JP7102521B2 - ヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物 - Google Patents

ヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP7102521B2
JP7102521B2 JP2020526276A JP2020526276A JP7102521B2 JP 7102521 B2 JP7102521 B2 JP 7102521B2 JP 2020526276 A JP2020526276 A JP 2020526276A JP 2020526276 A JP2020526276 A JP 2020526276A JP 7102521 B2 JP7102521 B2 JP 7102521B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sio
group
component
curable silicone
hydrosilylated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020526276A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2021502463A (ja
Inventor
キム、スンヒ
コン、ミンヒ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dow Silicones Corp
Original Assignee
Dow Corning Corp
Dow Silicones Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dow Corning Corp, Dow Silicones Corp filed Critical Dow Corning Corp
Publication of JP2021502463A publication Critical patent/JP2021502463A/ja
Priority to JP2022108399A priority Critical patent/JP2022132332A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7102521B2 publication Critical patent/JP7102521B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/06Preparatory processes
    • C08G77/08Preparatory processes characterised by the catalysts used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/12Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/14Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/20Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/38Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
    • C08G77/382Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon
    • C08G77/398Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon containing boron or metal atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/80Siloxanes having aromatic substituents, e.g. phenyl side groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/56Organo-metallic compounds, i.e. organic compounds containing a metal-to-carbon bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J183/00Adhesives based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J183/04Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/10Materials in mouldable or extrudable form for sealing or packing joints or covers
    • C09K3/1006Materials in mouldable or extrudable form for sealing or packing joints or covers characterised by the chemical nature of one of its constituents
    • C09K3/1018Macromolecular compounds having one or more carbon-to-silicon linkages
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00Applications
    • C08L2203/20Applications use in electrical or conductive gadgets
    • C08L2203/206Applications use in electrical or conductive gadgets use in coating or encapsulating of electronic parts
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2205/00Polymer mixtures characterised by other features
    • C08L2205/02Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group
    • C08L2205/025Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group containing two or more polymers of the same hierarchy C08L, and differing only in parameters such as density, comonomer content, molecular weight, structure
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2205/00Polymer mixtures characterised by other features
    • C08L2205/03Polymer mixtures characterised by other features containing three or more polymers in a blend
    • C08L2205/035Polymer mixtures characterised by other features containing three or more polymers in a blend containing four or more polymers in a blend
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2200/00Chemical nature of materials in mouldable or extrudable form for sealing or packing joints or covers
    • C09K2200/06Macromolecular organic compounds, e.g. prepolymers
    • C09K2200/068Containing also other elements than carbon, oxygen or nitrogen in the polymer main chain
    • C09K2200/0685Containing silicon
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/50Wavelength conversion elements
    • H01L33/501Wavelength conversion elements characterised by the materials, e.g. binder
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/52Encapsulations
    • H01L33/56Materials, e.g. epoxy or silicone resin

