、それぞれ０μｍ以上１０μｍ未満の場合の許容誤差範囲は±０．１μｍ、１０μｍ以上４０μｍ未満の場合の許容誤差範囲は±０．２μｍ、４０μｍ以上の場合の許容誤差範囲は±１μｍとして、許容誤差範囲を外れる場合には再測定する。粒度分析計のデータ解析画面に表示される「Ｓｉｚｅ％」で「１μｍｐａｓｓ」（１μｍの篩を通過する粒子の累積％値）を「＜１μｍ（％）」とする。
スパッタリングターゲットから約４ｍｍ角の試料片を切断し、粉砕機（大阪ケミカル（株）製ワンダーブレンダー）で破砕する。受皿の上に目開き１０６μｍと３００μｍの篩をセットして、破砕した粉末を最大振幅で１分間、電磁振動式篩分器（株式会社伊藤製作所製 MS-200）で分級し、３００μｍの篩を通過し１０６μｍの篩の上に残った粉末を採取する。採取した粉末を２００℃のホットプレート上で加熱した王水（１００ｍｌ：関東化学（株）製の特級塩酸：製品番号18078-00と特級硝酸（比重１．３８）：製品番号28163-00とを体積比率３：１で混合した）に、反応が停止するまで１時間浸漬する（１回目）。抽出した残渣を２００℃のホットプレート上で加熱した新たな王水１００ｍｌ中に１時間浸漬する（２回目）。反応が停止していることを確認し、王水中の残渣を抽出する。抽出した残渣を２００℃のホットプレート上で加熱した新たな王水１００ｍｌ中に１時間浸漬する（３回目）。３回目の残渣含有王水をＮｏ．５Ａ（ＪＩＳ Ｐ ３８０１ ５種Ａ）のろ紙（孔径７μｍ）でろ過し、ろ紙上の残渣を純水でビーカー中に洗い流し、再度Ｎｏ．５Ａのろ紙でろ過する。ろ紙を８０℃のホットプレート上に広げて１５分間乾燥して、残渣粉末を回収する。残渣粉末１０ｍｇと、水３０ｍｌと、１５％界面活性剤（直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル）０．１５ｇを１００ｍｌのビーカーに入れ、超音波ホモジナイザー（US-150T（定格出力１５０Ｗ）、株式会社日本精機製作所）でＶ－ＬＥＶＥＬが２００～３００μＡになるように調整し、５分間分散処理を行い、試料溶液を得る。この試料溶液を、粒度分析計（MT-3300EX II（レーザー回折・散乱法、測定範囲０．０２～２０００μｍ）、マイクロトラック・ベル株式会社）を用いて表１に示す条件で２回測定する。２回の測定値について、１０パーセント径（Ｄ１０）、５０パーセント径（Ｄ５０）及び９０パーセント径（Ｄ９０）が、それぞれ０μｍ以上１０μｍ未満の場合の許容誤差範囲は±０．１μｍ、１０μｍ以上４０μｍ未満の場合の許容誤差範囲は±０．２μｍ、４０μｍ以上の場合の許容誤差範囲は±１μｍとして、許容誤差範囲を外れる場合には再測定する。粒度分析計のデータ解析画面に表示される「Ｓｉｚｅ％」で「１μｍｐａｓｓ」（１μｍの篩を通過する粒子の累積％値）を「＜１μｍ（％）」とする。
［実施例１］
Ｆｅ－３１．５Ｐｔ－３０ＢＮ（比率はｍｏｌ％、Ｆｅは残部。以下の実施例及び比較例にて同じ。）の組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１９０．２８ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５４３．８３ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６５．９０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで４時間混合して、混合粉末を得た。この混合粉末を目開き３００μｍの篩で分級し、通過した粉末を焼結圧力６６ＭＰａ、焼結温度９００℃、保持時間１時間の条件で焼結して、焼結体を得た。
この焼結体の相対密度を測定後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定した。次に、スパッタリングターゲットから約４ｍｍ角の試料片を切り出して、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９３．８％、パーティクル数は５３個、王水溶解後の残渣のＤ９０は３．７１μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２６．１２％であった。
Ｆｅ－３１．５Ｐｔ－３０ＢＮ（比率はｍｏｌ％、Ｆｅは残部。以下の実施例及び比較例にて同じ。）の組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１９０．２８ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５４３．８３ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６５．９０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで４時間混合して、混合粉末を得た。この混合粉末を目開き３００μｍの篩で分級し、通過した粉末を焼結圧力６６ＭＰａ、焼結温度９００℃、保持時間１時間の条件で焼結して、焼結体を得た。
この焼結体の相対密度を測定後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定した。次に、スパッタリングターゲットから約４ｍｍ角の試料片を切り出して、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９３．８％、パーティクル数は５３個、王水溶解後の残渣のＤ９０は３．７１μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２６．１２％であった。
［実施例２］
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで４時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９２．９％、パーティクル数は３８個、王水溶解後の残渣のＤ９０は３．４１μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２８．２６％であった。また、焼結体の組織の金属顕微鏡観察写真（１０００倍）を図１に示す。
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで４時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９２．９％、パーティクル数は３８個、王水溶解後の残渣のＤ９０は３．４１μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２８．２６％であった。また、焼結体の組織の金属顕微鏡観察写真（１０００倍）を図１に示す。
［実施例３］
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで２時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９５．６％、パーティクル数は８３個、王水溶解後の残渣のＤ９０は５．１８μｍ、１μｍ未満の微細粒子は１２．７６％であった。
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで２時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９５．６％、パーティクル数は８３個、王水溶解後の残渣のＤ９０は５．１８μｍ、１μｍ未満の微細粒子は１２．７６％であった。
［実施例４］
