JP6591444B2 - ノーシアン電解金めっき液および金めっき方法 - Google Patents
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- 239000010931 gold Substances 0.000 title claims description 268
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 title claims description 265
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 255
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 196
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 25
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 19
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000003607 modifier Substances 0.000 claims description 17
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 16
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 10
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 9
- MXZVHYUSLJAVOE-UHFFFAOYSA-N gold(3+);tricyanide Chemical compound [Au+3].N#[C-].N#[C-].N#[C-] MXZVHYUSLJAVOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 9
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 8
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims description 6
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 claims description 6
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 claims description 6
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 5
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 5
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 4
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 claims description 4
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 claims description 4
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N sulfurothioic S-acid Chemical compound OS(O)(=O)=S DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004181 carboxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 claims description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RYYWUUFWQRZTIU-UHFFFAOYSA-N Thiophosphoric acid Chemical compound OP(O)(S)=O RYYWUUFWQRZTIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 2
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- KZVLNAGYSAKYMG-UHFFFAOYSA-N pyridine-2-sulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)C1=CC=CC=N1 KZVLNAGYSAKYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011669 selenium Substances 0.000 claims description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 claims 1
- PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N sulfanyl Chemical class [SH] PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 103
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 42
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 39
- -1 cyanide compound Chemical class 0.000 description 31
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 239000006188 syrup Substances 0.000 description 13
- 235000020357 syrup Nutrition 0.000 description 13