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Description

本発明は、ヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物に関する。
ヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物は、耐候性及び耐熱性などの優れた特性を有する硬化生成物を形成し、それらは、硬化の時間に副生成物を生成することもなく、特に加熱することによって急速に硬化し、したがって、そのような組成物は、光学半導体機器における光学的導体素子を密封し、被覆し、又は接着するために使用される。少なくとも1種のヒドロシリル化阻害剤が組成物の硬化性及び貯蔵安定性を調整するために添加されることは周知である。しかしながら、硬化温度を低下させ、より短い硬化時間を可能にすることは、組成物の貯蔵安定性の顕著な劣化を引き起こし、低温硬化は、硬化生成物の表面のしわ発生を促進する。このような問題を解決するために、いくつかの硬化性シリコーン組成物が提案されている。
そのような硬化性シリコーン組成物の例としては、アルケニル基含有オルガノポリシロキサン、オルガノハイドロジェンポリシロキサン、ヒドロシリル化触媒、及びアミド化合物を含む硬化性シリコーン組成物(特許文献1参照);1分子当たり少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン、1分子当たり少なくとも2個のケイ素-結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、白金族金属系触媒;及びジヒドロジシラン化合物を含む硬化性シリコーン組成物(特許文献2参照);並びに1分子当たり少なくとも1個のケイ素-結合アルケニル基を有するオルガノポリシロキサン、1分子当たり分子鎖末端に少なくとも1個のケイ素-結合水素原子及び非分子鎖末端に少なくとも2個のケイ素-結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、並びにヒドロシリル化触媒を含む硬化性シリコーン組成物(特許文献3参照)が挙げられる。
しかしながら、良好な硬化性と合致していること、及び比較的低い温度で硬化させることによる硬化生成物の表面のしわ発生を防止することは困難である。
特開平08-183908号公報 特開2001-26716号公報 米国特許出願公開第2005/0272893A1号明細書
本発明の目的は、良好な貯蔵安定性を示し、且つ硬化されて、表面しわ発生をまったく被らない硬化生成物を形成することができるヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物を提供することである。
本発明のヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物は、マレイン酸エステル化合物、及びマレイン酸エステル化合物以外のヒドロシリル化阻害剤を含み、ここで、それぞれ、質量単位によって組成物に対して、マレイン酸エステル化合物の含有量は、50~6,000ppmの量であり、ヒドロシリル化阻害剤の含有量は、200~20,000ppmの量であることによって特徴付けられる。
本発明のヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物は好ましくは、
(A)1分子当たり少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン;
(B)1分子当たり少なくとも2個のケイ素-結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン(成分(A)中のアルケニル基1モルに対してケイ素原子-結合水素原子0.1~10.0モルが与えられるような量での);
(C)ヒドロシリル化触媒(組成物の硬化を促進するのに十分な量での);
(D)マレイン酸エステル化合物(質量単位によって組成物に対して50~6,000ppmの量での);及び
(E)マレイン酸エステル以外のヒドロシリル化阻害剤(質量単位によって組成物に対して200~20,000ppmの量での)を含む。
本発明のヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物は、(F)接着促進剤(成分(A)~(E)の100質量部当たり0.01~50質量部の量での)を含んでもよい。
本発明のヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物は、(G)セリウム含有オルガノポリシロキサン(この成分中のセリウム原子の量が、質量単位によって組成物に対して10~2,000ppmであるような量での)を含んでもよい。
本発明のヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物は、好ましくは光学半導体素子のためのシーリング、コーティング、又は接着剤である。
本発明のヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物は、良好な貯蔵安定性を示し、且つ低い温度でさえも硬化され得、表面しわ発生をまったく被らない硬化生成物をもたらす。
本発明のヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物は、マレイン酸エステル化合物、及びマレイン酸エステル化合物以外のヒドロシリル化阻害剤を含み、ここで、それぞれ、質量単位によって本組成物に対して、マレイン酸エステル化合物の含有量は、50~6,000ppmであり、ヒドロシリル化阻害剤の含有量は、200~20,000ppmであることによって特徴付けられる。
本発明の硬化性シリコーン組成物は好ましくは、
(A)1分子当たり少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン;
(B)1分子当たり少なくとも2個のケイ素-結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン(成分(A)中のアルケニル基1モルに対してケイ素-結合水素原子0.1~10.0モルが与えられるような量での);
(C)ヒドロシリル化触媒(組成物の硬化を促進するのに十分な量での);
(D)マレイン酸エステル化合物(質量単位によって組成物に対して50~6,000ppmの量での);及び
(E)マレイン酸エステル化合物以外のヒドロシリル化反応阻害剤(質量単位によって組成物に対して200~20,000ppmの量での)
を含む。
成分(A)は、1分子当たり少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンである。アルケニル基の例としては、2~12個の炭素を有するアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、及びドデセニル基が挙げられる。ビニル基が好ましい。成分(A)中のアルケニル基以外のケイ素-結合基の例としては、1~12個の炭素を有するアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、及びドデシル基;6~20個の炭素を有するアリール基、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、及びナフチル基;7~20個の炭素を有するアラルキル基、例えば、ベンジル基、フェネチル基、及びフェニルプロピル基;並びに水素原子の一部又はすべてが、ハロゲン原子、例えば、フッ素原子、塩素原子、及び臭素原子で置き換えられているこれらの基が挙げられる。成分(A)中のケイ素原子は、本発明の目的が損なわれない限り少量で、ヒドロキシル基又はアルコキシ基、例えば、メトキシ基及びエトキシ基に結合されていてもよい。
成分(A)の分子構造は、特に限定されず、それらの例としては、直鎖、部分分岐直鎖、環状、及び三次元網状組織構造が挙げられる。成分(A)は、それらの分子構造を有するオルガノポリシロキサンの1つのタイプ又はそれらの分子構造を有するオルガノポリシロキサンの2つ以上のタイプの混合物であってもよい。
25℃での成分(A)の状態は、特に限定されず、それらの例としては、液体及び固体が挙げられる。成分(A)が、25℃で液体である場合、25℃での粘度は、好ましくは1~1,000,000mPa・秒の範囲、特に好ましくは10~1,000,000mPa・秒の範囲である。
