JP6838369B2 - ネガ型感光性樹脂組成物、硬化パターンの製造方法、硬化物及び電子デバイス - Google Patents
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Description
本発明者らは、パターンのすそ引きを低減することができ、解像度に優れるネガ型感光性樹脂組成物について鋭意検討した結果、特定の成分を含むネガ型感光性樹脂組成物を用いることでこの要求を満足できることを見出し、本発明を完成した。
1.下記(a)〜(d)成分を含むネガ型感光性樹脂組成物。
(a)下記式(I)で示される構造単位を有するポリベンゾオキサゾール前駆体
(b)酸の作用により前記(a)成分と架橋又は重合し得る化合物
(c)365〜700nmの波長領域の活性光線を照射することにより酸を発生する化合物
(d)前記(a)成分と異なるアルカリ可溶性化合物
2.前記式(I)のVが炭素数1〜30の脂肪族鎖状構造を含む基である1に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
3.前記式(I)のU及びVの少なくとも一方が、下記式(UV1)又は(UV2)で表される構造を含む1又は2に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
4.前記(a)成分が、アルカリ水溶液に可溶である1〜3のいずれかに記載のネガ型感光性樹脂組成物。
5.前記(d)成分が、フェノール性ヒドロキシル基、アルコール性ヒドロキシル基、アクリル基、及びメタクリル基から選択される1以上の官能基を含有する化合物である1〜4のいずれかに記載のネガ型感光性樹脂組成物。
6.前記(d)成分が、フェノール性ヒドロキシル基を含有する化合物である1〜5のいずれかに記載のネガ型感光性樹脂組成物。
7.前記(d)成分が、1−[α−メチル−α−(4−ヒドロキシフェニル)エチル]−4−[α、α−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼンである1〜6のいずれかに記載のネガ型感光性樹脂組成物。
8.前記(a)成分100質量部に対して、前記(b)成分を0.01〜50質量部、前記(c)成分を0.1〜10質量部、及び前記(d)成分を0.01〜30質量部含有する1〜7のいずれかに記載のネガ型感光性樹脂組成物。
9.1〜8のいずれかに記載のネガ型感光性樹脂組成物を支持基板上に塗布し、乾燥して感光性樹脂膜を形成する工程、
前記感光性樹脂膜を露光し加熱する工程、
前記露光及び加熱によって得られた樹脂膜を、アルカリ水溶液を用いて現像する工程、及び
前記現像によって得られた樹脂パターンを加熱処理する工程
を含む硬化パターンの製造方法。
10.前記現像によって得られた樹脂パターンを加熱処理する工程における加熱処理温度が220℃以下である9に記載の硬化パターンの製造方法。
11.1〜8のいずれかに記載のネガ型感光性樹脂組成物の硬化物。
12.11に記載の硬化物からなる層を、層間絶縁膜又は表面保護膜として含む電子デバイス。
なお、本明細書において「A又はB」とは、AとBのどちらか一方を含んでいればよく、両方とも含んでいてもよい。また、本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。また、本明細書においてネガ型感光性樹脂組成物中の各成分の含有量は、ネガ型感光性樹脂組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、ネガ型感光性樹脂組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。さらに、例示材料は特に断らない限り単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、(a)下記式(I)で示される構造単位を有するポリベンゾオキサゾール前駆体(以下、「(a)成分」とする)、(b)酸の作用により前記(a)成分と架橋又は重合し得る化合物(以下、「(b)成分」とする)、(c)365〜700nmの波長領域の活性光線を照射することにより酸を発生する化合物(以下、「(c)成分」とする)、及び(d)(a)成分と異なるアルカリ可溶性化合物(以下、「(d)成分」とする)を含む。
また、本発明のネガ型感光性樹脂組成物から得られる硬化パターンは耐熱性、薬品耐性及び機械特性に優れ、さらに220℃以下の低温で硬化した場合であってもこれらの特性に優れる。