Ｆｅ－３１．５Ｐｔ－７Ａｇ－３０ＢＮの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４５．９１ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０９．７０ｇ、平均粒子径１０μｍのＡｇ粉末６２．６３ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６１．７６ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで４時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９５．２％、パーティクル数は４９個、王水溶解後の残渣のＤ９０は３．６０μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２７．５０％であった。
Ｆｅ－３１．５Ｐｔ－７Ａｇ－３０ＢＮの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４５．９１ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０９．７０ｇ、平均粒子径１０μｍのＡｇ粉末６２．６３ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６１．７６ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで４時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９５．２％、パーティクル数は４９個、王水溶解後の残渣のＤ９０は３．６０μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２７．５０％であった。
［実施例５］
Ｆｅ－３１．５Ｐｔ－７Ｃｏ－３０ＢＮの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１５１．４３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５２８．９７ｇ、平均粒子径３μｍのＣｏ粉末３５．５１ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６４．１０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで４時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９３．７％、パーティクル数は４１個、王水溶解後の残渣のＤ９０は３．１９μｍ、１μｍ未満の微細粒子は３１．２５％であった。
Ｆｅ－３１．５Ｐｔ－７Ｃｏ－３０ＢＮの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１５１．４３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５２８．９７ｇ、平均粒子径３μｍのＣｏ粉末３５．５１ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６４．１０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで４時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９３．７％、パーティクル数は４１個、王水溶解後の残渣のＤ９０は３．１９μｍ、１μｍ未満の微細粒子は３１．２５％であった。
［実施例６］
Ｆｅ－３１．５Ｐｔ－７Ｒｈ－３０ＢＮの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４８．３３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５１８．１５ｇ、平均粒子径１０μｍのＲｈ粉末６０．７４ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６２．７９ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで４時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９２．５％、パーティクル数は４３個、王水溶解後の残渣のＤ９０は３．７５μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２７．２４％であった。
Ｆｅ－３１．５Ｐｔ－７Ｒｈ－３０ＢＮの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４８．３３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５１８．１５ｇ、平均粒子径１０μｍのＲｈ粉末６０．７４ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６２．７９ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで４時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９２．５％、パーティクル数は４３個、王水溶解後の残渣のＤ９０は３．７５μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２７．２４％であった。
［実施例７］
Ｆｅ－３９Ｐｔ－２０ＢＮ－５ＳｉＯ２の組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１５３．６６ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５８１．５０ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末３７．９４ｇ、平均粒子径２μｍのＳｉＯ２粉末２２．９６ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで４時間混合して、混合粉末を得て、焼結温度を１１００℃に変えた以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９７．１％、パーティクル数は２８個、王水溶解後の残渣のＤ９０は２．７３μｍ、１μｍ未満の微細粒子は３３．５３％であった。
Ｆｅ－３９Ｐｔ－２０ＢＮ－５ＳｉＯ２の組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１５３．６６ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５８１．５０ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末３７．９４ｇ、平均粒子径２μｍのＳｉＯ２粉末２２．９６ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで４時間混合して、混合粉末を得て、焼結温度を１１００℃に変えた以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９７．１％、パーティクル数は２８個、王水溶解後の残渣のＤ９０は２．７３μｍ、１μｍ未満の微細粒子は３３．５３％であった。
［実施例８］
Ｆｅ－３５Ｐｔ－３０ＢＮの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１７２．７９ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末６０３．６０ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６５．８３ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９５．０％、パーティクル数は６７個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．３８μｍ、１μｍ未満の微細粒子は１８．１２％であった。
