JP6613213B2 - 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム - Google Patents
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Description
基板に対して、オクテット則を満たし第1熱分解温度を有する第1原料を供給する工程と、
前記基板に対して、オクテット則を満たさず前記第1熱分解温度よりも低い第2熱分解温度を有する第2原料を供給する工程と、
を交互に行うサイクルを複数回繰り返すことで、前記第1原料と前記第2原料とを間欠的に反応させて、前記基板上に膜を形成する工程を有し、
前記膜を形成する工程では、前記第1原料の供給量を前記第2原料の供給量よりも多くする技術が提供される。
以下、本発明の一実施形態について、図1〜図3を用いて説明する。
図1に示すように、処理炉202は加熱手段(加熱機構)としてのヒータ207を有する。ヒータ207は円筒形状であり、保持板に支持されることにより垂直に据え付けられている。ヒータ207は、ガスを熱で活性化(励起)させる活性化機構(励起部)としても機能する。
上述の基板処理装置を用い、半導体装置の製造工程の一工程として、基板としてのウエハ200上に、Si,BおよびCを含む膜、すなわち、シリコン硼炭化膜(SiBC膜)を形成するシーケンス例について、図4(a)を用いて説明する。なお、SiBC膜は、Siを主元素(所定元素)として含む膜である。以下の説明において、基板処理装置を構成する各部の動作はコントローラ121により制御される。
複数枚のウエハ200がボート217に装填(ウエハチャージ)される。ウエハ200としては、例えば、単結晶Siにより構成され、表面にトレンチ等の凹部を有するSi基板を用いることができる。ウエハ200の表面の一部には、例えば、シリコン酸化膜(SiO膜)、シリコン窒化膜(SiN膜)、シリコン酸窒化膜(SiON膜)等の絶縁膜が形成されていてもよい。その後、図1に示すように、複数枚のウエハ200を支持したボート217は、ボートエレベータ115によって持ち上げられて処理室201内へ搬入(ボートロード)される。この状態で、シールキャップ219は、Oリング220を介して反応管203の下端をシールした状態となる。
処理室201内、すなわち、ウエハ200が存在する空間が所望の圧力(真空度)となるように、真空ポンプ246によって処理室201内が真空排気(減圧排気)される。この際、処理室201内の圧力は圧力センサ245で測定され、この測定された圧力情報に基づきAPCバルブ244がフィードバック制御される。また、処理室201内のウエハ200が所望の成膜温度となるように、ヒータ207によって処理室201内が加熱される。この際、処理室201内が所望の温度分布となるように、温度センサ263が検出した温度情報に基づきヒータ207への通電具合がフィードバック制御される。また、回転機構267によるウエハ200の回転を開始する。処理室201内の排気、加熱、ウエハ200の回転は、いずれも、少なくともウエハ200に対する処理が終了するまでの間は継続して行われる。
その後、次のステップ1,2を順次実行し、ウエハ200の表面に形成されたトレンチに対するSiBC膜の埋め込みを行う。
このステップでは、ウエハ200に対してDSガスを供給する。具体的には、バルブ243aを開き、ガス供給管232a内へDSガスを流す。DSガスは、MFC241aにより流量調整され、ノズル249aを介して処理室201内へ供給され、排気管231から排気される。このとき、ウエハ200に対してDSガスが供給される。このとき同時にバルブ243cを開き、ガス供給管232c内へN2ガスを流す。N2ガスは、DSガスと一緒に処理室201内へ供給され、排気管231から排気される。また、ノズル249b内へのDSガスの侵入を防止するため、バルブ243dを開き、ガス供給管232d内へN2ガスを流す。N2ガスは、ガス供給管232b、ノズル249bを介して処理室201内へ供給され、排気管231から排気される。
ステップ1が終了した後、ウエハ200に対してTEBガスを供給する。このステップでは、バルブ243b,243c,243dの開閉制御を、ステップ1におけるバルブ243a,243c,243dの開閉制御と同様の手順で行うことで、ガス供給管232b内へTEBガスを流す。ガス供給管232b内を流れたTEBガスは、MFC241bにより流量調整され、ノズル249bを介して処理室201内へ供給され、排気管231から排気される。このとき、ウエハ200に対してTEBガスが供給される。
上述したステップ1,2を、交互に、すなわち、同期させることなく非同時に行うサイクルを複数回(n回(nは2以上の整数))行う。これにより、ウエハ200の表面上でDSとTEBとを間欠的に反応させ、ウエハ200上に、所定膜厚、所定組成のSiBC膜を形成することができる。上述のサイクルは、複数回繰り返すのが好ましい。すなわち、1サイクルあたりに形成されるSiBC層の厚さを所望の膜厚よりも小さくし、SiBC層を積層することで形成される膜の膜厚が所望の膜厚になるまで、上述のサイクルを複数回繰り返すのが好ましい。
