JP6579259B2 - 光電変換装置 - Google Patents

光電変換装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6579259B2
JP6579259B2 JP2018504046A JP2018504046A JP6579259B2 JP 6579259 B2 JP6579259 B2 JP 6579259B2 JP 2018504046 A JP2018504046 A JP 2018504046A JP 2018504046 A JP2018504046 A JP 2018504046A JP 6579259 B2 JP6579259 B2 JP 6579259B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
block
photoelectric conversion
signal processing
supply voltage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018504046A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2017154388A1 (ja
Inventor
祐弥 三好
祐弥 三好
管野 透
透 管野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Publication of JPWO2017154388A1 publication Critical patent/JPWO2017154388A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6579259B2 publication Critical patent/JP6579259B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14601Structural or functional details thereof
    • H01L27/14603Special geometry or disposition of pixel-elements, address-lines or gate-electrodes
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/76Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
    • H04N25/77Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components
    • H04N25/772Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components comprising A/D, V/T, V/F, I/T or I/F converters
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14643Photodiode arrays; MOS imagers
    • H01L27/14645Colour imagers
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/60Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise
    • H04N25/617Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise for reducing electromagnetic interference, e.g. clocking noise
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/60Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise
    • H04N25/67Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise applied to fixed-pattern noise, e.g. non-uniformity of response
    • H04N25/671Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise applied to fixed-pattern noise, e.g. non-uniformity of response for non-uniformity detection or correction
    • H04N25/677Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise applied to fixed-pattern noise, e.g. non-uniformity of response for non-uniformity detection or correction for reducing the column or line fixed pattern noise
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/709Circuitry for control of the power supply
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/71Charge-coupled device [CCD] sensors; Charge-transfer registers specially adapted for CCD sensors
    • H04N25/75Circuitry for providing, modifying or processing image signals from the pixel array
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/76Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
    • H04N25/766Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors comprising control or output lines used for a plurality of functions, e.g. for pixel output, driving, reset or power
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/76Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
    • H04N25/77Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components
    • H04N25/771Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components comprising storage means other than floating diffusion
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/76Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
    • H04N25/77Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components
    • H04N25/778Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components comprising amplifiers shared between a plurality of pixels, i.e. at least one part of the amplifier must be on the sensor array itself

