JP7001598B2 - 時計部品の製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、電着により部品を製造する方法に関する。本発明はまた、当該方法を、時計部品、特に時計ムーブメントの製造に用いることに関する。本発明はまた、時計部品自体に関し、当該時計部品を組み込んだ時計ムーブメント及び時計に関する。
電鋳により時計部品を製造するために、ニッケルを用いることが知られている。特に、ニッケルは、その良好な弾性特性により、ぜんまいを製造するために用いられる。電着の分野での一般的な解決策である、純ニッケルの堆積は、固形微粒子、金属汚染や、過剰な有機分が存在しない、可能な限り純粋な電解液を必要とする。ニッケルの電鋳は、複数の複雑なパラメータに適合する。所望の厚みに応じた最終部品の良好な機械的性質を得るために、当業者は、電解槽の組成、その経時的な均一性、及び電着中の温度及び電流密度を特に制御しなければならない。問題の一つは、具体的には、電着過程において堆積される素材に誘導された応力の制御である。更に、堆積された素材の厚みが増すほど、内部応力の影響は大きくなり、例えば製造されるパーツの耐亀裂性への影響が大きくなる。
更に、当該方法で得られた部品の機械的応力への反応は、具体的には応力緩和により、経時的に変化する。例えば、こうして得られたぜんまいは、弾性変形に常に曝されると、著しい強度損失を起こすことが指摘される。同様に、当該部品は、経時的にクリープ問題に直面する。当然、こうした現象は、時計ムーブメントに用いられるこうした部品の信頼性を大きく損なう。
こうした欠点を減少するため、特許文献1は、10重量%から30重量%の間の鉄を含み、0.005重量%から0.2重量%の間の割合の硫黄を含む、ニッケル合金を使用する。当該合金によれば、鉄が固溶体でニッケルの結晶格子内に無作為に混ざり、結晶格子の歪みを引き起こすため、挙動が改善した部品を得ることが可能になる。しかしながら、当該解決策は、合金に強磁性元素を導入し、製造されるパーツの帯磁率を増加させるという欠点があり、これは時計への適用には推奨されない。
電鋳により部品を製造する従来技術において、例えばニッケルリンNi-P合金など、他のニッケル合金もまた用いられる。例えばスルファミン酸ニッケル、硫酸ニッケル、塩化ニッケルと、ホウ酸及びリン酸または亜リン酸の形態で導入されるリンを含む、いくつかの市販のNi-P溶液槽が存在する。こうした溶液槽は、多くの重量パーセントのリンを含む部品を得ることを可能にする。しかしながら、既知のNi-P合金と、関連する電着方法は、上述の理由から完全に満足できるものではない。
米国特許出願公開第2014/0269228号明細書
このため、本発明の目的は、電鋳により部品を製造する改善された解決策を提供することにある。
より具体的には、本発明の1つの目的は、従来技術で見られたクリープ及び緩和現象に関して、電鋳で得られた部品の性能を改善可能な、部品製造の解決策、特に常時または常時に準じる程度に応力が与えられたとしても、経時的に安定した弾性特性を有する部品を得るための解決策である。本発明の1つの目的は、このため、時計への適用に適した信頼できる部品を得ることにある。
この目的のため、本発明は、時計部品の製造方法に基づき、当該製造方法は、基板上に合金を堆積し、50ミクロン以上の厚みを有する前記時計部品の少なくとも1つの側壁を形成することからなる電着ステップを含み、前記電着ステップは、ニッケルを含む化合物と、ニッケルを含まず、特にリン、またはホウ素B、ビスマスBi、炭素C、塩素Cl、カルシウムCa、インジウムIn、マンガンMn、錫SnまたはジルコニウムZrから選択される元素を含む第2化合物とを、得られる前記合金が91%以上99.8%以下の重量含有量でニッケル、及び0.2%以上6%以下、または0.2%以上4%以下の重量含有量で前記第2化合物から生じる第2元素を含むような割合で含む電解浴を用いて行われる。変形例として、得られた合金は、重量含有量で94%以上99.8%以下または96%以上99・8%以下のニッケルを含む。
本発明は、具体的には請求項で定義される。
こうした本発明の目的、特徴、及び利点は、添付の図面と関連して以下で非限定的に与えられる特定の実施形態の説明において詳細に開示される。
