JP7092133B2 - 光学フィルム - Google Patents

Description

本発明は光学フィルムに関する。

液晶表示装置などの表示装置には、様々な光学フィルムが設けられる。例えば、液晶表示装置は通常偏光板を備え、かかる偏光板は、通常、ポリビニルアルコール等の樹脂により構成された偏光子と、偏光子を保護するための保護フィルムを備える。保護フィルムの材料としては、様々な材料が提案されている。例えば、芳香族ビニル化合物水素化物のブロックと、ジエン化合物水素化物のブロックとを含むブロック共重合体の使用が提案されている（特許文献１及び２）。光学フィルムは、例えば押出成形により効率的に製造しうる。

国際公開第２０１７／０８６２６５号 特開２０１０－０３１２５３号公報

しかしながら、ブロック共重合体を含む樹脂を材料として、押出成形により光学フィルムを製造する場合、ドローレゾナンスが発生し、膜厚ムラが大きくなる場合がある。

従って、本発明の目的は、押出成形におけるドローレゾナンスの発生による膜厚ムラが低減され、効率的に高品質なものとして製造しうる、光学フィルムを提供することにある。

上記課題を解決するため検討した結果、本発明者は、光学フィルムを構成する材料として、特定の熱可塑性樹脂を採用することにより、上記課題を解決しうることを見出した。
すなわち、本発明によれば、以下の〔１〕～〔３〕が提供される。

〔１〕 熱可塑性樹脂からなる光学フィルムであって、
前記熱可塑性樹脂は、
環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］を主成分とする、１分子あたり２つ以上の重合体ブロック［Ｄ］と、
鎖状炭化水素化合物水素化物単位［ＩＩ］、又は前記単位［Ｉ］及び前記単位［ＩＩ］の組み合わせを主成分とする１分子あたり１つ以上の重合体ブロック［Ｅ］と
を含む水素化ブロック共重合体［Ｇ］を含み、
前記熱可塑性樹脂は、式（１）又は式（２）を満たす、光学フィルム：
Ｇ”／Ｇ’＞０．９５ 式（１）
（η｜_ε＝２－η｜_ε＝１）＞－１．０×１０^４Ｐａ・ｓ 式（２）
但しＧ’は前記熱可塑性樹脂の貯蔵弾性率であり、Ｇ”は前記熱可塑性樹脂の損失弾性率であり、
前記貯蔵弾性率及び損失弾性率は、Ｔｓ＋９０℃、１ｒａｄ／ｓｅｃの条件で測定された値であり、
（η｜_ε＝２－η｜_ε＝１）は前記熱可塑性樹脂の伸長粘度の傾きであり、
前記伸長粘度は、Ｔｓ＋８０℃、１ｓ^－１の条件で測定された値であり、
ＴｓはＴＭＡにより測定した前記熱可塑性樹脂の軟化温度である。
〔２〕 正面位相差Ｒｅおよび厚み方向の位相差の絶対値｜Ｒｔｈ｜がともに３ｎｍ以下である、〔１〕に記載の光学フィルム。
〔３〕 前記環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］が芳香族ビニル化合物水素化物単位であり、
前記鎖状炭化水素化合物水素化物単位［ＩＩ］が共役ジエン化合物水素化物単位である、〔１〕または〔２〕に記載の光学フィルム。

本発明によれば、押出成形におけるドローレゾナンスの発生による膜厚ムラが低減され、効率的に高品質なものとして製造しうる、光学フィルムが提供される。

以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものでは無く、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。

以下の説明において、ある層の正面位相差Ｒｅは、Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄで表される値を示し、また、ある層の厚み方向の位相差Ｒｔｈとは、Ｒｔｈ＝［｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２｝－ｎｚ］×ｄで表される値を示す。ｎｘは、層の面内方向（厚み方向に垂直な方向）であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表し、ｎｙは、層の面内方向であってｎｘの方向に直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、層の厚み方向の屈折率を表し、ｄは、層の厚みを表す。

以下の説明において、別に断らない限り、屈折率の測定波長は、５９０ｎｍである。

以下の説明において、樹脂の固有複屈折値の正負は、樹脂の成形物を延伸した場合における、かかる成形物の屈折率の挙動によって規定される。即ち、正の固有複屈折値を有する樹脂とは、延伸方向における当該成形物の屈折率が、延伸前に比べて大きくなる樹脂である。また、負の固有複屈折値を有する樹脂とは、延伸方向における当該成形物の屈折率が、延伸前に比べて小さくなる樹脂である。固有複屈折値は、誘電率分布から計算しうる。

さらに、ある特定の重合単位が正の固有複屈折値を有するとは、当該重合単位のみからなる重合体が、正の固有複屈折値を有することをいい、ある特定の重合単位が負の固有複屈折値を有するとは、当該重合単位のみからなる重合体が、負の固有複屈折値を有することをいう。したがって、重合単位の固有複屈折値の正負は、当該重合単位のみからなる単独重合体を調製し、当該重合体を任意の形状の成形物とし、当該成形物を延伸し、その光学特性を測定することにより容易に判定しうる。一般に、アルケン、ジエン等の炭化水素の重合単位及びそれらの水素化物の多くは正の固有複屈折値を有することが知られている一方、スチレン、ビニルナフタレン等の側鎖に芳香環を有する炭化水素の重合体及びそれらの水素化物であって環状の炭化水素基を有する化合物の多くは負の固有複屈折値を有することが知られている。

以下の説明において、環式炭化水素基とは、芳香環、シクロアルカン、シクロアルケン等の、環状の構造を含む炭化水素の基である。また、鎖状炭化水素化合物とは、かかる環式炭化水素基を含まない炭化水素化合物である。

以下の説明において、「偏光板」とは、別に断らない限り、剛直な部材だけでなく、例えば樹脂製のフィルムのように可撓性を有する部材も含む。

〔１．光学フィルムの概要〕
本発明の光学フィルムは、特定の熱可塑性樹脂からなる光学フィルムである。即ち、本発明の光学フィルムは、特定の熱可塑性樹脂のみから構成された光学フィルムである。

光学フィルムを構成する熱可塑性樹脂は、特定の水素化ブロック共重合体［Ｇ］を含む。水素化ブロック共重合体［Ｇ］は、２つ以上の重合体ブロック［Ｄ］と、１つ以上の重合体ブロック［Ｅ］とを含む。重合体ブロック［Ｄ］は、環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］を主成分とするブロックである。重合体ブロック［Ｅ］は、鎖状炭化水素化合物水素化物単位［ＩＩ］、又は単位［Ｉ］及び単位［ＩＩ］の組み合わせを主成分とするブロックである。単位［Ｉ］は通常負の固有複屈折値を有し、一方単位［ＩＩ］は通常正の固有複屈折値を有する。水素化ブロック共重合体［Ｇ］がこれらの単位を組み合わせて含むことにより、光学フィルムの位相差の発現を抑制することができる。その結果、偏光板保護フィルムとして用いるのに適した、低位相差の光学フィルムを容易に得ることができる。

