JP6600351B2 - Liftプリント・システム - Google Patents
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/2014—Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
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Description
この出願は,2014年8月7日出願の米国仮特許出願62/034,168の利益を主張する。
・部品,装置,およびその他の素子を基板に接続するための接着剤のプリント。
・素子を基板にはんだ付けするためのはんだペーストのプリント。
・構造材としての誘電体(たとえば,セラミック・インクもしくはペースト,またはポリマー,オリゴマーもしくはモノマー)のプリント。
・複合構造を生成するための材料の組成物のプリント。
Claims (29)
- 対向する第1および第2の表面を有する透明ドナー基板,ならびに上記第2の表面上に形成されるドナー・フィルムを提供するように構成され,アクセプタ基板上のターゲット領域に近接するように上記ドナー・フィルムを配置するドナー供給アセンブリと,
レーザ放射の複数の出力ビームを同時に所定の空間パターンに導き,上記ドナー基板の上記第1の表面を通過させかつ上記ドナー・フィルムに衝突させて,上記ドナー・フィルムからの材料の上記アクセプタ基板上への放出を誘発するように構成され,これによって上記アクセプタ基板のターゲット領域に上記所定パターンを描画する光学アセンブリと,
を備え,
上記光学アセンブリが,単一入力ビームを出射するように構成されるレーザと,上記単一入力ビームを複数の出力ビームに分割し,上記所定の空間パターンにしたがって上記複数の出力ビームを方向付ける光学系とを備え,
上記光学系が,上記単一入力ビームを遮断するように配置される音響光学偏向器と,上記音響光学偏向器に多周波駆動を提供するように構成される駆動装置を備え,多周波駆動される音響光学偏向器により上記複数の出力ビームを異なるそれぞれの角度に偏向する,
プリント装置。 - 上記ドナー・フィルムが金属を含む,請求項1に記載の装置。
- 上記ドナー・フィルムがレオロジカル材料を含む,請求項1に記載の装置。
- 上記音響光学偏向器が,上記複数の出力ビームを第一の方向に沿う上記それぞれの角度に偏向するように構成されており,上記光学系が,上記複数の出力ビームを上記第一の方向に直交する第二の方向に偏向するように構成される,少なくとも一つの走査ミラーを備えている,請求項1に記載の装置。
- 上記多周波駆動を受け付ける上記音響光学偏向器が,上記複数の出力ビームを第一の方向に沿う上記それぞれの角度に偏向するように構成される第1の音響光学偏向器を備え,
上記光学系が,上記複数の出力ビームを上記ドナー・フィルム上において上記第一の方向と直交する第二の方向に走査するように構成される第2の音響光学偏向器を備えている,請求項1に記載の装置。 - 上記ドナー基板およびアクセプタ基板の少なくとも一方をシフトするように構成される位置決めアセンブリを備え,上記ドナー・フィルムの第1のドナー領域を上記アクセプタ基板の第1のターゲット領域に近接するように配置して,上記複数の出力ビームが上記第1のターゲット領域上に第1の所定の空間パターンを描画し,続いて上記第1のドナー領域と異なる上記ドナー・フィルムの少なくとも一つの第2のドナー領域を上記第1のターゲット領域と異なる上記アクセプタ基板の少なくとも一つの第2のターゲット領域に近接するように配置して,上記複数の出力ビームが上記第2のターゲット領域上に少なくとも一つの第2の所定の空間パターンを描画するものである,請求項1から5のいずれかに記載の装置。
- 上記位置決めアセンブリが,上記ドナー基板およびアクセプタ基板を,固定された第1および第2の相対位置に保持するように構成されており,上記光学アセンブリが,上記アクセプタ基板の上記第1のターゲット領域および第2のターゲット領域に,二次元のスポット配列として,上記第1および第2の空間パターンをそれぞれ描画する,請求項6に記載の装置。