Ｆｅ－３５Ｐｔ－３０ＢＮの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１７２．７９ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末６０３．６０ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６５．８３ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９５．０％、パーティクル数は６７個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．３８μｍ、１μｍ未満の微細粒子は１８．１２％であった。
［実施例９］
Ｆｅ－３２．５Ｐｔ－３５ＢＮの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１５７．９１ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５５１．６０ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末７５．５８ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をターゲットに加工してスパッタリングパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９４．１％、パーティクル数は７７個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．５４μｍ、１μｍ未満の微細粒子は１９．５７％であった。
Ｆｅ－３２．５Ｐｔ－３５ＢＮの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１５７．９１ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５５１．６０ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末７５．５８ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をターゲットに加工してスパッタリングパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９４．１％、パーティクル数は７７個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．５４μｍ、１μｍ未満の微細粒子は１９．５７％であった。
［実施例１０］
Ｆｅ－２７．５Ｐｔ－４５ＢＮの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１２９．５１ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末４５２．４０ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末９４．１９ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９１．４％、パーティクル数は９４個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．０９μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２３．５５％であった。
Ｆｅ－２７．５Ｐｔ－４５ＢＮの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１２９．５１ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末４５２．４０ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末９４．１９ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９１．４％、パーティクル数は９４個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．０９μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２３．５５％であった。
［実施例１１］
Ｆｅ－３５Ｐｔ－２０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１７３．４５ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末６０５．８９ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末４４．０５ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．６６ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９６．２％、パーティクル数は６１個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．３８μｍ、１μｍ未満の微細粒子は１９．９４％であった。
Ｆｅ－３５Ｐｔ－２０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１７３．４５ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末６０５．８９ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末４４．０５ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．６６ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９６．２％、パーティクル数は６１個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．３８μｍ、１μｍ未満の微細粒子は１９．９４％であった。
［実施例１２］
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９５．１％、パーティクル数は６２個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．４９μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２１．７３％であった。
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９５．１％、パーティクル数は６２個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．４９μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２１．７３％であった。
［実施例１３］
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得て、焼結温度を７００℃に変えた以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９３．３％、パーティクル数は８２個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．６７μｍ、１μｍ未満の微細粒子は１９．８４％であった。
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得て、焼結温度を７００℃に変えた以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９３．３％、パーティクル数は８２個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．６７μｍ、１μｍ未満の微細粒子は１９．８４％であった。