SiBC膜の形成が完了したら、ガス供給管232c,232dのそれぞれからN2ガスを処理室201内へ供給し、排気管231から排気する。N2ガスはパージガスとして作用する。これにより、処理室201内が不活性ガスでパージされ、処理室201内に残留するガスや反応副生成物が処理室201内から除去される(アフターパージ)。その後、処理室201内の雰囲気が不活性ガスに置換され(不活性ガス置換)、処理室201内の圧力が常圧に復帰される(大気圧復帰)。
ボートエレベータ115によりシールキャップ219が下降され、反応管203の下端が開口される。そして、処理済のウエハ200が、ボート217に支持された状態で、反応管203の下端から反応管203の外部に搬出される(ボートアンロード)。処理済のウエハ200は、ボート217より取出される(ウエハディスチャージ)。
本実施形態によれば、以下に示す1つ又は複数の効果が得られる。
本実施形態における成膜シーケンスは、上記に示した態様に限定されず、以下に示す変形例のように変更することができる。
図4(b)や以下に示す成膜シーケンスのように、ウエハ200に対してTEBガスを供給するステップと、ウエハ200に対してDSガスを供給するステップと、をこの順に交互に行うサイクルを複数回(n回)繰り返すようにしてもよい。すなわち、TEBガス、DSガスの供給順序は入れ替えてもよい。各ステップにおける処理条件、処理手順は、ガスの供給順序を除き、図4(a)に示す成膜シーケンスと同様とする。すなわち、成膜処理の際、ウエハ200に対するDSガスの供給量を、ウエハ200に対するTEBガスの供給量よりも多くする。
以下に示す成膜シーケンスのように、SiBC膜の形成を開始する前にウエハ200に対してDSガスを所定回数(m回(mは1以上の整数))供給することにより、ウエハ200上にシード層を予め形成するようにしてもよい。また、シード層を形成する際、DSガスの代わりにジクロロシラン(SiH2Cl2、略称:DCS)ガス等のハロシランガスを用いてもよい。また、ウエハ200に対してDCSガスとDSガスとを交互に供給するサイクルを所定回数(m回)行うことにより、シード層を形成するようにしてもよい。
DCS×m→(DS→TEB)×n ⇒ SiBC/シード層
(DCS→DS)×m→(DS→TEB)×n ⇒ SiBC/シード層
以上、本発明の実施形態を具体的に説明した。しかしながら、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
第1の評価として、図1に示す基板処理装置を用い、加熱されたウエハに対してDSガスを単独で供給した。ウエハの温度は400,425,450,475℃とした。他の処理条件は、上述の実施形態における処理条件と同様とした。また、第2の評価として、図1に示す基板処理装置を用い、加熱されたウエハに対してTEBガスを単独で供給した。ウエハの温度は325,350,375,400℃とした。他の処理条件は、第1の評価における処理条件と同様とした。
第3の評価として、図1に示す基板処理装置を用い、図4(a)に示す成膜シーケンスにより、表面にトレンチが形成されたウエハ上にSiBC膜を形成した。TEB/DS供給比率は0.17,0.2,0.5とした。他の処理条件は、上述の実施形態における処理条件と同様とした。また、第4の評価として、図1に示す基板処理装置を用い、表面にトレンチが形成されたウエハに対してDSガスとTEBガスとを同時に供給することにより、ウエハ上にSiBC膜を形成する処理を行った。TEB/DS供給比率は1とした。他の処理条件は、第3の評価における処理条件と同様とした。
以下、本発明の好ましい態様について付記する。
本発明の一態様によれば、
基板に対して、オクテット則を満たし第1熱分解温度を有する第1原料を供給する工程と、
前記基板に対して、オクテット則を満たさず前記第1熱分解温度よりも低い第2熱分解温度を有する第2原料を供給する工程と、
を交互に行うサイクルを複数回繰り返すことで、前記第1原料と前記第2原料とを間欠的に反応させて、前記基板上に膜を形成する工程を有し、
前記膜を形成する工程では、前記第1原料の供給量を前記第2原料の供給量よりも多くする半導体装置の製造方法、または、基板処理方法が提供される。
付記1に記載の方法であって、好ましくは、
前記膜を形成する工程では、前記第1原料の供給時間を前記第2原料の供給時間よりも長くする。
付記1または2に記載の方法であって、好ましくは、
前記膜を形成する工程では、前記第1原料の供給流量を前記第2原料の供給流量よりも大きくする。
付記1〜3のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記膜を形成する工程では、前記第1原料の分圧を前記第2原料の分圧よりも大きくする。
付記1〜4のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記膜を形成する工程では、前記第1原料の供給量に対する前記第2原料の供給量の比率を、0.5以下とする。好ましくは、前記比率を、0.01以上0.5以下とする。