- 上記位置決めアセンブリおよびドナー供給アセンブリが,上記光学アセンブリが上記第1および第2の空間パターンの連続線を描画するときに,上記ドナー基板とアクセプタ基板との間の相対的なシフトを生じさせるように構成されている,請求項6に記載の装置。
- 上記位置決めアセンブリが,上記ドナー・フィルムの少なくとも第1および第2のドナー領域を,少なくとも上記第1のターゲット領域に近接させて連続的に配置するように構成されており,上記光学アセンブリが,上記第1および第2のドナー領域に,上記第1および第2の空間パターンのそれぞれにおいて複数の出力ビームを導くように構成されており,これにより少なくとも上記第1のターゲット領域に多層パターンを描画する,請求項6に記載の装置。
- 上記ドナー基板が連続可撓性箔を備えており,上記ドナー供給アセンブリが上記ターゲット領域を横切って上記箔を供給するように構成されたフィード・ローラを備えている,
請求項1から5のいずれかに記載の装置。 - 上記ドナー供給アセンブリが,上記連続可撓性箔の第1の領域に上記ドナー・フィルムの少なくとも一の成分を適用するように構成されたコーティング・モジュールを備え,上記ドナー・フィルムが既に適用されている上記連続可撓性箔の第2の領域が上記ターゲット領域を横切って供給される,請求項10に記載の装置。
- 上記コーティング・モジュールが,ドナー材料を含むリザーバと,上記リザーバからのドナー材料の層を上記箔の第1の領域に適用して上記ドナー・フィルムを形成するように構成されるグラビア・シリンダを備えている,請求項11に記載の装置。
- 上記コーティング・モジュールが,上記箔の交互領域に連続して異なる各ドナー材料を適用するように構成されている,請求項11に記載の装置。
- 上記ドナー・フィルムが上記箔にプレコートされた第1のドナー材料を備え,上記コーティング・モジュールが,上記プレコート箔に上記第1のドナー材料と異なる第2のドナー材料を適用するように構成され,これによって上記ドナー・フィルムが第1および第2のドナー材料を備えている,請求項11に記載の装置。
- 対向する第1および第2の表面を有しており,かつ上記第2の表面上に形成されるドナー・フィルムを有する透明ドナー基板を,アクセプタ基板上のターゲット領域に近接するように配置し,
レーザ放射の複数の出力ビームを所定の空間パターンに同時に導き,上記ドナー基板の上記第1の表面を通過させかつ上記ドナー・フィルムに衝突させて,上記ドナー・フィルムからの材料のアクセプタ基板上への放出を誘発し,これによって上記アクセプタ基板のターゲット領域に上記所定パターンを描画する,プリント方法において,
上記複数の出力ビームの方向付けが,単一入力ビームを複数の出力ビームに分割し,かつ上記複数の出力ビームを所定の空間パターンにしたがって方向付けることを含み,
上記単一入力ビームの分割が多周波駆動を用いて音響光学偏向器を駆動しながら上記音響光学偏向器を通して上記単一入力ビームを方向付けることを含み,多周波駆動される音響光学偏向器により上記複数の出力ビームを異なるそれぞれの角度に偏向する,
プリント方法。 - 上記ドナー・フィルムが金属を含む,請求項15に記載の方法。
- 上記ドナー・フィルムがレオロジカル材料を含む,請求項15に記載の方法。
- 上記複数の出力ビームの方向付けが,上記音響光学偏向器を用いて第一の方向に沿う上記それぞれの角度に上記複数の出力ビームを偏向し,かつ走査ミラーを用いて,上記第一の方向に直交する第二の方向に上記複数の出力ビームを偏向することを含む,請求項15に記載の方法。
- 上記複数の出力ビームの方向付けが,第一の方向に沿う上記それぞれの角度に上記複数の出力ビームを偏向するように構成される第一の音響光学偏向器を用いて第一の方向に沿う上記それぞれの角度に上記複数の出力ビームを偏向し,上記複数の出力ビームを,第二の音響光学偏向器を用いて上記ドナー・フィルム上において上記第一の方向に直交する第二の方向に走査することを含む,請求項15に記載の方法。