［実施例１４］
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで６時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９０．７％、パーティクル数は３３個、王水溶解後の残渣のＤ９０は２．７０μｍ、１μｍ未満の微細粒子は３３．８８％であった。
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで６時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９０．７％、パーティクル数は３３個、王水溶解後の残渣のＤ９０は２．７０μｍ、１μｍ未満の微細粒子は３３．８８％であった。
［実施例１５］
Ｆｅ－２５Ｐｔ－１０Ａｕ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１１６．９９ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末４０８．３３ｇ、平均粒子径１μｍのＡｕ粉末１６５．０５ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６２．４０ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．０６ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９６．１％、パーティクル数は５５個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．５８μｍ、１μｍ未満の微細粒子は１９．２８％であった。
Ｆｅ－２５Ｐｔ－１０Ａｕ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１１６．９９ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末４０８．３３ｇ、平均粒子径１μｍのＡｕ粉末１６５．０５ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６２．４０ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．０６ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９６．１％、パーティクル数は５５個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．５８μｍ、１μｍ未満の微細粒子は１９．２８％であった。
［実施例１６］
Ｆｅ－２５Ｐｔ－１０Ａｇ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１１６．８９ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末４０８．３３ｇ、平均粒子径１０μｍのＡｇ粉末９０．３１ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６２．３４ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．０６ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９５．７％、パーティクル数は４９個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．６２μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２０．８３％であった。
Ｆｅ－２５Ｐｔ－１０Ａｇ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１１６．８９ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末４０８．３３ｇ、平均粒子径１０μｍのＡｇ粉末９０．３１ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６２．３４ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．０６ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９５．７％、パーティクル数は４９個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．６２μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２０．８３％であった。
［実施例１７］
Ｆｅ－２５Ｐｔ－１０Ｃｕ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１２１．１９ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末４２３．３３ｇ、平均粒子径３μｍのＣｕ粉末５５．１６ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６４．６３ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．４３ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９５．９％、パーティクル数は６６個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．６３μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２１．３８％であった。
Ｆｅ－２５Ｐｔ－１０Ｃｕ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１２１．１９ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末４２３．３３ｇ、平均粒子径３μｍのＣｕ粉末５５．１６ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６４．６３ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．４３ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９５．９％、パーティクル数は６６個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．６３μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２１．３８％であった。
［実施例１８］
Ｆｅ－２５Ｐｔ－１０Ｒｈ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１１９．５５ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末４１７．６１ｇ、平均粒子径１０μｍのＲｈ粉末８８．１２ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．７６ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．２８ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９４．０％、パーティクル数は８８個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．７７μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２０．１４％であった。