〔２．環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］〕
環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］は、環式炭化水素基含有化合物を重合し、さらに、かかる重合により得られた単位が不飽和結合を有していればその不飽和結合を水素化して得られる構造を有する構造単位である。ただし、環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］は、当該構造を有する限りにおいて、どのような製造方法で得られた単位をも含む。

環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］は、好ましくは、芳香族ビニル化合物の重合により得られる構造単位である。より具体的には、芳香族ビニル化合物を重合し、その不飽和結合を水素化して得られる構造を有する構造単位（芳香族ビニル化合物水素化物単位[Ｉ]）である。ただし、芳香族ビニル化合物水素化物単位［Ｉ］は、当該構造を有する限りにおいて、どのような製造方法で得られた単位をも含む。

同様に、本願においては、例えばスチレンを重合し、その不飽和結合を水素化して得られる構造を有する構造単位を、スチレン水素化物単位と呼ぶことがある。スチレン水素化物単位も、当該構造を有する限りにおいて、どのような製造方法で得られた単位をも含む。

芳香族ビニル化合物水素化物単位［Ｉ］の例としては、以下の構造式（１）で表される構造単位が挙げられる。

構造式（１）において、Ｒ^ｃは脂環式炭化水素基を表す。Ｒ^ｃの例を挙げると、シクロヘキシル基等のシクロヘキシル基類；デカヒドロナフチル基類等が挙げられる。

構造式（１）において、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子、鎖状炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基、又は、極性基（ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、又はシリル基）で置換された鎖状炭化水素基を表す。中でもＲ^１、Ｒ^２及びＲ^３としては、耐熱性、低複屈折性及び機械強度等の観点から水素原子及び炭素原子数１～６個の鎖状炭化水素基のいずれかであることが好ましい。鎖状炭化水素基としては飽和炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。

芳香族ビニル化合物水素化物単位［Ｉ］の好ましい具体例としては、下記式（１－１）で表される構造単位が挙げられる。式（１－１）で表される構造単位は、スチレン水素化物単位である。

環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］の例示物において立体異性体を有するものは、そのいずれの立体異性体も使用することができる。環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］は、１種類だけ用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

〔３．鎖状炭化水素化合物水素化物単位［ＩＩ］〕
鎖状炭化水素化合物水素化物単位［ＩＩ］は、鎖状炭化水素化合物を重合し、さらに、かかる重合により得られた単位が不飽和結合を有していればその不飽和結合を水素化して得られる構造を有する構造単位である。ただし、鎖状炭化水素化合物水素化物単位［ＩＩ］は、当該構造を有する限りにおいて、どのような製造方法で得られた単位をも含む。

鎖状炭化水素化合物水素化物単位［ＩＩ］は、好ましくは、ジエン化合物の重合により得られる構造単位である。より具体的には、ジエン化合物を重合し、さらに、かかる重合により得られた単位が不飽和結合を有していればその不飽和結合を水素化して得られる構造を有する構造単位（ジエン化合物水素化物単位［ＩＩ］）である。但し、ジエン化合物水素化物単位［ＩＩ］は、当該構造を有する限りにおいて、どのような製造方法で得られた単位をも含む。

同様に、本願においては、例えばイソプレンを重合し、その不飽和結合を水素化して得られる構造を有する構造単位を、イソプレン水素化物単位と呼ぶことがある。イソプレン水素化物単位も、当該構造を有する限りにおいて、どのような製造方法で得られた単位をも含む。

ジエン化合物水素化物単位［ＩＩ］は、共役ジエン化合物の重合により得られる構造単位であることが好ましい。より具体的には、鎖状共役ジエン化合物等の共役ジエン化合物を重合し、その不飽和結合を水素化して得られる構造を有する構造単位（共役ジエン化合物水素化物単位）であることが好ましい。その例としては、以下の構造式（２）で表される構造単位、及び構造式（３）で表される構造単位が挙げられる。

構造式（２）において、Ｒ^４～Ｒ^９は、それぞれ独立に、水素原子、鎖状炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基、又は、極性基（ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、又はシリル基）で置換された鎖状炭化水素基を表す。中でもＲ^４～Ｒ^９としては、耐熱性、低複屈折性及び機械強度等の観点から水素原子及び炭素原子数１～６個の鎖状炭化水素基のいずれかであることが好ましい。鎖状炭化水素基としては飽和炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。

構造式（３）において、Ｒ^１０～Ｒ^１５は、それぞれ独立に、水素原子、鎖状炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基、又は、極性基（ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、又はシリル基）で置換された鎖状炭化水素基を表す。中でもＲ^１０～Ｒ^１５としては、耐熱性、低複屈折性及び機械強度等の観点から水素原子及び炭素原子数１～６個の鎖状炭化水素基のいずれかであることが好ましい。鎖状炭化水素基としては飽和炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。

ジエン化合物水素化物単位［ＩＩ］の好ましい具体例としては、下記式（２－１）～（２－３）で表される構造単位が挙げられる。式（２－１）～（２－３）で表される構造単位は、イソプレン水素化物単位である。

鎖状炭化水素化合物水素化物単位［ＩＩ］の例示物において立体異性体を有するものは、そのいずれの立体異性体も使用することができる。鎖状炭化水素化合物水素化物単位［ＩＩ］は、１種類だけ用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

〔４．水素化ブロック共重合体［Ｇ］の詳細〕
水素化ブロック共重合体［Ｇ］は、１分子あたり１つのブロック［Ｅ］と、その両端に連結された１分子当たり２つのブロック［Ｄ］とを有するトリブロック分子構造を有することが好ましい。すなわち、水素化ブロック共重合体［Ｇ］は、１分子あたり１つのブロック［Ｅ］と；ブロック［Ｅ］の一端に連結され、環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］を有する、１分子あたり１つのブロック［Ｄａ］と；ブロック［Ｅ］の他端に連結され、環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］を有する、１分子あたり１つのブロック［Ｄｂ］と；を含むトリブロック共重合体［Ｄａ］－［Ｅ］－［Ｄｂ］であることが好ましい。

熱可塑性樹脂は、水素化ブロック共重合体［Ｇ］を８５質量％以上含有することが好ましい。水素化ブロック共重合体［Ｇ］として、１種類の重合体のみを含んでもよいが、２種類以上の重合体を含んでもよい。好ましくは、熱可塑性樹脂は、水素化ブロック共重合体［Ｇ］として、２種類以上の重合体を含む。熱可塑性樹脂が水素化ブロック共重合体［Ｇ］として２種類以上の重合体を含むことにより、所望の特性を有する熱可塑性樹脂を、容易に調製することができる。