Description

本発明は、光電変換装置に関する。
光電変換装置は、入射光に応じて光電変換を行う光電変換素子及び光電変換された電荷を電圧に変換する電荷電圧変換部を備える画素が、二次元に配置された画素ブロックと、該画素ブロックから出力された信号を処理する複数の信号処理とで構成されている。このような構成は、一体化するのに有利なCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor:相補型金属酸化膜半導体)により形成されている。
このような光電変換装置は、撮像素子(イメージセンサ)として、ビデオカメラやデジタルカメラ、複写機等、さまざまな撮像機器に用いられている。ここで、撮像機器に搭載するイメージセンサは、高画質化を達成するべくノイズ低減が望まれつつ、イメージセンサが配置できる基板のレイアウト面積の制約がある。
例えば、特許文献1には、水平転送バスラインがカラムAD回路上を交差する構成で、レイアウト面積の増加を抑制しつつ、カラムAD回路から水平転送バスラインへのクロストークによるノイズの発生を低減させる構成が提案されている。
上記特許文献1のように、横長の光電変換装置に対して、横給電のみで給電を行おうとすると、IRドロップ対策で、電源・GND領域をとらざるをえず、幅の広い配線導線(メタル)での給電が必要になる。つまり、光電変換装置の短手方向のサイズが大きくなり、1ウェハあたりのチップの取れ数が少なくなることに起因して、1チップ当たりの製造コストが増加してしまう。
そこで、本発明は、上記事情に鑑み、短手方向のサイズが縮小できる光電変換装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明の一態様では、横長の長方形形状の光電変換装置であって、複数の画素が配置された画素ブロックと、前記画素ブロックから出力された信号を処理する、当該光電変換装置の短手方向に並列された複数の信号処理ブロックと、前記画素ブロック及び前記複数の信号処理ブロックへ電源電圧を供給する電源電圧供給ブロックと、前記電源電圧供給ブロックに接続される電極パッドと、を備えており、
前記複数の画素の夫々は、入射光に応じて光電変換を行う光電変換素子および光電変換された電荷を電圧に変換する増幅器を含む電荷電圧変換部を備え、
前記画素ブロックでは、所定の数毎の画素が一纏りの信号処理単位である1つのカラムとして設定され、複数の該カラムが当該光電変換装置の長手方向に並列されており、
前記電源電圧供給ブロックから出力される前記電源電圧を、前記短手方向から、前記画素ブロックの複数のカラム毎へ給電可能にする、複数の縦給電配線が設けられ、前記電源電圧供給ブロックから出力される前記電源電圧を、前記長手方向から、前記画素ブロック及び前記複数の信号処理ブロックへ、給電可能である、複数の横給電配線が設けられ、前記縦給電配線と前記横給電配線とは接続されていることを特徴とする
光電変換装置を提供する。
一態様によれば、光電変換装置において、短手方向のサイズを縮小することができる。
本発明の第1実施形態に係る光電変換装置。 比較例に係る光電変換装置。 図1の光電変換装置の画素ブロック内の詳細図。 図3の画素ブロック内のスイッチや増幅器をトランジスタで構成した場合の回路図。 本発明の第2実施形態に係る光電変換装置。 電源電圧供給ブロックが複数設けられる場合の光電変換装置。 電極パッドが複数ある場合の光電変換装置。 画素ブロック内の給電方法の概略図。 ノイズ源に対しては横給電のみを利用した場合の概略図。 信号処理ブロックがサイクリック型A/Dコンバータである場合の具体的な回路図。
以下、図面を参照して本発明を実施するための形態について説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
<第1実施形態>
図1は、本発明の第1実施形態に係る光電変換装置を示す。本発明の光電変換装置は、例えば、ビデオカメラやデジタルカメラ、複写機等、さまざまな撮像機器に用いられる、CMOSセンサとして機能する。
図1に示す光電変換装置1は、画素ブロック10と、信号処理ブロック20A〜20Zと、電源電圧供給ブロック30と、電極パッド40とを備える。
画素ブロック10では、入射光量を画素信号に変換する画素(Pixel)が二次元に配置されている。
信号処理ブロック20A〜20Zは、画素ブロック10から出力された信号を処理する。複数の信号処理ブロック20A〜20Zは、光電変換装置1の短手方向に並んで配列(並列)されている。
電源電圧供給ブロック30は、これらの各ブロックへ電源電圧を供給する。電極パッド40は、電源電圧供給ブロック30に電源電圧を給電する。
また、本発明が適用される光電変換装置は、1対の長辺と1対の短辺とを備えた横長の長方形形状である。光電変換装置1において、画素ブロック10、信号処理ブロック20A〜20Z、電源電圧供給ブロック30、電極パッド40は、順に上から下に短辺方向に(図1の上下方向に)並んで配置されている。
電源電圧供給ブロック30から出力される電源電圧を、画素ブロック10の複数のカラム(PU1〜PUn)毎へ光電変換装置1の短辺方向(短手方向、図1の上下方向)に、給電可能にする、複数の縦給電配線VL1〜VLnが設けられている。
本明細書において、カラムとは、複数の光電変換素子を一纏めにした信号処理系統の最小単位(一纏りの信号処理単位:Processing Unit)を示す。本願では6個(R(赤),G(緑),B(青)の各2画素)の光電変換素子を処理する系統を1カラムとしている。なお、1カラム当たりの個数は、6個に限定されず、他の数であってもよい。
画素ブロック10では、光電変換装置1の長辺方向(図1の左右方向)に、このように設定された信号処理単位であるカラムPU1〜PUnが、複数並んで配列(並列)されている。
