JP7025171B2 - 被加工物の研削方法 - Google Patents

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Description

本発明は、被加工物を研削して薄化する被加工物の研削方法に関する。
半導体ウェーハやサファイア、SiC基板などの光デバイスウェーハなどを研削砥石で薄化する研削技術があるが、光デバイスウェーハは硬質で研削が難しい。つまり、バックグラインド用の粘着テープで光デバイスウェーハを保護しても、研削加工の負荷による光デバイスウェーハの沈み込みにより薄化研削中の被加工物の割れ、欠け、チッピング等の研削不良が発生してしまう。そのため、セラミックやガラスなどの支持基台にワックス等の硬化する接着剤で被加工物を固定し、研削負荷がかかっても、硬い支持基板で固定されているために破損を抑えられるような加工方法がある(例えば、下記の特許文献1を参照)。
特開2013-187281号公報
しかし、薄化後の被加工物の厚みが100μm以下となると、被加工物の反りがより強く発生するため、研削中の被加工物の外周部が支持基台から剥がれてしまい、被加工物の割れ、欠け、チッピング等の研削不良が発生する。また、研削中に被加工物の外周部の剥がれが発生しないほどの硬度、及び粘着力の高い接着剤を使用した場合は、薄化研削後の支持基台から被加工物を剥離する剥離ステップにて被加工物の割れ等の不良が発生する。
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、研削中は被加工物の外周部剥がれの発生を抑制するとともに、支持基台から薄化後の被加工物を剥離する際には、支持基台から被加工物を容易に剥離できるようにすることを目的とする。
本発明は、格子状に形成された複数の分割予定ラインに区画された領域にデバイスが形成された表面を有する被加工物の裏面を、研削砥石で研削する被加工物の研削方法であって、該被加工物の該表面の該デバイスが形成された領域を被加工物用保護部材で覆う第1表面保護ステップと、支持基台の表面を支持基台用保護部材で覆う第2表面保護ステップと、該被加工物の該表面の該デバイスが形成された該領域を覆った該被加工物用保護部材側と該支持基台の該表面を覆った該支持基台保護部材側とを接着剤で貼着し、該被加工物を該支持基台に押圧することにより、該接着剤を該被加工物の外周部側面に回り込ませ該外周部側面を固定して被加工物ユニットを形成する被加工物ユニット形成ステップと、該被加工物ユニットの該支持基台をチャックテーブルの保持面で保持し、該保持面と直交する回転軸により回転する研削砥石によって該被加工物の該裏面を研削し、該被加工物を湾曲可能な厚みまで薄化する研削ステップと、該被加工物の外周部側面から突出した該支持基台用保護部材の外周縁部に該支持基台用保護部材よりも粘着力の高い剥離テープを貼着して引き上げることにより、該研削ステップを実施した後の該被加工物と該被加工物用保護部材と該接着剤と該支持基台用保護部材とを一体として捲るように該支持基台から剥離する第1剥離ステップと、該第1剥離ステップを実施した後、該支持基台用保護部材の該外周縁部に該被加工物用保護部材よりも粘着力の高い剥離テープを貼着して引き上げることにより、該被加工物用保護部材と該接着剤と該支持基台用保護部材とを一体として該被加工物から剥離する第2剥離ステップとを備え、該接着剤で該被加工物の該外周部側面を支持して該被加工物の反りにより該支持基台から該被加工物の外周部が剥がれることを抑制することができる。
上記被加工物用保護部材および上記支持基台用保護部材は、粘着テープであることが好ましい。上記接着剤は、加熱または紫外線照射の処理により硬化する液状の樹脂であることが好ましい。
上記被加工物は、サファイアウェーハであることが好ましい。また、上記研削ステップを実施した後の上記被加工物の厚みは100μm以下であること好ましい。