特に、熱可塑性樹脂は、水素化ブロック共重合体［Ｇ］として、対称性の異なる複数のトリブロック共重合体を含むことが好ましい。本願において、トリブロック共重合体［Ｄａ］－［Ｅ］－［Ｄｂ］の対称性とは、ブロック［Ｄａ］の重量Ｄａとブロック［Ｄｂ］の重量Ｄｂ（但しＤａ≧Ｄａ）の比Ｄａ／Ｄｂに関する特性であり、Ｄａ／Ｄｂが小さく、１または１に近いトリブロック共重合体を、対称性が高いトリブロック共重合体といい、Ｄａ／Ｄｂが大きいトリブロック共重合体を、対称性が低いトリブロック共重合体という。

好ましい例として、熱可塑性樹脂が、水素化ブロック共重合体［Ｇ］として、対称性が低いトリブロック共重合体［Ｇ_Ｘ］及び対称性が高いトリブロック共重合体［Ｇ_Ｙ］を含む例を、以下に説明する。この例において、トリブロック共重合体［Ｇ_Ｘ］は、重合体ブロック［Ｄ］としてのブロック［Ｄａ_Ｘ］及び［Ｄｂ_Ｘ］、並びに重合体ブロック［Ｅ］としてのブロック［Ｅ_Ｘ］を含むトリブロック共重合体［Ｄａ_Ｘ］－［Ｅ_Ｘ］－［Ｄｂ_Ｘ］である。トリブロック共重合体［Ｇ_Ｙ］は、重合体ブロック［Ｄ］としてのブロック［Ｄａ_Ｙ］及び［Ｄｂ_Ｙ］、並びに重合体ブロック［Ｅ］としてのブロック［Ｅ_Ｙ］を含むトリブロック共重合体［Ｄａ_Ｙ］－［Ｅ_Ｙ］－［Ｄｂ_Ｙ］である。

トリブロック共重合体［Ｇ_Ｘ］におけるブロック［Ｄａ_Ｘ］及び［Ｄｂ_Ｘ］の重量比Ｄａ_Ｘ／Ｄｂ_Ｘは、３以上であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上であり、好ましくは１１以下、より好ましくは１０以下、特に好ましくは９以下である。トリブロック共重合体［Ｇ_Ｙ］におけるブロック［Ｄａ_Ｙ］及び［Ｄｂ_Ｙ］の重量比Ｄａ_Ｙ／Ｄｂ_Ｙは、１以上３未満であり、好ましくは２以下であり、より好ましくは１．５以下である。このような、異なる対称性を有するトリブロック共重合体［Ｇ_Ｘ］及び［Ｇ_Ｙ］を含むことにより、耐熱性及び強靭性を兼ね備える等の非対称トリブロック共重合体の利点を享受しながら、且つドローレゾナンスの発生による膜厚ムラを低減し、膜厚ムラの少ない光学フィルムとすることができる。

熱可塑性樹脂における、対称性が低いトリブロック共重合体［Ｇ_Ｘ］及び対称性が高いトリブロック共重合体［Ｇ_Ｙ］の好ましい割合は、所望の特性を有する光学フィルムが得られる範囲に適宜調整しうる。トリブロック共重合体［Ｇ_Ｘ］及びトリブロック共重合体［Ｇ_Ｙ］の合計に対するトリブロック共重合体［Ｇ_Ｘ］の割合は、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは７５重量％以上であり、一方好ましくは８５重量％以下、より好ましくは８３重量％以下である。

熱可塑性樹脂における水素化ブロック共重合体［Ｇ］については、好ましい特性を有する光学フィルムを容易に得る観点から、ブロック［Ｄａ］及びブロック［Ｄｂ］の合計と、ブロック［Ｅ］との重量比（Ｄａ＋Ｄｂ）／Ｅが、特定の範囲内であることが好ましい。具体的には、重量比（Ｄａ＋Ｄｂ）／Ｅは、好ましくは６５／３５以上、より好ましくは７０／３０以上であり、好ましくは９０／１０以下、より好ましくは８５／１５以下である。熱可塑性樹脂が水素化ブロック共重合体［Ｇ］として複数種類の重合体を含む場合、これらの全体における重量比（Ｄａ＋Ｄｂ）／Ｅが前記範囲内であることが好ましい。

熱可塑性樹脂における水素化ブロック共重合体［Ｇ］の重量平均分子量Ｍｗは、好ましくは４００００以上、より好ましくは５５０００以上、特に好ましくは６００００以上であり、好ましくは８５０００以下、より好ましくは８００００以下、特に好ましくは７５０００以下である。重量平均分子量Ｍｗが前記範囲にあることにより、好ましい特性を有する光学フィルムを容易に得ることができる。熱可塑性樹脂が水素化ブロック共重合体［Ｇ］として複数種類の重合体を含む場合、主成分である水素化ブロック共重合体が前記範囲内であることが好ましい。

ブロック［Ｄａ］及びブロック［Ｄｂ］は、それぞれ独立に、環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］のみからなることが好ましいが、環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］以外に任意の単位を含みうる。任意の構造単位の例としては、環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］以外のビニル化合物に基づく構造単位が挙げられる。ブロック［Ｄ］における任意の構造単位の含有率は、好ましくは１０重量％以下、より好ましくは５重量％以下、特に好ましくは１重量％以下である。

ブロック［Ｅ］は、鎖状炭化水素化合物水素化物単位［ＩＩ］のみからなるか、又は環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］及び鎖状炭化水素化合物水素化物単位［ＩＩ］のみからなることが好ましいが、単位［Ｉ］及び［ＩＩ］以外に任意の単位を含みうる。任意の構造単位の例としては、単位［Ｉ］及び［ＩＩ］以外のビニル化合物に基づく構造単位が挙げられる。ブロック［Ｅ］における任意の構造単位の含有率は、好ましくは１０重量％以下、より好ましくは５重量％以下、特に好ましくは１重量％以下である。

ブロック［Ｅ］が、環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］及び鎖状炭化水素化合物水素化物単位［ＩＩ］を含む場合、ブロック［Ｅ］中の単位［Ｉ］及び［ＩＩ］の重量比［Ｉ］／［ＩＩ］は、好ましくは０．１以上、より好ましくは０．２以上、特に好ましくは０．３以上であり、好ましくは１．５以下、より好ましくは１．４以下、特に好ましくは１．３以下である。

