JP7088458B2 - ３次元造形物の形成方法 - Google Patents
３次元造形物の形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7088458B2 JP7088458B2 JP2020033174A JP2020033174A JP7088458B2 JP 7088458 B2 JP7088458 B2 JP 7088458B2 JP 2020033174 A JP2020033174 A JP 2020033174A JP 2020033174 A JP2020033174 A JP 2020033174A JP 7088458 B2 JP7088458 B2 JP 7088458B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dimensional model
- forming
- model according
- water
- support
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 41
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 40
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 claims description 19
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- -1 Irgacure 819 Chemical compound 0.000 claims description 15
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 15
- 238000010146 3D printing Methods 0.000 claims description 14
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 14
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical group OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 claims description 10
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 claims description 10
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 claims description 10
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 claims description 10
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 6
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 5
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WHNPOQXWAMXPTA-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-enamide Chemical compound CC(C)=CC(N)=O WHNPOQXWAMXPTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxybutan-1-ol Chemical compound OCCCCOC=C HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 4
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 3
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 claims description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 3
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 claims description 3
- SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trifluoro-5-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC(F)=C(F)C=C1F SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOCCOC=C CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MWZJGRDWJVHRDV-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(ethenoxy)butane Chemical compound C=COCCCCOC=C MWZJGRDWJVHRDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LAYAKLSFVAPMEL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxydodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC=C LAYAKLSFVAPMEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WVXLLHWEQSZBLW-UHFFFAOYSA-N 2-(4-acetyl-2-methoxyphenoxy)acetic acid Chemical compound COC1=CC(C(C)=O)=CC=C1OCC(O)=O WVXLLHWEQSZBLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DSSAWHFZNWVJEC-UHFFFAOYSA-N 3-(ethenoxymethyl)heptane Chemical compound CCCCC(CC)COC=C DSSAWHFZNWVJEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SURLGNKAQXKNSP-DBLYXWCISA-N chlorin Chemical compound C\1=C/2\N/C(=C\C3=N/C(=C\C=4NC(/C=C\5/C=CC/1=N/5)=CC=4)/C=C3)/CC\2 SURLGNKAQXKNSP-DBLYXWCISA-N 0.000 claims description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 2
- SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOC=C SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 33
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 33
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 17
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 15
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 9
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 9
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YSDVERQJWQAOEO-UHFFFAOYSA-N 1-phosphanylprop-2-en-1-one Chemical compound PC(=O)C=C YSDVERQJWQAOEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LOLKAJARZKDJTD-UHFFFAOYSA-N 4-Ethoxy-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCOC(=O)CCC(O)=O LOLKAJARZKDJTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005011 alkyl ether group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLDZVCMRASJQFO-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)benzene-1,4-diol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC(O)=C(C(C)(C)CC(C)(C)C)C=C1O CLDZVCMRASJQFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHUWKKIRCLKYNJ-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(2-methylpentan-2-yl)benzene-1,4-diol