図1は、各種熱処理を経た、電鋳ニッケルまたはニッケル-リンNi-P部品の強度損失の、5時間の経時変化の曲線を示す。 図2は、本発明の一実施形態にかかる時計部品の製造方法の電着ステップにおけるサッカリンの効果を示す。 図3は、本発明の実施形態にかかる電鋳ニッケル-リンNi-P部品の各種熱処理で得られる、屈曲試験の結果を示す。
本発明の実施形態は、第一に、厚い部品、すなわち50ミクロン以上の厚みを有する部品、または50ミクロン以上の厚みを有する部品の部分に関する。このような厚みでは、部品製造中または時計ムーブメントぜんまいの場合のように機械的応力に曝される部品の使用中に亀裂を引き起こす、部品内の考えうる内部応力の結果を無視することはできない。当該技術的問題は、反対に、内部応力がわずかな影響しかない薄い厚みについては無視可能である点に留意する。
更に、本発明の好ましい実施形態は、以下に詳細に説明するように、リンの割合が少ないニッケル及びリンNi-Pに基づく合金の使用に基づく。合金に用いられる元素について本明細書で言及される全ての割合は、重量パーセントである。
このため、本発明の実施形態は、電鋳によるNi-Pに基づく部品の製造方法の実施を含む。電鋳は、従来技術から既知の装置を用いて、例えばLIGA、フォトリソグラフィー、及びガルバニー堆積技術で、電極を形成する層で任意に覆われる基板に対して実施される。こうして堆積された合金は、その後、最終部品を形成するために、基板から取り外される。このため、本発明の実施形態によれば、部品の製造方法は、一体のブロックの、合金の厚い層を形成することからなる、少なくとも1つの電着ステップを含む。ここで留意すべきは、その後、少なくとも1つの他の層を形成するために、また例えば多層部品を形成するために、他の電着ステップを実施すること、または上述の厚い電着層へ部品の他のサブパーツをあらゆる手段で固着するステップを実施することは除外されない。
このために、実施形態にかかる方法は、従来技術の純ニッケルまたはニッケル-リン溶液槽の慣例の組成から逸脱する電解浴を使用する。本発明の実施形態にかかる当該溶液槽は、特に、例えばNi-P溶液槽に存在するような従来の化学成分に追加してもよい光沢剤、具体的にはサッカリンを含む。本発明の実施形態にかかる電解浴の各種元素の総量は、アモルファスドメインを避けるために、電着部品で最終的に得られるリンの量が、6%以下であるような総量である。この割合は、変形例として、4%以下でもよい。いずれの場合でも、割合は、好ましくは0.2%以上である。このように、本発明の実施形態は、少量のリンを、大きな厚みのNi-P合金製の電鋳部品に結合させるが、これは、このような部品は必然的に亀裂の問題を引き起こし、使用不能であると認めていた当業者の予想に反するものである。実際に、低含有量のリンは磁性の結晶質合金に至り、当該合金は、通常小さな厚みで堆積される際に内部引張応力に曝される。このため、こうして得られた厚みの大きな堆積では、高い亀裂の危険性を示す。
本発明の例示的実施形態では、使用される電解浴は、以下の組成を有してもよい。90g/lのNiと6g/lのCl、5g/lのB、0.2g/lのリン、及び15ml/lの市販光沢剤Niron84。当該溶液槽は、2.7A/dmの電流密度下で、50℃で2時間を超える堆積を用いて、3.9重量%のリンを含み60ミクロンの厚みを有する部品を得ることを可能にする。
本発明の他の例示的実施形態は、90g/lのNi及び20 g/lのCl、5g/lのB、0.2g/lのリン、16ml/lの市販光沢剤Niron84及び2g/lのサッカリンからなる電解浴を用いる。当該溶液槽は、2.7A/dmの電流密度下で、50℃で4時間を超える堆積を用いて、0.22重量%のリンを含み100ミクロンの厚みを有する部品を得ることを可能にする。
本発明の他の例示的実施形態によれば、使用される電解浴は、以下の組成を有してもよい。105g/lのNi及び20g/lのCl、5g/lのB、6g/lのリン及び1.5g/lのサッカリン。当該溶液槽は、1.5A/dmの電流密度下で、60℃で18時間を超える堆積を用いて、2.4重量%のリンを含み300ミクロンの厚みを有する部品を得ることを可能にする。
本発明の他の例示的実施形態は、90g/lのNi及び20g/lのCl、5g/lのB、3.2g/lのリン及び5g/lのサッカリンからなる電解浴を用いる。当該溶液槽は、2.7A/dmの電流密度下で、50℃で4時間を超える堆積を用いて、1.2重量%のリンを含み100ミクロンの厚みを有する部品を得ることを可能にする。