本発明に係る被加工物の研削方法は、被加工物の表面のデバイスが形成された領域を被加工物用保護部材で覆う第1表面保護ステップと、支持基台の表面を支持基台用保護部材で覆う第2表面保護ステップと、被加工物の表面のデバイスが形成された領域を覆った被加工物用保護部材側と支持基台の表面を覆った支持基台保護部材側とを接着剤で貼着し、被加工物を支持基台に対して押圧することにより、接着剤を被加工物の外周部側面に回り込ませ被加工物の外周部側面を固定して被加工物ユニットを形成する被加工物ユニット形成ステップと、被加工物を湾曲可能な厚みまで薄化する研削ステップと、薄化後の被加工物と被加工物用保護部材と接着剤と支持基台用保護部材とを一体として捲るように支持基台から剥離する第1剥離ステップと、被加工物用保護部材と接着剤と支持基台用保護部材とを一体として被加工物から剥離する第2剥離ステップとを備えたため、被加工物の研削中は、被加工物の外周部側面が接着剤で強固に固定されており、被加工物の外周部が支持基台から剥がれるのを抑制でき、被加工物に割れ、欠け、チッピングなどの研削不良が発生するのを防止することができる。
また、本発明によれば、接着剤が被加工物の外周部側面を固定しているのみで、支持基台の表面および被加工物の表面には接着剤が接触してないため、第1剥離ステップでは支持基台から容易に支持基台用保護部材を剥離することができ、第2剥離ステップでは被加工物の表面から容易に被加工物用保護部材を剥離することができる。
上記被加工物用保護部材および上記支持基台用保護部材が、粘着テープにより構成されている場合は、上記第1剥離ステップおよび上記第2剥離ステップを容易に実施することができる。また、上記接着剤が、加熱または紫外線照射の処理により硬化する液状の樹脂により構成されている場合は、被加工物ユニット形成ステップを実施するときに接着剤を被加工物の外周部側面に効率よく回り込ませることが可能となる。
上記被加工物が、サファイアウェーハである場合、薄化後の外周部の反りが大きくなりやすいが、本発明によれば、接着剤により被加工物の外周部側面が強固に固定されるため、硬質材の被加工物でも良好な研削を行うことができる。また、上記研削ステップを実施した後の上記被加工物の厚みが100μm以下に設定される場合、薄化後の外周部に反りが生じやすいが、本発明によれば、薄化後の外周部の反りを抑制しながら所望の厚みに研削することができる。
第1表面保護ステップを示す斜視図である。 第2表面保護ステップを示す斜視図である。 (a)は、被加工物ユニット形成ステップを示す斜視図である。(b)は、被加工物ユニットの構成を示す斜視図である。 被加工物ユニットの構成を示す断面図である。 研削ステップを示す断面図である。 研削後の薄化された状態の被加工物ユニットの部分拡大断面図である。 第1剥離ステップを示す断面図である。 第2剥離ステップを示す斜視図である。
図1に示す被加工物Wは、円形板状の基板を備え、格子状に形成された複数の分割予定ラインSによって区画された各領域にそれぞれデバイスDが形成された表面Waを有している。被加工物Wの表面Waと反対側の裏面Wbは、例えば研削砥石による研削加工が施される被加工面となっている。本実施形態に示す被加工物Wは、例えば、サファイアウェーハによって構成されている。研削前の被加工物Wの厚みは、特に限定されないが、例えば700μmとなっている。以下では、被加工物Wの裏面Wbを研削する被加工物の研削方法について説明する。
(1)第1表面保護ステップ
図1に示すように、被加工物Wの表面WaのデバイスDが形成された領域を被加工物用保護部材1で覆う。本実施形態に示す被加工物用保護部材1は、粘着性を有し、かつ、被加工物Wと略同径の大きさを有している。また、被加工物用保護部材1は、例えば、ポリオレフィンやポリ塩化ビニル等なる基材に糊層(粘着層)が積層された粘着テープである。被加工物用保護部材1を被加工物Wの表面Waに貼着して、その表面Waの全面を覆うことにより、各デバイスDが保護される。