また、水素化ブロック共重合体［Ｇ］全体における、単位［Ｉ］及び［ＩＩ］の重量比［Ｉ］／［ＩＩ］は、好ましくは７０／３０以上、より好ましくは７５／２５以上であり、好ましくは９０／１０以下、より好ましくは８５／１５以下である。単位［Ｉ］及び［ＩＩ］の比率が前記範囲にあることにより、好ましい特性を有する光学フィルムを容易に得ることができる。具体的には、負の固有複屈折値を有する単位［Ｉ］と、通常正の固有複屈折値を有する単位［ＩＩ］とを、好ましい比率で含むことにより、光学フィルムの位相差の発現を抑制することができる。その結果、偏光板保護フィルムとして用いるのに適した、低位相差の光学フィルムを容易に得ることができる。

水素化ブロック共重合体［Ｇ］の製造方法は、特に限定されず任意の製造方法を採用しうる。水素化ブロック共重合体［Ｇ］は、例えば、環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］及び鎖状炭化水素化合物水素化物単位［ＩＩ］に対応する単量体を用意し、これらを重合させ、得られた重合体［Ｆ］を水素化することにより製造しうる。具体的な製造は、例えば国際公開第ＷＯ２０１６／１５２８７１号に記載される方法及びその他の既知の方法を適宜組み合わせて実施しうる。水素化反応における水素化率は、通常９０％以上、好ましくは９５％以上、より好ましくは９７％以上である。水素化率を高くすることにより、水素化ブロック共重合体［Ｇ］の低複屈折性及び熱安定性等を高めることができる。水素化率は^１Ｈ－ＮＭＲにより測定できる。

熱可塑性樹脂は、水素化ブロック共重合体［Ｇ］のみからなるものであってもよく、水素化ブロック共重合体［Ｇ］以外の任意成分を含有するものであってもよい。任意成分の例は、紫外線吸収剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、分散剤、塩素捕捉剤、難燃剤、結晶化核剤、強化剤、ブロッキング防止剤、防曇剤、離型剤、顔料、有機又は無機の充填剤、中和剤、滑剤、分解剤、金属不活性化剤、汚染防止剤、及び抗菌剤が挙げられる。任意成分の含有量は、熱可塑性樹脂１００重量％当たり０．５～５重量％が好ましい。

〔５．熱可塑性樹脂の特性〕
熱可塑性樹脂は、式（１）及び式（２）の一方又は両方を満たす。
Ｇ”／Ｇ’＞０．９５ 式（１）
（η｜_ε＝２－η｜_ε＝１）＞－１．０×１０^４Ｐａ・ｓ 式（２）

式（１）において、Ｇ’は熱可塑性樹脂の貯蔵弾性率であり、Ｇ”は熱可塑性樹脂の損失弾性率である。Ｇ”／Ｇ’の値は、より好ましくは１．２以上、さらにより好ましくは１．３以上である。Ｇ”／Ｇ’の値の上限は、特に限定されないが例えば１０．０以下としうる。

貯蔵弾性率及び損失弾性率は、動的粘弾性測定により、Ｔｓ＋９０℃、１ｒａｄ／ｓｅｃの条件で測定された値である。Ｔｓは熱可塑性樹脂の軟化温度である。弾性率の測定においては、測定対象の熱可塑性樹脂をシートの形状に成形し、これを試料として測定に供しうる。測定装置としては、ＴＡインスツルメント社製の歪制御型粘弾性測定装置（パラレルプレート方式）を用いうる。

熱可塑性樹脂の軟化温度Ｔｓは、ＴＭＡ（熱機械分析）により求めうる。具体的には、測定対象の熱可塑性樹脂を幅５ｍｍ×長さ２０ｍｍ×厚さ０．５ｍｍのシートとし、試料の長手方向に５０ｍＮの張力を加えた状態で温度を変化させる。線膨張が３％変化した時の温度（℃）を、軟化温度Ｔｓとしうる。測定装置としては、ＴＭＡ／ＳＳ７１００（エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製）を用いうる。熱可塑性樹脂の軟化温度Ｔｓは、特に限定されないが１００～１５０℃としうる。

式（２）において、（η｜_ε＝２－η｜_ε＝１）は熱可塑性樹脂の伸長粘度の傾きである。傾き（η｜_ε＝２－η｜_ε＝１）は、より好ましくは－９．０×１０^３Ｐａ・ｓ以上、さらにより好ましくは－８．０×１０^３Ｐａ・ｓ以上である。傾きの上限は、特に限定されないが例えば１．０×１０^２Ｐａ・ｓ以下としうる。

本願において、伸長粘度の傾きとは、熱可塑性樹脂の伸長ひずみと伸長粘度との関係における伸長粘度の傾きをいう。より具体的には、測定対象の熱可塑性樹脂を幅５ｍｍ×長さ２０ｍｍ×厚さ０．５ｍｍのシートとし、Ｔｓ＋８０℃においてひずみ速度１ｓ^－１の条件で伸長ひずみと伸長粘度との関係を求める。伸長ひずみ１及び２またはそれらに近い値（例えば１±０．０５及び２±０．０５の範囲内の値）における測定値から、傾きを求めうる。測定装置としては、Ａｎｔｏｎ ｐａａｒ製レオメーター ＭＣＲ３０２を用いうる。

本発明者が見出したところによれば、熱可塑性樹脂が式（１）及び式（２）の一方又は両方を満たすことにより、光学フィルムの製造において発生するドローレゾナンスによる膜厚ムラを低減することができ、光学フィルムを、効率的に高品質なものとして製造しうる。

〔６．光学フィルムの特性及び寸法等〕
本発明の光学フィルムの正面位相差Ｒｅ及び厚み方向の位相差Ｒｔｈの絶対値｜Ｒｔｈ｜は、いずれも好ましくは３ｎｍ以下であり、より好ましくは２ｎｍ以下である。Ｒｅ及びＲｔｈの値は、位相差計（例えばＡｘｏｓｃａｎ、ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製）を用いて測定しうる。Ｒｅ及び｜Ｒｔｈ｜の下限は、特に限定されないが、いずれも、理想的に０である。ドローレゾナンス等の現象により膜厚が周期的に変動する場合は、膜厚の周期が観察される範囲で観察を行い、その平均値を、光学フィルムのＲｅ及びＲｔｈとしうる。

本発明の光学フィルムは、フィルムを構成する樹脂として、上に述べた特定の熱可塑性樹脂を採用することにより、低い位相差と低い膜厚ムラの両方を達成することができる。

本発明の光学フィルムの厚さは、通常１０μｍ以上、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上であり、通常７５μｍ以下、好ましくは６０μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以下である。厚さを前記範囲の下限以上にすることで、偏光板保護フィルムとして使用する際に偏光板の破損防止能及びハンドリング性を向上させることができ、上限以下にすることで偏光板を薄くすることができる。