電源電圧供給ブロック30から出力される電源電圧を、画素ブロック10及び複数の信号処理ブロック20A〜20Zへ、光電変換装置1の長辺方向(長手方向)に、給電可能にする、複数の横給電配線HLが設けられている。
そして、電源電圧供給ブロック30からの電源電圧を伝送する、短手方向に延伸する縦給電配線VLと、長手方向に延伸する横給電配線HLとは接続されている。
本明細書において、横給電は光電変換装置の長手方向(図1の左右方向)の給電(長手方向から各ブロックへの給電)を意味し、縦給電は、光電変換装置の短手方向(図1の上下方向)の給電(短手方向から各ブロックへの給電)を意味する。
図1に示す本発明の第1実施形態では、全ての配線で、メッシュ状に縦給電及び横給電の両方を行っている。
<比較例>
図2は、比較例に係る光電変換装置を示す。この比較例では、横長の光電変換装置において、横給電のみで給電を行っている。
ここで、光電変換装置の長手方向は、光電変換素子の搭載数と光電変換素子1つあたりのサイズで律速している。詳しくは、長手方向のサイズを小さくするには、光電変換素子の搭載数を減らす又は一つあたりの光電変換素子のサイズを小さくすることになる。
しかし、光電変換素子の搭載数を減らすと解像度の低下を招き、光電変換素子を小さくすると感度低下を招く恐れがあるため、光電変換装置の長手方向のサイズを小さくすることは難しい。
そのため、光電変換装置の面積を減らすためには短手方向のサイズを縮小することは重要である。例えば、長手方向のサイズを変えずに全体のサイズを縮小するため、「長手方向:短手方向」のアスペクト比は10:1から、ときには100:1に及ぶこともある。
図2に示すように、光電変換装置に対して、横給電のみで給電を行おうとすると、電源配線上に生じるIR積の電圧降下であるIRドロップが大きく発生する。
そのため、IRドロップを考慮して、幅の広い(光電変換装置の短手方向の長さが広い)配線導線(配線メタル)での給電が必要になる。例えば、IRドロップを考慮した目標の抵抗値がA(Ω)、シート抵抗がC(Ω/□)(ohm per square)、光電変換装置の長手方向の長さがD(μm)だとした場合、必要なメタル幅B(μm)は、
「B(μm) > D(μm)×C(Ω/□)/A(μm)」
となり、必要な配線メタル幅は光電変換装置の長手方向の長さに比例する。
言い換えると、図2の比較例の構成では、長手方向の長さが長いほど、配線メタルの幅を広くする必要があり、光電変換装置の短手方向の長さが長くなる。
そこで、短手方向の長さを短くするため、本発明では図1のように、縦給電と横給電とを併用する構成を採用する。詳しくは、電源電圧供給ブロック30と電極パッド40を信号処理ブロック20A〜20Zの下部に配置し、そこから画素ブロック10や複数の信号処理ブロック20A〜20Zに対して1カラムごとに縦給電を行い、縦給電と横給電とを併用する。
この構成では縦給電配線VLの一本あたりの配線抵抗がF(Ω)であったとしても、カラム数がE(本)あれば、合成抵抗はF/Eとなりカラム数の分だけ大きく抵抗値を下げることができる。図1では、比較的容易に合成抵抗を下げられる縦給電を併用する構成であるため、横給電の抵抗値を大きくすることが可能、言い換えれば、横給電配線HLの給電用配線の幅を狭くすることができるため、光電変換装置の短手方向のサイズを縮小できる。よって、1ウェハあたりのチップのとれ数が多くなりコストダウンが可能となる。
<画素ブロック>
下記、画素ブロック内のカラムの構成について説明する。図3は、図1の光電変換装置の画素ブロック10内の詳細図である。
図3では、6個の画素11と6個のアナログメモリで構成された6つの画素ユニットRE,RO,GE,GO,BE,BOを1つのカラムPUxとして説明するが、処理単位となるカラムの数は、この数に限定するものではない。ここで、RE,ROは赤色(R)透過のカラーフィルターが受光素子上部に設けられる2つの画素ユニットを示す。GE,GOは緑色(G)透過のカラーフィルターが設けられる2つの画素ユニットを示す。BE,BOは青色(B)透過のカラーフィルターが設けられる2つの画素ユニットを示す。
画素ユニットRE,RO,GE,GO,BE,BOは、画素11と、アナログメモリ12とを備える。下記、画素ユニットROを用いて、画素ユニット内部の構成の説明をするが、他の画素ユニットでも構成は同様とする。
画素(画素回路)は、回路内で電荷‐電圧変換と増幅を行う、アクティブピクセルセンサである。画素11は光電変換素子PDやフロートディフュージョン領域FD等を備える。光電変換素子(受光素子)PDは、光の入射によって発生した電荷を蓄積する。フロートディフュージョン領域FDは、電荷を読み出したときに、画素11内の接合浮遊容量へ転送して電荷‐電圧変換を行う電荷電圧変換部として機能する。
画素11において、光電変換素子PDのアノードは接地電圧に接続され、光電変換素子PDのカソードは転送スイッチSW1の一端に接続される。転送スイッチSW1の他端は、第一の増幅器AMP1、及びリセットスイッチSW2に接続される。
ここで、転送スイッチSW1と、第一の増幅器AMP1と、リセットスイッチSW2が接続される領域をフロートディフュージョン領域FDとする。第1の増幅器AMP1の一端は、電流源13へ接続されている。
リセットスイッチSW2の、転送スイッチSW1及び第一の増幅器AMP1と接続していない他端にはリセット電圧である駆動信号Vrdが印加される。
図には記載していないが、光電変換素子PD上部にはカラーフィルターやマイクロレンズが形成される。これら、転送スイッチSW1、リセットスイッチSW2、光電変換素子PD、第一の増幅器AMP1、カラーフィルター、及びマイクロレンズをあわせて画素とよぶ。なお、マイクロレンズは形成しなくてもよい場合もある。
アナログメモリ12を設けることで、信号の一時記憶が可能になり、アナログメモリに蓄積されたR/G/Bの信号レベルやリセットレベルの任意の順番(例えば、Rのリセットレベル⇒信号レベル⇒Gのリセットレベル⇒・・・)での読み出しが可能となる。