Ｆｅ－２５Ｐｔ－１０Ｒｈ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１１９．５５ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末４１７．６１ｇ、平均粒子径１０μｍのＲｈ粉末８８．１２ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．７６ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．２８ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９４．０％、パーティクル数は８８個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．７７μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２０．１４％であった。
［実施例１９］
Ｆｅ－２５Ｐｔ－１０Ｇｅ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１１２．６５ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末３９３．５１ｇ、平均粒子径１０μｍのＧｅ粉末５８．６１ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６０．０８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末９．６９ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得て、焼結温度を７００℃に変えた以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９７．０％、パーティクル数は６０個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．２９μｍ、１μｍ未満の微細粒子は１９．４３％であった。
Ｆｅ－２５Ｐｔ－１０Ｇｅ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１１２．６５ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末３９３．５１ｇ、平均粒子径１０μｍのＧｅ粉末５８．６１ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６０．０８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末９．６９ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３時間混合して、混合粉末を得て、焼結温度を７００℃に変えた以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９７．０％、パーティクル数は６０個、王水溶解後の残渣のＤ９０は４．２９μｍ、１μｍ未満の微細粒子は１９．４３％であった。
［比較例１］
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３０分間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９５．４％、パーティクル数は５６３個、王水溶解後の残渣のＤ９０は６．３４μｍ、１μｍ未満の微細粒子は５．２１％であった。
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで３０分間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９５．４％、パーティクル数は５６３個、王水溶解後の残渣のＤ９０は６．３４μｍ、１μｍ未満の微細粒子は５．２１％であった。
［比較例２］
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで１２時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した。相対密度が８７．４％と９０％未満であったため、スパッタリングターゲットとしては実用化できず、パーティクル数は測定しなかった。焼結体を加工したスパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定したところ、Ｄ９０は２．４８μｍ、１μｍ未満の微細粒子は３６．２９％であった。
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、１５０ｒｐｍで１２時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した。相対密度が８７．４％と９０％未満であったため、スパッタリングターゲットとしては実用化できず、パーティクル数は測定しなかった。焼結体を加工したスパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定したところ、Ｄ９０は２．４８μｍ、１μｍ未満の微細粒子は３６．２９％であった。
［比較例３］
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、３００ｒｐｍで３０分間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９１．４％、パーティクル数は７１３個、王水溶解後の残渣のＤ９０は５．７２μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２１．８５％であった。また、焼結体の組織の金属顕微鏡観察写真（１０００倍）を図２に示す。
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、３００ｒｐｍで３０分間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した後、焼結体をスパッタリングターゲットに加工してパーティクル数を測定し、スパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定した。相対密度は９１．４％、パーティクル数は７１３個、王水溶解後の残渣のＤ９０は５．７２μｍ、１μｍ未満の微細粒子は２１．８５％であった。また、焼結体の組織の金属顕微鏡観察写真（１０００倍）を図２に示す。
［比較例４］
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、３００ｒｐｍで２時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した。相対密度が８６．５％と９０％未満であったため、スパッタリングターゲットとしては実用化できず、パーティクル数は測定しなかった。焼結体を加工したスパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定したところ、Ｄ９０は４．５７μｍ、１μｍ未満の微細粒子は３６．５８％であった。
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、３００ｒｐｍで２時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した。相対密度が８６．５％と９０％未満であったため、スパッタリングターゲットとしては実用化できず、パーティクル数は測定しなかった。焼結体を加工したスパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定したところ、Ｄ９０は４．５７μｍ、１μｍ未満の微細粒子は３６．５８％であった。