- 上記ドナー基板および上記アクセプタ基板の少なくとも一方をシフトすることを含み,上記ドナー・フィルムの第1のドナー領域を上記アクセプタ基板の第1のターゲット領域に近接するように配置して,上記複数の出力ビームが上記第1のターゲット領域上に上記第1の所定の空間パターンを描画し,続いて上記第1のドナー領域と異なる上記ドナー・フィルムの少なくとも一つの第2のドナー領域を上記第1のターゲット領域と異なる上記アクセプタ基板の少なくとも一つの第2のターゲット領域に近接するように配置して,上記複数の出力ビームが上記第2のターゲット領域上に少なくとも一つの第2の所定の空間パターンを描画する,請求項15から19のいずれかに記載の方法。
- 上記ドナー基板および上記アクセプタ基板の少なくとも一方のシフトが,上記ドナーおよびアクセプタ基板を,固定された第1および第2の相対位置に保持することを含み,上記光学アセンブリが,上記アクセプタ基板の第1のターゲット領域および第2のターゲット領域に,二次元のスポット配列として,上記第1および第2の空間パターンをそれぞれ描画する,請求項20に記載の方法。
- 上記ドナー基板および上記アクセプタ基板の少なくとも一方のシフトが,上記光学アセンブリが上記第1および第2の空間パターンの連続線を描画するときに,上記ドナー基板とアクセプタ基板との間の相対的なシフトを生じさせることを含む,請求項20に記載の方法。
- 上記ドナー基板および上記アクセプタ基板の少なくとも一方のシフトが,上記ドナー・フィルムの少なくとも第1および第2の領域を,少なくとも第1のターゲット領域に近接するように連続して位置決めすることを含み,上記複数の出力ビームの方向付けが,少なくとも上記第1のターゲット領域上に多層パターンを描画するために,第1および第2の空間パターンのそれぞれにおいて上記第1および第2のドナー領域に出力ビームを導くことを含む,請求項20に記載の方法。
- 上記ドナー基板が連続可撓性箔を備えており,上記透明ドナー基板の位置決めがフィード・ローラ上において上記ターゲット領域を横切って上記箔を供給することを含む,請求項15から19のいずれかに記載の方法。
- 少なくとも上記ドナー・フィルムの一の成分を上記連続可撓性箔の第1の領域に適用し,上記ドナー・フィルムが既に適用されている上記連続可撓性箔の第2の領域が上記ターゲット領域を横切って供給される,請求項24に記載の方法。
- 少なくとも上記ドナー・フィルムの上記成分の適用が,グラビア処理を用いて上記可撓性箔上にドナー材料の層をコーティングすることを含む,請求項25に記載の方法。
- 少なくとも上記ドナー・フィルムの上記成分の適用が,異なる各ドナー材料を上記箔の交互領域に連続して適用することを含む,請求項25に記載の方法。
- 上記ドナー・フィルムが上記箔上にプレコートされた第1のドナー材料を備え,少なくとも上記ドナー・フィルムの上記成分の適用が,上記プレコート箔に上記第1のドナー材料と異なる第2のドナー材料を適用することを含み,これによって上記ドナー・フィルムが上記第1および第2のドナー材料を備える,請求項25に記載の方法。
- 対向する第1および第2の表面を有し,かつ上記第2の表面上に形成されるドナー・フィルムを有する透明ドナー基板を提供するように構成され,アクセプタ基板上のターゲット領域に近接するように上記ドナー・フィルムを配置するドナー供給アセンブリと,
レーザ,音響光学偏向器および駆動装置を備え,上記レーザから出射される単一入力ビームを,上記駆動装置によって多周波駆動される上記音響光学偏向器に与え,多周波駆動される音響光学偏向器において上記単一入力ビームを複数の出力ビームに分割しかつ上記複数の出力ビームを異なるそれぞれの角度に偏向することによって,上記複数の出力ビームを所定の空間パターンに導き,上記ドナー基板の上記第1の表面を通過させかつ上記ドナー・フィルムに衝突させて,上記ドナー・フィルムからの材料のアクセプタ基板上への放出を誘発し,これによって上記アクセプタ基板の上記ターゲット領域上に上記所定パターンを描画するように構成される光学アセンブリと,
を備えている,プリント装置。
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