図3に示す、画素選択スイッチSW6、容量選択スイッチSW4,SW5、コンデンサC1,C2、及びメモリ書き込み選択スイッチSW3をあわせてアナログメモリと呼ぶ。
アナログメモリ12では、容量選択スイッチSW4,SW5はそれぞれコンデンサC1,C2の一端に接続されている。コンデンサC1,C2の他端は、所定のメモリ基準電圧Vmに接続されている。
画素11内の第1の増幅器AMP1の一端は、第1の電流源13に接続されているとともに、メモリ書き込み選択スイッチSW3を介して、コンデンサC1,C2を選択するための選択スイッチSW4,SW5と、画素を選択するための画素選択スイッチSW6に接続されている。
複数のアナログメモリ12(図では6個)の画素選択スイッチSW6は、第2の増幅器15、及び第2の電流源14に接続される。また、第2の増幅器15には、カラム信号処理部16が接続されている。
同じチップを多様な製品で使用する場合、ある製品では画像特性を優先し、ある製品では消費電流を優先するといったことがある。そのため、第1の増幅器AMP1や第2の増幅器15に流す電流を可変できるようなシステムにしておくと好適である。
図3において、第1の増幅器AMP1のための電源及び第2の増幅器15のための電源は、縦給電(例えば、図5の給電2)を使用する。
一方、各画素11のリセットスイッチSW2に印加されるリセット電圧Vrd、第1の電流源13、及び第2の電流源14は、横給電(図5の給電1)を使用する。
アナログメモリ12のコンデンサC1,C2に接続される、メモリ基準電圧Vmはグランド端子から引き込んで生成する、あるいは、横給電(図5の給電1)を使用してもよい。
このように、1カラム内においても縦給電と横給電とを併用する構成とすることで、横給電配線HLの配線幅を狭くすることができるため、光電変換装置の短手方向のサイズを縮小できる。よって、1ウェハあたりのチップのとれ数が多くなりコストダウンが可能となる。
<画素ブロックの詳細>
図4に、図3の画素ブロック内のスイッチや増幅器をトランジスタで構成した場合の回路図を示す。
図4に示す構成では、スイッチSW1〜SW6を夫々1つのトランジスタ(Tr)で構成している。なお、図3の構成を実現する回路として、トランジスタのON抵抗や、チャージインジェクションを考慮してNch型−TrとPch型−Trを利用したCMOS−スイッチでもよい。また、電位によってはPch型−Trで、スイッチを構成してもよい。例えば、リセット電圧Vrdが高い場合、メモリ書き込み選択トランジスタSW3の電位も高くなるため、Nch型よりはPch型のスイッチを使用した方がON抵抗を低くすることができる。
アナログメモリ12において、コンデンサの容量C1,C2は面積効率を考慮するとMOS容量を使用するのが好ましい。特に、容量C1,C2の容量選択スイッチSW4,SW5側にかかる電圧は接地側の電圧よりも電源電圧側に近いレベルとなるため、容量C1,C2はNch型のMOSトランジスタ(MOS容量)を使用するのが好ましい。
MOS容量の両端の電位差が、必ずしも酸化膜容量を維持できるほど大きいとは限らないため、デプレッション型のMOS容量を使用するのが好ましい。
容量C1,C2の一端のメモリ基準電圧Vmは、その他の回路の接地電圧と共通にしてもよい。しかし、このメモリ基準電圧Vmが揺れると、タイミングによっては電圧の揺れがダイレクトに出力にも現れてしまうため、メモリ基準電圧Vmとその他の回路の接地電圧とを分ける方がより好ましい。
図4では、第2の増幅器15について、Nch型のMOSトランジスタ1つで構成した例を示している。なお、第2の増幅部を構成するトランジスタ(第2の増幅トランジスタと称する)15のバックゲートはバックゲート効果を考慮するとソースにつなぐのが通常は好ましいが、面積とのトレードオフになり、バックゲートにつながない場合もありうる。ここでは、Nch型のMOSトランジスタについて説明したが、Pch型でも構成可能である。
同じチップを多様な製品で使用する場合、ある製品では画像特性を優先し、ある製品では消費電流を優先するといったことがある。そのため、第1の増幅部を構成するトランジスタ(第1の増幅トランジスタと称する)AMP1や、第2の増幅トランジスタ15に流す電流を可変できるようにしておくのが好ましい。
各画素11内において、第1の増幅トランジスタAMP1のサイズを大きくしすぎるとFD領域にぶらさがる容量が大きくなり、電荷・電圧変換ゲインの低下をまねくため(V=Q/Cにより)、第1の増幅トランジスタAMP1を大きくできない。
一方、カラム内で共通の第2の増幅トランジスタ15のサイズについては、第1の増幅トランジスタAMP1ほど変換ゲインへの影響はない。そのため、ノイズ特性(フリッカノイズ、熱雑音、RTSノイズ等)を考慮するとできるだけ、第2の増幅トランジスタ15は大きい方が好適である。また、第2の増幅トランジスタ15のサイズは、チップ全体のサイズへの影響も少ない。よって、第2の増幅トランジスタ15は第1の増幅トランジスタAMP1よりも大きいサイズのものを使用するのが好ましい。
また、第1の電流源13及び第2の電流源14は複数のトランジスタで構成されている。
図4において、第1の増幅トランジスタAMP1のための電源および第2の増幅トランジスタ15のための電源は、縦給電(給電2)を使用する(図5参照)。
一方、各画素11のリセットトランジスタSW2に印加されるリセット電圧Vrd、第1の電流源13、及び第2の電流源14は、横給電(給電1)を使用する。
このように、用途に応じて縦給電と横給電とを使い分けることで、配線に伴うノイズを抑制することができる。
<第2実施形態>
図5は、本発明の第2実施形態に係る光電変換装置を示す。