(2)第2表面保護ステップ
図2に示すように、支持基台10の表面11を支持基台用保護部材2で覆う。支持基台10は、研削加工中に被加工物Wを支持して補強するための支持部材であり、例えば、ガラスやセラミックスにより構成されている。支持基台用保護部材2についても、特に限定されず、被加工物用保護部材1と同様の粘着テープによって構成されている。支持基台用保護部材2を支持基台10の表面11に貼着して、その表面11の全面を覆うことにより、表面11が保護される。なお、支持基台10及び支持基台用保護部材2は、被加工物Wの外径よりも大きい径を有している。
本実施形態では、第1表面保護ステップを実施してから第2表面保護ステップを実施したが、この場合に限られず、第1表面保護ステップと第2表面保護ステップとを同時に実施してもよいし、第2表面保護ステップを実施してから第1表面保護ステップを実施してもよい。
(3)被加工物ユニット形成ステップ
図3に示すように、被加工物Wと支持基台10とを接着剤3によって接着固定する。接着剤3は、加熱または紫外線の照射による処理によって硬化する液状の樹脂で構成されていることが好ましい。図3(a)に示すように、図示の例では、硬化する前の接着剤3を、支持基台10の表面11に貼着された支持基台用保護部材2の上に予め塗布しておくとよい。
また、接着剤3は、後述する被加工物Wの研削中に被加工物Wと支持基台10とが剥がれないようにするために、より硬度が高く、より粘度が高いタイプの樹脂を選定して使用することが好適である。本実施形態に示す接着剤3は、例えば、株式会社テスク社製の製品[品番:B-1014B]によって構成されているものとする。かかる接着剤3は、100℃以上の加熱処理によって硬化する熱硬化性を有するエポキシ樹脂となっている。
図3(a)に示すように、被加工物Wの表裏を反転させ、被加工物Wの表面WaのデバイスDが形成された領域を覆った被加工物用保護部材1側と支持基台10の表面11を覆った支持基台用保護部材2側とを対面させてから、被加工物Wを支持基台10の上に塗布された接着剤3に接近する方向に移動させる。続いて、図3(b)に示すように、被加工物Wの被加工物用保護部材1側から接着剤3に押し付けて被加工物用保護部材1側と支持基台用保護部材2側とを接着剤3で貼着する。
ここで、被加工物Wを下方に押圧することにより、接着剤3を径方向外側に引き伸ばし、図4に示すように、被加工物用保護部材1の外周部1aと支持基台用保護部材2の外周側との間から接着剤3を外側にはみ出させ被加工物Wの外周部側面Wcに回り込ませ被覆する。硬化前の接着剤3は、液状からなるため、被加工物Wの押圧によって効率よく外周部側面Wcに回り込ませることができる。この状態において、例えば、ヒータ等の加熱手段を用いて例えば100℃以上で接着剤3を加熱処理することにより、接着剤3を硬化させる。接着剤3が硬化することにより被加工物Wと支持基台10とを固定して被加工物ユニット4を形成する。被加工物ユニット4のうち、被加工物Wの外周部側面Wcは硬化した接着剤3によって支持基台10に対して強固に固定されており、支持基台10から被加工物Wの外周部Cが剥がれにくい状態となっている。接着剤3が紫外線硬化樹脂からなる場合は、例えば、UVランプを用いて接着剤3に向けて紫外線照射による外的刺激処理を施すことにより、接着剤3を硬化させるとよい。
(4)研削ステップ
被加工物ユニット形成ステップを実施した後、図5に示すように、被加工物ユニット4をチャックテーブル20の保持面21で保持し、チャックテーブル20の上方側に配設された研削手段30によって被加工物Wの裏面Wbを研削する。研削手段30は、保持面21と直交する鉛直方向の軸心を有する回転軸31と、回転軸31の下端にマウント32を介して装着された研削ホイール33と、研削ホイール33の下部にリング状に固着された研削砥石34とを備えている。研削手段30には、図示しない昇降手段が接続されており、昇降手段によって研削ホイール33を回転させながら研削手段30の全体を昇降させることができる。