そのような成分(A)の例としては、ジメチルビニルシロキシ基で封止された両分子末端を有するジメチルポリシロキサン、ジメチルビニルシロキシ基で封止された両分子末端を有するジメチルシロキサン-メチルビニルシロキサンコポリマー、ジメチルビニルシロキシ基で封止された両分子末端を有するジメチルシロキサン-メチルフェニルシロキサンコポリマー、ジメチルビニルシロキシ基で封止された両分子末端を有するメチルフェニルポリシロキサン、トリメチルシロキシ基で封止された両分子末端を有するジメチルシロキサン-メチルビニルシロキサンコポリマー、トリメチルシロキシ基で封止された両分子末端を有するジメチルシロキサン-メチルビニルシロキサン-メチルフェニルシロキサンコポリマー、(CHSiO1/2単位、(CH(CH=CH)SiO1/2単位、及びCSiO3/2単位を含むコポリマー、(CH(CH=CH)SiO1/2単位及びCSiO3/2単位を含むコポリマー、(CHSiO1/2単位、(CH(CH=CH)SiO1/2単位、及びSiO4/2単位を含むコポリマー、(CH(CH=CH)SiO1/2単位及びSiO4/2単位を含むコポリマー、並びに以下のオルガノポリシロキサンが挙げられる。式において、Me、Vi、及びPhは、それぞれ、メチル基、ビニル基、及びフェニル基を表し、x及びx’は、それぞれ1~100の整数であることに留意されたい。
ViMeSiO(MeSiO)SiMeVi
ViPhMeSiO(MeSiO)SiMePhVi
ViPhSiO(MeSiO)SiPhVi
ViMeSiO(MeSiO)(PhSiO)x’SiMeVi
ViPhMeSiO(MeSiO)(PhSiO)x’SiPhMeVi
ViPhSiO(MeSiO)(PhSiO)x’SiPhVi
ViMeSiO(MePhSiO)SiMeVi
MePhViSiO(MePhSiO)SiMePhVi
PhViSiO(MePhSiO)SiPhVi
ViMeSiO(PhSiO)(PhMeSiO)x’SiMeVi
ViPhMeSiO(PhSiO)(PhMeSiO)x’SiPhMeVi
ViPhSiO(PhSiO)(PhMeSiO)x’SiPhVi
成分(B)は、1分子当たり少なくとも2個のケイ素-結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンである。成分(B)の分子構造の例としては、直鎖、部分分岐直鎖、分岐鎖、環状、及び樹状構造が挙げられ、直鎖、部分分岐直鎖、及び樹状構造が好ましい。成分(B)中のケイ素-結合水素原子の結合位置は、限定されず、それらの例としては、分子鎖の末端及び/又は側鎖が挙げられる。成分(B)中の水素原子以外のケイ素-結合基の例としては、アルキル基、例えば、メチル基、エチル基、及びプロピル基;アリール基、例えば、フェニル基、トリル基、及びキシリル基;アラルキル基、例えば、ベンジル基及びフェネチル基、並びにハロゲン化アルキル基、例えば、3-クロロプロピル基及び3,3,3-トリフルオロプロピル基が挙げられる。メチル基及びフェニル基が、好ましい。成分(B)の25℃での粘度は、特に限定されず、好ましくは1~10,000mPa・秒の範囲、特に好ましくは1~1,000mPa・秒の範囲である。
成分(B)のためのそのようなオルガノハイドロジェンポリシロキサンの例としては、1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサン、トリス(ジメチルハイドロジェンシロキシ)メチルシラン、トリス(ジメチルハイドロジェンシロキシ)フェニルシラン、1-グリシドキシプロピル-1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサン、1,5-ジグリシドキシプロピル-1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサン、1-グリシドキシプロピル-5-トリメトキシシリルエチル-1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサン、トリメチルシロキシ基で封止された両分子末端を有するメチルハイドロジェンポリシロキサン、トリメチルシロキシ基で封止された両分子末端を有するジメチルシロキサン-メチルハイドロジェンシロキサンコポリマー、ジメチルハイドロジェンシロキシ基で封止された両分子末端を有するジメチルポリシロキサン、ジメチルハイドロジェンシロキシ基で封止された両分子末端を有するジメチルシロキサン-メチルハイドロジェンシロキサンコポリマー、トリメチルシロキシ基で封止された両分子末端を有するメチルハイドロジェンシロキサン-ジフェニルシロキサンコポリマー、トリメチルシロキシ基で封止された両分子末端を有するメチルハイドロジェンシロキサン-ジフェニルシロキサン-ジメチルシロキサンコポリマー、トリメトキシシランの加水分解-縮合生成物、(CHHSiO1/2単位及びSiO4/2単位を含むコポリマー、(CHHSiO1/2単位、SiO4/2単位、及び(C)SiO3/2単位を含むコポリマー、並びに以下のオルガノハイドロジェンポリシロキサンが挙げられる。以下の式では、Me、Vi、Ph、及びNapHは、それぞれ、メチル基、ビニル基、フェニル基、及びナフチル基を表し、y及びy’は、それぞれ1~100の整数であり、c、d、e、及びfは、正の数であり、但し、分子中のc、d、e、及びfの合計は、1である。
HMeSiO(PhSiO)SiMe
HMePhSiO(PhSiO)SiMePhH
HMeNaphSiO(PhSiO)SiMeNaphH
HMePhSiO(PhSiO)(MePhSiO)y’SiMePhH
HMePhSiO(PhSiO)(MeSiO)y’SiMePhH
(HMeSiO1/2(PhSiO3/2
(HMePhSiO1/2(PhSiO3/2
(HMePhSiO1/2(NaphSiO3/2
(HMeSiO1/2(NaphSiO3/2
(HMePhSiO1/2(HMeSiO1/2(PhSiO3/2
(HMeSiO1/2(PhSiO2/2(PhSiO3/2
(HMePhSiO1/2(PhSiO2/2(PhSiO3/2
(HMeSiO1/2(PhSiO2/2(NaphSiO3/2
(HMePhSiO1/2(PhSiO2/2(NaphSiO3/2
(HMePhSiO1/2(HMeSiO1/2(NaphSiO3/2
(HMePhSiO1/2(HMeSiO1/2(PhSiO2/2(NaphSiO3/2
(HMePhSiO1/2(HMeSiO1/2(PhSiO2/2(PhSiO3/2
成分(B)の含有量は、成分(B)中のケイ素-結合水素原子が、成分(A)中のアルケニル基1モルに対して、0.1~10.0モルの範囲、好ましくは0.5~5モルの範囲であるような量である。成分(B)の含有量が、前述の範囲の上限以下である場合、得られることになる硬化生成物の機械的特性は、良好である。対照的に、成分(B)の含有量が、その範囲の下限以上である場合、得られた組成物の硬化性は、良好である。
成分(C)は、本組成物の硬化を促進させるために使用されるヒドロシリル化触媒である。成分(C)の例としては、白金族元素触媒及び白金族元素化合物触媒が挙げられ、具体例としては、白金系触媒、ロジウム系触媒、パラジウム系触媒、及びそれらの少なくとも2つのタイプの組合せが挙げられる。特に、白金系触媒が、本組成物の硬化を劇的に促進させ得る点で好ましい。これらの白金系触媒の例としては、微粉末白金;白金ブラック;クロロ白金酸、アルコール変性クロロ白金酸;クロロ白金酸/ジオレフィン錯体;白金/オレフィン錯体;白金/カルボニル錯体、例えば、白金ビス(アセトアセテート)、及び白金ビス(アセチルアセトネート);クロロ白金酸/アルケニルシロキサン錯体、例えば、白金酸/ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体及びクロロ白金酸/テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサン錯体;白金/アルケニルシロキサン錯体、例えば、白金/ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体及び白金/テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサン錯体;クロロ白金酸及びアセチレンアルコールの錯体;並びにそれらの2つ以上のタイプの混合物が挙げられる。特に、白金-アルケニルシロキサン錯体が、本組成物の硬化を促進させ得る点で好ましい。
白金-アルケニルシロキサン錯体で使用されるアルケニルシロキサンの例としては、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7-テトラメチル-1,3,5,7-テトラビニルシクロテトラシロキサン、これらのアルケニルシロキサンのメチル基の一部が、エチル基、フェニル基、又は同様のもので置き換えられているアルケニルシロキサンオリゴマー、及びこれらのアルケニルシロキサンのビニル基が、アリル基、ヘキセニル基、又は同様のもので置き換えられているアルケニルシロキサンオリゴマーが挙げられる。特に、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンが、生成される白金-アルケニルシロキサン錯体の安定性が良好である点で好ましい。