Chemical compound CCCC(C)(C)C1=CC(O)=C(C(C)(C)CCC)C=C1O ZHUWKKIRCLKYNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWAUXRVRDGKTTA-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylpentan-2-yl)benzene-1,4-diol Chemical compound CCCC(C)(C)C1=CC(O)=CC=C1O WWAUXRVRDGKTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWHRFHQRVDUPIK-UHFFFAOYSA-N 50867-57-7 Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O RWHRFHQRVDUPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004322 Butylated hydroxytoluene Substances 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012356 Product development Methods 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical group CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- KGQLBLGDIQNGSB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diol;methoxymethane Chemical compound COC.OC1=CC=C(O)C=C1 KGQLBLGDIQNGSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- 229940095259 butylated hydroxytoluene Drugs 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002860 competitive effect Effects 0.000 description 1
- QPOIJJUKCPCQIV-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 QPOIJJUKCPCQIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- PSYUBHDPOIZRST-UHFFFAOYSA-N ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(O)=C PSYUBHDPOIZRST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XKLJHFLUAHKGGU-UHFFFAOYSA-N nitrous amide Chemical compound ON=N XKLJHFLUAHKGGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/40—Structures for supporting 3D objects during manufacture and intended to be sacrificed after completion thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D207/18—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D207/22—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D207/24—Oxygen or sulfur atoms
- C07D207/26—2-Pyrrolidones
- C07D207/263—2-Pyrrolidones with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to other ring carbon atoms
- C07D207/267—2-Pyrrolidones with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to other ring carbon atoms with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
- B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
- B29C64/112—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using individual droplets, e.g. from jetting heads
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C67/00—Shaping techniques not covered by groups B29C39/00 - B29C65/00, B29C70/00 or B29C73/00
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y10/00—Processes of additive manufacturing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y40/00—Auxiliary operations or equipment, e.g. for material handling
- B33Y40/20—Post-treatment, e.g. curing, coating or polishing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y50/00—Data acquisition or data processing for additive manufacturing
- B33Y50/02—Data acquisition or data processing for additive manufacturing for controlling or regulating additive manufacturing processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y70/00—Materials specially adapted for additive manufacturing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C225/00—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones
- C07C225/02—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
- C07C225/04—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being saturated
- C07C225/06—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being saturated and acyclic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C233/00—Carboxylic acid amides
- C07C233/01—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
- C07C233/02—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having nitrogen atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals
- C07C233/09—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having nitrogen atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals with carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of an acyclic unsaturated carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
- C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
- C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D251/26—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hetero atoms directly attached to ring carbon atoms
