JP6831831B2 - ウエハ加工用テープ - Google Patents

ウエハ加工用テープ Download PDF

Info

Publication number
JP6831831B2
JP6831831B2 JP2018503085A JP2018503085A JP6831831B2 JP 6831831 B2 JP6831831 B2 JP 6831831B2 JP 2018503085 A JP2018503085 A JP 2018503085A JP 2018503085 A JP2018503085 A JP 2018503085A JP 6831831 B2 JP6831831 B2 JP 6831831B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer processing
film
support member
processing tape
adhesive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018503085A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2017150330A1 (ja
Inventor
郷史 大田
郷史 大田
阿久津 晃
晃 阿久津
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD.
Original Assignee
THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD. filed Critical THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD.
Publication of JPWO2017150330A1 publication Critical patent/JPWO2017150330A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6831831B2 publication Critical patent/JP6831831B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L21/6836Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J201/00Adhesives based on unspecified macromolecular compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67132Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、本発明は、ウエハ加工用テープに関し、特に、半導体ウエハなどを切断分離(ダイシング)して、チップ状に個片化する際に用いるウエハ加工用テープに関する。
半導体ウエハなどの被加工物をチップ状に個片化する場合、ウエハ加工用テープを用いて被加工物を固定し、回転刃やレーザー光により分割が行われる。また、近年では、半導体ウエハの内部にレーザー光により改質層と呼ばれる脆弱箇所を設け、該改質層が設けられた半導体ウエハをウエハ加工用テープで固定して、ウエハ加工用テープを引張拡張することで、改質層を起点として半導体ウエハを分断して個片化する手法も用いられている。
従来、上記のようなウエハ加工用テープに求められる性能は、加工時の固定性がよいこと、および、加工後にウエハ加工用テープを剥離したときに被加工物への汚染がないことなどであった。ところが、近年、加工後の品質確認のため、チップの状態などを、ウエハ加工用テープが貼合された面から目視確認することが行われている。また、上述のように半導体ウエハの内部にレーザー光により改質層を形成する際に、半導体ウエハのウエハ加工用テープが貼合されていない面、すなわち回路面からのレーザー光照射が、その回路パターンにより困難な場合は、ウエハ加工用テープが貼合された側の面からウエハ加工用テープ越しにレーザー光を照射することが行われている。このような場合においては、ウエハ加工用テープには、可視光、あるいは近赤外光を十分に透過する性能が求められる。