白金-アルケニルシロキサン錯体の安定性を改善するために、これらの白金-アルケニルシロキサン錯体をアルケニルシロキサンオリゴマー、例えば、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3-ジアリル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3-ジビニル-1,3-ジメチル-1,3-ジフェニルジシロキサン、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラフェニルジシロキサン、若しくは1,3,5,7-テトラメチル-1,3,5,7-テトラビニルシクロテトラシロキサン、又はオルガノシロキサンオリゴマー、例えば、ジメチルシロキサンオリゴマーに溶解させることが好ましく、錯体をアルケニルシロキサンオリゴマーに溶解させることが特に好ましい。
成分(C)の含有量は、本組成物の硬化を促進させる量である。具体的には、含有量は好ましくは、成分(C)中の触媒金属原子の含有量が、本組成物に対して質量単位によって0.01~500ppmの範囲、0.01~100ppmの範囲、又は0.1~50ppmの範囲であるような量である。これは、成分(C)の含有量が、前述の範囲の下限以上である場合、得られた組成物の硬化性は、良好である一方で、成分(C)の含有量が、前述の範囲の上限以下である場合、得られた硬化生成物の着色は、抑制されるからである。
成分(D)は、マレイン酸エステル化合物である。成分(D)の例としては、ジアリルマレエート、ジメチルマレエート、ビス(2-メトキシ-1-メチルエチル)マレエート、モノ-オクチルマレエート、モノ-イソ-オクチルマレエート、モノ-アリルマレエート、モノ-メチルマレエート、及び2-メトキシ-1-メチルエチルマレエートが挙げられる。
成分(D)の含有量は、本組成物中、質量単位によって50~6,000ppmの範囲、好ましくは100ppm~6,000ppmの範囲、又は150~6,000ppmの範囲の量である。これは、成分(D)の含有量が、前述の範囲の下限以上である場合、表面しわ発生は十分に防止され得る一方で、成分(D)の含有量が、前述の範囲の上限以下である場合、得られた組成物の硬化性は、減少されず、且つ得られた硬化生成物の物理的特性は、減少されないからである。
成分(E)は、マレイン酸エステル化合物以外のヒドロシリル化阻害剤であって、室温で使用可能寿命を延長し、及び貯蔵安定性を改善するためのものである。成分(E)の例としては、アルキンアルコール、例えば、1-エチニルシクロヘキサン-1-オール、2-メチル-3-ブチン-2-オール、3,5-ジメチル-1-ヘキシン-3-オール、及び2-フェニル-3-ブチン-2-オール;エニン化合物、例えば、3-メチル-3-ペンテン-1-イン及び3,5-ジメチル-3-ヘキセン-1-イン;アルケニル基含有低分子量シロキサン、例えば、テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン及びテトラメチルテトラヘキセニルシクロテトラシロキサン;アルキノキシシラン、例えば、ジメチルビス(3-メチル-1-ブチン-3-オキシ)シラン及びメチルビニルビス(3-メチル-1-ブチン-3-オキシ)シラン、並びにトリアリルイソシアヌレート化合物が挙げられる。
成分(E)の含有量は、本組成物中、質量単位によって200~20,000ppmの範囲、好ましくは200ppm~15,000ppmの範囲、又は250~15,000ppmの範囲の量である。これは、成分(E)の含有量が、前述の範囲の下限以上である場合、本組成物の貯蔵安定性は、十分に付与され得る一方で、成分(E)の含有量が、前述の範囲の上限以下である場合、得られた組成物の硬化性は、減少されず、且つ得られた硬化生成物の物理的特性は、減少されないからである。
さらに、本組成物はまた、硬化中に本組成物が接触する基材への接着をさらに改善するために(F)接着促進剤を含んでもよい。成分(F)は好ましくは、1分子当たり1個以上のケイ素-結合アルコキシ基を有する有機ケイ素化合物である。アルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、及びメトキシエトキシ基が挙げられ、メトキシ基又はエトキシ基が、特に好ましい。成分(F)中のアルコキシ基以外のケイ素-結合基の例としては、上に記載されたものと同じ置換又は非置換一価炭化水素基、例えば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、及びハロゲン化アルキル基;グリシドキシアルキル基、例えば、3-グリシドキシプロピル基及び4-グリシドキシブチル基;エポキシシクロヘキシルアルキル基、例えば、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチル基及び3-(3,4-エポキシシクロヘキシル)プロピル基;エポキシアルキル基、例えば、4-エポキシブチル基及び8-エポキシオクチル基;アクリル基含有一価有機基、例えば、3-メタクリルオキシプロピル基;イソシアネート基;イソシアヌレート基;並びに水素原子が挙げられる。成分(F)は好ましくは、本組成物中の脂肪族不飽和炭化水素基又はケイ素-結合水素原子と反応し得る基を有する。具体的には、成分(F)は好ましくは、ケイ素-結合脂肪族不飽和炭化水素基又はケイ素-結合水素原子を有する。
成分(F)の含有量は、限定されないが、好ましくは、本組成物の100質量部当たり、0.01~50質量部の範囲、0.01~30質量部の範囲、0.01~10質量部の範囲、0.01~5質量部の範囲、又は0.1~3質量部の範囲である。成分(F)の含有量が前述の範囲の下限以上である場合、得られた組成物に、十分な接着が付与され得る。対照的に、成分(F)の含有量がその範囲の下限以下である場合、得られた組成物の硬化性が阻害される可能性は低く、且つ得られることになる硬化生成物の着色、及び同様のものは抑制され得る。
本組成物はまた、本組成物を硬化させることによって得られる硬化生成物における熱老化による亀裂を抑制するために、(G)セリウム-含有オルガノポリシロキサンを含んでもよい。このような成分(G)は、例えば、塩化セリウム又はカルボン酸のセリウム塩と、シラノール含有オルガノポリシロキサンのアルカリ金属塩との反応によって調製される。
上に記載されたカルボン酸のセリウム塩の例としては、2-エチルヘキサン酸セリウム、ナフテン酸セリウム、オレイン酸セリウム、ラウリン酸セリウム、及びステアリン酸セリウムが挙げられる。
上に記載されたシラノール-含有オルガノポリシロキサンのアルカリ金属塩の例としては、シラノール基で両分子末端にて封止されたジオルガノポリシロキサンのカリウム塩、シラノール基で両分子末端にて封止されたジオルガノポリシロキサンのナトリウム塩、シラノール基で一方の分子末端にて封止され及びトリオルガノシロキシ基で他方の分子末端にて封止されたジオルガノポリシロキサンのカリウム塩、並びにシラノール基で一方の分子末端にて封止され及びトリオルガノシロキシ基で他方の分子末端にて封止されたジオルガノポリシロキサンのナトリウム塩が挙げられる。オルガノポリシロキサン中でケイ素原子と結合する基の例としては、1~12個の炭素原子を有するアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、及びドデシル基;6~20個の炭素原子を有するアリール基、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、及びナフチル基;7~20個の炭素原子を有するアラルキル基、例えば、ベンジル基、フェネチル基、及びフェニルプロピル基;並びにこれらの基の水素原子の一部又はすべてが、ハロゲン原子、例えば、フッ素原子、塩素原子、又は臭素原子で置き換えられている基が挙げられる。
上に記載された反応は、室温で、又はアルコール、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、若しくはブタノール;芳香族炭化水素、例えば、トルエン若しくはキシレン;脂肪族炭化水素、例えば、ヘキサン若しくはヘプタン;及び有機溶媒、例えば、ミネラルスピリット、リグロイン、若しくは石油エーテル中で加熱することによって行われる。有機溶媒若しくは低沸点成分を蒸留除去し、又は必要に応じて、得られた反応生成物からすべての沈殿物を濾過することが好ましい。この反応を加速するために、ジアルキルホルムアミド、ヘキサアルキルホスファミド、又は同様のものが添加されてもよい。このように調製されたセリウム含有オルガノポリシロキサン中のセリウム原子の含有量は、好ましくは0.1~5質量%の範囲内である。
本組成物中の成分(G)の含有量は、セリウム原子が、質量単位によって10~2,000ppmの範囲内、好ましくは10~1,500ppmの範囲内、より好ましくは10~1,000ppmの範囲内、さらにより好ましくは10~500ppmの範囲内、特に好ましくは10~200ppmの範囲内であるような量である。これは、成分(G)の含有量が、上に記載された範囲の下限以上である場合、得られた組成物の耐熱性は、改善され得、含有量が上に記載された範囲の上限以下である場合、発光色度における変化は、光学半導体機器で使用される場合に減少され得るからである。