以下、各成分について説明する。
(a)成分は、上記式(I)で示される構造単位を有するポリベンゾオキサゾール前駆体であって、通常、酸の存在下で(b)成分と架橋反応し得る。
なお、架橋反応には加熱を伴うものも含む。
ポリベンゾオキサゾール前駆体(ポリヒドロキシアミド)のアルカリ水溶液に対する可溶性はフェノール性水酸基に由来するため、ヒドロキシ基を含有する構造単位が一定以上含まれていることが好ましい。
Vが炭素数1〜30の脂肪族構造を含む基であるとき、Uは任意の2価の有機基でよい。Uが、主鎖を構成する炭素数が1〜30の脂肪族構造を含む基であるとき、Vは任意の2価の有機基でよい。また、Vが炭素数1〜30の脂肪族構造を含む基であり、かつ、Uが、主鎖を構成する炭素数が1〜30の脂肪族構造を含む基であってもよい。
炭素数が6以上である場合、良好な機械特性が得られる傾向にあり、炭素数が20以下である場合、他の成分との相溶性や感光特性の低下が抑制される傾向にある。
このようなジアミン類は、U、Wで表される有機基を有するアミノフェノールとのモル比率で、全アミノフェノールの25%以下として用いることが、式(I)又は(II)で表されるポリマーの感光特性を低下させないために好ましい。さらに好ましくは15%以下である。
〔B群〕メチロール基、アルコキシアルキル基、第三級アルコールに由来する基、シクロアルキル基、オレフィンに由来する基、三重結合を有する基、ハロゲン化アルキル基、エポキシ基等の環状エーテルに由来する基、エステル結合を有する基、カーボネート結合を有する基、イソシアナート基
構造単位と末端基の比率は、1H−NMRによって測定することができる。
末端カルボキシル基がアミノ基よりもモル比率で5倍以上あるものを「カルボキシル基末端である(a)成分」とし、末端アミノ基がカルボキシル基よりもモル比率で5倍以上あるものを「アミノ基末端である(a)成分」とする。カルボキシル基末端である(a)成分は、合成時のジカルボン酸/ジアミン(ビスアミノフェノール)の比率を50/49より大きくすることによって得ることができ、アミノ基末端である(a)成分は合成時のジアミン(ビスアミノフェノール)/ジカルボン酸の比率を50/49よりも大きくすることによって得ることができる。ジカルボン酸及びジアミンを当量用いて(a)の合成を行った場合、カルボキシル基末端である(a)成分とアミノ基末端である(a)成分が合成され、末端基同士が反応してしまうため、安定性が低下し、さらに耐薬品性、耐熱性及び機械特性が低下する傾向がある。(a)成分中のアミノ基の存在は1H−NMRの積分値により容易に定量することができる。
これらの定量は1H−NMRの測定により行うことができる。
本発明で使用する(b)成分(以下、「架橋剤」ともいう)は、酸の作用により前記(a)成分と架橋又は重合し得る化合物であれば特に制限はないが、(a)成分と反応する官能基を分子内に少なくとも1つ以上有する化合物であることが好ましい。
(b)成分と(a)成分とが架橋反応する温度は150℃以上であることが好ましく、150℃以上で架橋反応を起こすような官能基を有することが好ましい。150℃以上であると、ネガ型感光性樹脂組成物を塗布、乾燥、露光、現像する各工程で当該成分が架橋反応を起こすことを抑制することができる。
(b)成分は、(a)成分と架橋又は重合し得る化合物であるが、加えて(b)成分同士の分子間で重合するような化合物であってもよい。
これらの化合物は下記式(V)、(VI)で表される化合物として挙げられるが、これらに限定されない。
また、下記式(VII)で示される2価の有機基が好ましいものとして挙げられる。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、(c)成分として、365〜700nmの波長領域の活性光線を照射することにより酸を発生する化合物(以下、「酸発生剤」ともいう)を用いる。
(c)成分としては、例えば、ジアリールスルホニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、ジアルキルフェナシルスルホニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、芳香族テトラカルボン酸エステル、芳香族スルホン酸エステル、ニトロベンジルエステル、オキシムスルホン酸エステル、芳香族N−オキシイミドスルフォネート、芳香族スルファミド、ハロアルキル基含有炭化水素系化合物、ハロアルキル基含有ヘテロ環状化合物等が挙げられる。