［比較例５］
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、４６０ｒｐｍで６時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した。相対密度が７９．２％と９０％未満であったため、スパッタリングターゲットとしては実用化できず、パーティクル数は測定しなかった。焼結体を加工したスパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定したところ、Ｄ９０は２．３５μｍ、１μｍ未満の微細粒子は４０．１６％であった。
Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃの組成となるように、平均粒子径７μｍのＦｅ粉末１４３．７３ｇ、平均粒子径１μｍのＰｔ粉末５０２．０８ｇ、平均粒子径４μｍのＢＮ粉末６３．８８ｇ、平均粒子径３μｍのＣ粉末１０．３０ｇを媒体撹拌ミル（媒体：ジルコニアボール）に投入し、４６０ｒｐｍで６時間混合して、混合粉末を得た以外は、実施例１と同様にして焼結体を製造し、相対密度を測定した。相対密度が７９．２％と９０％未満であったため、スパッタリングターゲットとしては実用化できず、パーティクル数は測定しなかった。焼結体を加工したスパッタリングターゲットから切り出した試料片を用いて、王水溶解後の残渣の粒度分布を測定したところ、Ｄ９０は２．３５μｍ、１μｍ未満の微細粒子は４０．１６％であった。
以上の結果から、体積基準の９０パーセント径（Ｄ９０）が５．５μｍ以下でかつ１μｍ未満の微粒子が３５％以下である残渣の粒度分布を示す実施例１～１９は相対密度が９０％以上であって、かつパーティクル数が１００個未満であり、高い相対密度と低いパーティクル数の両条件を満たし、粒度分布が上記要件を満たさない比較例１～５は、相対密度またはパーティクル数のいずれかの条件を満たさないことがわかる。たとえば、相対密度が約９５％とほぼ同等の実施例４と比較例１を対比すると、実施例４はパーティクル数が５０個未満であるが、比較例１はパーティクル数が５６０個以上であり、本発明によれば約１／１０にパーティクル数を減少できることがわかる。
同じ組成（Ｆｅ－３０Ｐｔ－３０ＢＮ－１０Ｃ）の焼結体の組織を比較すると、図１に示す実施例２の組織は、黒色（ＢＮ及びＣ）が白色（金属成分：Ｆｅ、Ｐｔ）中に均質に分散しており、黒色（ＢＮ及びＣ）の大きさはほぼ均等であるが、図２に示す比較例３の組織は、比較的大きな偏平形状の黒色（ＢＮ及びＣ）が白色（金属成分：Ｆｅ、Ｐｔ）中に紐状に偏在しており、黒色の大きさも不均等であることがわかる。
Claims (6)
- Ｆｅ、Ｐｔ及びＢＮを含むＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットであって、当該スパッタリングターゲットを下記の手順：
（１）当該スパッタリングターゲットから４ｍｍ角の試料片を切断し、当該試料片を粉砕して、粉砕物を調製し、
（２）当該粉砕物を目開き１０６μｍ及び３００μｍの篩を用いて分級し、３００μｍの篩を通過し１０６μｍの篩上に残った粉末を採取し、
（３）当該粉末を、２００℃に加熱した王水中に浸漬し、粉末を溶解させた残渣含有溶液を調製し、
（４）当該残渣含有溶液をＪＩＳ Ｐ ３８０１に規定される５種Ａのろ紙でろ過し、ろ紙上の残渣を８０℃で乾燥させて、残渣粉末を調製し、
（５）当該残渣粉末を、界面活性剤を含む水に分散させて、試料溶液を調製し、
（６）当該試料溶液を粒度分析計にかけ、粒度分布を測定する
で測定した場合に、王水溶解後の残渣は、体積基準の９０％径（Ｄ９０）が５．５μｍ以下であり、かつ１μｍ未満の微細粒子が３５％以下である粒度分布を有することを特徴とするＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット。 - Ｐｔを１０ｍｏｌ％以上５５ｍｏｌ％以下含む、請求項１に記載のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット。
- Ａｇ、Ａｕ、Ｂ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕから選択される１種以上の元素、及び／又は
Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔａ又はＺｒの酸化物又はＣから選択される１種以上の非金属成分をさらに含む、請求項１又は２に記載のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット。 - ＢＮ及び非金属成分を１０ｍｏｌ％以上５５ｍｏｌ％以下含む、請求項１～３のいずれか１に記載のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット。
- Ｆｅ粉末、Ｐｔ粉末及びＢＮ粉末を媒体撹拌ミルに投入して、１００ｒｐｍ以上２００ｒｐｍ以下の回転数で２時間以上６時間以下、混合して原料粉末混合物を調製し、
当該原料粉末混合物のうち目開き３００μｍ篩を通過した粉末を採取して、焼結することを特徴とする、請求項１～４のいずれか１に記載のＦｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲットの製造方法。 - 焼結は、６００℃以上１２００℃以下の焼結温度、及び３０ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下の焼結圧力で行われることを特徴とする、請求項５に記載の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019121702A JP7104001B2 (ja) | 2019-06-28 | 2019-06-28 | Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
| PCT/JP2020/015625 WO2020261702A1 (ja) | 2019-06-28 | 2020-04-07 | Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
| CN202080046332.7A CN114072534B (zh) | 2019-06-28 | 2020-04-07 | Fe-Pt-BN系溅射靶及其制造方法 |
| US17/623,511 US20220356557A1 (en) | 2019-06-28 | 2020-04-07 | Fe-pt-bn-based sputtering target and method for manufacturing same |
| TW109112122A TWI801731B (zh) | 2019-06-28 | 2020-04-10 | Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系濺鍍靶及其製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019121702A JP7104001B2 (ja) | 2019-06-28 | 2019-06-28 | Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021008641A JP2021008641A (ja) | 2021-01-28 |
| JP7104001B2 true JP7104001B2 (ja) | 2022-07-20 |
Family