本組成物は、本組成物の硬化生成物で封入又は被覆されている光放出素子から放出される光の波長を変更することによって所望の波長を有する光を得るための蛍光体を含有してもよい。この種の蛍光体の例としては、黄色、赤色、緑色、及び青色光放出蛍光体、例えば、酸化物蛍光体、オキシ窒化物蛍光体、窒化物蛍光体、硫化物蛍光体、及びオキシ硫化物蛍光体が挙げられ、これらは、発光ダイオード(LED)で広く使用されている。酸化物蛍光体の例としては、イットリウム、アルミニウム、及びガーネット-タイプYAGの、セリウムイオン含有緑色~黄色光放出蛍光体;テリウム、アルミニウム、及びガーネット-タイプTAGの、セリウムイオン含有黄色光放出蛍光体;並びにケイ酸塩の、セリウム又はユウロピウムイオン含有緑色~黄色光放出蛍光体が挙げられる。オキシ窒化物蛍光体の例としては、ケイ素、アルミニウム、酸素、及び窒素-タイプSiAlONの、ユウロピウムイオン含有赤色~緑色光放出蛍光体が挙げられる。窒化物系蛍光体の例としては、カルシウム、ストロンチウム、アルミニウム、ケイ素、及び窒素タイプCASNの、ユウロピウムイオン含有赤色光放出蛍光体が挙げられる。硫化物蛍光体の例としては、ZnSの、銅イオン又はアルミニウムイオン含有緑色光放出蛍光体が挙げられる。オキシ硫化物蛍光体の例としては、YSの、ユウロピウムイオン含有赤色光放出蛍光体が挙げられる。これらの蛍光物質は、1つのタイプとして又は2つ以上のタイプの混合物として使用されてもよい。本組成物では、蛍光体の含有量は、成分(A)及び成分(B)の全量に対して、0.1~70質量%の範囲、好ましくは1~20質量%の範囲である。
さらに、本組成物は、無機充填剤、例えば、シリカ、ガラス、アルミナ、亜鉛酸化物、若しくは同様のもの;ポリメタクリレート樹脂の有機樹脂微粉末、若しくは同様のもの;耐熱性薬剤、色素、顔料、難燃剤、溶媒、又は本発明の目的が損なわれない限り、任意成分として同様のものを含有してもよい。
本組成物は、室温で又は加熱下のいずれかで硬化されるが、急速硬化を達成するために組成物を加熱することが好ましい。加熱温度は、好ましくは50~200℃の範囲である。
本発明のヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物を、実施例及び比較例を使用して以下に詳細に説明する。ヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物を以下のとおり評価した。
<ヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物の貯蔵安定性>
ヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物の貯蔵安定性は、示差走査熱量測定計(DSC7000;SII Nanotechnologyにより製造された)を使用して、10℃/分の加熱速度で測定された熱発生ピーク温度(℃)に基づいて評価した。
<ヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物の硬化性>
ヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物の硬化性は、レオメータMDR 2000(Alpha Technologies,Ltd.により製造された)を使用して評価した。硬化温度は、150℃であった。測定のために、1%トルク値を得るのに要した時間(分)を、Tsで示し、90%トルク値を得るのに要した時間(分)を、T90で示した。
<硬化生成物の表面しわ>
5gのヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物を直径60mmのアルミニウムペトリ皿に注ぎ入れ、150℃で1時間加熱することによって硬化性生成物を形成させた。硬化生成物の外観を以下のとおり視覚的に観察した。
N:しわが観察されなかった。
Y:しわが観察された。
<実施例1~実施例14及び比較例1~比較例16>
以下の成分を、表1~表5に示される組成(質量部)に従って一様に混合して、実施例1~実施例14及び比較例1~比較例16のヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物を調製した。式において、「Me」、「Vi」、「Ph」、及び「Ep」は、それぞれ、メチル基、ビニル基、フェニル基、及び3-グリシドキシプロピル基を表す。さらに、表1~表5において、「SiH/Vi」は、ヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物中の成分(A)中のビニル基1モル当たりの成分(B)中のケイ素-結合水素原子のモルを表す。
以下の成分を成分(A)として使用した。
成分(a-1):1分子当たり2個以上のビニル基を有し、以下の平均単位式によって表されるオルガノポリシロキサン:
(MeViSiO1/20.25(PhSiO3/20.75
成分(a-2):以下の平均式によって表されるオルガノポリシロキサン:
MeViSiO(MeSiO)200(PhSiO)50SiMeVi
成分(a-3):1分子当たり2個以上のビニル基を有し、以下の平均単位式によって表されるオルガノポリシロキサン:
(MeViSiO1/20.13(MeSiO1/20.14(MeSiO3/20.53(PhSiO3/20.22
成分(a-4):1分子当たり2個以上のビニル基を有し、以下の平均単位式によって表される30質量%のオルガノポリシロキサン:
(MeSiO1/20.47(MeViSiO1/20.05(SiO4/20.48
と、両分子末端にてジメチルビニルシロキシ基で末端化された70質量%のジメチルポリシロキサン(ビニル基の含有量=0.23質量%)との混合物。
成分(a-5):1分子当たり2個以上のビニル基を有し、以下の平均単位式によって表されるオルガノポリシロキサン:
(MeViSiO1/20.20(PhSiO3/20.80
成分(a-6):以下の平均式によって表されるオルガノポリシロキサン:
MeViSiO(MePhSiO)25SiMeVi
成分(a-7):以下の式によって表されるオルガノポリシロキサン:
(MeViSiO)Si
以下の成分を成分(B)として使用した。
成分(b-1):以下の式によって表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン:
HMeSiO(PhSiO)SiMe
成分(b-2):以下の式によって表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン:
(MeHSiO1/20.60(PhSiO3/20.40
成分(b-3):以下の式によって表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン:
MeSiO(MeHSiO)40SiMe
以下の成分を成分(C)として使用した。
成分(c-1):白金の1,3-ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の1,3-ジビニルテトラメチルジシロキサン溶液(白金金属含有量=おおよそ4,000ppm)
以下の成分を成分(D)として使用した。
成分(d-1):ジアリルマレエート
成分(d-2):ビス(エチルヘキシル)マレエート
以下の成分を成分(E)として使用した。
成分(e-1):1-エチニルシクロヘキサン-1-オール
成分(e-2):1,3,5,7-テトラメチル-1,3,5,7-テトラビニル-シクロテトラシロキサン
以下の成分を成分(F)として使用した。
成分(f-1):以下の平均単位式によって表されるオルガノポリシロキサン:
(MeViSiO1/20.18(MeEpSiO2/20.28(PhSiO3/20.54
以下の成分を成分(G)として使用した。
成分(g-1):1.4質量%のセリウム含有量を有するセリウム含有ジメチルポリシロキサン
以下の成分を任意成分として使用した。
成分(h-1):100m/gのBET表面積を有するシリカ充填剤
Figure 0007102521000001
Figure 0007102521000002
Figure 0007102521000003
Figure 0007102521000004
Figure 0007102521000005
本発明のヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物は、光学半導体素子、例えば、発光ダイオード(LED)、半導体レーザ、フォトダイオード、フォトトランジスタ、固体撮像素子、フォトカプラ用の発光器及び受信器、又は同様のもののためのシーリング剤又は接着剤として有用である。