可視光、あるいは近赤外光を十分に透過する手法としては、ウエハ加工用テープ背面の表面粗さRaを0.3μm以下に調整することが開示されている(例えば、特許文献1)。ところで、ウエハ加工用テープは、一般的に、長尺のフィルム形状を有しており、ロール状に巻き取られた巻回体の状態で保管されている。このように、ウエハ加工用テープを巻回体の状態で保管した場合、ウエハ加工用テープ背面の表面粗さRaを小さくしすぎると、巻き重ねられたウエハ加工用テープ同士がくっつきやすく、ウエハ加工用テープを使用するときに、巻回体から繰り出される際にブロッキングと呼ばれる引っ掛かりが発生しやすくなる。そこで、特許文献1には、このブロッキングを抑制するために、ウエハ加工用テープ背面の表面粗さRaを0.1μm以上とすることが好ましいことが開示されている。
ここで、ウエハ加工用テープとしては、ウエハへの貼り付けや、ダイシングの際のリングフレームへの取り付け等の作業性を考慮して、プレカット加工が施されたものがある。プレカット加工されたダイシングテープの例を、図2及び図3に示す。図2、図3(a)、図3(b)は、それぞれダイシングテープ50の斜視図、平面図、断面図である。ウエハ加工用テープ50は、離型フィルム51と、粘着フィルム52とからなる。粘着フィルム52は、ダイシング用のリングフレームの形状に対応する円形形状を有するラベル部52aと、該ラベル部52aの外側を囲むような周辺部52bとを有している。ラベル部52aの周囲には、粘着フィルム52が存在せず、離型フィルム51のみとなっている部分がある。
ウエハをダイシングする際には、粘着フィルム52のラベル部52aを離型フィルム51から剥離し、図4に示すように、半導体ウエハWの裏面を貼り付け、粘着フィルム52の外周部にダイシング用のリングフレームRを粘着固定する。この状態で半導体ウエハWをダイシングし、その後、粘着フィルム52に紫外線照射等の硬化処理を施して半導体チップをピックアップする。このとき、粘着フィルム52は、硬化処理によって粘着力が低下しているので、半導体チップが容易に剥離する。
特開2012‐15236号公報
しかしながら、ウエハ加工用テープ50が、上述のようにプレカット加工されている場合は、離型フィルム51のみの部分とラベル部52aが設けられている部分とが存在するため、ロール状に巻き取ると、ラベル部52aに巻き圧がかかり、特許文献1に示された範囲の表面粗さRaであってもブロッキングが発生しやすくなり、ウエハ加工用テープを使用するときに、巻回体から繰り出そうとしたラベル部52aが巻回体側のウエハ加工用テープ50背面に貼着して持っていかれてしまうことがあった。
そこで、本発明の目的は、プレカット加工されたウエハ加工用テープをロール状に巻き取られた状態で保管したときに、ラベル部52aがウエハ加工用テープの背面とブロッキングするのを抑制し、ロール状に巻き取られた状態から繰り出す際に、ラベル部52aを良好に繰り出すことができるウエハ加工用テープを提供することにある。
上述の課題を解決するため、本発明によるウエハ加工用テープは、長尺の離型フィルムと、前記離型フィルムの第1の面上に設けられたダイシング用のリングフレームに対応する所定形状を有するラベル部と、前記ラベル部の外側を囲むような周辺部とを有する粘着フィルムと、前記離型フィルムの短手方向両端部であって、前記粘着フィルムが設けられた第1の面とは反対の第2の面上に設けられた支持部材とを有し、前記粘着フィルムは、前記離型フィルムに接触していない側の算術表面粗さRaが0.3μm以下であり、前記支持部材は、厚さが30〜150μmであることを特徴とする。
また、上記ウエハ加工用テープは、前記支持部材が、前記離型フィルムを介して前記ラベル部と重なる領域を有するように設けられており、前記ラベル部と重なる領域の、前記離型フィルムの短手方向における最大幅が25mm以下であることが好ましい。
上記ウエハ加工用テープは、前記支持部材が2層以上の積層構造を有することが好ましい。
また、上記ウエハ加工用テープは、前記支持部材が、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、及び高密度ポリエチレンからなる群から選択される樹脂フィルム基材に粘接着剤を塗布した粘接着テープであることが好ましい。
本発明によれば、プレカット加工されたウエハ加工用テープをロール状に巻き取られた状態で保管したときに、ラベル部がウエハ加工用テープの背面とブロッキングするのを抑制し、ロール状に巻き取られた状態から繰り出す際に、ラベル部を良好に繰り出すことができる。
(a)は、本発明の実施形態に係るウエハ加工用テープの平面図であり、(b)は、同断面図である。 従来のウエハ加工用テープの斜視図である。 (a)は、従来のウエハ加工用テープの平面図であり、(b)は、同断面図である。 ウエハ加工用テープとダイシング用リングフレームとが貼り合わされた状態を示す断面図である。