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 11
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 8
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 6
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YTGJWQPHMWSCST-UHFFFAOYSA-N Tiopronin Chemical compound CC(S)C(=O)NCC(O)=O YTGJWQPHMWSCST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 5
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 5
- NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N thiosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1S NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940103494 thiosalicylic acid Drugs 0.000 description 5
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 4
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006179 pH buffering agent Substances 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 4
- WFIZEGIEIOHZCP-UHFFFAOYSA-M potassium formate Chemical compound [K+].[O-]C=O WFIZEGIEIOHZCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- ZWZLRIBPAZENFK-UHFFFAOYSA-J sodium;gold(3+);disulfite Chemical compound [Na+].[Au+3].[O-]S([O-])=O.[O-]S([O-])=O ZWZLRIBPAZENFK-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 4
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 4
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229960004402 tiopronin Drugs 0.000 description 4
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 3
- UESISTHQAYQMRA-UHFFFAOYSA-M formyloxythallium Chemical compound [Tl+].[O-]C=O UESISTHQAYQMRA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L potassium sulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910052939 potassium sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000011151 potassium sulphates Nutrition 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- SDKPSXWGRWWLKR-UHFFFAOYSA-M sodium;9,10-dioxoanthracene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2S(=O)(=O)[O-] SDKPSXWGRWWLKR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZOBPZXTWZATXDG-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazolidine-2,4-dione Chemical compound O=C1CSC(=O)N1 ZOBPZXTWZATXDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYXHHICIFZSKKZ-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylacetamide Chemical compound NC(=O)CS GYXHHICIFZSKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NGHVIOIJCVXTGV-ALEPSDHESA-N 6-aminopenicillanic acid Chemical compound [O-]C(=O)[C@H]1C(C)(C)S[C@@H]2[C@H]([NH3+])C(=O)N21 NGHVIOIJCVXTGV-ALEPSDHESA-N 0.000 description 2
- NGHVIOIJCVXTGV-UHFFFAOYSA-N 6beta-amino-penicillanic acid Natural products OC(=O)C1C(C)(C)SC2C(N)C(=O)N21 NGHVIOIJCVXTGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940120146 EDTMP Drugs 0.000 description 2