- C07D251/30—Only oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/30—Inkjet printing inks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2033/00—Use of polymers of unsaturated acids or derivatives thereof as moulding material
- B29K2033/04—Polymers of esters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2105/00—Condition, form or state of moulded material or of the material to be shaped
- B29K2105/0002—Condition, form or state of moulded material or of the material to be shaped monomers or prepolymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2995/00—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds
- B29K2995/0037—Other properties
- B29K2995/0059—Degradable
- B29K2995/0062—Degradable water-soluble
Description
本願は、２０１５年１１月３日付の韓国特許出願第１０－２０１５－０１５３９６３号に基づいた優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示されたあらゆる内容は、本明細書の一部として含まれる。
本発明は、３次元造形物の形成方法に関する。
現在、製品生産において、無限競争市場の多様な要求に迅速に応じるために、３Ｄプリンティング技術が急速に広がっている。これは、企業が３Ｄプリンティング技術を採択することによって、製品の開発工程のうち、可能な限り早期に技術的な問題を解決して、コスト削減と共に概念設計から完成品生産に至る過程を最小化することができるためである。インクジェット技術によって３次元造形物を形成する技術は、非常に薄いレイヤで製品の形状を精密に具現することができて、各産業分野で要求する技術と用途とによって非常に容易に適用することができるという長所がある。
前記インクジェット技術によって３次元造形物を形成する場合、主材料である構造体インクの以外に支持体インクを共に使わなければならないが、支持体インクは、空中に浮かんでいる形態の構造物を作る時、下側部分に臨時に形成して、支持役割をしながら今後にはきれいに除去されなければならない。
従来、３次元造形物を作った後、支持体部分を手で除去し、残った部分を手やウォータージェット（ｗａｔｅｒ ｊｅｔ）でいちいち除去しなければならないので、非常に煩わしく生産性が低下し、経済的ではないという問題点があった。これにより、支持体を手作業で除去せずに、容易に除去することができる方法が必要な実情である。
本発明の目的は、前記のような従来技術の問題点を解決するためのものであって、インクジェット方式で３次元造形物製造時に、構造体の損傷なしに支持体を除去することができて、簡便かつ経済的に３次元造形物を製造することができる３次元造形物の形成方法を提供するところにある。
前記のような課題を解決するために、本発明は、ａ）複数のレイヤを積層して構造体及び支持体を含む３次元造形物を形成する段階と、ｂ）前記支持体を水、または水及び極性有機溶媒の混合溶液で溶解させて支持体を除去する段階と、を含む３次元造形物の形成方法を提供する。
本発明によれば、インクジェット方式によって３次元造形物製造時に、構造体の損傷なしに支持体を除去することができて、簡便かつ経済的に３次元造形物を製造することができるという長所がある。
本発明は、３次元造形物の形成方法に関するものであって、以下、前記形成方法を各段階別に詳細に説明する。
まず、ａ）複数のレイヤを積層して構造体及び支持体を含む３次元造形物を形成する段階を行う。
前記ａ）段階は、３次元造形物を形成する構造体インクと支持体インクとをインクジェットプリンティング（ｉｎｋｊｅｔ ｐｒｉｎｔｉｎｇ）して、構造体及び支持体を含む３次元造形物を形成する段階であって、３次元造形物形成時に、光量を調節することができるが、例えば、下層を形成する時は、光量を減らして硬化反応速度を遅延させ、硬化収縮を減らし、上層に上がるほど光量を強くして硬化させることができる。
前記ａ）段階は、光硬化性樹脂を非常に薄い層に噴射して薄い壁とオーバーハング、そして、動作パートを含んだ３次元造形物を精密にプリンティングする段階である。各層は、構造体インク組成物と支持体インク組成物とが共に噴射され、支持体インク組成物は、オーバーハング、キャビティ、ホールなどの形状を可能にする。プリンティングヘッドは、Ｘ軸とＹ軸とに移動し、造形板上にインク組成物を噴射する。一層のインク組成物が噴射されれば、ヘッド左右にある紫外線ランプによって、即時構造体インク組成物と支持体インク組成物は、硬化される。次の層の噴射のために、造形板が下に下がり、同じ作業が反復されて最終３次元造形物を形成する。
本発明の一実施例において、前記構造体は、アクリル系光硬化性樹脂、硬化剤、重合防止剤及び感光剤を含む構造体インク組成物の硬化段階を通じて製造可能であり、望ましくは、前記アクリル系光硬化性樹脂は、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、ｄｉｐｅｎｔａｅｒｙｔｈｒｉｔｏｌ ｈｅｘａａｃｒｙｌａｔｅ）、トリプロピレングリコールジアクリレート（ＴＰＧＤＡ、Ｔｒｉｐｒｏｐｙｌｅｎｅ Ｇｌｙｃｏｌ Ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ）、トリメチルプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、Ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｏｌｐｒｏｐａｎｅ ｔｒｉａｃｒｙｌａｔｅ）、イソボルニルアクリレート（Ｉｓｏｂｏｒｎｙｌ Ａｃｒｙｌａｔｅ）、ベンジルアクリレート（Ｂｅｎｚｙｌ Ａｃｒｙｌａｔｅ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（１，６－Ｈｅｘａｎｅｄｉｏｌ Ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ）、トリエチレングリコールジアクリレート（Ｔｒｉｅｔｈｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ Ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ）、ビスフェノールＡ（ＥＯ）４ジアクリレート（Ｂｉｓｐｈｅｎｏｌ Ａ（ＥＯ）４ Ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ）、グリセリン（ＰＯ３）トリアクリレート（Ｇｌｙｃｅｒｉｎｅ（ＰＯ）３ Ｔｒｉａｃｒｙｌａｔｅ）、及びペンタエリスリトールテトラアクリレート（Ｐｅｎｔａｅｒｙｔｈｒｉｔｏｌ Ｔｅｔｒａａｃｒｙｌａｔｅ）からなる群から選択される１種以上であり得るが、これらに限定されるものではない。
本発明の一実施例において、前記硬化剤は、硬化方式によって多様なものを使用し、当該技術分野で使用するものであれば、特に制限はない。前記硬化剤の具体例として、光開始剤を使用することができる。前記光開始剤としては、使用する光源に合わせて当該技術分野で使用するものであれば、特に制限はないが、望ましくは、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ８１９（Ｂｉｓａｃｒｙｌ ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ系）、Ｄａｒｏｃｕｒ ＴＰＯ（Ｍｏｎｏａｃｒｙｌ ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ系）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ３６９（α－ａｍｉｎｏｋｅｔｏｎｅ系）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４（α－ｈｙｄｒｏｘｙｋｅｔｏｎｅ系）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ９０７（α－ａｍｉｎｏｋｅｔｏｎｅ系）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ２０２２（Ｂｉｓａｃｒｙｌ ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）／α－ｈｙｄｒｏｘｙｋｅｔｏｎｅ系）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ２１００（Ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ ｏｘｉｄｅ系）、またはこれと類似した構造の光開始剤のような常用品を使用することができるが、これらに限定されるものではない。