付記1〜5のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記膜を形成する工程では、前記第1原料の供給量に対する前記第2原料の供給量の比率を、0.2以下とする。好ましくは、前記比率を、0.01以上0.2以下とする。
付記1〜6のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記膜を形成する工程では、前記第1原料の供給量に対する前記第2原料の供給量の比率を、0.17以下とする。好ましくは、前記比率を、0.01以上0.17以下とする。
付記1〜7のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記第2原料は、前記第1原料の極性と同等もしくはそれよりも高い極性を有する。
付記1〜8のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記第1原料は第14族元素を含み、前記第2原料は第13族元素を含む。
付記1〜9のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記第1原料はシリコンを含み、前記第2原料は硼素を含む。
付記1〜10のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記膜を形成する工程は、前記第1原料が単独で存在した場合に前記第1原料が熱分解しない条件下で行われる。例えば、前記膜を形成する工程は、前記第1熱分解温度よりも低い温度下で行われる。例えば、前記膜を形成する工程は、250℃以上400℃以下、好ましくは、250℃以上350℃以下の温度下で行われる。
付記1〜11のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記膜を形成する工程は、前記第2原料が単独で存在した場合に前記第2原料が熱分解しない条件下で行われる。例えば、前記膜を形成する工程は、前記第2熱分解温度よりも低い温度下で行われる。例えば、前記膜を形成する工程は、250℃以上325℃以下の温度下で行われる。
付記1〜12のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記基板は表面に凹部を有する。例えば、前記膜を形成する工程では、前記凹部に対する埋め込みを行う。
本発明の他の態様によれば、
基板に対して処理が行われる処理室と、
前記処理室内の基板に対して、オクテット則を満たし第1熱分解温度を有する第1原料を供給する第1原料供給系と、
前記処理室内の基板に対して、オクテット則を満たさず前記第1熱分解温度よりも低い第2熱分解温度を有する第2原料を供給する第2原料供給系と、
前記処理室内において、基板に対して前記第1原料を供給する処理と、前記基板に対して前記第2原料を供給する処理と、を交互に行うサイクルを複数回繰り返すことで、前記第1原料と前記第2原料とを間欠的に反応させて、前記基板上に膜を形成する処理を行わせ、前記膜を形成する処理では、前記第1原料の供給量を前記第2原料の供給量よりも多くするように、前記第1原料供給系および第2原料供給系を制御するよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置が提供される。
本発明のさらに他の態様によれば、
基板処理装置の処理室内の基板に対して、オクテット則を満たし第1熱分解温度を有する第1原料を供給する手順と、
前記処理室内の前記基板に対して、オクテット則を満たさず前記第1熱分解温度よりも低い第2熱分解温度を有する第2原料を供給する手順と、
を交互に行うサイクルを複数回繰り返すことで、前記第1原料と前記第2原料とを間欠的に反応させて、前記基板上に膜を形成する手順をコンピュータによって前記基板処理装置に実行させ、
前記膜を形成する手順では、前記第1原料の供給量を前記第2原料の供給量よりも多くすることを、前記コンピュータによって前記基板処理装置に実行させるプログラム、または、該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
201 処理室
Claims (16)
- 基板に対して、オクテット則を満たし第1熱分解温度を有する第1原料を供給することで、前記第1原料の吸着層を形成する工程と、
前記基板に対して、オクテット則を満たさず前記第1熱分解温度よりも低い第2熱分解温度を有する第2原料を供給することで、前記第1原料の吸着層と前記第2原料とを反応させ、これらを分解させることにより、前記第1原料の吸着層を改質させる工程と、
を交互に行うサイクルを複数回繰り返すことで、前記基板上に膜を形成する工程を有し、
前記膜を形成する工程では、前記第1原料の供給量を前記第2原料の供給量よりも多くし、