本発明の他の例示的実施形態によれば、使用される電解浴は、以下の組成を有してもよい。90g/lのNi及び20g/lのCl、5g/lのB、8g/lのリン及び6g/lのサッカリン。当該溶液槽は、2.7A/dmの電流密度下で、50℃で12時間を超える堆積を用いて、1.8重量%のリンを含み350ミクロンの厚みを有する部品を得ることを可能にする。
当該電鋳は更に、例えば700ミクロンまでの、相当大きな堆積厚みを得ることを可能にする。
前述の実施例は、最終的に二元Ni-P合金を得ることを可能にする。変形例として、以下の例示的実施形態は、三元のニッケル系合金を得ることを可能にする。
ある例示的実施形態は、90g/lのNi及び20g/lのCl、5g/lのB、8g/lのリン、1g/lのコバルト及び6.5g/lのサッカリンからなる電解浴を用いる。当該溶液槽は、1.5A/dmの電流密度下で、60℃で48時間を超える堆積を用いて、1.8重量%のリンと5.8重量%のコバルトを含み、約70ミクロンの厚みを有する結晶部品を得ることを可能にする。
他の例示的実施形態は、90g/lのNi及び20g/lのCl、5g/lのB、8g/lのリン、1g/lのコバルト及び8g/lのサッカリンからなる電解浴を用いる。当該溶液槽は、1.5A/dmの電流密度下で、60℃で4時間を超える堆積を用いて、1.6重量%のリンと6.3重量%のコバルトを含み、約54ミクロンの厚みを有する結晶部品を得ることを可能にする。
他の例示的実施形態は、90g/lのNi及び20g/lのCl、5g/lのB、8g/lのリン、1g/lのコバルト及び10g/lのサッカリンからなる電解浴を用いる。当該溶液槽は、1.5A/dmの電流密度下で、60℃で4時間を超える堆積を用いて、1.4重量%のリンと5.5重量%のコバルトを含み、約51ミクロンの厚みを有する結晶部品を得ることを可能にする。
90g/lのNi及び6g/lのCl、5g/lのB、2.25g/lのリン及び10ml/lの市販光沢剤Niron84からなる電解浴を用いた実施形態もさらに試みられた。当該溶液槽は、2.7A/dmの電流密度下で、60℃で2時間を超える堆積を用いて、8重量%のリンを含み、約49ミクロンの厚みを有するアモルファス部品を得ることを可能にする。しかしながら当該リン含有量からは、結果としてクリープに耐えられないアモルファス素材が得られることが判明した。このため、当該欠点を回避するため、ある有利な解決策は、リンの重量含有率を6%以下の値に制限することからなる。
本発明の実施形態によれば、電解浴は、内部応力を制限し、部品の亀裂を防止するため、少なくとも1つの光沢剤、好ましくは少なくとも1g/lの光沢剤を含む。有利には、光沢剤はサッカリンである。有利には、3から8g/lの量のサッカリンが電解浴に存在する。サッカリンの添加は、内部引張応力の状態から、電鋳素材の特性を維持するために著しく有利である内部圧縮応力の状態へ移行することを可能にする。ここで留意すべきは、サッカリンはリンの堆積を抑制し、リンを少ない割合に制限するが、従来技術の取り組み方は大きな割合のリンを求めることからなるため、従来技術においてサッカリンはニッケル-リン合金とは一緒に使用されない。更に、溶液槽のサッカリン含有量は、サッカリンが有機添加剤として電着浴を分解し電着浴を不安定にするため、正確に監視されなければならない。サッカリンが有機添加剤として電着浴を分解し電着浴を不安定にすることは、従来技術でサッカリンを用いない理由の付加的論拠である。反対に、本発明の実施形態において、サッカリンは、単一の光沢剤としても使用される、すなわちサッカリンを選択して他の基礎光沢剤が完全に溶液槽から除去される。
図2はサッカリンの効果を図示する。図2は、具体的には、2.7A/dmの電流密度下で、1.5から3.1の間のpHで、50℃の堆積を用いて、いくつかのサッカリン割合における、上述の電解浴を用いた各種電鋳部品で得られる内部応力を示す。
操作上、内部応力は、ストリップひずみゲージを用いて、具体的には2つのパーツを含みその1つが電着により被膜される銅タングを用いて測定される。タングの被膜があるパーツとないパーツとの2つのパーツ間のギャップの測定により、被膜の内部応力を推定することができる。
理論上、応力S(psi)は、以下の数式で計算される。
Figure 0007001598000001
ここで、
Uは、機器上で測定されたギャップを示し、
Kは、使用したストリップの種類に関連づけられた定数を示し、
Mは、基板の弾性係数に対する堆積の弾性係数を示し、
Tは、堆積した厚みを示す。