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N aqua regia Chemical compound Cl.O[N+]([O-])=O QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- NFDRPXJGHKJRLJ-UHFFFAOYSA-N edtmp Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CCN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O NFDRPXJGHKJRLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- SRCZENKQCOSNAI-UHFFFAOYSA-H gold(3+);trisulfite Chemical compound [Au+3].[Au+3].[O-]S([O-])=O.[O-]S([O-])=O.[O-]S([O-])=O SRCZENKQCOSNAI-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 2
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- XTFKWYDMKGAZKK-UHFFFAOYSA-N potassium;gold(1+);dicyanide Chemical compound [K+].[Au+].N#[C-].N#[C-] XTFKWYDMKGAZKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- RXNUQHQAZAAIDP-UHFFFAOYSA-L sodium;gold(1+);sulfite Chemical compound [Na+].[Au+].[O-]S([O-])=O RXNUQHQAZAAIDP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FAKFSJNVVCGEEI-UHFFFAOYSA-J tin(4+);disulfate Chemical compound [Sn+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O FAKFSJNVVCGEEI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- JGRMXPSUZIYDRR-UHFFFAOYSA-N 2-(4-oxo-2-sulfanylidene-1,3-thiazolidin-3-yl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CN1C(=O)CSC1=S JGRMXPSUZIYDRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGIYRFIHILVAPP-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-sulfanylacetyl)amino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CNC(=O)CS MGIYRFIHILVAPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 3-mercaptopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZRCSTMIVMQIPR-UHFFFAOYSA-N 4-oxo-1h-pyridine-3-sulfonic acid Chemical compound OC1=CC=[NH+]C=C1S([O-])(=O)=O AZRCSTMIVMQIPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMJXSOYPAOSIPZ-UHFFFAOYSA-N 4-sulfanylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(S)C=C1 LMJXSOYPAOSIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHCQNEIFBBBMQB-UHFFFAOYSA-N 5-methylpyridine-3-sulfonic acid Chemical compound CC1=CN=CC(S(O)(=O)=O)=C1 GHCQNEIFBBBMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXBOYZWIZALSSB-UHFFFAOYSA-N N1=C(C=CC=C1)S(=O)(=O)O.N1=C(C=CC=C1)S(=O)(=O)O Chemical compound N1=C(C=CC=C1)S(=O)(=O)O.N1=C(C=CC=C1)S(=O)(=O)O RXBOYZWIZALSSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000604 Polyethylene Glycol 200 Polymers 0.000 description 1
- 229910001245 Sb alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010058907 Tiopronin Proteins 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000002140 antimony alloy Substances 0.000 description 1