ID=74060209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019121702A Active JP7104001B2 (ja) | 2019-06-28 | 2019-06-28 | Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20220356557A1 (ja) |
| JP (1) | JP7104001B2 (ja) |
| CN (1) | CN114072534B (ja) |
| TW (1) | TWI801731B (ja) |
| WO (1) | WO2020261702A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021010019A1 (ja) * | 2019-07-12 | 2021-01-21 | 田中貴金属工業株式会社 | Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
| JP7462511B2 (ja) * | 2020-08-12 | 2024-04-05 | 田中貴金属工業株式会社 | Ｆｅ－Ｐｔ－ＢＮ系スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
| TWI838846B (zh) * | 2022-09-02 | 2024-04-11 | 光洋應用材料科技股份有限公司 | 鐵鉑基靶材及其製法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2014045744A1 (ja) | 2012-09-21 | 2014-03-27 | Jx日鉱日石金属株式会社 | Ｆｅ－Ｐｔ系磁性材焼結体 |
| WO2014065201A1 (ja) | 2012-10-23 | 2014-05-01 | Jx日鉱日石金属株式会社 | Ｆｅ－Ｐｔ系焼結体スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
| WO2016047236A1 (ja) | 2014-09-22 | 2016-03-31 | Ｊｘ金属株式会社 | 磁気記録膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
| WO2016047578A1 (ja) | 2014-09-26 | 2016-03-31 | Ｊｘ金属株式会社 | 磁気記録膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5913620B2 (ja) * | 1976-10-08 | 1984-03-30 | ナショナル住宅産業株式会社 | 天井パネルの取付装置 |
| JP3676961B2 (ja) * | 1999-04-02 | 2005-07-27 | 株式会社日鉱マテリアルズ | Ｉｔｏ膜形成用酸化錫−酸化インジウム粉末及びｉｔｏ膜形成用スパッタリングターゲット |
| JP2003171761A (ja) * | 2001-12-10 | 2003-06-20 | Nikko Materials Co Ltd | ノジュール発生量の少ないｉｔｏスパッタリングターゲット |
| JP6114843B2 (ja) * | 2011-03-30 | 2017-04-12 | 田中貴金属工業株式会社 | ＦｅＰｔ−Ｃ系スパッタリングターゲット |
| WO2014034390A1 (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | Jx日鉱日石金属株式会社 | Ｆｅ系磁性材焼結体 |
| JP5965539B2 (ja) * | 2013-03-01 | 2016-08-10 | 田中貴金属工業株式会社 | ＦｅＰｔ−Ｃ系スパッタリングターゲット |
| JP5969120B2 (ja) * | 2013-05-13 | 2016-08-17 | Ｊｘ金属株式会社 | 磁性薄膜形成用スパッタリングターゲット |
| MY175024A (en) * | 2013-06-06 | 2020-06-03 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | Sputtering target for magnetic recording medium |
| JP6692724B2 (ja) * | 2016-09-02 | 2020-05-13 | Ｊｘ金属株式会社 | 非磁性材料分散型Ｆｅ−Ｐｔ系スパッタリングターゲット |
| CN108076646B (zh) * | 2016-09-12 | 2019-12-13 | Ｊｘ金属株式会社 | 强磁性材料溅射靶 |
-
2019
- 2019-06-28 JP JP2019121702A patent/JP7104001B2/ja active Active
-
2020
- 2020-04-07 WO PCT/JP2020/015625 patent/WO2020261702A1/ja active Application Filing
- 2020-04-07 CN CN202080046332.7A patent/CN114072534B/zh active Active
- 2020-04-07 US US17/623,511 patent/US20220356557A1/en active Pending
- 2020-04-10 TW TW109112122A patent/TWI801731B/zh active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014045744A1 (ja) | 2012-09-21 | 2014-03-27 | Jx日鉱日石金属株式会社 | Ｆｅ－Ｐｔ系磁性材焼結体 |
| WO2014065201A1 (ja) | 2012-10-23 | 2014-05-01 | Jx日鉱日石金属株式会社 | Ｆｅ－Ｐｔ系焼結体スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
| JP5913620B2 (ja) | 2012-10-23 | 2016-04-27 | Ｊｘ金属株式会社 | Ｆｅ−Ｐｔ系焼結体スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
| WO2016047236A1 (ja) | 2014-09-22 | 2016-03-31 | Ｊｘ金属株式会社 | 磁気記録膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
| WO2016047578A1 (ja) | 2014-09-26 | 2016-03-31 | Ｊｘ金属株式会社 | 磁気記録膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20220356557A1 (en) | 2022-11-10 |
| TWI801731B (zh) | 2023-05-11 |
| CN114072534B (zh) | 2024-06-14 |
| JP2021008641A (ja) | 2021-01-28 |
| CN114072534A (zh) | 2022-02-18 |
| WO2020261702A1 (ja) | 2020-12-30 |
| TW202106905A (zh) | 2021-02-16 |
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| A621 | Written request for application examination |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
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