整数の応力は、表面が張力を受けていることを示し、負数の応力は、表面の圧縮を示す。張力を受けている場合、亀裂の危険性は高い。
全ての場合において、上述のように電解浴の組成が最適化された場合、電着もまた好ましい条件で実施されることが有利である。このためには、好ましい条件は、温度では40℃から60℃の間、好ましくは45℃から55℃の間、理想的には実質的に50℃に等しい温度で達成されるように思われる。好ましい条件は、溶液のpHについては、1.5から4.1の間、好ましくは1.5から3.5の間、理想的には実質的に3.0に等しいpHで達成される。最後に、加えられる電流密度は、好ましくは1.0から3.5A/dmの間、または2.0から3.5A/dmの間、理想的には実質的に2.7A/dmに等しい電流密度である。
本発明の実施形態の有利な変形例によれば、電鋳部品の製造方法は、電着ステップの後に、付加的な熱処理ステップを含む。
有利には、当該熱処理は、電鋳により部品を製造する分野で慣例的に有益と認識される熱処理と比較して、比較的低い温度で実施される。特に、当該熱処理は、好ましくは、370℃以下の温度で実施される。当該温度は、150℃以上350℃以下、または200℃以上320℃以下、または220℃から270℃の間でもよい。
図3の表は、特に熱処理による弾性限度の増加を図示する。表は、熱処理なしの結果と、450℃、300℃、及び250℃の温度での熱処理の結果とを比較することを可能にする。表によると、例えば450℃の温度は、NiP相の沈殿により部品の脆性挙動を引き起こすため、高すぎることがわかる。250℃と300℃での2つの試験は満足なものである。
図1は、同様に、13日間にわたる、熱処理が行われた場合と行われなかった場合との実施例にかかる電鋳部品の緩和に対する熱処理の効果を示す。曲線1は、従来技術にかかる、熱処理なしの純ニッケル部品で得られた結果を示す。13日後に、約20%の強度低下がみられた。曲線2は、熱処理を行わなかった場合の、本発明にかかるニッケル-リン部品で得られた結果を示す。曲線2は、図3の表の1段目に対応する。曲線3、4、5は、それぞれ300℃で30分、450℃で10分、及び250℃で2時間の熱処理を行った場合に得られた結果を示す。これら3つの場合、強度低下は、13日後に3%以下であった。留意すべき点として、最高の結果は、250℃の一番低い温度で得られた。曲線3、4、5は、図3の表の下から3つの列にそれぞれ対応することに留意されたい。より一般的には、熱処理は、300℃以上の温度で、30分以下の長さで、実施されてもよい。変形例として、熱処理は240℃と260℃の間の温度で、または200℃と270℃との間の温度で、1時間以上2時間以下の長さで、実施されてもよい。もちろん、温度と熱処理の継続時間との間で折衷が選択される。温度が高くなれば、継続時間は短くなる。
本発明の実施形態は、Ni-P合金を用いて説明した。実施形態の変形例として、好ましい実施形態で用いられたリンは、以下の元素の1つと交換されてもよい。ホウ素B、ビスマスBi、炭素C、塩素Cl、カルシウムCa、インジウムIn、マンガンMn、錫SnまたはジルコニウムZr。変形として、リンは、以下の元素の1つと交換されてもよい。ビスマスBi、炭素C、塩素Cl、カルシウムCa、インジウムIn、マンガンMn、錫SnまたはジルコニウムZr。
他の実施形態の変形例によれば、合金は、三元素合金を形成するために、ニッケルNiに2つの元素を追加することで形成されてもよい。追加される第1元素は、リンまたは上記で列挙された元素の1つでよく、追加される第2元素は、鉄 (Fe)、クロム(Cr)、コバルト(Co)、銅(Cu)、マンガン(Mn)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)、亜鉛(Zn)の中でもよい。
最後に、他の実施形態変形例によれば、上述の合金からニッケルを他の金属、特に銅またはアルミニウムと交換することで他の合金を得ることもできる。全ての場合において、ニッケル、または銅やアルミニウムのような他の代替元素は、電解浴と得られた部品において大量に存在し、好ましくは91%以上の、または94%以上の、96%以上の割合で存在する。