式(C4)又は(C5)で表される芳香族オキシムスルホン酸エステルを用いると感度を高くすることができるため好ましい。
(c)成分の量が15質量部以下であると、(c)成分由来の吸収帯による光の吸収が抑制され、露光した光が底部まで十分に到達するため、良好なパターン形状が得られる傾向にある。また、(c)成分の量が0.01質量部以上であると、良好な感度が得られる傾向にある。
本発明で用いる(d)成分のアルカリ可溶性化合物は、アルカリ現像液に対して溶解するものであれば特に制限はないが、樹脂の未露光領域での溶解速度を増加させる一方で、露光領域での溶解速度を増加させすぎない化合物であることが好ましい。露光領域の溶解速度を高めすぎた場合、樹脂が過度に溶解しやすくなり、残膜率が低くなってしまうという問題が生じる場合がある。一方、未露光領域の溶解速度を高め、かつ、露光領域の溶解速度が適度に高められた場合は、未露光領域に侵入してきた反射光による樹脂の不溶化に起因するすそ引きを低減し、高解像度化が期待できる。
尚、(d)成分は(b)成分とは異なる成分である。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、上記(a)〜(d)成分に加えて、通常、溶媒を含み、その他、(1)接着性付与剤、(2)界面活性剤又はレベリング剤等を含有してもよい。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、通常、上記の各成分を溶剤に溶解し、ワニス状にして使用する。溶剤としては、N−メチル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、2−メトキシエタノール、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、メチル−1,3−ブチレングリコールアセテート、1,3−ブチレングリコールアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、硬化膜の基板との接着性を高めるために、有機シラン化合物、アルミキレート化合物等の接着性付与剤を含んでもよい。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、塗布性、例えばストリエーション(膜厚のムラ)を防いだり、現像性を向上させるために、界面活性剤又はレベリング剤を含んでもよい。界面活性剤又はレベリング剤としては、例えば、ポリオキシエチレンウラリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル等が挙げられる。
本発明の硬化パターンの製造方法は、上述したネガ型感光性樹脂組成物を支持基板上に塗布、乾燥して感光性樹脂膜を形成する工程、感光性樹脂膜を露光する工程、露光後の樹脂膜を加熱する工程、加熱後の樹脂膜を、アルカリ水溶液を用いて現像する工程、及び現像後の樹脂パターンを加熱処理する工程を経て、所望の耐熱性高分子からなる硬化パターンを製造することができる。
以下、各工程について説明する。
ネガ型感光性樹脂組成物を支持基板上に塗布し乾燥する工程では、ガラス基板、半導体、金属酸化物絶縁体(例えばTiO2、SiO2等)、窒化ケイ素等の支持基板上に、上述したネガ型感光性樹脂組成物を、スピンナー等を用いて回転塗布する。その後、ホットプレート、オーブン等を用いて乾燥することにより、支持基板上にネガ型感光性樹脂組成物の被膜である感光性樹脂膜を形成する。
次に、支持基板上で被膜となったネガ型感光性樹脂組成物(感光性樹脂膜)に、マスクを介して紫外線、可視光線、放射線等の活性光線を照射する。
続いて、露光後加熱工程では、露光後の樹脂膜を、ホットプレート等を用いて加熱する。露光後加熱は、(c)成分から発生した酸を用いて(a)成分と(b)成分の架橋を促進するために行うものである。露光後加熱温度が低すぎると、(a)成分と(b)成分の架橋が十分に起こらず解像度が悪化する可能性があり、露光後加熱温度が高すぎると、露光領域において(c)成分から発生した酸が未露光領域にも拡散し、すそ引きの形成を促進して解像度を悪化させる可能性、もしくは、未露光領域における(a)成分と(b)成分の熱架橋反応を促進してしまい解像度を悪化させる可能性があるので、適切な露光後加熱温度を選択することが重要である。露光後加熱温度は、100℃以上が好ましい。
続いて、現像工程では、未露光部を現像液で除去することにより樹脂パターンが得られる。