以下に、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1(a)は、本発明の実施形態に係るウエハ加工用テープの平面図、図1(b)は、図1(a)の断面図である。
図1(a)及び図1(b)に示すように、ウエハ加工用テープ10は、ウエハ加工用テープ10は、長尺の離型フィルム11と、粘着フィルム12と、支持部材13とを有する。
粘着フィルム12は、離型フィルム11の第1の面11aに設けられたラベル部12aと、このラベル部12aの外側を囲むような周辺部12bとを有する。周辺部12bは、ラベル部12aの外側を完全に囲む形態と、図示のような完全には囲まない形態とを含む。ラベル部12aは、ダイシング用のリングフレームに対応する形状を有する。
支持部材13は、離型フィルム11の、粘着フィルム12が設けられた第1の面11aとは反対の第2の面11bであって、且つ、離型フィルム11の短手方向両端部に設けられ、離型フィルム11に接触するラベル部12aの領域にかかる第1の面11aの領域に対応する領域に設けられている。つまり、支持部材13は、離型フィルム11を介してラベル部12aと重なる領域を有するように設けられている。
支持部材13は、離型フィルム11の長手方向に沿って、断続的又は連続的に設けることができるが、転写痕の発生をより効果的に抑制する観点からは、離型フィルム11の長手方向に沿って連続的に設けることが好ましい。
以下、本実施形態のウエハ加工用テープ10の各構成要素について詳細に説明する。
(離型フィルム)
本発明のウエハ加工用テープ10に用いられる離型フィルム11としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)系、ポリエチレン系、その他、離型処理がされたフィルム等周知のものを使用することができる。
離型フィルムの厚さは、特に限定されるものではなく、適宜に設定してよいが、25〜50μmが好ましい。
(粘着フィルム)
本発明の粘着フィルム12は、上述のように、ダイシング用のリングフレームの形状に対応するラベル部12aと、その外側を囲むような周辺部12bとを有する。このような粘着フィルムは、プレカット加工により、フィルム状粘着剤からラベル部12aの周辺領域を除去することで形成することができる。ダイシング用のリングフレームの形状に対応する形状は、リングフレームの内側と略同じ形状でリングフレーム内側の大きさより大きい相似形である。また、必ずしも円形でなくてもよいが、円形に近い形状が好ましく、円形であることがさらに好ましい。
粘着フィルム12としては、特に制限はなく、ウエハをダイシングする際にはウエハが剥離しないように十分な粘着力を有し、ダイシング後にチップをピックアップする際には容易に剥離できるよう低い粘着力を示すものであればよい。例えば、基材フィルムに粘着剤層を設けたものを好適に使用できる。
粘着フィルム12の基材フィルムとしては、粘着剤層と反対側の面(すなわち粘着フィルム12が離型フィルム11と接触していない側の面)の算術表面粗さRaが0.3μm以下であれば、従来公知のものであれば特に制限することなく使用することができる。また、後述の粘着剤層として放射線硬化性の材料を使用する場合には、放射線透過性を有するものを使用することが好ましい。
例えば、その材料として、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリブテン−1、ポリ−4−メチルペンテン−1、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、アイオノマーなどのα−オレフィンの単独重合体または共重合体あるいはこれらの混合物、ポリウレタン、スチレン−エチレン−ブテンもしくはペンテン系共重合体、ポリアミド−ポリオール共重合体等の熱可塑性エラストマー、及びこれらの混合物を列挙することができる。また、基材フィルムはこれらの群から選ばれる2種以上の材料が混合されたものでもよく、これらが単層又は複層化されたものでもよい。
基材フィルムの厚さは、特に限定されるものではなく、適宜に設定してよいが、50〜200μmが好ましい。
十分な透過性を実現するための基材フィルムの算術表面粗さRaは0.3μm以下、より好ましくは0.25μm以下である。算術表面粗さRaが0.3μmよりも大きくなると、入射光線が散乱してしまい、十分な透過性が得られない。