被加工物Wを研削する場合は、被加工物ユニット4の支持基台10側をチャックテーブル20の保持面21で保持して、被加工物Wの裏面Wbを上向きに露出させ、チャックテーブル20を例えば矢印R方向に回転させる。続いて、研削手段30は、研削ホイール33を例えば矢印R方向に回転させながら、所定の研削送り速度で下降させ、回転する研削砥石34で被加工物Wの裏面Wbを押圧しながら図6に示す湾曲可能な厚みTに至るまで研削して薄化する。本実施形態に示す湾曲可能な厚みTとは、被加工物Wの外周部Cに反りが発生する厚みであるとともに、所定の仕上げ厚みを意味する。湾曲可能な厚みTとしては、例えば100μm以下に設定されていることが好ましく、本実施形態では、例えば50μmに設定されているものとする。
被加工物Wの研削中、被加工物Wの厚みが100μm以下に薄化されると、被加工物Wの外周部Cに支持基台10から剥がれる方向(上方向)に湾曲して反りが発生しやすくなるが、被加工物Wの外周部側面Wcが接着剤3により支持基台10に対して強固に固定されているため、外周部Cの反りの発生を抑えることができ、研削中に支持基台10から外周部Cが剥がれるのを抑制することができる。そして、研削動作によって被加工物Wを湾曲可能な厚みTに薄化した時点で、研削ステップが終了する。
(5)第1剥離ステップ
研削ステップを実施した後、図7に示すように、支持基台10に接着され被加工物Wの外周部側面Wcから外側に突出した支持基台用保護部材2の外周縁部2aに、例えば、支持基台用保護部材2よりも粘着力の高い剥離テープを貼着してこれを引き上げることにより、支持基台10から被加工物Wと被加工物用保護部材1と接着剤3と支持基台用保護部材2とを一体として捲るように剥離する。これにより、支持基台10の表面11から容易に支持基台用保護部材2を引き剥がし、被加工物Wの外周部C側を持ち上げることができる。そして、支持基台10の表面11の全面から支持基台用保護部材2を引き剥がすことにより、支持基台10から被加工物Wを完全に剥離する。
(6)第2剥離ステップ
第1剥離ステップを実施した後、図8に示すように、被加工物Wの表裏を反転させ、被加工物Wの表面Waを上向きにさせる。第2剥離ステップの剥離する動作は、第1剥離ステップと同様の動作により行うとよい。すなわち、支持基台用保護部材2の外周縁部2aに、例えば、被加工物用保護部材1よりも粘着力の高い剥離テープを貼着してこれを引き上げることにより、被加工物Wの表面Waから被加工物用保護部材1と接着剤3と支持基台用保護部材2とを一体として捲るように剥離する。このとき、被加工物Wの表面Waには、被加工物用保護部材1のみが貼着されているだけであるため、剥離テープにより被加工物Wの表面Waから容易に被加工物用保護部材1を引き剥がすことができる。そして、被加工物Wの表面Waの全面から被加工物用保護部材1を引き剥がすことにより、被加工物Wの表面Waの全面を露出させることができる。このようにして、加工精度の良好な被加工物Wを得ることができる。