Claims (6)

  1. (A)1分子当たり少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン;
    (B)1分子当たり少なくとも2個のケイ素-結合水素を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン(成分(A)中のアルケニル基1モルに対してケイ素-結合水素原子0.1~10.0モルが与えられるような量での)であって、下記式(1)及び(2):
    HMe SiO(Ph SiO)SiMe H (1)
    (Me HSiO 1/2 0.60 (PhSiO 3/2 0.40 (2)
    の平均組成式で表される2つのオルガノハイドロジェンポリシロキサンを含む、オルガノハイドロジェンポリシロキサン
    (C)ヒドロシリル化触媒(組成物の硬化を促進するために十分な量での);
    (D)マレイン酸エステル化合物(質量単位によって組成物に対して50~6,000ppmの量での);及び
    (E)マレイン酸エステル化合物以外のヒドロシリル化阻害剤(質量単位によって組成物に対して200~20,000ppmの量での)を含むヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物。
  2. 成分(E)が1,3,5,7-テトラメチル-1,3,5,7-テトラビニル-シクロテトラシロキサンである、請求項1に記載のヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物。
  3. 成分(A)が、
    (A-1)以下のもの:
    ViPhMeSiO(Me SiO) SiMePhVi、
    ViPh SiO(Me SiO) SiPh Vi、
    ViMe SiO(Me SiO) (Ph SiO) x’ SiMe Vi、
    ViPhMeSiO(Me SiO) (Ph SiO) x’ SiPhMeVi、
    ViPh SiO(Me SiO) (Ph SiO) x’ SiPh Vi、
    ViMe SiO(MePhSiO) SiMe Vi、
    MePhViSiO(MePhSiO) SiMePhVi、
    Ph ViSiO(MePhSiO) SiPh Vi、
    ViMe SiO(Ph SiO) (PhMeSiO) x’ SiMe Vi、
    ViPhMeSiO(Ph SiO) (PhMeSiO) x’ SiPhMeVi、及び
    ViPh SiO(Ph SiO) (PhMeSiO) x’ SiPh Vi
    (式中、Me、Vi、及びPhは、それぞれ、メチル基、ビニル基、及びフェニル基を表し、x及びx’は、それぞれ1~100の整数である)
    から選択される直鎖オルガノポリシロキサン、及び、
    (A-2)
    1分子当たり少なくとも2個のアルケニル基と、アルケニル基以外のケイ素-結合基を有し、かつアルケニル基以外のケイ素-結合基が6~20個の炭素を有するアリール基を含む、部分分岐直鎖及び三次元網状組織構造を有するオルガノポリシロキサン、
    を含む、請求項1又は2に記載のヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物。
  4. (F)接着促進剤(成分(A)~成分(E)の100質量部当たり0.01~50質量部の量での)をさらに含む、請求項1~3のいずれか一項に記載のヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物。
  5. (G)セリウム含有オルガノポリシロキサン(この成分中のセリウム原子の量が、質量単位によって前記組成物に対して10~2,000ppmであるような量での)をさらに含む、請求項1~4のいずれか一項に記載のヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物。
  6. 光学半導体素子のためのシーリング、コーティング、又は接着剤である、請求項1~5のいずれか一項に記載のヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物。
JP2020526276A 2017-11-16 2018-11-14 ヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物 Active JP7102521B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022108399A JP2022132332A (ja) 2017-11-16 2022-07-05 ヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201762587235P 2017-11-16 2017-11-16
US62/587,235 2017-11-16
PCT/US2018/060927 WO2019099449A1 (en) 2017-11-16 2018-11-14 Hydrosilylation-curable silicone composition