加工後の品質確認のため、チップの状態などを、ウエハ加工用テープ10が貼合された面から目視確認したり、半導体ウエハのウエハ加工用テープ10が貼合された側の面からウエハ加工用テープ10越しにレーザー光を照射して半導体ウエハを加工したりする場合の十分な透過率の具体的な数値としては、400〜1100nmにおける平行線透過率が80%以上であることが好ましい。
粘着フィルム12の粘着剤層に使用される樹脂としては、特に限定されるものではなく、粘着剤に使用される公知の塩素化ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等を使用することができる。粘着剤層13の樹脂には、アクリル系粘着剤、放射線重合性化合物、光重合開始剤、硬化剤等を適宜配合して粘着剤を調製することが好ましい。粘着剤層13の厚さは特に限定されるものではなく適宜に設定してよいが、5〜30μmが好ましい。
放射線重合性化合物を粘着剤層に配合して放射線硬化により接着剤層から剥離しやすくすることができる。その放射線重合性化合物は、例えば光照射によって三次元網状化しうる分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を少なくとも2個以上有する低分量化合物が用いられる。
具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、1,4−ブチレングリコールジアクリレート、1,6ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレートや、オリゴエステルアクリレート等が適用可能である。
また、上記のようなアクリレート系化合物のほかに、ウレタンアクリレート系オリゴマーを用いることもできる。ウレタンアクリレート系オリゴマーは、ポリエステル型またはポリエーテル型などのポリオール化合物と、多価イソシアナート化合物(例えば、2,4−トリレンジイソシアナート、2,6−トリレンジイソシアナート、1,3−キシリレンジイソシアナート、1,4−キシリレンジイソシアナート、ジフェニルメタン4,4−ジイソシアナートなど)を反応させて得られる末端イソシアナートウレタンプレポリマーに、ヒドロキシル基を有するアクリレートあるいはメタクリレート(例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレートなど)を反応させて得られる。粘着剤層は、上記の樹脂から選ばれる2種以上が混合されたものでもよい。
光重合開始剤を使用する場合、例えばイソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、クロロチオキサントン、ドデシルチオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシメチルフェニルプロパン等を使用することができる。これら光重合開始剤の配合量はアクリル系共重合体100質量部に対して0.01〜5質量部が好ましい。
(支持部材)
支持部材13は、離型フィルム11の短手方向両端部であって、粘着フィルム12が設けられた第1の面11aとは反対の第2の面11b上に、離型フィルム11を介してラベル部12aと重なる領域を有するように設けられている。支持部材13の厚さは30〜150μmであり、より好ましくは40〜140μmである。
支持部材13を設けることで、ウエハ加工用テープ10がロール状に巻き取られた状態においては、粘着フィルム12のラベル部12aと該ラベル部12aの巻回体における内側に位置するウエハ加工用テープ10背面との間に空間を設け、両者が密着しないようにできるため、ラベル部52aがウエハ加工用テープ10の背面(離型フィルム11の背面)とブロッキングするのを抑制し、ロール状に巻き取られた状態から繰り出す際に、ラベル部52aが巻回体側に持っていかれることなく良好に繰り出すことができる。
支持部材13が20μmよりも薄いと、ウエハ加工用テープ10の巻回体での搬送や、ウエハリングに貼合する際の装置への取り付けによる振動で、ラベル部12aと該ラベル部12aの巻回体における内側に位置するウエハ加工用テープ10背面と密着してしまうおそれがあり、十分な効果が得られない場合がある。また、支持部材13が150μmよりも厚いと、巻回体にした際の巻き径が大きくなり、重量も上がってしまい、取扱いが難しくなる。