- 229910001439 antimony ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- MNMKEULGSNUTIA-UHFFFAOYSA-K bismuth;methanesulfonate Chemical compound [Bi+3].CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O MNMKEULGSNUTIA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 229910021505 gold(III) hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WDZVNNYQBQRJRX-UHFFFAOYSA-K gold(iii) hydroxide Chemical compound O[Au](O)O WDZVNNYQBQRJRX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000001469 hydantoins Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- YACKEPLHDIMKIO-UHFFFAOYSA-N methylphosphonic acid Chemical compound CP(O)(O)=O YACKEPLHDIMKIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- KTAWKMGFQHAPTN-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)-2-sulfanylacetamide Chemical compound OCCNC(=O)CS KTAWKMGFQHAPTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PJAHUDTUZRZBKM-UHFFFAOYSA-K potassium citrate monohydrate Chemical compound O.[K+].[K+].[K+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O PJAHUDTUZRZBKM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- IIQJBVZYLIIMND-UHFFFAOYSA-J potassium;antimony(3+);2,3-dihydroxybutanedioate Chemical compound [K+].[Sb+3].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O IIQJBVZYLIIMND-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- DVECLMOWYVDJRM-UHFFFAOYSA-N pyridine-3-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CN=C1 DVECLMOWYVDJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical compound [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- YTQVHRVITVLIRD-UHFFFAOYSA-L thallium sulfate Chemical compound [Tl+].[Tl+].[O-]S([O-])(=O)=O YTQVHRVITVLIRD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940119523 thallium sulfate Drugs 0.000 description 1
- 229910000374 thallium(I) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- HRXKRNGNAMMEHJ-UHFFFAOYSA-K trisodium citrate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O HRXKRNGNAMMEHJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940038773 trisodium citrate Drugs 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
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Description
(a)下記一般式(I)で示される1価金錯体
(ただし、式(I)中、R1は、水素またはメルカプト基を有していてもよく分岐していてもよい炭素数1〜4のアルキル基を示し、R2は、水素または分岐していてもよい炭素数1〜4のアルキル基を示し、R3は、水素、分岐していてもよい炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、またはメルカプト基を有していてもよく分岐していてもよい炭素数1〜4のカルボキシアルキル基を示し、nは1〜10の整数を示す。)
(b)電解質
(c)金属から選ばれる金属結晶調整剤
を含有することを特徴とするノーシアン電解金めっき液である。
で示される1価金錯体であって、R1は、水素またはメルカプト基を有していてもよく分岐していてもよい炭素数1〜4のアルキル基、好ましくは水素、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、メルカプトメチル基(−CH2−SH)、より好ましくは水素、メチル基を示す。また、R2は、水素または分岐していてもよい炭素数1〜4のアルキル基、好ましくは水素、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、より好ましくは水素、メチル基を示す。更に、R3は、水素、分岐していてもよい炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、またはメルカプト基を有していてもよく分岐していてもよい炭素数1〜4のカルボキシアルキル基、好ましくは水素、メチル基、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、ヒドロキシエチル基、イソカルボキシエチル基(−CH(CH3)−COOH)、メルカプトカルボキシメチル基(−CH(SH)−COOH)、2−メルカプト−イソカルボキシエチル基(−CH(CH2SH)−COOH)、より好ましくはカルボキシメチル基、水素を示す。また更に、nは1〜10の整数、好ましくは3〜6の整数、より好ましくは4を示す。なお、ここでnは1価金錯体が何量体で形成されているかを示す。