本発明の光学フィルムは、ドローレゾナンスの発生による膜厚ムラを低減した製造が可能であるため、その膜厚ムラが小さいものとすることができる。膜厚ムラは、膜厚の周期が観察される範囲で膜厚の観察を行い、当該周期における最大厚みｔ_ｍａｘ、最小厚みｔ_ｍｉｎ、平均厚みｔ_ａｖｅから下記式に従い計算しうる。
膜厚ムラ（％）＝（（ｔ_ｍａｘ－ｔ_ｍｉｎ）／ｔ_ａｖｅ）×１００

本発明の光学フィルムの膜厚ムラは、好ましくは２０％以下、より好ましくは１０％以下としうる。膜厚ムラがかかる低い値であることにより、光学フィルムを、偏光板保護フィルム等の用途に特に好適に用いることができる。

本発明の光学フィルムは、通常、透明な層であり可視光線を良好に透過させる。具体的な光線透過率は本発明のフィルムの用途に応じて適宜選択しうる。例えば、波長４２０～７８０ｎｍにおける光線透過率としては、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である。このように高い光線透過率を有することにより、光学フィルムを、偏光板保護フィルム等の用途に特に好適に用いることができる。

〔７．光学フィルムの製造方法〕
本発明の光学フィルムの製造方法は特に限定されず、任意の製造方法を採用しうる。例えば、下記工程Ｓ１及びＳ２を含む製造方法を採用しうる。
工程Ｓ１：対称性が低いトリブロック共重合体［Ｇ_Ｘ］及び対称性が高いトリブロック共重合体［Ｇ_Ｙ］を混合し、混合物を得る工程。
工程Ｓ２：混合物を、押出成形法により成形し、光学フィルムを得る工程。
以下において、当該製造方法を、本発明の光学フィルムの製造方法として説明する。

工程Ｓ１は、例えば、トリブロック共重合体［Ｇ_Ｘ］及びトリブロック共重合体［Ｇ_Ｙ］を含むペレットの形状の成形物を得る工程としうる。具体的には、トリブロック共重合体［Ｇ_Ｘ］のペレットとトリブロック共重合体［Ｇ_Ｙ］のペレットとを混合し、混合ペレットとすることにより行いうる。又は、トリブロック共重合体［Ｇ_Ｘ］とトリブロック共重合体［Ｇ_Ｙ］とを溶融させ、溶融物をペレットの形状に成形することにより行いうる。これらの工程に加え、必要に応じて任意成分を添加する混合を行うこともできる。混合物におけるトリブロック共重合体［Ｇ_Ｘ］及びトリブロック共重合体［Ｇ_Ｙ］の割合は、上に述べた、熱可塑性樹脂におけるこれらの好ましい割合としうる。

工程Ｓ２は、通常の押出成形法により行いうる。押出成形法による成形を行った場合、効率的な製造が可能である。しかしながら、成形の材料として、トリブロック共重合体［Ｇ_Ｘ］を用いた場合ドローレゾナンスが発生しやすい。本発明者が見出したところによれば、材料としてトリブロック共重合体［Ｇ_Ｘ］及びトリブロック共重合体［Ｇ_Ｙ］の混合物を用いることにより、かかるドローレゾナンスによる膜厚ムラの発生を低減することができる。

押出成形法による成形を行うと、長尺のフィルムを得ることができる。長尺のフィルムとは、幅に対して５倍以上の長さを有する形状をいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムの形状をいう。幅に対する長さの割合の上限は、特に限定されないが、例えば１００，０００倍以下としうる。

フィルムの形状に成形された熱可塑性樹脂は、そのまま本発明の光学フィルムとしうる。又は、フィルムの形状に成形された熱可塑性樹脂を、さらに任意の処理に供し、それにより得られたものを本発明の光学フィルムとしうる。かかる任意の処理としては、延伸処理が挙げられる。熱可塑性樹脂を構成する材料の割合を適宜調整することにより、延伸によりフィルムに発現する位相差を少なくすることが可能であるので、かかる延伸処理を行うことにより、厚みが薄く面積が大きく且つ品質が良好な光学フィルムを容易に製造することが可能となる。

〔８．光学フィルムの用途：偏光板〕
本発明の光学フィルムは、高い耐熱性、低い水蒸気透過率、低いＲｅ及び｜Ｒｔｈ｜等の特性を有するため、液晶表示装置などの表示装置において、他の層を保護する保護フィルムとして好適に用いうる。特に、本発明の光学フィルムは、偏光子保護フィルムとして特に良好に機能することができる。

具体的には、本発明の光学フィルムと、偏光子層とを組み合わせて、これらを備える偏光板を得うる。偏光板において、光学フィルムは、偏光子保護フィルムとして機能しうる。偏光板はさらに、光学フィルムと偏光子層との間に、これらを接着するための接着剤層を備えてもよい。

偏光子層は、特に限定されず、任意の既知の偏光子の層を用いうる。偏光子の例としては、ポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素、二色性染料等の材料を吸着させた後、延伸加工したものが挙げられる。接着剤層を構成する接着剤としては、各種の重合体をベースポリマーとしたものが挙げられる。かかるベースポリマーの例としては、例えば、アクリル重合体、シリコーン重合体、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、及び合成ゴムが挙げられる。

偏光板が備える偏光子層と保護フィルムの層の数は任意であるが、偏光板は、通常は、１層の偏光子層と、その両面に設けられた２層の保護フィルムを備えうる。かかる２層の保護フィルムのうち、両方が本発明の光学フィルムであってもよく、どちらか一方のみが本発明の光学フィルムであってもよい。特に、光源及び液晶セルを備え、かかる液晶セルの光源側及び表示面側の両方に偏光板を有する液晶表示装置において、表示面側の偏光子よりも光源側の位置において用いる保護フィルムとして、本発明の光学フィルムを備えることが特に好ましい。かかる構成を有することにより、高い膜厚の均一性、低いＲｅ及び｜Ｒｔｈ｜等の特性を生かし、良好な表示品質を有する液晶表示装置を容易に構成することができる。

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温常圧大気中において行った。

〔評価方法〕
（軟化温度）
測定対象の熱可塑性樹脂のペレットを、加熱プレスし、厚み０．０５ｍｍのフィルムを得た。但し、測定対象のペレットが複数種類のペレットからなる混合ペレットである場合は、それを二軸押出機にて溶融し、混練し、ペレットに成形し、これを加熱プレスに供した。
得られたフィルムを切り出し、５ｍｍ×２０ｍｍの形状の試料とし、これをＴＭＡ（熱機械的分析）に供した。測定装置としては、ＴＭＡ／ＳＳ７１００（エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製）を用いた。ＴＭＡにおいては、試料の長手方向に５０ｍＮの張力を加えた状態で、温度を変化させた。線膨張が３％変化した時の温度（℃）を、軟化温度Ｔｓとした。