現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のアルカリ水溶液が好ましいものとして挙げられる。
これらの水溶液の塩基濃度は、0.1〜10質量%とすることが好ましい。さらに、上記現像液にアルコール類や界面活性剤を添加して使用することもできる。これらはそれぞれ、現像液100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、より好ましくは0.1〜5質量部の範囲で配合することができる。
次いで、加熱処理工程では、例えば種々の熱拡散炉、加熱炉や硬化炉を使用して、得られた樹脂パターンについて、好ましくは150〜450℃の加熱処理を施すことにより耐熱性高分子からなる硬化パターンとする。本発明においては、加熱処理を220℃以下、好ましくは150〜200℃で行っても十分な膜特性を得ることができる。
次に、本発明の硬化パターンの製造方法の一例として、半導体装置(電子部品)の製造工程の一例を図面に基づいて説明する。図1〜5は、多層配線構造を有する半導体装置の製造工程を説明する概略断面図である。図1〜5において、回路素子(図示しない)を有するSi基板等の半導体基板1は、回路素子の所定部分を除いてシリコン酸化膜等の保護膜2で被覆され、露出した回路素子上に第1導体層3が形成されている。この半導体基板1上に、スピンコート法等で層間絶縁膜としてのネガ型感光性樹脂組成物の層間絶縁膜4が形成される(図1)。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、半導体装置や多層配線板等の電子部品に使用することができる。具体的には、半導体装置の表面保護膜や層間絶縁膜、多層配線板の層間絶縁膜等の形成に使用することができる。本発明の電子部品は、良好な形状と特性のパターンを有するため信頼性が高い。
[ポリベンゾオキサゾール前駆体(a−1)の合成]
撹拌機、温度計を備えた0.2リットルのフラスコ中に、N−メチルピロリドン60gを仕込み、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン13.92g(38mmol)を添加し、撹拌溶解した。続いて、温度を0〜5℃に保ちながら、ドデカン二酸ジクロリド7.48g(28mmol)及び4,4’−ジフェニルエーテルジカルボン酸ジクロリド3.56g(12mmol)を10分間で滴下した後、フラスコ中の溶液を60分間撹拌した。上記溶液を3リットルの水に投入し、析出物を回収し、これを純水で3回洗浄した後、減圧して式(I)で表される構造を有する化合物を含むポリベンゾオキサゾール前駆体を得た(以下、ポリマー(a−1)とする)。ポリマー(a−1)の重量平均分子量をゲルパーミエーションクロマトグラフ(GPC)法にて標準ポリスチレン換算により求めたところ42,000であり、分散度は2.0であった。
<測定装置>
検出器:株式会社日立製作所社製L4000
UVポンプ:株式会社日立製作所社製L6000
株式会社島津製作所社製C−R4A Chromatopac
カラム:日立化成株式会社製Gelpack GL−S300MDT−5×2本
<測定条件>
溶離液:THF/DMF=1/1(容積比)
LiBr(0.03mol/l)、H3PO4(0.06mol/l)
流速:1.0ml/min
検出器:UV270nm
(a)成分としてのポリマー(a−1)100質量部に対し、(b)成分、(c)成分、及び(d)成分を表1に示す所定量(質量部)にて配合した。溶剤としてγ−ブチロラクトンを用いた。溶剤の使用量は、(a)成分100質量部に対し160質量部とした。
用いた各成分は以下の通りである。
・(b−1):下記構造式で表される化合物(株式会社三和ケミカル製、商品名:ニカラックMW−390)
・(c−1):下記構造式で表される化合物(BASF株式会社製、商品名:PAG−103)
・(d−1):下記構造式で表される化合物(本州化学工業株式会社製、商品名:トリスPPA)
実施例1〜14及び比較例1〜4で得られたネガ型感光性樹脂組成物について、解像度、すそ引き及び残膜率を以下に示す方法でそれぞれ評価した。結果を表1に示す。
後述する<残膜率の評価>と同様の方法にて得られた樹脂パターンについて、ラインアンドスペース部のパターンが、はがれ及び残渣なくパターニングできている最小の線幅を解像度とした。解像度が4μm未満のものをA、4μm以上10μm未満のものをB、10μm以上100μm未満のものをC、開口部が得られなかったものをDと評価した。