本実施形態において、電源電圧供給ブロック30から1カラムごとに、別のブロックへ(画素ブロック10と、複数の信号処理ブロック20A〜20Zと交互に)、縦給電を行っている。即ち、画素ブロック10と、複数の信号処理ブロック20A〜20Zの夫々のブロックとは、カラム毎に、異なる縦給電配線VLを介して給電される。
例えば、画素ブロック10へは、所定の列のカラム(例えば、カラムPU1,Pn)に対応する縦給電配線(画素ブロック用縦給電配線)VL1(VL1(p))を介して電源電圧が供給される。一方、信号処理ブロック20A〜20Zへは、前記所定のカラム(PU1)とは異なるカラム(例えば、カラムPU2,PUn−1)に対応する縦給電配線(信号処理部ブロック用縦給電配線)VL2(VL2(p))を介して電源電圧が供給される。
即ち、複数の縦給電VL1〜VLnにおいて、予め、画素ブロック10に給電するもの(VLx(p)(例えば、VL1(p),VLn(p))と、複数の信号処理ブロック20A〜20Zの夫々のブロックに給電するもの(VLx(s)(例えば、VL2(s),VLn−1(s))とを、予め分けておく。これにより、画素ブロック10と、複数の信号処理ブロック20A〜20Zとは、カラム毎に、異なる縦給電配線VLx(p),VLx(s)を介して給電される。
このように配置することで、図1に示すように画素ブロック10と信号処理ブロック20A〜20Zとの間で縦給電及び横給電をメッシュ状に共有せずに、本実施形態では、縦給電と横給電とを独立して別の配線を介して行うので、ノイズが相互に影響することなく、第1実施形態よりも、給電の際のノイズの干渉がさらに削減可能となる。
例えば、信号処理ブロック20Aがノイズ源の場合、そのブロック20Aと画素ブロック10で電源を共有していると、そのノイズがそのまま画素ブロック10の電源の揺れとなってしまうおそれがあった。
仮に、縦給電配線VLにおいて、画素ブロック10と電源電圧供給ブロック30との配線抵抗を200Ω、信号処理ブロック20Aと電源電圧供給ブロック30との配線抵抗を150Ω、信号処理ブロック20Aと画素ブロック10の配線抵抗が50Ωの場合、図1の構成ではノイズが伝搬する経路の配線抵抗は50Ωであった。
一方、本実施形態のように、1カラムごとに縦給電を行うブロックを変えると、ノイズが伝搬する経路の配線抵抗は350Ωとなる。よって抵抗値は350/50倍=7倍となり、カットオフ周波数が1/7となる。よって、ノイズが1/7となる。
このように、ノイズと画素のブロックが独立した配線で電源が供給されることで、画像品質をさらに向上させることができる。
さらに、この電源電圧供給ブロック30に、回路が動作する際に直流電源の電圧が変動するのを避けることを目的として、電源線とグランド(端子)とを接続するバイパスコンデンサ(パスコン)を配置してもよい。
このように、パスコンを設けることにより、各ブロック間に発生するノイズを、一層低減させることができる。
ここで、ノイズを制御するための具体的な構成例について説明する。
本光電変換装置をCMOSセンサとして光電検出に用いる場合など、信号処理ブロック20A〜20Z内での電源に対するノイズは、10bit出力換算で1LSB(least significant bit)相当以内に抑えるように設計している。
この1LSBのノイズが共有した電源を介して画素ブロック10に乗ると、そのまま画素ブロック10の出力に1LSBのノイズとして見えることがある。通常、画素ブロック10から出力された信号は10倍程度のゲインをかけることがあるため、もともと1LSBだったノイズが10LSBになる。
つまり、ゲイン相当分を考慮して、ノイズを1/10に抑えられるような、即ち、カットオフ周波数を1/10にするような、配線抵抗を設定する。詳しくは、画素ブロック10から電源電圧供給ブロック30までの配線抵抗をY(Ω)、信号処理ブロック20A〜20Zから電源電圧供給ブロック30までの配線抵抗をZ(Ω)として、「Z+Y>10*(Y−Z)」を満たす配線抵抗とすると、画像への影響は少なくなる。詳しくは、この設定だと、10bit換算で1LSB以下のノイズとなり、画像への影響が少なくなるとわかる。
さらに、より好ましくは、1/100までノイズを低減させると(カットオフ周波数を1/100にすると)10bit出力換算で0.1LSBとなり画像への影響はなくなる。つまり、Z+Y>100*(Y−Z)を満たせばよい。この設定だと、10bit換算で0.1LSB以下のノイズとなり画像への影響がほぼなくなる。
下記、第3〜第5実施形態においても、第2実施形態で用いた、1カラムごとに別のブロックへ縦給電を実施する方法を適用して説明する。
<第3実施形態>
図6は、電源電圧供給ブロック30が複数(30A,30B)設けられる場合の光電変換装置を示す。図6に示すように、必ずしも電源電圧供給ブロック30は1つである必要はない。
このように、2以上の電源供給ブロックを設けると、給電先のブロックの種類ごとに、即ち、画素ブロック10、信号処理ブロック20(20A〜20Z)の夫々に、対応する給電元の電源供給ブロック30A,30Bを分離できる。そのため電源電圧値の違いによる影響を受けにくくなり、給電の際のノイズの混入をさらに防止することができる。
<第4実施形態>
図7は、電極パッド40が複数ある場合の光電変換装置を示す。図7に示すように、必ずしも電極パッド40や電源電圧供給ブロック30は1つである必要はない。
さらに、2以上の電極パッドを設けて夫々電源を供給すると、給電先のブロックの種類ごとに、即ち、画素ブロック10と、信号処理ブロック20(20A〜20Z)とで、供給する供給元の電源供給ブロック30A,30B及び電極パッド40A,40Bを分離できる。そのため、電源電圧値の違いによる影響を受けにくくなり、給電の際のノイズの混入をさらに防止することができる。
<第5実施形態>
図8は、画素ブロック10内の給電方法の概略図を示す。