支持部材13は、ラベル部12aと重なる領域の、離型フィルムの短手方向における最大幅x(図1(a)参照)が25mm以下であることが好ましい。支持部材13とラベル部12aが重なる領域の最大幅xが25mmよりも大きくなると、巻回体の状態において、ラベル部12aと該ラベル部12aの巻回体における内側に位置する支持部材13との接触面積が大きくなりすぎて、ラベル部12aと支持部材13との間でブロッキングが発生し、巻回体から繰り出そうとしたラベル部52aが巻回体側の支持部材14に貼着して持っていかれてしまうおそれがある。また、支持部材13の巻回体側と接する側の表面は粗くてもよい。支持部材13の表面が粗ければ巻回体側との接触面積を下げることができる。
支持部材13は、ラベル部12aと重なる領域を有していなくてもよく、ラベル部12aの外縁と離型フィルムの短手方向端部との間に設置してもよい。
支持部材13としては、例えば、樹脂フィルム基材に粘接着剤を塗布した粘接着テープを好適に使用することができる。このような粘接着テープを、離型フィルム11の第2の面11bの両端部分の所定位置に貼り付けることで、本実施形態のウエハ加工用テープ10を形成することができる。粘接着テープは、一層のみを貼り付けてもよいし、薄いテープを積層させてもよい。
粘接着テープの樹脂フィルム基材としては、巻き圧に耐え得るものであれば特に限定はないが、耐熱性、平滑性、及び、入手し易さの点から、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリプロピレン、及び高密度ポリエチレンから選択されることが好ましい。
粘接着テープの粘接着剤の組成及び物性については、特に限定はなく、ウエハ加工用テープ10の巻き取り工程及び保管工程において、離型フィルム11から剥離しないものであればよい。
また、支持部材13としては、着色された支持部材を用いてもよい。このような着色支持部材を用いることで、ウエハ加工用テープ10をロール状に巻き取った際に、テープの種類を明確に識別することができる。例えば、着色支持部材の色を、ウエハ加工用テープ10の種類や厚さによって異ならせることで、容易にテープの種類や厚さを識別することができ、人為的なミスの発生を抑制、防止することができる。
<実施例>
以下、本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
以下の方法で実施例、比較例に係るウエハ加工用テープを作製し、その性能を評価した。
(基材フィルムの作製)
[基材フィルム1A]
株式会社NUC製ポリエチレン樹脂「NUC−8122」を加熱溶融して、押し出し成形し、厚さ100μmの基材フィルム1Aを作製した。成型時に、粘着剤が塗工されない面に粗面処理を施し、表1に示す表面粗さとなるように、それぞれ表面粗さの調整を行って複数種類の基材フィルムを作製した。
[基材フィルム1B]
住友化学株式会社製EMMA樹脂「アクリフトWD201」を用いた以外は、基材フィルム1Aと同様にして、基材フィルム1Bを作製した。
[基材フィルム1C]
住友化学株式会社製エチレン酢酸ビニル共重合樹脂「エバテート」を用いた以外は、基材フィルム1Aと同様にして、基材フィルム1Cを作製した。
(粘着剤組成物の調製)
[粘着剤組成物2A]
2−エチルヘキシルアクリレート、メチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレートからなるアクリル系共重合体(重量平均分子量20万)100重量部に対して、硬化剤として東ソー株式会社製ポリイソシアネート「コロネートL」を2重量部加え、粘着剤組成物2Aを得た。
[粘着剤組成物2B]
2−エチルヘキシルアクリレート、メチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレートからなるアクリル系共重合体(重量平均分子量20万)100重量部に対して、硬化剤として東ソー株式会社製ポリイソシアネート「コロネートL」を2重量部、アクリレート系オリゴマーとして新中村化学工業社製「AD−PMT」を150重量部、光重合開始剤として日本チバガイギー株式会社製「イルガキュア184」を2重量部加え、紫外線硬化型の粘着剤組成物2Aを得た。
(支持部材の作製)
[支持部材3A]
アクリル樹脂(質量平均分子量60万、ガラス転移温度−20℃)100重量部に対して、硬化剤として東ソー株式会社製ポリイソシアネート「コロネートL」10質量部を混合して粘着剤組成物を得た。
上記粘着剤組成物を樹脂フィルム基材としてのポリエチレンテレフタレートフィルムに、乾燥膜厚が10μmになるように塗工し、110℃で3分間乾燥し、全体の厚さが35μmの支持部材3Aを、幅30mmとなるよう作製した。
[支持部材3B]