以上のとおり、本発明に係る被加工物の研削方法は、被加工物Wの表面WaのデバイスDが形成された領域を被加工物用保護部材1で覆う第1表面保護ステップと、支持基台10の表面11を支持基台用保護部材2で覆う第2表面保護ステップと、被加工物Wの表面WaのデバイスDが形成された領域を覆った被加工物用保護部材1側と支持基台10の表面11を覆った支持基台用保護部材2側とを接着剤3で貼着し、被加工物Wを支持基台10に対して押圧することにより、接着剤3を被加工物Wの外周部側面Wcに回り込ませ被加工物Wの外周部側面Wcを固定して被加工物ユニット4を形成する被加工物ユニット形成ステップと、被加工物Wを湾曲可能な厚みTまで薄化する研削ステップと、薄化後の被加工物Wと被加工物用保護部材1と接着剤3と支持基台用保護部材2とを一体として捲るように支持基台10から剥離する第1剥離ステップと、被加工物用保護部材1と接着剤3と支持基台用保護部材2とを一体として被加工物Wから剥離する第2剥離ステップとを備えたため、被加工物Wの研削中は、被加工物Wの外周部側面Wcが接着剤3で強固に固定されており、被加工物Wの外周部Cが支持基台10から剥がれるのを抑制でき、被加工物Wに割れ、欠け、チッピングなどの研削不良が発生するのを防止することができる。
また、本発明では、接着剤3で被加工物Wの外周部側面Wcを固定しているだけで、支持基台10の表面11および被加工物Wの表面Waには接着剤3が接触していないため、第1剥離ステップでは支持基台10から容易に支持基台用保護部材2を剥離可能となり、第2剥離ステップでは被加工物Wの表面Waから容易に被加工物用保護部材1を剥離可能となる。
1:被加工物用保護部材 2:支持基台用保護部材 3:接着剤 4:被加工物ユニット
10:支持基台 11:表面
20:チャックテーブル 21:保持面
30:研削手段 31:回転軸 32:マウント 33:研削ホイール 34:研削砥石

Claims (5)

  1. 格子状に形成された複数の分割予定ラインに区画された領域にデバイスが形成された表面を有する被加工物の裏面を、研削砥石で研削する被加工物の研削方法であって、
    該被加工物の該表面の該デバイスが形成された領域を被加工物用保護部材で覆う第1表面保護ステップと、
    支持基台の表面を支持基台用保護部材で覆う第2表面保護ステップと、
    該被加工物の該表面の該デバイスが形成された領域を覆った該被加工物用保護部材側と該支持基台の該表面を覆った該支持基台保護部材側とを接着剤で貼着し、該被加工物を該支持基台に押圧することにより、該接着剤を該被加工物の外周部側面に回り込ませ該外周部側面を固定して被加工物ユニットを形成する被加工物ユニット形成ステップと、
    該被加工物ユニットの該支持基台をチャックテーブルの保持面で保持し、該保持面と直交する回転軸により回転する研削砥石によって該被加工物の該裏面を研削し、該被加工物を湾曲可能な厚みまで薄化する研削ステップと、
    該被加工物の外周部側面から突出した該支持基台用保護部材の外周縁部に該支持基台用保護部材よりも粘着力の高い剥離テープを貼着して引き上げることにより、該研削ステップを実施した後の該被加工物と該被加工物用保護部材と該接着剤と該支持基台用保護部材とを一体として捲るように該支持基台から剥離する第1剥離ステップと、
    該第1剥離ステップを実施した後、該支持基台用保護部材の該外周縁部に該被加工物用保護部材よりも粘着力の高い剥離テープを貼着して引き上げることにより、該被加工物用保護部材と該接着剤と該支持基台用保護部材とを一体として該被加工物から剥離する第2剥離ステップとを備え、
    該接着剤で該被加工物の該外周部側面を支持して該被加工物の反りにより該支持基台から該被加工物の外周部が剥がれることを抑制する被加工物の研削方法。
  2. 前記被加工物用保護部材および前記支持基台用保護部材は、粘着テープであることを特徴とする請求項1記載の被加工物の研削方法。
  3. 前記接着剤は、加熱または紫外線照射の処理により硬化する液状の樹脂であることを特徴とする請求項1記載の被加工物の研削方法。
  4. 前記被加工物は、サファイアウェーハである請求項1記載の被加工物の研削方法。
  5. 前記研削ステップを実施した後の前記被加工物の厚みは100μm以下である請求項4記載の被加工物の研削方法。
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