本発明はまた、前述の製造方法により得られた部品に関する。前述の合金製の当該部品、または少なくとも当該部品の一部は、層を電着するステップで製造される、一体であり50ミクロン以上の厚みを有する少なくとも1つの側壁を有する。このため部品は、厚みの少ない区域を有してもよい。部品はまた、前述の製造方法に従って得られた層の全体または部分的な重ねあわせを含んでもよい。更に部品は、石やルビー製の爪といった少なくとも1つの第2部品を含んでもよい。部品はまた、Ni-P合金以外の素材製の、少なくとも1つの部分、とりわけ機能部分を含んでもよい。
更に部品は、ニッケル、または銅またはアルミニウムといった第1金属元素を、大量に、91%以上99.8%以下の割合で含み、リン、または上記で列挙された代替元素の1つといった少なくとも1つの第2元素を、少量、0.2%以上6%以下、または0.2%以上4%以下含む。合金は、2つの元素、または上記の変形例に従えば3つの元素、を含んでも良い。もちろん、合金は更に、他の言及した元素と比較して考慮に入れる必要のない不純物を含んでもよい。このため、言及した合金は、言及した2つまたは3つの元素からなってもよく、このため二元または三元であってもよい(可能性のある不純物を考慮に入れない)。留意すべきは、得られた部品、特に部品の前述の合金は、大きな厚みを有しており、単純な表面被膜と比較できない点である。一実施形態によれば、言及した合金は、部品の全厚みを占める。変形例として、合金は部品の全厚みを占めない、または部品の一部のみを占める。他の有利な実施例として、言及した合金は、ホウ素を含まない、及びまたはタリウムを含まない。
このような部品は、時計ムーブメントに、及び時計に、有利に用いられる。特に、リン低含有量のニッケル-リン合金製の厚い電鋳部品の時計における使用は、これらの部品が特にクリープ耐性を示すことが証明されていることから、特に有利である。当該利点は、特にこれら部品がその十分な厚みにかかわらず含んでいる内部応力が少量またはないという事実から生じる。当該部品はまた、例えば小型時計ケースや留め金といった、時計のその他のサブパーツに用いてもよい。
特に、前述の部品の製造方法は、有利には、実例且つ非限定的な例として、ぜんまい、ぜんまいレバー、ジャンパ、アンクル、歯車、ラック、てん輪、カム、ギヤまたは受といった、時計部品の製造に用いてもよい。当該部品は、少なくとも2つの別個の高さを含んでもよい。
最後に、本発明は、前述の部品を含む、小型時計、特に腕時計といった、時計に関する。

Claims (18)

  1. 時計部品の製造方法であって、基板上に合金を堆積し、50ミクロン以上、700ミクロンまでの厚みを有する前記時計部品の少なくとも1つの側壁を形成することからなる電着ステップを含み、
    前記電着ステップは、ニッケルを含む化合物と、ニッケルを含まず、リンPを含む第2化合物と、少なくとも1つの光沢剤と、を含む電解浴を用いて行われ、
    得られる前記合金が91%以上99.8%以下の重量含有量でニッケル、及び0.2%以上6%以下の重量含有量で前記第2化合物から生じるリンPを含み、
    前記電解浴は、ニッケルを含まず、鉄Fe、クロムCr、コバルトCo、銅Cu、マンガンMn、パラジウムPd、白金Pt、亜鉛Znから選択される元素を含む、第3化合物を含む
    時計部品の製造方法。
  2. 前記電解浴は、少なくとも1つの光沢剤を、1g/l以上の量で含む、
    請求項1に記載の時計部品の製造方法。
  3. 前記電解浴は、3g/l以上8g/l以下のサッカリンを含む、
    請求項2に記載の時計部品の製造方法。
  4. 時計部品の製造方法であって、基板上に合金を堆積し、50ミクロン以上、700ミクロンまでの厚みを有する前記時計部品の少なくとも1つの側壁を形成することからなる電着ステップを含み、
    前記電着ステップは、ニッケルを含む化合物と、ニッケルを含まず、リンPを含む第2化合物と、少なくとも1つの光沢剤と、を含む電解浴を用いて行われ、
    得られる前記合金が91%以上99.8%以下の重量含有量でニッケル、及び0.2%以上6%以下の重量含有量で前記第2化合物から生じるリンPを含み、
    前記電解浴は、少なくとも1つの光沢剤を、1g/l以上の量で含み、
    前記電解浴は、3g/l以上8g/l以下のサッカリンを含む
    計部品の製造方法。
  5. ぜんまい、ぜんまいレバー、ジャンパ、アンクル、歯車、ラック、てん輪、カム、ギヤまたは受の中から、時計部品の製造を可能にする
    請求項1から4のいずれか一項に記載の時計部品の製造方法。
  6. 時計部品の製造方法であって、基板上に合金を堆積し、50ミクロン以上、700ミクロンまでの厚みを有する前記時計部品の少なくとも1つの側壁を形成することからなる電着ステップを含み、