支持部材3Aと異なる厚さのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用して全体の厚さが48μmとなるようにした他は、支持部材3Aと同様にして、支持部材3Bを作製した。
[支持部材3C]
樹脂フィルム基材としてポリプロピレンフィルムを用い、全体の厚さが65μmとなるようにした他は、支持部材3Aと同様にして、支持部材3Cを作製した。
[支持部材3D]
上記粘着剤組成物を乾燥膜厚が5μmになるように塗工し、全体の厚さが25μmとなるようにした他は、支持部材3Cと同様にして、支持部材3Dを作製した。
[支持部材3E]
樹脂フィルム基材として高密度ポリエチレンフィルムを用い、全体の厚さが150μmとなるようにした他は、支持部材3Aと同様にして、支持部材3Eを作製した。
[支持部材3F]
樹脂フィルム基材として一方の面をブラスト処理したポリプロピレンフィルムを用い、ブラスト処理した面とは反対側の面に上記粘着剤組成物を塗工し、全体の厚さが65μmとなるようにした他は、支持部材3Cと同様にして、支持部材3Fを作製した。
(ウエハ加工用テープの作製)
[実施例1]
離型処理したポリエチレン−テレフタレートフィルムよりなる離型フィルムに粘着剤組成物2Aを乾燥膜厚が25μmになるように塗工し、110℃で3分間乾燥した後、基材フィルム1Aと貼り合わせて粘着フィルムを作製した。粘着フィルムに対して、離型フィルムへの切り込み深さが10μm以下となるように調節して円状に直径290mmの円形プレカット加工を行った。次に、離型フィルム2Aの粘着フィルムが設けられた第1の面とは反対の第2の面であって、且つ、離型フィルム2Aの短手方向両端部に、粘着フィルムのラベル部と重なる領域の、離型フィルムの短手方向における最大幅が25mmとなるように、支持部材3Aを貼合して、図1に示す構造を有する実施例1に係るウエハ加工用テープを作製した。
[実施例2〜6、比較例1〜3]
表1に示す基材フィルム、粘着剤組成物、支持部材を用い、ラベル部と重なる領域の最大幅が表1に示す値となるように支持部材を設けた以外は、実施例1と同様にして実施例2〜6、比較例1〜3に係るウエハ加工用テープを作製した。
(算術表面粗さRa)
実施例、比較例に係るウエハ加工用粘着テープに用いた粘着フィルムについて、粘着フィルムの離型フィルムに接触していない側の面、すなわち基材フィルムの粘着剤層が設けられていない側の面の算術平均粗さRaを、株式会社ミツトヨ製表面粗さ測定器(サーフテストSJ−301)を使用して、N=10で測定し、平均値を求めた。その結果を表1に示す。
(巻回体からの繰り出し性評価)
実施例、比較例に係るウエハ加工用粘着テープを、円形形状の粘着フィルム(ラベル部)の数が50枚になるようにロール状に巻き取り、巻回体を作製した。リングフレームに貼合する貼合装置により、巻回体からウエハ加工用粘着テープを繰り出し、ラベル部が上手く繰り出せずに、巻回体側へ持っていかれてしまった枚数を計測した。その結果を表1に示す。
(透過率)
実施例、比較例に係るウエハ加工用粘着テープに用いた粘着フィルムについて、平行光線透過率を測定した。測定は、株式会社島津製作所製UV−3101分光光度計を使用して、400〜1100nmの範囲で行い、最も低くなった透過率を求めた。その結果を表1に示す。
Figure 0006831831
表1に示すように、実施例1〜6のウエハ加工用テープは、粘着フィルムの離型フィルムに接触していない側の算術表面粗さRaが0.3μm以下であり、支持部材の厚さが30〜150μmであるため、高い透過性を有するとともに巻回体から繰り出しを良好に行うことができた。支持部材がラベル部と重なる領域の、離型フィルムの短手方向における最大幅が25mm以下である実施例1〜5は、巻回体から繰り出し性評価において特に優れる結果であった。
これに対して、比較例1のウエハ加工用テープは、表1に示すように、粘着フィルムの離型フィルムに接触していない側の算術表面粗さRaが0.3μmよりも大きいため、透過性が十分ではない。また、比較例2のウエハ加工用テープは、支持部材の厚さが30μmよりも薄いため、ラベル部と離型フィルムの背面との間でブロッキングが発生し、ラベル部が巻回体側の離型フィルムの背面に貼着して持っていかれ、巻回体から繰り出せないラベル部が8枚あった。また、支持部材を設けなかった比較例3では、巻回体から繰り出せないラベル部が10枚あった。
10:ウエハ加工用テープ
11:離型フィルム
12:粘着フィルム
12a:ラベル部
12b:周辺部
13:支持部材