本発明の一実施例において、前記重合防止剤は、ニトロソアミン（Ｎｉｔｒｏｓｏａｍｉｎｅ）系及びヒドロキノン（Ｈｙｄｒｏｑｕｉｎｏｎｅ）系の重合防止剤からなる群から選択される１種以上であり、望ましくは、ヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＥＨＱ、Ｍｏｎｏｍｅｔｈｙｌ Ｅｔｈｅｒ Ｈｙｄｒｏｑｕｉｎｏｎｅ）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミン（Ｎ－ｎｉｔｒｏｓｏｐｈｅｎｙｌｈｙｄｒｏｘｙａｍｉｎｅ）、２，５－ビス（１，１，３，３－テトラメチルブチル）ヒドロキノン（２，５－Ｂｉｓ（１，１，３，３－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｂｕｔｙｌ）ｈｙｄｒｏｑｕｉｎｏｎｅ）、２，５－ビス（１，１－ジメチルブチル）ヒドロキノン（２，５－Ｂｉｓ（１，１－ｄｉｍｅｔｈｙｌｂｕｔｙｌ）ｈｙｄｒｏｑｕｉｎｏｎｅ）、ニトロベンゼン（Ｎｉｔｒｏｂｅｎｚｅｎｅ）、ブチル化ヒドロキシトルエン（ｂｕｔｙｌａｔｅｄ ｈｙｄｒｏｘｙｌ ｔｏｌｕｅｎｅ）、及びジフェニルピクリルヒドラジル（ｄｉｐｈｅｎｙｌ ｐｉｃｒｙｌ ｈｙｄｒａｚｙｌ、ＤＰＰＨ）からなる群から選択される１種以上であり、さらに望ましくは、ヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＥＨＱ）であり得るが、これらに限定されるものではない。
本発明の他の一実施例において、前記感光剤は、ベンゾフェノン（ｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ）及びイソプロピルチオキサントン（Ｄａｒｏｃｕｒ ＩＴＸ、Ｉｓｏｐｒｏｐｙｌｔｈｉｏｘａｎｔｈｏｎｅ）からなる群から選択される１種以上であり、イソプロピルチオキサントン（Ｄａｒｏｃｕｒ ＩＴＸ）であることが望ましいが、これらに限定されるものではない。
本発明の一実施例において、さらに望ましくは、前記構造体は、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、トリメチルプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ビスアクリルホスフィン系硬化剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ ８１９）、イソプロピルチオキサントン（ＩＴＸ）及びヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＥＨＱ）を含む構造体インク組成物の硬化段階を通じて製造可能であるが、これらに限定されるものではない。
本発明の他の一実施例において、前記支持体は、アミン含有単量体及び硬化剤を含む３Ｄプリンティング支持体用インク組成物の硬化段階を通じて製造可能である。
前記アミン含有単量体は、当該技術分野で使用するものであれば、特に制限はないが、望ましくは、下記化学式１から化学式６のうち何れか１つ以上であるものを使用することができる。
まず、本発明のアミン含有単量体として、下記化学式１の化合物を使用することができる。
［化学式１］
［化学式１］
前記化学式１において、Ｒ１は、水素またはメチル基であり、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して水素、Ｃ１～Ｃ１０のアルキル基、ビニル基、アルコキシ基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、アルキルアミン基、アルキルエステル基またはアルキルエーテル基であり得る。
また、望ましくは、前記化学式１において、前記Ｒ２及びＲ３が、それぞれ独立して水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、
であり、
前記Ｒ'１は、ＣＨ２、ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ（ＣＨ２）ＣＨ２、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２またはＣ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２であり、Ｒ'２及びＲ'３は、それぞれ独立して水素、ＣＨ３、ＣＨ２ＣＨ３、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２、ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）３、ＣＨ（ＣＨ３）２、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ３または－ＣＨ＝ＣＨ２であり、
Ｒ''１は、ＣＨ２、ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ（ＣＨ２）ＣＨ２、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２またはＣ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２であり、Ｒ''２は、水素、ＣＨ３、ＣＨ２ＣＨ３、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２、ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）３、ＣＨ（ＣＨ３）２、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ３または－ＣＨ＝ＣＨ２であり得る。
前記Ｒ'１は、ＣＨ２、ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ（ＣＨ２）ＣＨ２、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２またはＣ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２であり、Ｒ'２及びＲ'３は、それぞれ独立して水素、ＣＨ３、ＣＨ２ＣＨ３、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２、ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）３、ＣＨ（ＣＨ３）２、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ３または－ＣＨ＝ＣＨ２であり、
Ｒ''１は、ＣＨ２、ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ（ＣＨ２）ＣＨ２、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２またはＣ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２であり、Ｒ''２は、水素、ＣＨ３、ＣＨ２ＣＨ３、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２、ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）３、ＣＨ（ＣＨ３）２、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ３または－ＣＨ＝ＣＨ２であり得る。
また、望ましくは、前記化学式１は、下記化学式１ａであり得る。
［化学式１ａ］
［化学式１ａ］
前記化学式１ａにおいて、前記Ｒ'１は、水素またはメチル基であり、Ｒ'２及びＲ'３は、それぞれ独立して水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチルまたは－ＣＨ＝ＣＨ２であり得る。
また、本発明のアミン含有単量体として、下記化学式２の化合物を使用することができる。
［化学式２］
［化学式２］
前記化学式２において、Ｒ'１及びＲ'２は、それぞれ独立して水素、Ｃ１～Ｃ１０のアルキル基、ビニル基、アルコキシ基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、アルキルアミン基、アルキルエステル基またはアルキルエーテル基であり、Ｒ'３は、水素またはメチル基であり得る。
また、望ましくは、前記化学式２において、前記Ｒ'１及びＲ'２は、それぞれ独立して水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、
であり得る。
また、本発明のアミン含有単量体として、下記化学式３の化合物を使用することができる。
［化学式３］
［化学式３］
前記化学式３において、Ｒ１は、水素またはメチル基であり、Ｒ２は、ＣＨ２、ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ（ＣＨ２）ＣＨ２、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２またはＣ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２であり、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、－ＣＨ＝ＣＨ２または－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ２であり得る。
また、本発明のアミン含有単量体として、下記化学式４の化合物を使用することができる。
［化学式４］
［化学式４］
前記化学式４において、ｎは、１～４の整数であり、Ａは、Ｃ、Ｏ、ＮまたはＳであり、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して水素またはＣ１～Ｃ１０のアルキル基であり、Ｒ４は、－ＣＨ＝ＣＨ２、
であり得る。
また、望ましくは、前記化学式４は、
であり得る。