本発明の光電変換装置は、1つのチップに搭載することが前提とされている。1チップに搭載した場合、(a)に示すように、チップエッジCEから画素までの距離が近いとストレス(応力)の影響を画素11内の光電変換素子PDが受け、画像特性が劣化する可能性がある。
そのため、図8の(b)に示すように、画素ブロック10内において、図3に示すような光電変換素子PDを備える画素11を含む画素領域Aの上部に、画素11を含まない余白領域Bを配置し、チップエッジCEから画素領域Aを離した構成にする場合がある。
この時、電源電圧供給ブロック30から余白領域Bへ縦給電にて電源電圧を供給しようとすると、その縦給電信号は画素11を横断することになり画素の開口が狭くなり感度が下がる。
そのため、画素11を含む画素領域Aより上側に配置されたブロック(余白領域B)には横給電(HL1を用いる給電1)、画素より下部のブロック(余白領域C)には、縦給電(VL1を用いる給電2(配線HL2を使用))と給電方法を分離すると有効である。
即ち、画素ブロック10において、少なくとも複数の画素11よりも電源電圧供給ブロック30に近接した部分について縦給電配線VL1を用いて縦給電し、少なくとも複数の画素11よりも電源電圧供給ブロック30から離間した部分を、横給電配線HL1を用いて給電する。
この設定により、縦給電配線VL1を通る信号は画素を横断することなく、画素の開口を確保し、光電感度を確保することができる。
<第6実施形態>
図9は、ノイズ源に対しては横給電のみを利用した場合の具体例である。図9において、(a)は光電変換装置を示し、(b)は信号処理ブロックAの拡大図であり、(c)は信号処理ブロックをサイクリック型A/Dコンバータで構成した場合の例を示す。
上記、図1に示す本発明の基本構成では、縦給電は電源電圧供給ブロック30からの電源電圧を、共通する縦給電配線VLを介して、信号処理ブロック20A〜20Z及び画素ブロック10の両方へ給電している。
しかし、本実施形態では、信号処理ブロック20A内において、センシティブ回路21と、ノイズ源22とが分離して構成されている場合に、ノイズ源には、横給電のみの実施するように設定する。即ち、信号処理ブロック20A〜20Zのノイズ源に対して、縦給電は実施しない。
詳しくは、図9の(a)、(b)に示すように、一例として、信号処理ブロック20Aにおいて、横給電配線HL3を用いる給電3をノイズ源22に使用し、縦給電配線VL2を用いる給電4を、ノイズの影響を受けやすいセンシティブ回路21に使用している。
この給電方法について、具体的な例を用いて説明する。図10に、信号処理ブロックがサイクリック型A/Dコンバータである場合の具体的な回路図を示す。
信号処理ブロック20Aが、サイクリック型のA/Dコンバータ(ADC)の場合はコントロールロジック26やD/Aコンバータ(DAC)23はノイズ源22、キャパシタCin1,Cin2,CoutやスイッチSW10〜SW40、アンプ24や、コンパレータ25はセンシティブ回路21に該当する。なお、キャパシタCin1,Cin2,Cout、スイッチSW10〜SW40、及びアンプ24は、スイッチトキャパシタとして機能する。
本回路は一般的なサイクリックA/Dコンバータである。例えば、スイッチSW10へ入力された、1つ上の段に配置されたブロックからの入力信号を、スイッチSW10〜SW40でサンプリングやホールドを行い、比較と増幅を繰り返すことで、電圧の変換を行い、下の段へデジタルデータを出力するものとする。
本回路では、感受性の高い素子である、スイッチトキャパシタ内のアンプ24と、コンパレータ25は、給電に縦給電(給電4)を利用する。
一方、DAC23やコントロールロジック26は、信号レベルがGNDから電源電圧まで振幅するため、伝送の際に、ノイズが乗りやすく、ノイズ源となるため、他の感受性が高い素子の給電とは分離するように、横給電HL(給電3)を利用する。
上記の説明では、配線抵抗を下げる目的で縦給電を利用したが、同様の手段で電源電圧以外にも、クロックやアンプに用いる基準電圧等も、縦配線を用いて供給することができる。
以上、各実施形態に基づき本発明の説明を行ってきたが、上記実施形態に示した要件に本発明が限定されるものではない。これらの点に関しては、本発明の主旨をそこなわない範囲で変更することができ、その応用形態に応じて適切に定めることができる。
本出願は、2016年3月10日に日本国特許庁に出願された特願2016−047456号に基づく優先権を主張するものであり、特願2016−047456号の全内容を本出願に援用する。
1 光電変換装置
10 画素ブロック
20 信号処理ブロック
30 電源電圧供給ブロック
40,40A,40B 電極パッド
PU1,PU2,,,PUx,PUn カラム
RE,RO 赤色画素ユニット
GE,GO 緑色画素ユニット
BE,BO 緑色画素ユニット
11 画素
PD 光電変換素子
SW1 リセットスイッチ、リセットトランジスタ
SW2 転送スイッチ、転送トランジスタ
AMP1 第1の増幅器、第1の増幅トランジスタ
FD フロートディフュージョン領域(電荷電圧変換部)
12 アナログメモリ
SW3 メモリ書き込み選択スイッチ、メモリ書き込み選択トランジスタ
SW4,SW5 容量選択スイッチ、容量選択トランジスタ
SW6 画素選択スイッチ、画素選択トランジスタ
C1,C2 コンデンサ(容量),トランジスタ容量
13 第1の電流源
14 第2の電流源
15 第2の増幅器,第2の増幅トランジスタ
16 カラム信号処理部
Vrd リセット電圧、リセットドレイン電圧
Vm メモリ基準電圧
A 画素領域
B,C 余白領域
20A サイクリックA/Dコンバータ
21 センシティブ回路
22 ノイズ源
23 D/Aコンバータ(DAC)
25 コントロールロジック
HL 横給電配線
VL(VL1〜VLn) 縦給電配線
VLx(p) 画素ブロック用縦給電配線
VLx(s) 信号処理ブロック用縦給電配線
日本国特開2009−200546号公報