    前記電着ステップは、ニッケルを含む化合物と、ニッケルを含まず、リンPを含む第2化合物と、少なくとも1つの光沢剤と、を含む電解浴を用いて行われ、
    得られる前記合金が91%以上99.8%以下の重量含有量でニッケル、及び0.2%以上6%以下の重量含有量で前記第2化合物から生じるリンPを含み、
    ぜんまい、ぜんまいレバー、ジャンパ、アンクル、歯車、ラック、てん輪、カム、ギヤまたは受の中から、時計部品の製造を可能にする、
    時計部品の製造方法。
  7. 前記サッカリンは、前記電解浴の唯一の光沢剤である
    請求項3または4に記載の時計部品の製造方法。
  8. 前記電着ステップは、
    40℃から60℃の間の電解浴温度の適用を含む、
    請求項1から7のいずれか一項に記載の時計部品の製造方法。
  9. 前記電着ステップは、
    1.5から4.1の間の前記電解浴のpHの選択を含む
    請求項1から8のいずれか一項に記載の時計部品の製造方法。
  10. 前記電着ステップは、
    1.0と3.5A/dm の間で適用された電流密度を含む
    請求項1から9のいずれか一項に記載の時計部品の製造方法。
  11. 得られた前記部品のクリープ及びまたは緩和現象に関する性能を改善するために、150℃以上350℃以下の温度で行われる、前記電着ステップ後に得られた前記部品の熱処理ステップを含む
    請求項1から10のいずれか一項に記載の時計部品の製造方法。
  12. 前記熱処理ステップは、300℃以上の温度で30分以下の継続時間、または200℃から270℃の間の温度で、1時間以上2時間以下の間、行われる、
    請求項11に記載の時計部品の製造方法
  13. 部品に堆積された合金を含み、
    前記合金は、第1元素と、第2元素とを含み、
    前記第1元素は、91%以上99.8%以下の重量割合のニッケルであり、
    前記第2元素は、0.2%以上6%以下の重量割合のリンPであり、
    前記合金が50ミクロン以上700ミクロンまでの厚みを有する少なくとも1つの側壁を含み、
    前記合金は、前記第1及び第2元素と異なる、鉄Fe、クロムCr、コバルトCo、銅Cu、マンガンMn、パラジウムPd、白金Pt、亜鉛Znから選択される、第3元素をさらに含む
    鋳時計部品。
  14. 前記電鋳時計部品は、ぜんまい、ぜんまいレバー、ジャンパ、アンクル、歯車、ラック、てん輪、カム、ギヤまたは受である
    請求項13に記載の電鋳時計部品。
  15. 部品に堆積された合金を含む電鋳時計部品であって、
    前記合金は、第1元素と、第2元素とを含み、
    前記第1元素は、91%以上99.8%以下の重量割合のニッケルであり、
    前記第2元素は、0.2%以上6%以下の重量割合のリンPであり、
    前記合金が50ミクロン以上700ミクロンまでの厚みを有する少なくとも1つの側壁を含み、
    前記電鋳時計部品は、ぜんまい、ぜんまいレバー、ジャンパ、アンクル、歯車、ラック、てん輪、カム、ギヤまたは受である
    鋳時計部品。
  16. 前記合金は、タリウムを含まない、
    請求項13から15のいずれか一項に記載の電鋳時計部品
  17. 請求項13から16のいずれか一項に記載の時計部品を含む、時計ムーブメントまたは時計のサブパーツ
  18. 請求項13から16のいずれか一項に記載の時計部品を含む、時計。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH713970A1 (fr) * 2017-07-12 2019-01-15 Sa De La Manufacture Dhorlogerie Audemars Piguet & Cie Composant horloger en alliage binaire CuNi amagnétique.
EP3670440A1 (fr) 2018-12-21 2020-06-24 Rolex Sa Procédé de fabrication d'un composant horloger
EP3670441A1 (fr) 2018-12-21 2020-06-24 Rolex Sa Procédé de fabrication d'un composant horloger