前記膜を形成する工程は、前記第1原料が単独で存在した場合に前記第1原料が熱分解しない条件下であって、かつ、前記第2原料が単独で存在した場合に前記第2原料が熱分解しない条件下で行われる半導体装置の製造方法。 - 前記膜を形成する工程では、前記第1原料の供給時間を前記第2原料の供給時間よりも長くする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記膜を形成する工程では、前記第1原料の供給流量を前記第2原料の供給流量よりも大きくする請求項1または2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記膜を形成する工程では、前記第1原料の分圧を前記第2原料の分圧よりも大きくする請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記膜を形成する工程では、前記第1原料の供給量に対する前記第2原料の供給量の比率を、0.5以下とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記膜を形成する工程では、前記第1原料の供給量に対する前記第2原料の供給量の比率を、0.2以下とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記膜を形成する工程では、前記第1原料の供給量に対する前記第2原料の供給量の比率を、0.17以下とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2原料は、前記第1原料の極性と同等もしくはそれよりも高い極性を有する請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1原料は第14族元素を含み、前記第2原料は第13族元素を含む請求項1〜8のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1原料はシリコンを含み、前記第2原料は硼素を含む請求項1〜9のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1原料は水素化ケイ素ガスであり、前記第2原料はアルキルボラン系ガスである請求項1〜10のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記膜を形成する工程は、250℃以上400℃以下の温度下で行われる請求項1〜11のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記膜を形成する工程は、250℃以上325℃以下の温度下で行われる請求項1〜11のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記基板は表面に凹部を有し、
前記膜を形成する工程では、前記凹部に対する前記膜の埋め込みを行う請求項1〜13のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。 - 基板に対して処理が行われる処理室と、
前記処理室内の基板に対して、オクテット則を満たし第1熱分解温度を有する第1原料を供給する第1原料供給系と、
前記処理室内の基板に対して、オクテット則を満たさず前記第1熱分解温度よりも低い第2熱分解温度を有する第2原料を供給する第2原料供給系と、
前記処理室内の基板を加熱するヒータと、
前記処理室内において、基板に対して前記第1原料を供給することで、前記第1原料の吸着層を形成する処理と、前記基板に対して前記第2原料を供給することで、前記第1原料の吸着層と前記第2原料とを反応させ、これらを分解させることにより、前記第1原料の吸着層を改質させる処理と、を交互に行うサイクルを複数回繰り返すことで、前記基板上に膜を形成する処理を行わせ、前記膜を形成する処理では、前記第1原料の供給量を前記第2原料の供給量よりも多くし、前記膜を形成する処理が、前記第1原料が単独で存在した場合に前記第1原料が熱分解しない条件下であって、かつ、前記第2原料が単独で存在した場合に前記第2原料が熱分解しない条件下で行われるように、前記第1原料供給系、第2原料供給系、および前記ヒータを制御するよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - 基板処理装置の処理室内の基板に対して、オクテット則を満たし第1熱分解温度を有する第1原料を供給することで、前記第1原料の吸着層を形成する手順と、
前記処理室内の前記基板に対して、オクテット則を満たさず前記第1熱分解温度よりも低い第2熱分解温度を有する第2原料を供給することで、前記第1原料の吸着層と前記第2原料とを反応させ、これらを分解させることにより、前記第1原料の吸着層を改質させる手順と、
を交互に行うサイクルを複数回繰り返すことで、前記基板上に膜を形成する手順と、
前記膜を形成する手順において、前記第1原料の供給量を前記第2原料の供給量よりも多くする手順と、
前記膜を形成する手順を、前記第1原料が単独で存在した場合に前記第1原料が熱分解しない条件下であって、かつ、前記第2原料が単独で存在した場合に前記第2原料が熱分解しない条件下で行う手順と、
をコンピュータによって前記基板処理装置に実行させるプログラム。
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