Claims (6)

  1. 長尺の離型フィルムと、
    前記離型フィルムの第1の面上に設けられたダイシング用のリングフレームに対応する所定形状を有するラベル部と、前記ラベル部の外側を囲むような周辺部とを有する粘着フィルムと、
    前記離型フィルムの短手方向両端部であって、前記粘着フィルムが設けられた第1の面とは反対の第2の面上に設けられた支持部材とを有し、
    前記粘着フィルムは、前記離型フィルムに接触していない側の算術表面粗さRaが0.3μm以下であり、
    前記支持部材は、厚さが30〜150μmであり、
    400〜1100nmにおける平行線透過率が80%以上であることを特徴とするウエハ加工用テープ。
  2. 前記支持部材は、前記離型フィルムを介して前記ラベル部と重なる領域を有するように設けられており、前記ラベル部と重なる領域の、前記離型フィルムの短手方向における最大幅が25mm以下であることを特徴とする請求項1に記載のウエハ加工用テープ。
  3. 前記支持部材は、前記離型フィルムの長手方向に沿って連続的に設けられていることを特徴とする請求項1から請求項2のいずれか1項に記載のウエハ加工用テープ。
  4. 前記支持部材は、2層以上の積層構造を有することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のウエハ加工用テープ。
  5. 前記支持部材は、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、及び高密度ポリエチレンからなる群から選択される樹脂フィルム基材に粘接着剤を塗布した粘接着テープであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のウエハ加工用テープ。
  6. 前記粘着フィルムに貼合された半導体ウエハのチップ状態を粘着フィルム面側から目視確認可能であることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれかに記載のウエハ加工用テープ。
JP2018503085A 2016-03-02 2017-02-23 ウエハ加工用テープ Active JP6831831B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016040085 2016-03-02
JP2016040085 2016-03-02
PCT/JP2017/006810 WO2017150330A1 (ja) 2016-03-02 2017-02-23 ウエハ加工用テープ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2017150330A1 JPWO2017150330A1 (ja) 2018-12-27
JP6831831B2 true JP6831831B2 (ja) 2021-02-17