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022108399A Division JP2022132332A (ja) 2017-11-16 2022-07-05 ヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021502463A JP2021502463A (ja) 2021-01-28
JP7102521B2 true JP7102521B2 (ja) 2022-07-19

Family

ID=64572547

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020526276A Active JP7102521B2 (ja) 2017-11-16 2018-11-14 ヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物
JP2022108399A Pending JP2022132332A (ja) 2017-11-16 2022-07-05 ヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022108399A Pending JP2022132332A (ja) 2017-11-16 2022-07-05 ヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11377557B2 (ja)
EP (1) EP3710544B1 (ja)
JP (2) JP7102521B2 (ja)
KR (2) KR102638826B1 (ja)
CN (1) CN111344369A (ja)
TW (1) TWI788442B (ja)
WO (1) WO2019099449A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7256700B2 (ja) * 2019-06-18 2023-04-12 信越化学工業株式会社 付加硬化型シリコーンコーティング組成物、シリコーン硬化物及び光半導体装置
JP2022020215A (ja) * 2020-07-20 2022-02-01 デュポン・東レ・スペシャルティ・マテリアル株式会社 硬化性シリコーン組成物、封止材、及び光半導体装置
JP2022032794A (ja) * 2020-08-14 2022-02-25 デュポン・東レ・スペシャルティ・マテリアル株式会社 硬化性シリコーン組成物、封止材、および光半導体装置
CN112940258A (zh) * 2021-04-02 2021-06-11 浙江清华柔性电子技术研究院 反应型抑制剂及其制备方法、硅橡胶组合物、硅橡胶及其制备方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004323764A (ja) 2003-04-28 2004-11-18 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 接着性ポリオルガノシロキサン組成物
WO2008010545A1 (en) 2006-07-21 2008-01-24 Kaneka Corporation Polysiloxane composition, molded body obtained from the same, and optodevice member
JP2008156441A (ja) 2006-12-22 2008-07-10 Momentive Performance Materials Japan Kk 接着性ポリオルガノシロキサン組成物
JP2012017427A (ja) 2010-07-09 2012-01-26 Dow Corning Toray Co Ltd 多成分型室温硬化性シリコーンゴム組成物
JP5571295B2 (ja) 2008-07-14 2014-08-13 東レ・ダウコーニング株式会社 ヒドロシリル化反応により硬化してなるシリコーン層を備えた基材の製造方法および回収された有機溶媒を使用するシリコーン組成物
JP2016529331A (ja) 2013-08-28 2016-09-23 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性シリコーン組成物、その硬化物、および光半導体装置
JP6355646B2 (ja) 2012-12-20 2018-07-11 ダウ シリコーンズ コーポレーション 硬化性シリコーン組成物、導電性シリコーン接着剤、これらの製造及び使用方法、並びにこれらを含有する電気装置