EP3748437A1 (fr) 2019-06-07 2020-12-09 Rolex Sa Fabrication d'un composant horloger
EP3822712A1 (fr) * 2019-11-13 2021-05-19 Rolex Sa Composant pour pièce d'horlogie
EP3968095A1 (fr) * 2020-09-15 2022-03-16 ETA SA Manufacture Horlogère Suisse Procédé de fabrication d'un composant de micromécanique, notamment d'un mobile d'horlogerie, avec surface de contact optimisee
JP2023016727A (ja) 2021-07-22 2023-02-02 ロレックス・ソシエテ・アノニム 2つの時計部品を機械的に結合するリング

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002328180A (ja) 2001-05-02 2002-11-15 Seiko Epson Corp 時計用動力伝達部材、この時計用動力伝達部材の製造方法、および時計
US20030178318A1 (en) 2002-03-25 2003-09-25 Joung Soo Kim Method for electroplating Ni-Fe-P alloys using sulfamate solution
JP2013096009A (ja) 2011-10-27 2013-05-20 Nivarox-Far Sa マイクロメカニカル時計部品の熱処理方法
US20130168259A1 (en) 2010-08-27 2013-07-04 Ipt International Plating Technologies Gmbh Electrolytic bath for electrodeposition and method for producing same
JP2014198897A (ja) 2013-03-14 2014-10-23 セイコーインスツル株式会社 金属構造体、金属構造体の製造方法、ばね部品、時計用発停レバーおよび時計

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4844138A (ja) * 1971-06-15 1973-06-25
FR2202953A1 (en) * 1973-01-20 1974-05-10 Ibm Electrodeposition of nickel-iron alloys - for use in transducers, plating soln. contains thiocyanate ions to increase nickel-iron ratio
JPS5725640B2 (ja) * 1974-04-23 1982-05-31
JPS5684469A (en) * 1979-12-14 1981-07-09 Seiko Epson Corp Exterior parts for watch
JPS59200794A (ja) * 1983-04-28 1984-11-14 Seiko Instr & Electronics Ltd 時計用外装部品
JPS6013094A (ja) * 1983-06-30 1985-01-23 Seiko Instr & Electronics Ltd 腕時計用バンドの製造方法
JPS6089564A (ja) * 1983-10-21 1985-05-20 Seiko Instr & Electronics Ltd 腕時計用バンドの製造方法
AU7488587A (en) * 1986-05-30 1987-12-22 McComas, C.E. Corrosion/wear-resistant metal coating compositions
US4833041A (en) * 1986-12-08 1989-05-23 Mccomas C Edward Corrosion/wear-resistant metal alloy coating compositions
JPS63233853A (ja) * 1987-03-24 1988-09-29 Asahi Chem Ind Co Ltd プリンタヘツド