Family

ID=59742878

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018503085A Active JP6831831B2 (ja) 2016-03-02 2017-02-23 ウエハ加工用テープ

Country Status (6)

Country Link
JP (1) JP6831831B2 (ja)
KR (1) KR102233439B1 (ja)
CN (1) CN108541338A (ja)
SG (1) SG11201804308YA (ja)
TW (1) TW201739870A (ja)
WO (1) WO2017150330A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7400263B2 (ja) * 2018-08-23 2023-12-19 東レ株式会社 フィルム、及びフィルムの製造方法
KR102332928B1 (ko) * 2019-08-07 2021-12-01 주식회사 아이센스 연속 혈당 측정 장치용 신체 부착 유닛의 보조 접착 패치
JP2021061325A (ja) * 2019-10-07 2021-04-15 倉敷紡績株式会社 ダイシングシートおよびダイシングシート用基材フィルム

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002256239A (ja) * 2001-03-05 2002-09-11 Hitachi Chem Co Ltd 接着フィルム、それを用いた半導体装置の製造方法及び半導体装置
JP4876451B2 (ja) * 2005-06-27 2012-02-15 日立化成工業株式会社 接着シート
JP4762671B2 (ja) * 2005-10-26 2011-08-31 古河電気工業株式会社 ダイシングテープ、および半導体ウェハダイシング方法
JP4360653B2 (ja) * 2007-09-14 2009-11-11 古河電気工業株式会社 ウエハ加工用テープ
WO2009034774A1 (ja) * 2007-09-14 2009-03-19 The Furukawa Electric Co., Ltd. ウエハ加工用テープ
JP5090241B2 (ja) * 2008-04-17 2012-12-05 リンテック株式会社 ダイソート用シート
JP5391158B2 (ja) * 2010-06-30 2014-01-15 古河電気工業株式会社 ウエハ貼着用粘着シートおよびそれを用いたウエハの加工方法
JP5733049B2 (ja) * 2011-06-23 2015-06-10 日立化成株式会社 接着シート、接着シートの製造方法、接着シートロール、半導体装置の製造方法、及び半導体装置
JP5889026B2 (ja) * 2012-02-10 2016-03-22 古河電気工業株式会社 ウエハ加工用テープ
WO2014046121A1 (ja) * 2012-09-20 2014-03-27 リンテック株式会社 レーザーダイシングシート-剥離シート積層体、レーザーダイシングシートおよびチップ体の製造方法
JP5583724B2 (ja) * 2012-09-20 2014-09-03 リンテック株式会社 レーザーダイシングシート−剥離シート積層体、レーザーダイシングシートおよびチップ体の製造方法
JP2014214157A (ja) * 2013-04-22 2014-11-17 日東電工株式会社 エネルギー線硬化型自発巻回性粘着テープ
SG11201609543VA (en) * 2014-05-23 2016-12-29 Lintec Corp Composite sheet for forming protective film

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180121487A (ko) 2018-11-07
TW201739870A (zh) 2017-11-16
SG11201804308YA (en) 2018-06-28
CN108541338A (zh) 2018-09-14
WO2017150330A1 (ja) 2017-09-08
JPWO2017150330A1 (ja) 2018-12-27
KR102233439B1 (ko) 2021-03-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4360653B2 (ja) ウエハ加工用テープ
TW200911955A (en) Wafer processing tape
JP6831831B2 (ja) ウエハ加工用テープ
TWI389267B (zh) 晶圓加工用帶
TWI519621B (zh) A wafer for processing a wafer, and a method for manufacturing a semiconductor device using a wafer processing wafer
WO2017082212A1 (ja) マスク一体型表面保護テープ
JP5889026B2 (ja) ウエハ加工用テープ
KR101186097B1 (ko) 반도체웨이퍼의 보호구조, 반도체웨이퍼의 보호 방법, 이들에 이용하는 적층 보호시트 및 반도체웨이퍼의 가공방법
TWI504720B (zh) Adhesive sheet
KR102188284B1 (ko) 마스크 일체형 표면 보호 테이프
JP5275834B2 (ja) ウエハ加工用フィルム及びウエハ加工用フィルムを用いて半導体装置を製造する方法
JP2009224628A (ja) ウエハ加工用テープ
TWI519620B (zh) A wafer for processing a wafer, and a method for manufacturing a semiconductor device using a wafer processing wafer
JP5276063B2 (ja) 半導体ウエハのダイシング及びダイボンディング加工用シート
KR101427019B1 (ko) 웨이퍼 가공용 필름 및 웨이퍼 가공용 필름을 사용하여 반도체 장치를 제조하는 방법
TWI615890B (zh) 晶圓加工用膠帶
JP4180557B2 (ja) 両面粘着シート
JP5435474B2 (ja) ウエハ加工用テープ体
JP2004186254A (ja) 加工体製造方法
KR101819292B1 (ko) 웨이퍼 가공용 테이프
KR101808922B1 (ko) 웨이퍼 가공용 테이프
JP2009135509A (ja) 半導体ウエハの保護構造、半導体ウエハの保護方法、これらに用いる積層保護シートおよび半導体ウエハの加工方法
JP2016111160A (ja) ウエハ加工用テープ

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20180515

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190924

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200528

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20200721

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200907

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210114

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210129

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6831831

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350