（動的粘弾性）
測定対象の熱可塑性樹脂のペレットを、加熱プレスし、厚み２ｍｍのシートを得た。但し、測定対象のペレットが複数種類のペレットからなる混合ペレットである場合は、それを二軸押出機にて溶融し、混練し、ペレットに成形し、これを加熱プレスに供した。
得られたシートを試料とし、これを動的粘弾性の測定に供した。測定装置としては、ＴＡインスツルメント社製の歪制御型粘弾性測定装置（パラレルプレート方式）を用いた。測定条件は、昇温速度５℃／ｍｉｎ、周波数１ｒａｄ／ｓｅｃとした。かかる測定により、貯蔵弾性率Ｇ’及び損失弾性率Ｇ”の温度分散を得た。これを元に、Ｔｓ＋９０℃におけるＧ’及びＧ”を求めた。

（伸長粘度）
測定対象の熱可塑性樹脂のペレットを、加熱プレスし、厚み０．５ｍｍのシートを得た。但し、測定対象のペレットが複数種類のペレットからなる混合ペレットである場合は、それを二軸押出機にて溶融し、混練し、ペレットに成形し、これを加熱プレスに供した。
得られたシートを切り出し、５ｍｍ×１５ｍｍの形状の試料とし、伸長粘度の測定に供した。測定装置としては、Ａｎｔｏｎ ｐａａｒ製レオメーター ＭＣＲ３０２を用いた。測定条件は、温度Ｔｓ＋８０℃、ひずみ速度１ｓ^－１とした。伸長ひずみと伸長粘度（Ｐａ・ｓ）との関係を求め、伸長ひずみ１又はそれに近い値における伸長ひずみ及び伸長粘度の値、並びに伸長ひずみ２又はそれに近い値における伸長ひずみ及び伸長粘度の値から、伸長粘度の傾き（η｜_ε＝２－η｜_ε＝１）を求めた。

（正面位相差Ｒｅ及び厚み方向の位相差Ｒｔｈ）
光学フィルムの正面位相差Ｒｅ及び厚み方向の位相差の絶対値｜Ｒｔｈ｜を、波長５９０ｎｍにて測定した。測定装置としては、位相差測定装置（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃ社製 製品名「Ａｘｏｓｃａｎ」）を用いた。ドローレゾナンスにより膜厚が周期的に変動したため、膜厚の周期が観察される範囲で観察を行い、その平均値を、光学フィルムの正面位相差Ｒｅ及び厚み方向の位相差Ｒｔｈとした。

（膜厚）
搬送される長尺の光学フィルムの幅方向中央部の膜厚を連続的に測定した。測定装置としては、ケー・エス・イー社製の二次元膜厚計を用いた。膜厚の周期が観察される範囲で観察を行い、当該周期における最大厚みｔ_ｍａｘ、最小厚みｔ_ｍｉｎ、平均厚みｔ_ａｖｅを求めた。これらを元に、下式に従い膜厚ムラ（％）を算出した。
膜厚ムラ（％）＝（（ｔ_ｍａｘ－ｔ_ｍｉｎ）／ｔ_ａｖｅ）×１００

〔製造例１〕
（Ｐ１－１．ブロック共重合体［Ｆ１］）
攪拌装置を備え、内部が十分に窒素置換された反応器に、脱水シクロヘキサン２７０部、脱水スチレン７５部及びジブチルエーテル７．０部を入れた。全容を６０℃で攪拌しながら、ｎ－ブチルリチウム（１５％シクロヘキサン溶液）５．６部を加えて重合を開始させた。引続き全容を６０℃で６０分間攪拌した。反応温度は、反応停止まで６０℃を維持した。この時点（重合第１段階）で反応液をＧＣ（ガスクロマトグラフィー）及びＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）により分析した結果、重合転化率は９９．４％であった。

次に、反応液に、脱水イソプレン１５部を４０分間に亘って連続的に添加し、添加終了後そのまま３０分間攪拌を続けた。この時点（重合第２段階）で、反応液をＧＣ及びＧＰＣにより分析した結果、重合転化率は９９．８％であった。
その後、更に、反応液に脱水スチレン１０部を、３０分間に亘って連続的に添加し、添加終了後そのまま３０分攪拌した。この時点（重合第３段階）で、反応液をＧＣ及びＧＰＣにより分析した結果、重合転化率はほぼ１００％であった。

ここで、イソプロピルアルコール１．０部を加えて反応を停止させることによって、［Ｄａ］－［Ｅ］－［Ｄｂ］型のブロック共重合体［Ｆ１］を含む重合体溶液を得た。得られたブロック共重合体［Ｆ１］においては、Ｍｗ［Ｆ１］＝８２，４００、Ｍｗ／Ｍｎは１．３２、ｗＡ：ｗＢ＝８５：１５であった。

（Ｐ１－２．水素化ブロック共重合体［Ｇ１］）
（Ｐ１－１）で得た重合体溶液を、攪拌装置を備えた耐圧反応器に移送し、水素化触媒として、珪藻土担持型ニッケル触媒（製品名「Ｅ２２Ｕ」、ニッケル担持量６０％、日揮触媒化成社製）４．０部、及び脱水シクロヘキサン３０部を添加して混合した。反応器内部を水素ガスで置換し、さらに溶液を攪拌しながら水素を供給し、温度１９０℃、圧力４．５ＭＰａにて６時間水素化反応を行った。
水素化反応により得られた反応溶液には、水素化ブロック共重合体［Ｇ１］が含まれていた。水素化ブロック共重合体のＭｗ［Ｇ１］は７１，８００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．３０、水素化率はほぼ１００％であった。

水素化反応終了後、反応溶液を濾過して水素化触媒を除去した後、フェノール系酸化防止剤であるペンタエリスリチル・テトラキス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（製品名「ＡＯ６０」、ＡＤＥＫＡ社製）０．３部を溶解したキシレン溶液２．０部を添加して溶解し、溶液とした。
次いで、上記溶液を、円筒型濃縮乾燥器（製品名「コントロ」、日立製作所社製）を用いて、温度２６０℃、圧力０．００１ＭＰａ以下で処理し、溶液からシクロヘキサン、キシレン及びその他の揮発成分を除去し、溶融した樹脂を得た。これをダイからストランド状に押出し、冷却し、ペレタイザーによりペレットに成形した。これにより、水素化ブロック共重合体［Ｇ１］を含む、樹脂［Ｇ１］のペレット９５部を製造した。
得られた樹脂［Ｇ１］における水素化ブロック共重合体［Ｇ１］は、Ｍｗ［Ｇ１］＝６８，５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３０、Ｔｓ＝１３９℃であった。