で示される化合物(ただし、Xは水素、アンモニウムイオン、金属を示し、好ましくはナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属、アンモニウムイオン、銀、スズ、アンチモン、ゲルマニウム、鉛、ビスマス、コバルト、インジウム、水銀、ニッケル、亜鉛、より好ましくは水素、ナトリウム、カリウムを示す。また、R1〜R2は上記と同じものを示し、R3’は、上記R3と同じものか、上記R3のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシアルキル基の水素が、上記X(ただし、水素を除く)に置換されたものを示す。)を金塩の1〜5倍モル好ましくは3〜3.5倍モルとなるように添加し、必要により酸性物質を添加してpHを3以下に調整した後、十分攪拌することにより調製することができる。
(d)pH緩衝剤
(e)硫黄含有化合物から選ばれる結晶調整剤
からなる群から選ばれる1種または2種を含有させることが好ましい。
1価金錯体シロップの調製:
チオプロニン0.15M、酢酸0.50Mおよび塩化金酸ナトリウム0.05Mを含む水溶液を20℃で10時間攪拌し、1価金錯体を生成させた。なお、この水溶液のpHは3以下であるため、生成した1価金錯体は溶解せず微粒子となっている。次に、この水溶液を0.4μmのメンブレンフィルターでろ過することにより、1価金錯体を単離した。この操作における金の回収率は99.9%であった。なお、この1価金錯体の構造は下記式(III)のような4量体構造であることは既に知られている(Carrie A. Simpson et al., Inorganic Chemistry 2010, 49(23), 10858-10866)。
1価金錯体の調製:
チオプロニン0.05Mおよび亜硫酸金ナトリウム0.05Mを含む水溶液を20℃で10時間攪拌し、1価金錯体を生成させた。この水溶液のpHを酢酸で3以下にすることにより、生成した1価金錯体は沈殿した。次に、水溶液を0.4μmのメンブレンフィルターでろ過することにより、1価金錯体を単離した。この操作における金の回収率は99.9%であった。
電解金めっき液の調製:
参考例1で調製した1価金錯体シロップ50ml/L(金イオンとして5g/L)、クエン酸三カリウム一水和物65g/Lを含有する水溶液を調製し、この水溶液のpHを水酸化カリウムで7.2に調整したものを電解金めっき液とした。
電解金めっき:
銅試験片に、電解脱脂、ソフトエッチング、酸処理等の一般的に公知な前処理を行ってから、電解ニッケルめっきを行った。その直後に参考例3で調製した電解金めっき液を用いて、銅上ニッケルめっきされた試験片に金めっきを行った。試験片のめっきされる部分のサイズは2cm×2cmで、陽極の面積はめっき面積の1.5〜2.0倍であった。陽極は酸化イリジウムをコーティング層としたチタンの不溶性アノードであり、試験片(陰極として)との距離は約6cmであった。容量100mlの耐熱塩化ビニール製のめっき槽に、液温60℃を維持し、電流密度0.4A/dm2で、撹拌しながら、2分間電解金めっきを行った。
電解金めっき:
参考例1で調製した1価金錯体シロップ40ml/L(金イオンとして4g/L)、硫酸カリウム44g/L、ギ酸タリウム24.4ppm(タリウムイオンとして20ppm)を含有する水溶液を調製し、この水溶液のpHを水酸化カリウムで6.2に調整したものを電解金めっき液とした。
電気化学測定:
実施例1で得られた電解金めっき液(タリウム20ppm添加)と、参考例3で調製した電解金めっき液(タリウム未添加)の電気化学測定で得た分極曲線を図1に示した。結晶調整剤として金属であるタリウムの添加により、分極曲線は右にシフトして、分極はかなりしやすくなることが分かった。そして、タリウムを添加した電解金めっき液の電流効率はタリウム未添加の電解金めっき液の約2倍となって、ほぼ100%となった。
電解金めっき:
参考例1で調製した1価金錯体シロップ50ml/L(金イオンとして5g/L)、ギ酸カリウム42g/L、ギ酸タリウム24.4ppm(タリウムイオンとして20ppm)、EDTA7.31g/Lを含有する水溶液を調製し、この水溶液のpHを水酸化カリウムで7.4に調整したものを電解金めっき液とした。
電解金めっき:
参考例1で調製した1価金錯体シロップ50ml/L(金イオンとして5g/L)、ギ酸カリウム42g/L、ギ酸タリウム24.4ppm(タリウムイオンとして20ppm)、EDTA7.31g/L、チオサリチル酸1.54g/Lを含有する水溶液を調製し、この水溶液のpHを水酸化カリウムで7.4に調整したものを電解金めっき液とした。
電解金めっき:
参考例1で調製した1価金錯体シロップ40ml/L(金イオンとして4g/L)、硫酸カリウム44g/L、酒石酸アンチモンカリウム(アンチモンイオンとして10ppm)、EDTA7.31g/L、クエン酸三ナトリウム10g/L、チオサリチル酸0.77g/Lを含有する水溶液を調製し、この水溶液のpHを水酸化カリウムで6.2に調整したものを電解金めっき液とした。
マイクロバンプの形成:
実施例4で調製した電解金めっき液を用いて、半導体ウェハーのバンプめっきを行った。レジストによるパターン化されたウェハー上(めっき下地素材はスパッタリング金)に、電流密度0.4A/dm2、液温60℃、40分間で金めっきを行った。めっき後レジストを剥離し、表面を観察したところ、図5に示すような微細な金バンプ(幅10μm、高さ約10μm)が形成されていた。金バンプは真っ直ぐ上に成長していたことから、この電解金めっき液は、レジストをアタックしないことがわかった。
電解金めっき:
シアン金めっきの市販品として電解純金めっき液SKYGOLD S−10(JCU製)を用いて、液温60℃、電流密度0.3A/dm2で、撹拌しながら、2分間(膜厚0.35μm)電解金めっきを行った。
電解金めっき:
亜硫酸金ナトリウム(金イオンとして10g/L)、亜硫酸ナトリウム80g/L、硫酸タリウム(タリウムイオンとして20ppm)、エチレンジアミン10g/L、EDTA4g/L、リン酸水素2ナトリウム20g/L、3,5−ジニトロ安息香酸1g/Lを含有する水溶液を調製し、この水溶液のpHを水酸化カリウムで8.0に調整したものを電解金めっき液とした。この液を用いて、液温60℃、電流密度0.5A/dm2で、撹拌しながら、70秒間(膜厚0.35μm)電解金めっきを行った。
物性測定:
(1)はんだボール接合シェア強度と破壊モード
実施例3、4と比較例1、2の液で得た金めっき皮膜のはんだボール接合シェア強度と破壊モードを比較した(図6)。
はんだボール接合性の評価はM705(Sn−3.0Ag−0.5Cu)の0.76mmφのソルダーボール(千住金属工業製)、フラックスは529D(ペースト状:千住金属工業製)、リフローはRF−430−M2(パルス製)を使用し、トップ温度が260℃、融点以上の保持時間約32秒ではんだ実装後、ボンドテスター4000HS(ARCTEK製)を使用して、シェア速度が40mm/sでシェアテストを行った。なお、評価された金めっきの膜厚は全部(Ni5.0μm/Au0.35μm)であった。
破壊モードは、破壊面にはんだボールの残り面積比率で評価した。界面破壊がなく、はんだボールの残りが多い場合に接合性が強いと評価し、はんだボールの残りがなくなって、界面破壊されている場合に接合性が弱いと評価した。図6に示すように、サンプル数20個で、本発明の実施例3と実施例4のはんだ接合強度は比較例1と比較例2と同等であって、破壊モードは界面破壊がほぼなかった。一方、比較例1のシアン金めっき液と比較例2の亜硫酸金めっき液ははんだ残りが少ないケースがやや多くて、界面破壊のケースもあって、実施例3と実施例4のように優れていないことがあった。
実施例3、4と比較例1、2の液で得た金めっき皮膜のワイヤボンディング強度を比較した。
ワイヤボンディング強度の測定は、金ワイヤφ18μm(GMH製)を用い、ボンダーHW27U−HF(パナソニック製)でワイヤを打って実装して、プルテスターBT−14(DAGE製)を用いてプル強度を測定した(プル強度測定における破壊モード(A〜Eの5段階)を図7に示した。AとEは不合格)。なお、評価された金めっきの膜厚は全部(Ni5.0μm/Au0.35μm)であった。実施例3、4と比較例1、2の測定結果は全部B(合格)となった。ワイヤボンディング強度として、図8に示すように本発明の実施例3と実施例4の金めっき液は、比較例1のシアン金めっき液と比較例2の亜硫酸金めっき液と比べて、有意差なく、同じく優れていた。
電解金めっき:
参考例1で調製した1価金錯体シロップ50ml/L(金イオンとして5g/L)、ギ酸カリウム42g/L、メタンスルホン酸ビスマス(ビスマスとして20ppm)、EDTA7.31g/L、チオグリコール酸0.46g/Lを含有する水溶液を調製し、この水溶液のpHを水酸化カリウムで7.4に調整したものを電解金めっき液とした。
電解金めっき:
参考例1で調製した1価金錯体シロップ50ml/L(金イオンとして5g/L)、ギ酸カリウム42g/L、硫酸スズ(スズとして100ppm)、EDTA5.8g/Lを含有する水溶液を調製し、この水溶液のpHを水酸化カリウムで7.4に調整したものを電解金めっき液とした。
電解金めっき:
参考例1で調製した1価金錯体シロップ80ml/L(金イオンとして8g/L)、硫酸カリウム44g/L、硫酸スズ(スズとして100ppm)、EDTA7.31g/L、チオサリチル酸1.54g/Lを含有する水溶液を調製し、この水溶液のpHを水酸化カリウムで7.4に調整したものを電解金めっき液とした。
電解金めっき液の調製:
2,4‐チアゾリジンジオンの加水分解から生成した2−メルカプトアセトアミド0.15Mおよび塩化金酸0.05Mを含む水溶液を20℃で10時間攪拌し、1価金錯体を生成させた。なお、この水溶液のpHは3以下であるため、生成した1価金錯体は溶解せず沈殿物となっている。次に、この水溶液を0.4μmのメンブレンフィルターでろ過することにより、1価金錯体を単離した。この操作における金の回収率は99.9%であった。なお、この1価金錯体の構造は式(IV)のような構造(nは1〜10)であることをNMRで確認した。この1価金錯体は上記実施例と同様に電解金めっき液に使用し得る。
電解金めっき:
ロダニン−3−酢酸の加水分解から生成したN−(2−メルカプトエチオニル)グリシン0.15Mおよび塩化金酸0.05Mを含む水溶液を20℃で10時間攪拌し、1価金錯体を生成させた。なお、この水溶液のpHは3以下であるため、生成した1価金錯体は溶解せず沈殿物となっている。次に、この水溶液を0.4μmのメンブレンフィルターでろ過することにより、1価金錯体を単離した。この操作における金の回収率は99.9%であった。なお、この1価金錯体の構造は式(V)のような構造(nは1〜10)であることをNMRで確認した。
電解金めっき液の調製::
2,4‐チアゾリジンジオン及び2−アミノエタノールの加水分解から生成したN−(2−ヒドロキシエチル)−2−メルカプトアセトアミド0.15Mおよび塩化金酸0.05Mを含む水溶液を20℃で10時間攪拌し、1価金錯体を生成させた。なお、この水溶液のpHは3以下であるため、生成した1価金錯体は溶解せず沈殿物となっている。次に、この水溶液を0.4μmのメンブレンフィルターでろ過することにより、1価金錯体を単離した。この操作における金の回収率は99.9%であった。なお、この1価金錯体の構造は式(VI)のような構造(nは1〜10)であることをNMRで確認した。この1価金錯体は上記実施例と同様に電解金めっき液に使用し得る。
以 上
Claims (10)
- 以下の成分(a)〜(c)
(a)下記一般式(I)で示される1価金錯体
(b)電解質
(c)金属から選ばれる結晶調整剤
を含有することを特徴とするノーシアン電解金めっき液。 - 成分(a)の一般式(I)で示される1価金錯体が、式(I)中のR1が水素、R2がメチル基、R3がカルボキシメチル基を示し、nは4のものである請求項1記載のノーシアン電解金めっき液。
- 成分(b)の電解質が、無機酸または有機酸のカリウム塩、ナトリウム塩、アンモニウム塩からなる群から選ばれる1種または2種以上である請求項1記載のノーシアン電解金めっき液。
- 成分(c)の金属から選ばれる結晶調整剤の金属が、タリウム、アンチモン、ヒ素、ビスマス、スズ、鉛、インジウム、ゲルマニウム、ガリウム、テルル、セリウム、セレン、コバルトおよびニッケルからなる群から選ばれる1種または2種以上である請求項1記載のノーシアン電解金めっき液。