US5496651A (en) * 1993-02-03 1996-03-05 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Machine part resistant to rolling friction
US6099624A (en) * 1997-07-09 2000-08-08 Elf Atochem North America, Inc. Nickel-phosphorus alloy coatings
JP2001355094A (ja) * 2000-06-13 2001-12-25 Citizen Watch Co Ltd 装飾被膜を有する基材およびその製造方法
DE10052960C9 (de) * 2000-10-25 2008-07-03 AHC-Oberflächentechnik GmbH & Co. OHG Bleifreie Nickellegierung
EP1237058A1 (fr) * 2001-02-28 2002-09-04 Eta SA Fabriques d'Ebauches Utilisation d'un revêtement amagnétique pour recouvrir des pièces dans un mouvement d'horlogerie
AU2003209584A1 (en) * 2002-02-06 2003-09-02 Liqun Feng Commercial process for electroplating nickel-phosphorus coatings
US20040011432A1 (en) * 2002-07-17 2004-01-22 Podlaha Elizabeth J. Metal alloy electrodeposited microstructures
CN101074483A (zh) * 2006-05-19 2007-11-21 何靖 镍钴磷电镀组成物、电镀液及利用该电镀液的电镀方法
CN101445946B (zh) * 2008-11-27 2011-02-09 湖南纳菲尔新材料科技股份有限公司 一种Ni-W-P三元合金防腐耐磨电沉积镀层及其生产工艺和电镀液
CH706336B1 (fr) * 2012-04-02 2016-03-31 Haute Ecole Arc Bain galvanique pour le dépôt électrolytique d'un matériau composite.
CN102773432B (zh) * 2012-08-01 2015-04-22 西峡龙成特种材料有限公司 一种镍磷合金镀层连铸结晶器铜板及其制备工艺
EP2952971B1 (fr) * 2014-06-05 2016-10-12 Nivarox-FAR S.A. Ancre pour mécanisme d'échappement d'un mouvement de montre

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002328180A (ja) 2001-05-02 2002-11-15 Seiko Epson Corp 時計用動力伝達部材、この時計用動力伝達部材の製造方法、および時計
US20030178318A1 (en) 2002-03-25 2003-09-25 Joung Soo Kim Method for electroplating Ni-Fe-P alloys using sulfamate solution
US20130168259A1 (en) 2010-08-27 2013-07-04 Ipt International Plating Technologies Gmbh Electrolytic bath for electrodeposition and method for producing same
JP2013096009A (ja) 2011-10-27 2013-05-20 Nivarox-Far Sa マイクロメカニカル時計部品の熱処理方法
JP2014198897A (ja) 2013-03-14 2014-10-23 セイコーインスツル株式会社 金属構造体、金属構造体の製造方法、ばね部品、時計用発停レバーおよび時計

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