〔製造例２〕
（Ｐ２－１．ブロック共重合体［Ｆ２］）
攪拌装置を備え、内部が十分に窒素置換された反応器に、脱水シクロヘキサン２７０部、脱水スチレン７０部及びジブチルエーテル７．０部を入れた。全容を６０℃で攪拌しながら、ｎ－ブチルリチウム（１５％シクロヘキサン溶液）５．６部を加えて重合を開始させた。引続き全容を６０℃で６０分間攪拌した。反応温度は、反応停止まで６０℃を維持した。この時点（重合第１段階）で反応液をＧＣ及びＧＰＣにより分析した結果、重合転化率は９９．４％であった。

次に、反応液に、脱水イソプレン２０部を４０分間に亘って連続的に添加し、添加終了後そのまま３０分間攪拌を続けた。この時点（重合第２段階）で、反応液をＧＣ及びＧＰＣにより分析した結果、重合転化率は９９．８％であった。
その後、更に、反応液に脱水スチレン１０部を、３０分間に亘って連続的に添加し、添加終了後そのまま３０分攪拌した。この時点（重合第３段階）で、反応液をＧＣ及びＧＰＣにより分析した結果、重合転化率はほぼ１００％であった。

ここで、イソプロピルアルコール１．０部を加えて反応を停止させることによって、［Ｄａ］－［Ｅ］－［Ｄｂ］型のブロック共重合体［Ｆ２］を含む重合体溶液を得た。得られたブロック共重合体［Ｆ２］においては、Ｍｗ［Ｆ２］＝８３，４００、Ｍｗ／Ｍｎは１．３２、ｗＡ：ｗＢ＝８０：２０であった。

（Ｐ２－２．水素化ブロック共重合体［Ｇ２］）
（Ｐ２－１）で得た重合体溶液を、攪拌装置を備えた耐圧反応器に移送し、水素化触媒として、珪藻土担持型ニッケル触媒（製品名「Ｅ２２Ｕ」、ニッケル担持量６０％、日揮触媒化成社製）４．０部、及び脱水シクロヘキサン３０部を添加して混合した。反応器内部を水素ガスで置換し、さらに溶液を攪拌しながら水素を供給し、温度１９０℃、圧力４．５ＭＰａにて６時間水素化反応を行った。
水素化反応により得られた反応溶液には、水素化ブロック共重合体［Ｇ２］が含まれていた。水素化ブロック共重合体［Ｇ２］のＭｗ［Ｇ２］は７２，８００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．３０、水素化率はほぼ１００％であった。

水素化反応終了後、反応溶液を濾過して水素化触媒を除去した後、フェノール系酸化防止剤であるペンタエリスリチル・テトラキス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（製品名「ＡＯ６０」、ＡＤＥＫＡ社製）０．３部を溶解したキシレン溶液２．０部を添加して溶解し、溶液とした。
次いで、上記溶液を、円筒型濃縮乾燥器（製品名「コントロ」、日立製作所社製）を用いて、温度２６０℃、圧力０．００１ＭＰａ以下で処理し、溶液からシクロヘキサン、キシレン及びその他の揮発成分を除去し、溶融した樹脂を得た。これをダイからストランド状に押出し、冷却し、ペレタイザーによりペレットに成形した。これにより、水素化ブロック共重合体［Ｇ２］を含む、樹脂［Ｇ２］のペレット９５部を製造した。
得られた樹脂［Ｇ２］における水素化ブロック共重合体［Ｇ２］は、Ｍｗ［Ｇ２］＝６９，５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３０、Ｔｓ＝１３８℃であった。

〔製造例３〕
（Ｐ３－１．ブロック共重合体［Ｆ３］）
十分に乾燥し窒素置換した、攪拌装置を備えたステンレス鋼製反応器に、脱水シクロヘキサン２５６部、脱水スチレン２５．０部、及びｎ－ジブチルエーテル０．６５部を仕込み、６０℃で攪拌しながらｎ－ブチルリチウム（１５％シクロヘキサン溶液）１．３５部を添加して重合反応を開始した。さらに、攪拌しながら６０℃で６０分反応させた。この時点での重合転化率は９９．５％であった（ガスクロマトグラフィーにより測定、以下にて同じ。）。次に、脱水イソプレン５０．０部を加え、同温度で３０分攪拌を続けた。この時点での重合転化率は９９％であった。その後、更に、脱水スチレンを２５．０部加え、同温度で６０分攪拌した。この時点での重合転化率はほぼ１００％であった。次いで、反応液にイソプロピルアルコール０．５部を加えて反応を停止させ、ブロック共重合体［Ｆ３］を含む重合反応溶液を得た。得られたブロック共重合体［Ｆ３］の重量平均分子量（Ｍｗ）は４４，９００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０３であった。

（Ｐ３－２．水素化ブロック共重合体［Ｇ３］）
（Ｐ３－１）で得た重合反応溶液を、攪拌装置を備えた耐圧反応器に移送し、水素化触媒としてシリカ－アルミナ担持型ニッケル触媒（Ｅ２２Ｕ、ニッケル担持量６０％；日揮化学工業社製）４．０部及び脱水シクロヘキサン３５０部を添加して混合した。反応器内部を水素ガスで置換し、さらに溶液を攪拌しながら水素を供給し、温度１７０℃、圧力４．５ＭＰａにて６時間水素化反応を行った。

水素化反応終了後、反応溶液をろ過して水素化触媒を除去した。ろ液に、フェノール系酸化防止剤であるペンタエリスリチル・テトラキス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（コーヨ化学研究所社製、製品名「Ｓｏｎｇｎｏｘ１０１０」）０．１部を溶解したキシレン溶液１．０部を添加して溶解させた。次いで、上記溶液を、円筒型濃縮乾燥器（日立製作所社製、製品名「コントロ」）を用いて、温度２６０℃、圧力０．００１ＭＰａ以下で、溶液から溶媒であるシクロヘキサン、キシレン及びその他の揮発成分を除去した。連続して溶融ポリマーを、濃縮乾燥器に連結した孔径２０μｍのステンレス製焼結フィルターを備えたポリマーフィルター（富士フィルター社製）により、温度２６０℃でろ過した後、ダイから溶融ポリマーをストランド状に押出し、冷却後、ペレタイザーによりペレットに成形した。これにより水素化ブロック共重合体［Ｇ３］を含む、樹脂［Ｇ３］のペレットを得た。

得られた水素化ブロック共重合体［Ｇ３］は、スチレン由来の繰り返し単位を含有するブロック（Ｓｔ）、及びイソプレン由来の繰り返し単位を含有するブロック（Ｉｐ）からなる３元ブロック共重合体であり、それぞれのブロックの重量比は、Ｓｔ：Ｉｐ：Ｓｔ＝２５：５０：２５であった。該水素化ブロック共重合体［Ｇ３］のＭｗは４５，１００、Ｍｗ／Ｍｎは１．０４、主鎖及び芳香環の水素化率はほぼ１００％であった。