Claims (8)

  1. 横長の長方形形状の光電変換装置であって、
    複数の画素が配置された画素ブロックと、
    前記画素ブロックから出力された信号を処理する、当該光電変換装置の短手方向に並列された複数の信号処理ブロックと、
    前記画素ブロック及び前記複数の信号処理ブロックへ電源電圧を供給する電源電圧供給ブロックと、
    前記電源電圧供給ブロックに接続される電極パッドと、を備えており、
    前記複数の画素の夫々は、入射光に応じて光電変換を行う光電変換素子および光電変換された電荷を電圧に変換する増幅器を含む電荷電圧変換部を備え、
    前記画素ブロックでは、所定の数毎の画素が一纏りの信号処理単位である1つのカラムとして設定され、複数の該カラムが当該光電変換装置の長手方向に並列されており、
    前記電源電圧供給ブロックから出力される前記電源電圧を、前記短手方向から、前記画素ブロックの複数のカラム毎へ給電可能にする、複数の縦給電配線が設けられ、
    前記電源電圧供給ブロックから出力される前記電源電圧を、前記長手方向から、前記画素ブロック及び前記複数の信号処理ブロックへ給電可能にする、複数の横給電配線が設けられ、
    前記縦給電配線と前記横給電配線とは接続されていることを特徴とする
    光電変換装置。
  2. 前記画素ブロックと、前記複数の信号処理ブロックの夫々のブロックとは、カラム毎に、異なる縦給電配線を介して給電される、
    請求項1に記載の光電変換装置。
  3. 前記画素ブロックから前記電源電圧供給ブロックまでの前記縦給電配線の配線抵抗をY(Ω)、前記短手方向に並列される複数の信号処理ブロックのうち、前記画素ブロックに最も近接して配置される信号処理ブロックから、前記電源電圧供給ブロックまでの前記縦給電配線の配線抵抗をZ(Ω)とした際、「Z+Y>10*(Y−Z)」を満たすように配置する、
    請求項2に記載の光電変換装置。
  4. 前記画素ブロックから前記電源電圧供給ブロックまでの前記縦給電配線の配線抵抗をY(Ω)、前記短手方向に並列される複数の信号処理ブロックのうち、前記画素ブロックに最も近接して配置される信号処理ブロックから、前記電源電圧供給ブロックまでの前記縦給電配線の配線抵抗をZ(Ω)とした際、「Z+Y>100*(Y−Z)」を満たすように配置する、
    請求項2に記載の光電変換装置。
  5. 前記画素ブロックにおいて、前記複数の画素よりも、前記電源電圧供給ブロックから離れた部分に素子が配置される場合、
    前記画素ブロックにおいて、少なくとも前記複数の画素よりも前記電源電圧供給ブロックに近接した部分について前記縦給電配線を用いて給電し、少なくとも前記複数の画素よりも前記電源電圧供給ブロックに離間した部分を、前記横給電配線を用いて給電する、
    請求項1乃至4のいずれか一項に記載の光電変換装置。
  6. 前記各カラムにおいて、前記複数の画素には、夫々アナログメモリが接続され、前記複数のアナログメモリに共通して1つの電流源、及び1つの第2の増幅器に接続されており、前記複数の画素にある夫々の第1の増幅器への給電、前記光電変換素子への接地、前記電流源、及び前記第2の増幅器を、前記横給電配線を用いて給電する、
    請求項5に記載の光電変換装置。
  7. 前記複数の信号処理ブロックの少なくとも1つの信号処理ブロックはサイクリック型A/Dコンバータであり、該サイクリック型A/Dコンバータ内において、D/Aコンバータとコントロールロジックの電源は横給電、その他の素子の電源は縦給電である、
    請求項1乃至6のいずれか一項に記載の光電変換装置。
  8. 電源電圧供給ブロックの、前記電源電圧供給ブロックに近接する部分は、バイパスコンデンサを配置する、
    請求項1乃至7のいずれか一項に記載の光電変換装置。
JP2018504046A 2016-03-10 2017-01-24 光電変換装置 Active JP6579259B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016047456 2016-03-10
JP2016047456 2016-03-10
PCT/JP2017/002385 WO2017154388A1 (ja) 2016-03-10 2017-01-24 光電変換装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2017154388A1 JPWO2017154388A1 (ja) 2019-01-10
JP6579259B2 true JP6579259B2 (ja) 2019-09-25