また、本発明のアミン含有単量体として、下記化学式５、化学式６または化学式７の化合物を使用することができる。
［化学式５］
［化学式６］
［化学式７］
。
［化学式５］
前記アミン含有単量体は、本発明のインク組成物全体重量を基準に１０～９９．９重量％で含まれうる。前記アミン含有単量体の包含量が、１０重量％未満であれば、支持体を除去する時、水に対する溶解特性が十分ではない問題があり、９９．９重量％を超過すれば、硬化特性が悪くなるという問題がある。
前記３Ｄプリンティング支持体用インク組成物は、硬化剤を含む。前記３Ｄプリンティング支持体用インク組成物は、硬化剤を含むことによって、多様な硬化方式を通じた硬化工程に用いられる。
本発明の一実施例において、前記硬化剤は、硬化方式によって多様なものを使用し、当該技術分野で使用するものであれば、特に制限はない。前記硬化剤の具体例として、光開始剤を使用することができる。前記光開始剤としては、使用する光源に合わせて当該技術分野で使用するものであれば、特に制限はないが、望ましくは、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ８１９（Ｂｉｓａｃｒｙｌ ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ系）、Ｄａｒｏｃｕｒ ＴＰＯ（Ｍｏｎｏａｃｒｙｌ ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ系）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ３６９（α－ａｍｉｎｏｋｅｔｏｎｅ系）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４（α－ｈｙｄｒｏｘｙｋｅｔｏｎｅ系）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ９０７（α－ａｍｉｎｏｋｅｔｏｎｅ系）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ２０２２（Ｂｉｓａｃｒｙｌ ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ／α－ｈｙｄｒｏｘｙｋｅｔｏｎｅ系）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ２１００（Ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ ｏｘｉｄｅ系）、Ｄａｒｏｃｕｒ ＩＴＸ（ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ ｔｈｉｏｘａｎｔｈｏｎｅ）またはこれと類似した構造の光開始剤のような常用品を使用することができる。
本発明の一実施例において、前記硬化剤は、本発明のインク組成物全体重量を基準に０．０１～２０重量％で含まれ、望ましくは、１～１０重量％で含まれうる。前記硬化剤の包含量が、０．０１重量％未満であれば、硬化が起こらないという問題があり、２０重量％を超過すれば、硬化感度が過度に上昇して、ヘッド（ｈｅａｄ）が詰まるという問題がある。
本発明の他の一実施例において、前記３Ｄプリンティング支持体用インク組成物は、ビニル基及びアクリレート基のうち何れか１つ以上を含む単量体をさらに含みうる。前記３Ｄプリンティング支持体用インク組成物は、ビニル基及びアクリレート基のうち何れか１つ以上を含む単量体を含むことによって、硬化感度を調節し、硬化物の強度（ゆるいか、堅い程度）のような特性を調節することができるという特性を有しうる。
本発明の一実施例において、前記ビニル基及びアクリレート基のうち何れか１つ以上を含む単量体は、当該技術分野で使用するものであれば、特に制限はないが、望ましくは、酢酸ビニル（Ｖｉｎｙｌ ａｃｅｔａｔｅ）、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（２－ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ（ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ）、２－ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート（２－ｈｙｄｒｏｘｙｍｅｔｈｙｌ（ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ）、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート（２－ｈｙｄｒｏｘｙｐｒｏｐｙｌ（ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ）、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート（４－ｈｙｄｒｏｘｙｂｕｔｙｌ（ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ）、エチル－２－ヒドロキシアクリレート（Ｅｔｈｙｌ－２－ｈｙｄｒｏｘｙａｃｒｙｌａｔｅ）、２－（アクリロイルオキシ）エチルヒドロゲンスクシネート（２－（Ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｅｔｈｙｌ ｈｙｄｒｏｇｅｎ ｓｕｃｃｉｎａｔｅ）、及びメタクリル酸（Ｍｅｔｈａｃｒｙｌｉｃ ａｃｉｄ）からなる群から選択される何れか１つ以上を使用することができる。
本発明の他の一実施例において、前記ビニル基及びアクリレート基のうち何れか１つ以上を含む単量体は、本発明のインク組成物全体重量を基準に０．１～８０重量％で含まれうる。前記ビニル基及びアクリレート基のうち何れか１つ以上を含む単量体の包含量が、０．１重量％未満であれば、単量体添加による十分な効果を得にくいという問題があり、８０重量％を超過すれば、硬化物が水に溶けないという問題がある。
本発明の一実施例において、前記３Ｄプリンティング支持体用インク組成物は、水溶性重合体をさらに含みうる。前記３Ｄプリンティング支持体用インク組成物は、前記水溶性重合体を含むことによって、インクの粘度を調節して、硬化物が水にさらに容易に溶けるようにする特性を有しうる。
本発明の他の一実施例において、前記水溶性重合体は、当該技術分野で使用するものであれば、特に制限はないが、望ましくは、下記化学式８ａから化学式８ｅからなる群から選択される何れか１つ以上を使用することができる。
［化学式８ａ］
［化学式８ｂ］
［化学式８ｃ］
［化学式８ｄ］
［化学式８ｅ］
（前記化学式８ａから化学式８ｅにおいて、ｎは、５０～２５，０００であり得る）。
［化学式８ａ］
本発明の一実施例において、前記水溶性重合体は、前記インク組成物全体重量を基準に０．１～３０重量％で含まれうる。前記水溶性重合体の包含量が、０．１重量％未満であれば、添加による溶解度上昇の効果が微小であり、３０重量％を超過すれば、インクの粘度が高くなって、ジェッティング（ｊｅｔｔｉｎｇ）が不可能であるという問題がある。
本発明の他の一実施例において、前記３Ｄプリンティング支持体用インク組成物は、ビニルエーテル化合物をさらに含みうる。前記３Ｄプリンティング支持体用インク組成物は、ビニルエーテル化合物を含むことによって、組成物の硬化時に収縮されることを防止することができる。
本発明の一実施例において、前記ビニルエーテル化合物は、特に制限はないが、望ましくは、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル（ＨＢＶＥ）、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、２－エチルヘキシルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル（ｄｉｅｔｈｙｌｅｎｅｇｌｙｃｏｌ ｄｉｖｉｎｙｌ ｅｔｈｅｒ）、１，４－シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、１，４－ブタンジオールジビニルエーテルなどを使用することができる。
本発明の他の一実施例において、前記ビニルエーテル化合物は、本発明のインク組成物全体重量を基準に０．１～５０重量％で含まれうる。前記ビニルエーテル化合物の包含量が、０．１重量％未満であれば、硬化時に、収縮現象に対する改善が微弱な問題があり、５０重量％を超過すれば、硬化時に、膜の硬度及び強度が弱くなり、硬化感度が減少するという問題がある。
本発明のさらに他の一実施例において、前記３Ｄプリンティング支持体用インク組成物は、前記組成以外に添加剤をさらに含みうる。前記含まれる添加剤としては、界面活性剤、可塑剤、重合防止剤、消泡剤、希釈剤、熱安定剤、粘度調節剤などがある。
前記添加剤は、経済的な側面で前記作用が起こりうる最小限の量を含み、望ましくは、インク組成物全体に対して０．１～５重量％で含まれうる。
本発明の一実施例において、望ましくは、前記支持体は、（メタ）アクリルアミド系単量体、ビニル系単量体、水溶性重合体及び硬化剤を含む支持体インク組成物の硬化段階を通じて製造可能であり、さらに望ましくは、ジメチルアクリルアミド、１－ビニル－２－ピロリドン（ＶＰ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）及びビスアクリルホスフィン（Ｂｉｓ ａｃｒｙｌ ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）系硬化剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ ８１９）を含む支持体インク組成物の硬化段階を通じて製造可能であるが、これらに限定されるものではない。
次いで、ｂ）前記支持体を水、または水及び極性有機溶媒の混合溶液で溶解させて支持体を除去する段階を行う。