- 更に、成分(d)および(e)
(d)pH緩衝剤
(e)硫黄含有化合物から選ばれる結晶調整剤
からなる群から選ばれる1種または2種を含有する請求項1〜4の何れかに記載のノーシアン電解金めっき液。 - 成分(d)のpH緩衝剤が、無機酸、有機カルボン酸、有機リン酸、ピリジンスルホン酸およびこれらのカリウム塩、ナトリウム塩、アンモニウム塩からなる群から選ばれる1種または2種以上である請求項5記載のノーシアン電解金めっき液。
- 成分(e)の硫黄含有化合物から選ばれる結晶調整剤の硫黄含有化合物が、チオ硫酸ならびにチオリン酸およびこれらのカリウム塩、ナトリウム塩、アンモニウム塩、メルカプト基とカルボキシ基の両方を有する有機化合物からなる群から選ばれる1種または2種以上である請求項5記載のノーシアン電解金めっき液。
- pHが3〜14である請求項1〜7の何れかに記載のノーシアン電解金めっき液。
- 被めっき部材を、請求項1〜8の何れかに記載のノーシアン電解金めっき液中で電解めっきすることを特徴とする被めっき部材のノーシアン電解金めっき方法。
- 電解めっき中の液温が20〜80℃、電流密度が0.1〜6A/dm2である請求項9記載の被めっき部材のノーシアン電解金めっき方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014255018 | 2014-12-17 | ||
JP2014255018 | 2014-12-17 | ||
PCT/JP2015/085138 WO2016098789A1 (ja) | 2014-12-17 | 2015-12-16 | ノーシアン電解金めっき液および金めっき方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2016098789A1 JPWO2016098789A1 (ja) | 2017-09-28 |
JP6591444B2 true JP6591444B2 (ja) | 2019-10-16 |
Family
ID=56126674
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016564871A Active JP6591444B2 (ja) | 2014-12-17 | 2015-12-16 | ノーシアン電解金めっき液および金めっき方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6591444B2 (ja) |
TW (1) | TW201631222A (ja) |
WO (1) | WO2016098789A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7263826B2 (ja) * | 2019-02-21 | 2023-04-25 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 硫黄系有機材料、及び該硫黄系有機材料により表面修飾を施した無機材料 |
JP7219120B2 (ja) * | 2019-03-04 | 2023-02-07 | Eeja株式会社 | 電解金めっき液及びその製造方法、並びに金めっき方法及び金錯体 |
CN109913912A (zh) * | 2019-04-02 | 2019-06-21 | 深圳市昊扬电铸技术开发有限公司 | 一种用于黄金无氰电铸工艺的电铸液 |
CN114108040A (zh) * | 2020-08-25 | 2022-03-01 | 周大福珠宝文化产业园(武汉)有限公司 | 无氰镀金液及以无氰电镀工艺制成的黄金电铸件 |
CN113122890B (zh) * | 2021-04-19 | 2022-06-10 | 深圳市缤纷珠宝开发有限公司 | 一种无氰碱性镀金液及其电镀方法 |
CN113832508B (zh) * | 2021-09-30 | 2022-06-03 | 深圳市联合蓝海黄金材料科技股份有限公司 | 无氰电镀金镀液及其应用和电镀制金凸块的方法以及金凸块和电子部件 |
CN116043288A (zh) * | 2023-01-12 | 2023-05-02 | 重庆市计量质量检测研究院 | 一种无氰的亚硫酸体系电镀液 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005256072A (ja) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | 金錯体 |
JP4873196B2 (ja) * | 2009-04-21 | 2012-02-08 | 上村工業株式会社 | 無電解金めっき浴 |
CN104736739B (zh) * | 2012-07-13 | 2018-04-06 | 学校法人关东学院 | 无氰镀金浴及无氰镀金浴的制造方法 |
JP5610500B1 (ja) * | 2014-05-21 | 2014-10-22 | 小島化学薬品株式会社 | 有機金錯体 |
-
2015
- 2015-12-16 TW TW104142300A patent/TW201631222A/zh unknown
- 2015-12-16 WO PCT/JP2015/085138 patent/WO2016098789A1/ja active Application Filing
- 2015-12-16 JP JP2016564871A patent/JP6591444B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201631222A (zh) | 2016-09-01 |
JPWO2016098789A1 (ja) | 2017-09-28 |
WO2016098789A1 (ja) | 2016-06-23 |
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---|---|---|---|
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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