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL129346C (ja) * 1966-06-23
CA1247770A (en) * 1983-01-17 1988-12-28 Richard P. Eckberg Silicone release coatings and inhibitors
JP3386834B2 (ja) * 1992-11-13 2003-03-17 ジーイー東芝シリコーン株式会社 硬化性ポリオルガノシロキサン組成物
US5516558A (en) * 1994-08-24 1996-05-14 General Electric Company Addition curable paper release composition with improved bathlife
JP3464298B2 (ja) 1994-12-28 2003-11-05 信越化学工業株式会社 付加型硬化性オルガノポリシロキサン組成物
JP3550321B2 (ja) 1999-07-16 2004-08-04 信越化学工業株式会社 付加硬化型オルガノポリシロキサン組成物
US6649016B2 (en) 2002-03-04 2003-11-18 Dow Global Technologies Inc. Silane functional adhesive composition and method of bonding a window to a substrate without a primer
JP4406323B2 (ja) 2004-06-08 2010-01-27 信越化学工業株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン組成物
US20070289495A1 (en) 2004-11-18 2007-12-20 Dow Corning Corporation Silicone Release Coating Compositions
JP5144898B2 (ja) 2006-03-30 2013-02-13 株式会社カネカ 剥離基材付き粘着製品
US20090247680A1 (en) * 2006-06-06 2009-10-01 Avery Dennison Corporation Adhesion promoting additive
US7900286B2 (en) 2006-06-06 2011-03-08 Joel Allen Black Support for wall-mounted toilet
CN101460569A (zh) * 2006-06-06 2009-06-17 艾利丹尼森公司 增粘添加剂
JP6088133B2 (ja) 2010-12-15 2017-03-01 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
KR20170015356A (ko) * 2014-06-04 2017-02-08 다우 코닝 도레이 캄파니 리미티드 접착 촉진제, 경화성 실리콘 조성물 및 반도체 장치
US10287400B2 (en) * 2016-04-14 2019-05-14 Momentive Performance Materials Inc. Curable silicone composition and applications and uses thereof
TW201835260A (zh) * 2017-03-16 2018-10-01 美商陶氏有機矽公司 聚矽氧離型塗層組成物
JP2017160453A (ja) * 2017-05-26 2017-09-14 株式会社カネカ 蛍光体含有シリコーン系組成物および該組成物で封止されてなる発光装置
JP2020164678A (ja) 2019-03-29 2020-10-08 日亜化学工業株式会社 シリコーン樹脂組成物及びその製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004323764A (ja) 2003-04-28 2004-11-18 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 接着性ポリオルガノシロキサン組成物
WO2008010545A1 (en) 2006-07-21 2008-01-24 Kaneka Corporation Polysiloxane composition, molded body obtained from the same, and optodevice member
JP2008156441A (ja) 2006-12-22 2008-07-10 Momentive Performance Materials Japan Kk 接着性ポリオルガノシロキサン組成物
JP5571295B2 (ja) 2008-07-14 2014-08-13 東レ・ダウコーニング株式会社 ヒドロシリル化反応により硬化してなるシリコーン層を備えた基材の製造方法および回収された有機溶媒を使用するシリコーン組成物
JP2012017427A (ja) 2010-07-09 2012-01-26 Dow Corning Toray Co Ltd 多成分型室温硬化性シリコーンゴム組成物
JP6355646B2 (ja) 2012-12-20 2018-07-11 ダウ シリコーンズ コーポレーション 硬化性シリコーン組成物、導電性シリコーン接着剤、これらの製造及び使用方法、並びにこれらを含有する電気装置
JP2016529331A (ja) 2013-08-28 2016-09-23 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性シリコーン組成物、その硬化物、および光半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
TW201922937A (zh) 2019-06-16
US20200332122A1 (en) 2020-10-22
KR20200066697A (ko) 2020-06-10
EP3710544B1 (en) 2021-08-11
TWI788442B (zh) 2023-01-01
KR102638826B1 (ko) 2024-02-22
EP3710544A1 (en) 2020-09-23
JP2021502463A (ja) 2021-01-28
WO2019099449A1 (en) 2019-05-23
US11377557B2 (en) 2022-07-05
KR20220074992A (ko) 2022-06-03
JP2022132332A (ja) 2022-09-08
CN111344369A (zh) 2020-06-26
KR102403059B1 (ko) 2022-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101758384B1 (ko) 저가스투과성 실리콘 수지 조성물 및 광 반도체 장치
EP3045499B1 (en) Curable silicone composition, cured product thereof, and optical semiconductor device
TWI698512B (zh) 熱熔性聚矽氧及硬化性熱熔組合物
JP6096087B2 (ja) 硬化性シリコーン樹脂組成物、その硬化物及び光半導体デバイス
JP7102521B2 (ja) ヒドロシリル化-硬化性シリコーン組成物
KR102455665B1 (ko) 경화성 실리콘 조성물, 이의 경화물 및 광반도체 장치
JP2007063538A (ja) 発光ダイオード用付加硬化型シリコーン樹脂組成物
KR102226981B1 (ko) 경화성 오가노폴리실록산 조성물 및 반도체 장치
JP2021021038A (ja) 硬化性シリコーン組成物、光半導体装置、および光半導体装置の製造方法
JP2021021058A (ja) ホットメルト性硬化性シリコーン組成物、封止剤、フィルム、光半導体素子
US20220049121A1 (en) Curable silicone composition, encapsulant and optical semiconductor device
TW202043421A (zh) 晶片黏合用矽氧樹脂組成物、硬化物及光半導體裝置
WO2019157027A2 (en) Curable silicone composition, cured product thereof, and optical semiconductor device
JP2020070402A (ja) 付加硬化型シリコーン樹脂組成物、その硬化物、及び光半導体装置
TW201910434A (zh) 固化性矽組成物以及光半導體裝置
TWI829640B (zh) 可固化聚矽氧組合物及光學半導體裝置
JP2023132308A (ja) 硬化性シリコーン組成物
JP2023132309A (ja) 硬化性シリコーン組成物
JP2022178085A (ja) 硬化性シリコーン組成物、封止剤、及び光半導体装置
CN112300576A (zh) 热熔性固化性有机硅组合物、密封剂、膜以及光半导体元件

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200512

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20200625

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210405

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210517

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210811

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20211008

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20211213

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220606

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220706

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7102521

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150