前記ｂ）段階は、前記ａ）段階で生成した構造体及び支持体を含む３次元造形物を水、または水及び極性有機溶媒の混合溶液で溶解させて支持体を除去する段階である。
本発明の一実施例において、前記ｂ）段階遂行時に、前記水または水及び極性有機溶媒の混合溶液の温度は、２０℃～９０℃であることが望ましく、４０℃～６０℃であることがさらに望ましいが、これらに限定されるものではない。
常温でも、前記ｂ）段階を行うことができるが、より迅速な除去のために、溶液の温度を前記範囲内で高めることが望ましい。
本発明の他の一実施例において、前記ｂ）段階遂行時に、水または水及び極性有機溶媒の混合溶液を撹拌（ｓｔｉｒｒｉｎｇ）または超音波処理（ｓｏｎｉｃａｔｉｏｎ）する段階をさらに行って、支持体の除去速度を早くできる。
本発明の一実施例において、前記極性有機溶媒は、アルコール系、グリコール系、グリコールエーテル系、ケトン系、クロリン系、Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、及びアセトニトリルからなる群から選択される１種以上であり、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、クロロホルム、クロロベンゼン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、及びアセトニトリルからなる群から選択される１種以上であることが望ましいが、これらに限定されず、さらに望ましくは、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、及びエチレングリコールモノブチルエーテルからなる群から選択される１種以上であることが望ましいが、これらに限定されるものではない。
前記ｂ）段階で、極性有機溶媒単独使用でも支持体を除去することができるが、極性有機溶媒単独使用時に、構造体部分を共に溶かすか、スウェリング（ｓｗｅｌｌｉｎｇ）させる問題点があるために、前記のように水または水及び極性有機溶媒の混合溶液を使用することが望ましく、水及び極性有機溶媒の混合溶液の場合、水及びアルコール系の混合溶液であることが望ましい。
その次に、ｃ）支持体が除去された３次元造形物の乾燥段階をさらに含みうるが、これに限定されるものではない。
本発明の一実施例において、前記ｃ）段階の乾燥は、自然乾燥または乾燥手段による乾燥であり、自然乾燥であることが望ましく、前記乾燥手段は、熱風機、オーブン及びヒートガン（ｈｅａｔ ｇｕｎ）からなる群から選択される１種以上であり得るが、可能な乾燥手段であれば、その種類に限定がない。
以下、本発明を非限定的な実施例によってさらに詳細に説明する。下記に開示される本発明の実施形態は、あくまでも例示であって、本発明の範囲は、これらの実施形態に限定されるものではない。本発明の範囲は、特許請求の範囲に表示され、さらに特許請求の範囲の記録と均等な意味及び範囲内でのあらゆる変更を含有している。また、以下の実施例、比較例で含有量を示す"％"及び"部"は、特に言及しない限りに質量基準である。
実施例
実施例１
ａ）複数のレイヤを積層して構造体及び支持体を含む３次元造形物を形成する段階
ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）８ｇ、トリメチルプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）６８．５ｇ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ８１９ ３．５ｇ、イソプロピルチオキサントン（ＩＴＸ）１ｇ、及びヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＥＨＱ）０．５ｇを混合して、構造体インク組成物を製造した。
ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）８ｇ、トリメチルプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）６８．５ｇ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ８１９ ３．５ｇ、イソプロピルチオキサントン（ＩＴＸ）１ｇ、及びヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＥＨＱ）０．５ｇを混合して、構造体インク組成物を製造した。
また、ジメチルアクリルアミド４９．２ｇ、１－ビニル－２－ピロリドン（ＶＰ）３２．８ｇ、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）１４ｇ、及びＩｒｇａｃｕｒｅ ８１９ ４ｇを混合して、支持体インク組成物を製造した。
前記構造体インク組成物及び支持体インク組成物をインクジェット方式で３Ｄプリンティング（Ｓｐｅｃｔｒａ社製造、Ａｐｏｌｌｏ ＩＩ、ヘッド：Ｄｉｍａｔｉｘ ３０ ｐＬ １２８ノズルヘッド）して、３次元造形物を形成し、硬化は、３９５ｎｍ ＬＥＤを使用した（２０００ｍＪ／ｃｍ２）。
ｂ）前記支持体を除去する段階
前記ａ）段階で形成された３次元造形物を５０℃の水に溶かして支持体を除去した。
前記ａ）段階で形成された３次元造形物を５０℃の水に溶かして支持体を除去した。
ｃ）支持体が除去された３次元造形物の乾燥段階
前記支持体が除去された３次元造形物を常温で乾燥空気（ｄｒｙ ａｉｒ）を吹いて１０分間乾燥した。
前記支持体が除去された３次元造形物を常温で乾燥空気（ｄｒｙ ａｉｒ）を吹いて１０分間乾燥した。
実施例２
前記ｂ）段階で水の代わりに、水とエタノールとを５０：５０で混合した溶液を使用したものを除いては、実施例１と同じ方法で行った。
前記ｂ）段階で水の代わりに、水とエタノールとを５０：５０で混合した溶液を使用したものを除いては、実施例１と同じ方法で行った。
比較例１
前記ｂ）段階で水の代わりに、エタノールを使用したものを除いては、実施例１と同じ方法で行った。
前記ｂ）段階で水の代わりに、エタノールを使用したものを除いては、実施例１と同じ方法で行った。
比較例２
前記ｂ）段階で水の代わりに、クロロベンゼンを使用したものを除いては、実施例１と同じ方法で行った。
前記ｂ）段階で水の代わりに、クロロベンゼンを使用したものを除いては、実施例１と同じ方法で行った。
比較例３
前記ｂ）段階で水の代わりに、アセトニトリルを使用したものを除いては、実施例１と同じ方法で行った。
前記ｂ）段階で水の代わりに、アセトニトリルを使用したものを除いては、実施例１と同じ方法で行った。
比較例４
前記ｂ）段階で水の代わりに、アセトンを使用したものを除いては、実施例１と同じ方法で行った。
前記ｂ）段階で水の代わりに、アセトンを使用したものを除いては、実施例１と同じ方法で行った。
比較例５
前記ｂ）段階で水の代わりに、エーテルを使用したものを除いては、実施例１と同じ方法で行った。
前記ｂ）段階で水の代わりに、エーテルを使用したものを除いては、実施例１と同じ方法で行った。
比較例６
前記ｂ）段階で水の代わりに、トルエンを使用したものを除いては、実施例１と同じ方法で行った。
前記ｂ）段階で水の代わりに、トルエンを使用したものを除いては、実施例１と同じ方法で行った。
前記実施例１及び実施例２から比較例１から比較例６において、支持体除去可能か否か及び構造体損傷有無を確認して、その結果を下記表１に示した。
＊支持体除去可能か否か：
支持体を含む３次元造形物を当該溶媒に浸漬させて、支持体部分が溶けば、Ｏ、溶けなければ、Ｘと表示する。
＊＊構造体損傷有無：構造体の一部が溶ける場合、Ｏ、構造体部分が撓むか、色が変わるなどの損傷がある場合、△、損傷が全くない場合、Ｘと表示する。
支持体を含む３次元造形物を当該溶媒に浸漬させて、支持体部分が溶けば、Ｏ、溶けなければ、Ｘと表示する。
＊＊構造体損傷有無：構造体の一部が溶ける場合、Ｏ、構造体部分が撓むか、色が変わるなどの損傷がある場合、△、損傷が全くない場合、Ｘと表示する。
実施例１及び実施例２のように、除去溶媒として水を単独で使用する場合と、水及び有機溶媒の混合溶液を使用する場合には、構造体が損傷されないように支持体を除去することができた。しかし、比較例１から比較例４のように、極性有機溶媒単独で支持体を除去する場合には、構造体が一部溶けるか、損傷される結果を示した。比較例５及び比較例６のように、非極性有機溶媒を使用する場合は、支持体が溶けない結果を示した。
Claims (19)
- ａ）複数のレイヤを積層して構造体及び支持体を含む３次元造形物を形成する段階と、
ｂ）前記支持体を水、または水及び極性有機溶媒の混合溶液で溶解させて支持体を除去する段階と、
を含み、
前記支持体は、ジメチルアクリルアミドと、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ８１９と、１－ビニル－２－ピロリドン（ＶＰ）と、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）と、界面活性剤、可塑剤、重合防止剤、消泡剤、希釈剤、熱安定剤、および粘度調節剤の少なくともいずれかから選択されるさらに含まれ得る添加剤と、からなる３Ｄプリンティング支持体用インク組成物の硬化段階を通じて製造され、
前記ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）は、組成物全体重量を基準に０．１～３０重量％含まれ、
前記ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）は、繰り返し数が５０～２５，０００である、
３次元造形物の形成方法。 - ｃ）支持体が除去された３次元造形物の乾燥段階をさらに含む