〔実施例１〕
（１－１．熱可塑性樹脂）
製造例１で得た樹脂［Ｇ１］のペレット８０部と、製造例３で得た樹脂［Ｇ３］のペレット２０部とを混合し、混合ペレットを得た。この混合ペレットについて、軟化温度、動的粘弾性及び伸長粘度を測定した。

（１－２．光学フィルム）
（１－１）で得た混合ペレットを、押出機（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｓｙｓｔｅｍ社製）において加熱し溶融させ、その状態でフィルムの形状に押出すことにより押出成形を行った。これにより、厚さ４０μｍの長尺の光学フィルムを、連続的に形成した。形成した光学フィルムは、巻取り軸に巻き取り、フィルムロールを得た。巻取り軸に巻き取る直前において搬送される光学フィルムの位相差及び膜厚を測定し、Ｒｅ、Ｒｔｈ及び膜厚ムラを求めた。

〔実施例２〕
製造例１で得た樹脂［Ｇ１］のペレットに代えて、製造例２で得た樹脂［Ｇ２］のペレットを用いた他は、実施例１と同じ操作により、光学フィルムを得て評価した。

〔比較例１〕
混合ペレットに代えて、製造例１で得た樹脂［Ｇ１］のペレットをそのまま用いた他は、実施例１と同じ操作により、光学フィルムを得て評価した。

〔比較例２〕
混合ペレットに代えて、製造例２で得た樹脂［Ｇ２］のペレットをそのまま用いた他は、実施例１と同じ操作により、光学フィルムを得て評価した。

〔比較例３〕
混合ペレットを構成する、樹脂［Ｇ１］のペレットの割合を９０部、及び樹脂［Ｇ３］のペレットの割合を１０部に変更した他は、実施例１と同じ操作により、光学フィルムを得て評価した。

〔比較例４〕
混合ペレットを構成する、樹脂［Ｇ２］のペレットの割合を９０部、及び樹脂［Ｇ３］のペレットの割合を１０部に変更した他は、実施例２と同じ操作により、光学フィルムを得て評価した。

〔比較例５〕
混合ペレットに代えて非晶性の脂環式構造含有重合体を含む樹脂Ｇ４（日本ゼオン社製、Ｔｓ＝１２８℃）のペレットを用いた他は、実施例１と同じ操作により、光学フィルムを得て評価した。

実施例及び比較例の結果を表１に示す。

※ブレンド比：対称性が低いトリブロック共重合体（共重合体［Ｇ１］又は［Ｇ２］）と、対称性が高いトリブロック共重合体（共重合体［Ｇ３］）との比率。

実施例及び比較例の結果から明らかな通り、複数種類の重合体の配合により本発明の要件を満たすＧ”／Ｇ’及び伸長粘度の傾きを得た実施例１及び実施例２の光学フィルムは、比較例の光学フィルムに比べて、低い位相差と抑制された膜厚ムラとを両立した光学フィルムとすることができた。

Claims (4)

1. 熱可塑性樹脂からなる光学フィルムであって、
   前記熱可塑性樹脂は、
   環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］を主成分とする、１分子あたり２つ以上の重合体ブロック［Ｄ］と、
   鎖状炭化水素化合物水素化物単位［ＩＩ］、又は前記単位［Ｉ］及び前記単位［ＩＩ］の組み合わせを主成分とする１分子あたり１つ以上の重合体ブロック［Ｅ］と
   を含む水素化ブロック共重合体［Ｇ］を含み、
   前記熱可塑性樹脂は、式（１）又は式（２）を満たす、光学フィルム：
   Ｇ”／Ｇ’＞０．９５ 式（１）
   （η｜_ε＝２－η｜_ε＝１）＞－１．０×１０^４Ｐａ・ｓ 式（２）
   但しＧ’は前記熱可塑性樹脂の貯蔵弾性率であり、Ｇ”は前記熱可塑性樹脂の損失弾性率であり、
   前記貯蔵弾性率及び損失弾性率は、Ｔｓ＋９０℃、１ｒａｄ／ｓｅｃの条件で測定された値であり、
   （η｜_ε＝２－η｜_ε＝１）は前記熱可塑性樹脂の伸長粘度の傾きであり、前記伸長粘度は、Ｔｓ＋８０℃、１ｓ^－１の条件で測定された値であり、
   ＴｓはＴＭＡにより測定した前記熱可塑性樹脂の軟化温度である。
2. 正面位相差Ｒｅおよび厚み方向の位相差の絶対値｜Ｒｔｈ｜がともに３ｎｍ以下である、請求項１に記載の光学フィルム。
3. 前記環式炭化水素基含有化合物水素化物単位［Ｉ］が芳香族ビニル化合物水素化物単位であり、
   前記鎖状炭化水素化合物水素化物単位［ＩＩ］が共役ジエン化合物水素化物単位である、請求項１または２に記載の光学フィルム。
4. 前記水素化ブロック共重合体［Ｇ］は、１分子あたり１つの前記重合体ブロック［Ｅ］と、その両端に連結された１分子当たり２つの前記重合体ブロック［Ｄ］とを有するトリブロック分子構造を有するトリブロック共重合体であり、
   前記トリブロック共重合体が、対称性の低いトリブロック共重合体［Ｇ _Ｘ ］及び対称性の高いトリブロック共重合体［Ｇ _Ｙ ］を含み、
   前記トリブロック共重合体［Ｇ _Ｘ ］は、前記重合体ブロック［Ｄ］としてのブロック［Ｄａ _Ｘ ］及び［Ｄｂ _Ｘ ］、並びに前記重合体ブロック［Ｅ］としてのブロック［Ｅ _Ｘ ］を含むトリブロック共重合体［Ｄａ _Ｘ ］－［Ｅ _Ｘ ］－［Ｄｂ _Ｘ ］であり、前記ブロック［Ｄａ _Ｘ ］及び［Ｄｂ _Ｘ ］の重量比Ｄａ _Ｘ ／Ｄｂ _Ｘ が、３以上１１以下であり、
   前記トリブロック共重合体［Ｇ _Ｙ ］は、前記重合体ブロック［Ｄ］としてのブロック［Ｄａ _Ｙ ］及び［Ｄｂ _Ｙ ］、並びに前記重合体ブロック［Ｅ］としてのブロック［Ｅ _Ｙ ］を含むトリブロック共重合体［Ｄａ _Ｙ ］－［Ｅ _Ｙ ］－［Ｄｂ _Ｙ ］であり、前記ブロック［Ｄａ _Ｙ ］及び［Ｄｂ _Ｙ ］の重量比Ｄａ _Ｙ ／Ｄｂ _Ｙ は、１以上３未満である、請求項１～３のいずれか一項に記載の光学フィルム。