Family

ID=59789083

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018504046A Active JP6579259B2 (ja) 2016-03-10 2017-01-24 光電変換装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10582142B2 (ja)
EP (1) EP3429191B1 (ja)
JP (1) JP6579259B2 (ja)
CN (1) CN108702474B (ja)
WO (1) WO2017154388A1 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7159568B2 (ja) 2018-02-23 2022-10-25 株式会社リコー 光電変換素子、画像読取装置、および画像形成装置
US10469781B1 (en) * 2018-12-06 2019-11-05 BAE Systems Imaging Solutions Inc. Power distribution network adapted for imaging arrays
JP7322552B2 (ja) * 2019-07-01 2023-08-08 株式会社リコー 光電変換装置、ラインセンサ、画像読取装置、及び画像形成装置
JP7298373B2 (ja) 2019-07-31 2023-06-27 株式会社リコー 光電変換装置、画像読取装置、及び画像形成装置
JP7447591B2 (ja) 2020-03-18 2024-03-12 株式会社リコー 光電変換装置、画像読取装置、画像形成装置、及び撮像システム

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06334920A (ja) * 1993-03-23 1994-12-02 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> 固体撮像素子とその駆動方法
JP2005260790A (ja) * 2004-03-15 2005-09-22 Sony Corp 固体撮像装置および固体撮像装置の駆動方法
JP4307322B2 (ja) * 2004-05-18 2009-08-05 キヤノン株式会社 放射線撮像装置及び放射線撮像システム
KR20060091157A (ko) * 2005-02-14 2006-08-18 매그나칩 반도체 유한회사 전원라인의 전압 감소를 방지할 수 있는 이미지센서 및 이미지센서의 전원라인 배치 방법
JP2009130679A (ja) * 2007-11-26 2009-06-11 Sony Corp 固体撮像素子、固体撮像素子の駆動方法および撮像装置
JP2009200546A (ja) 2008-02-19 2009-09-03 Sony Corp 固体撮像装置
JP5408954B2 (ja) * 2008-10-17 2014-02-05 キヤノン株式会社 撮像装置、及び撮像システム
JP5426220B2 (ja) * 2009-04-13 2014-02-26 株式会社東芝 電源ノイズ除去回路
JP2012065106A (ja) 2010-09-15 2012-03-29 Ricoh Co Ltd 画像信号処理装置、画像読み取り装置、及び画像信号処理方法
CN107770462B (zh) * 2011-12-28 2020-09-22 株式会社尼康 拍摄元件和拍摄装置
JP6053505B2 (ja) * 2012-01-18 2016-12-27 キヤノン株式会社 固体撮像装置
JP2015128221A (ja) 2013-12-27 2015-07-09 株式会社リコー A/d変換装置、イメージセンサ装置、及び半導体装置
US9967501B2 (en) * 2014-10-08 2018-05-08 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Imaging device
JP6492991B2 (ja) 2015-06-08 2019-04-03 株式会社リコー 固体撮像装置
JP6736906B2 (ja) 2016-02-18 2020-08-05 株式会社リコー 固体撮像装置及び画像読み取り装置

Also Published As

Publication number Publication date
US10582142B2 (en) 2020-03-03
EP3429191B1 (en) 2019-12-18
EP3429191A4 (en) 2019-01-16
JPWO2017154388A1 (ja) 2019-01-10
US20180367749A1 (en) 2018-12-20
CN108702474A (zh) 2018-10-23
WO2017154388A1 (ja) 2017-09-14
CN108702474B (zh) 2021-01-12
EP3429191A1 (en) 2019-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20230156364A1 (en) Image pickup device that is provided with peripheral circuits to prevent chip area from being increased, and image pickup apparatus
JP6579259B2 (ja) 光電変換装置
US10217785B2 (en) Solid-state imaging device, manufacturing method of solid-state imaging device, and electronic apparatus
US11095860B2 (en) Solid state imaging device and electronic apparatus
JP4553612B2 (ja) 撮像素子およびそれを備えた撮像装置
US8937672B2 (en) Solid-state image sensor and camera
JP6188281B2 (ja) 光電変換装置
CN106068562B (zh) 固态成像器件及成像装置
US11742376B2 (en) Image sensor and image capture device
US20110273598A1 (en) Solid-state image sensor and camera
US10446595B2 (en) Solid-state imaging device
JP7314061B2 (ja) 撮像装置及び電子機器
JP2018207100A (ja) 撮像装置
US10397501B2 (en) Solid-state image sensor and imaging apparatus
US10257446B2 (en) Solid-state imaging device
JP2008263072A (ja) 固体撮像装置
JP2006210468A (ja) 固体撮像装置
JP5145866B2 (ja) 固体撮像素子
JP2020005131A (ja) 固体撮像素子及び撮像システム
JP2015015768A (ja) 固体撮像装置およびカメラ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180823

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190730

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190812

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6579259

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151