請求項１に記載の３次元造形物の形成方法。 - 前記極性有機溶媒は、アルコール系、グリコール系、グリコールエーテル系、ケトン系、クロリン系、Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、及びアセトニトリルからなる群から選択される１種以上である
請求項１または２に記載の３次元造形物の形成方法。 - 前記支持体は、水、または水及びアルコール系溶媒の混合溶液で溶解させて除去される
請求項１または２に記載の３次元造形物の形成方法。 - 前記極性有機溶媒は、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、クロロホルム、クロロベンゼン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、及びアセトニトリルからなる群から選択される１種以上である
請求項１または２に記載の３次元造形物の形成方法。 - 前記極性有機溶媒は、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、及びエチレングリコールモノブチルエーテルからなる群から選択される１種以上である
請求項１または２に記載の３次元造形物の形成方法。 - 前記３Ｄプリンティング支持体用インク組成物は、ビニルエーテル化合物をさらに含む 請求項１から６のいずれか１項に記載の３次元造形物の形成方法。
- 前記ビニルエーテル化合物は、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル（ＨＢＶＥ）、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、２－エチルヘキシルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、１，４－シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、１，４－ブタンジオールジビニルエーテルからなる群から選択される何れか１つ以上である
請求項７に記載の３次元造形物の形成方法。 - 添加剤をさらに含む
請求項１から８のいずれか１項に記載の３次元造形物の形成方法。 - 前記添加剤は、界面活性剤、可塑剤、重合防止剤、消泡剤、希釈剤、熱安定剤、及び粘度調節剤からなる群から選択される何れか１つ以上である
請求項９に記載の３次元造形物の形成方法。 - 前記ジメチルアクリルアミドは、組成物全体重量を基準に１０～９９．９重量％含まれる
請求項１から１０のいずれか１項に記載の３次元造形物の形成方法。 - 前記１－ビニル－２－ピロリドン（ＶＰ）は、組成物全体重量を基準に０．１～８０重量％含まれる
請求項１から７のいずれか１項に記載の３次元造形物の形成方法。 - 前記ビニルエーテル化合物は、組成物全体重量を基準に０．１～５０重量％含まれる
請求項７に記載の３次元造形物の形成方法。 - 前記Ｉｒｇａｃｕｒｅ ８１９は、組成物全体重量を基準に０．０１～２０重量％含まれる
請求項１から１３のいずれか１項に記載の３次元造形物の形成方法。 - 前記ｂ）段階遂行時に、前記水または水及び極性有機溶媒の混合溶液の温度は、２０℃～９０℃である
請求項１から１４のいずれか１項に記載の３次元造形物の形成方法。 - 前記ｂ）段階遂行時に、前記水または水及び極性有機溶媒の混合溶液の温度は、４０℃～６０℃である
請求項１から１５のいずれか１項に記載の３次元造形物の形成方法。 - 前記ｂ）段階遂行時に、前記水または水及び極性有機溶媒の混合溶液を撹拌または超音波処理する段階をさらに含む
請求項１から１６のいずれか１項に記載の３次元造形物の形成方法。 - 前記ｃ）段階の乾燥段階は、自然乾燥または乾燥手段による乾燥である
請求項２に記載の３次元造形物の形成方法。 - 前記ｃ）段階の乾燥段階は、自然乾燥である
請求項２に記載の３次元造形物の形成方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2015-0153963 | 2015-11-03 | ||
| KR1020150153963A KR102053481B1 (ko) | 2015-11-03 | 2015-11-03 | 3차원 조형물의 형성 방법 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018510057A Division JP2018529551A (ja) | 2015-11-03 | 2016-10-28 | ３次元造形物の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2020121557A JP2020121557A (ja) | 2020-08-13 |
| JP7088458B2 true JP7088458B2 (ja) | 2022-06-21 |
Family
ID=58662228
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018510057A Pending JP2018529551A (ja) | 2015-11-03 | 2016-10-28 | ３次元造形物の形成方法 |
| JP2020033174A Active JP7088458B2 (ja) | 2015-11-03 | 2020-02-28 | ３次元造形物の形成方法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018510057A Pending JP2018529551A (ja) | 2015-11-03 | 2016-10-28 | ３次元造形物の形成方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20180281293A1 (ja) |
| EP (1) | EP3372388B1 (ja) |
| JP (2) | JP2018529551A (ja) |
| KR (1) | KR102053481B1 (ja) |
| CN (1) | CN108025491B (ja) |
| WO (1) | WO2017078332A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101942244B1 (ko) | 2016-02-26 | 2019-01-28 | 주식회사 엘지화학 | 3d 프린팅 지지체용 잉크 조성물 및 이를 이용한 3d 프린팅 제조방법 |
| KR102246693B1 (ko) * | 2017-12-21 | 2021-04-29 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기막 조성물 및 패턴 형성 방법 |
| KR102202042B1 (ko) | 2017-12-26 | 2021-01-11 | 주식회사 엘지화학 | 3d 프린팅용 잉크젯 잉크 조성물 |
| KR20230141991A (ko) * | 2022-03-30 | 2023-10-11 | 아주대학교산학협력단 | 다중 지지체 구조를 이용한 팬텀 제작 방법 및 장치 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010155889A (ja) | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Jsr Corp | 光硬化性液状樹脂組成物およびインクジェット光造形法による支持体の製造方法 |
| JP2015123684A (ja) | 2013-12-26 | 2015-07-06 | 株式会社ミマキエンジニアリング | 三次元造形物の製造方法、三次元造形物を製造するためのキット及び三次元造形物 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6863859B2 (en) * | 2001-08-16 | 2005-03-08 | Objet Geometries Ltd. | Reverse thermal gels and the use thereof for rapid prototyping |
| JP2006282689A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Kuraray Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物及びそれを用いた立体造形物 |
| IN2009CN03597A (ja) * | 2006-12-21 | 2015-09-11 | Agfa Graphics Nv | |
| JP4264108B2 (ja) * | 2007-01-11 | 2009-05-13 | 横浜ゴム株式会社 | 硬化性樹脂組成物 |
| KR100910021B1 (ko) * | 2007-04-27 | 2009-07-30 | 한국기계연구원 | 입체 조형물의 제조방법 |
| CN102421586B (zh) * | 2009-05-12 | 2014-12-17 | 3D系统公司 | 用于选择性沉积成型的组合物以及方法 |
| US9138981B1 (en) * | 2009-07-22 | 2015-09-22 | Stratasys Ltd. | Water soluble ink-jet composition for 3D printing |
| ES2823975T3 (es) | 2010-10-27 | 2021-05-11 | Rize Inc | Proceso y aparato para la fabricación de objetos tridimensionales |