後述する<残膜率の評価>と同様の方法にて得られた樹脂パターンについて、縦型拡散炉μ−TF(光洋サーモシステム株式会社製)を用いて窒素雰囲気下200℃で1時間加熱し、硬化パターン(硬化後膜厚10μm)を得た。得られた硬化膜の20μm幅の孤立パターンの断面形状観察を卓上顕微鏡(日立ハイテクノロジーズ社製、商品名:TM−3030)にて行い、パターン底部のすそ引きが見られないものをA、すそ引き長さが0μm以上0.5μm未満のものをB、すそ引き長さが0.5μm以上のものをCと評価した。比較例3はパターン形成ができず、比較例4ではネガ型パターンが得られなかったため、すそ引きの評価を行わなかった。
塗布装置(東京エレクトロン株式会社製、商品名:CLEAN TRACK ACT8)を用いて、それぞれのネガ型感光性樹脂組成物をシリコンウエハ上にスピンコートして、110℃で3分間乾燥して乾燥後膜厚が12μmの樹脂膜を形成した。得られた樹脂膜に、i線ステッパ(キヤノン株式会社製、商品名:FPA−3000iW)を用いて露光を行った。露光後、ホットプレートにて110℃で3分間加熱を行い、続いて、TMAHの2.38質量%水溶液にて23℃で現像した後、水でリンスして樹脂パターンを得た。現像時間は、露光後加熱した樹脂膜の未露光部が完全に溶解するまでの時間の1.3倍とした。
現像後の露光部膜厚を現像前の膜厚で除することで残膜率を算出し、残膜率が97%以上のものをA、90%以上97%未満のものをB、60%以上90%未満のものをC、60%未満のものをDと評価した。比較例3はパターン形成ができず、比較例4ではネガ型パターンが得られなかったため、残膜率の評価を行わなかった。
2 保護膜
3 第1導体層
4 層間絶縁膜
5 感光性樹脂膜
6A、6B、6C、6D 窓
7 第2導体層
8 表面保護膜
Claims (12)
- 前記式(I)のVが炭素数7〜30の脂肪族鎖状構造である請求項1に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記式(I)のU及びVの少なくとも一方が、下記式(UV1)又は(UV2)で表される構造を含む請求項1又は2に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記(a)成分が、アルカリ水溶液に可溶である請求項1〜3のいずれかに記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記(d)成分が、フェノール性ヒドロキシル基、アルコール性ヒドロキシル基、アクリル基、及びメタクリル基から選択される1以上の官能基を含有する化合物である請求項1〜4のいずれかに記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記(d)成分が、フェノール性ヒドロキシル基を含有する化合物である請求項1〜5のいずれかに記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記(d)成分が、1−[α−メチル−α−(4−ヒドロキシフェニル)エチル]−4−[α、α−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼンである請求項1〜6のいずれかに記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記(a)成分100質量部に対して、前記(b)成分を0.01〜50質量部、前記(c)成分を0.1〜10質量部、及び前記(d)成分を0.01〜30質量部含有する請求項1〜7のいずれかに記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 請求項1〜8のいずれかに記載のネガ型感光性樹脂組成物を支持基板上に塗布し、乾燥して感光性樹脂膜を形成する工程、
前記感光性樹脂膜を露光し加熱する工程、
前記露光及び加熱によって得られた樹脂膜を、アルカリ水溶液を用いて現像する工程、及び
前記現像によって得られた樹脂パターンを加熱処理する工程
を含む硬化パターンの製造方法。 - 前記現像によって得られた樹脂パターンを加熱処理する工程における加熱処理温度が220℃以下である請求項9に記載の硬化パターンの製造方法。
- 請求項1〜8のいずれかに記載のネガ型感光性樹脂組成物の硬化物。
- 請求項11に記載の硬化物からなる層を、層間絶縁膜又は表面保護膜として含む電子デバイス。
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