| EP2514775A1 (en) * | 2011-04-20 | 2012-10-24 | Evonik Röhm GmbH | Maleic anhydride copolymers as soluble support material for fused deposition modelling (FDM) printer |
| JP5980088B2 (ja) * | 2012-10-23 | 2016-08-31 | 花王株式会社 | ３ｄプリンタ造形物用現像液組成物、３ｄプリンタ造形物の現像方法、及び３ｄプリンタ造形物の製造方法 |
| JP6186946B2 (ja) * | 2013-06-28 | 2017-08-30 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 光学的立体造形用樹脂組成物、及び立体造形物 |
| WO2015108768A1 (en) * | 2014-01-16 | 2015-07-23 | Dow Global Technologies Llc | Support materials for 3d printing |
| CN106414039B (zh) * | 2014-01-23 | 2022-01-18 | 株式会社理光 | 三维物体及其形成方法 |
| CN104014794B (zh) * | 2014-05-30 | 2016-08-24 | 珠海天威飞马打印耗材有限公司 | 三维打印方法及三维打印机 |
| KR102037558B1 (ko) * | 2015-07-20 | 2019-10-28 | 주식회사 엘지화학 | 3d 프린팅 지지체용 잉크 조성물 및 이를 이용한 3d 프린팅 제조방법 |
-
2015
- 2015-11-03 KR KR1020150153963A patent/KR102053481B1/ko active IP Right Grant
-
2016
- 2016-10-28 EP EP16862348.6A patent/EP3372388B1/en active Active
- 2016-10-28 US US15/764,708 patent/US20180281293A1/en not_active Abandoned
- 2016-10-28 CN CN201680052379.8A patent/CN108025491B/zh active Active
- 2016-10-28 JP JP2018510057A patent/JP2018529551A/ja active Pending
- 2016-10-28 WO PCT/KR2016/012286 patent/WO2017078332A1/ko active Application Filing
-
2020
- 2020-02-28 JP JP2020033174A patent/JP7088458B2/ja active Active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010155889A (ja) | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Jsr Corp | 光硬化性液状樹脂組成物およびインクジェット光造形法による支持体の製造方法 |
| JP2015123684A (ja) | 2013-12-26 | 2015-07-06 | 株式会社ミマキエンジニアリング | 三次元造形物の製造方法、三次元造形物を製造するためのキット及び三次元造形物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20180281293A1 (en) | 2018-10-04 |
| CN108025491B (zh) | 2021-05-14 |
| EP3372388A1 (en) | 2018-09-12 |
| EP3372388B1 (en) | 2020-04-22 |
| CN108025491A (zh) | 2018-05-11 |
| JP2020121557A (ja) | 2020-08-13 |
| EP3372388A4 (en) | 2018-12-19 |
| KR102053481B1 (ko) | 2019-12-06 |
| KR20170052046A (ko) | 2017-05-12 |
| WO2017078332A1 (ko) | 2017-05-11 |
| JP2018529551A (ja) | 2018-10-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP7088458B2 (ja) | ３次元造形物の形成方法 | |
| CN106715607B (zh) | 用于制造导电图案的抗蚀刻喷墨油墨 | |
| CN107849381B (zh) | 用于3d打印支撑体的墨组合物和使用其的3d打印制造方法 | |
| WO2017018453A1 (ja) | モデル材用樹脂組成物、サポート材用樹脂組成物、光造形品、および、光造形品の製造方法 | |
| JP6630444B2 (ja) | エッチング処理されたガラス製品を製造する方法 | |
| EP3508335B1 (en) | Photocurable support material composition for inkjet 3d printers, ink for inkjet 3d printers, cartridge for inkjet 3d printers, method for producing support material and method for producing optically shaped article | |
| US20100256255A1 (en) | Jettable ink composition | |
| CN105765413A (zh) | 压印用光固化性树脂组合物、防反射膜 | |
| WO2018142485A1 (ja) | 光造形用インクセット、光造形品、及び、光造形品の製造方法 | |
| WO2017159358A1 (ja) | モデル材用組成物、光造形品、および、光造形品の製造方法 | |
| JP6744420B2 (ja) | エッチング処理されたガラス製品を製造する方法 | |
| JP6983378B2 (ja) | 三次元造形物の製造方法 | |
| WO2019167948A1 (ja) | インクジェット３ｄプリンター用光硬化性サポート材用組成物、インク、カートリッジ、サポート材の製造方法ならびに光造形物の製造方法 | |
| JP6926395B2 (ja) | 重合性組成物 | |
| JP2019515854A (ja) | エッチング処理されたガラス製品を製造する方法 | |
| JP6798116B2 (ja) | 立体造形用材料、活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、インク容器、インク吐出装置、及び像形成方法 | |
| JP7233876B2 (ja) | 印刷方法およびインク組成物 | |
| TW202000800A (zh) | 聚合性組成物、噴墨用墨水、耐熱性可溶構件、帶支撐部的立體結構物、及立體造形物的製造方法 | |
| JP7391228B2 (ja) | 三次元プリント用途のための水溶性ワックス状支持材料 | |
| JP6993611B2 (ja) | 三次元造形物の製造方法 | |
| JP7079707B2 (ja) | インクジェット光造形用の光硬化性樹脂組成物セット、それを用いた光造形品ならびにその製造方法 | |
| JP7068643B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型インク、組成物収容容器、２次元又は３次元の像形成装置、２次元又は３次元の像形成方法、及び硬化物の製造方法 | |
| JP2017109420A (ja) | 水性インキ組成物および紫外線硬化型ワニス組成物を用いた平版印刷方法及び印刷物 | |
| CN117280002A (zh) | 产生用于3d光聚合物喷射的支撑子结构的可辐射固化组合物 | |
| JP2021084410A (ja) | 立体造形用組成物セット、立体造形物、立体造形物の製造方法、２次元又は３次元の像形成装置及び２次元又は３次元の像形成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200302 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210330 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210427 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210714 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210907 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211202 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220118 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220510 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220527 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7088458 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |