JP6526558B2 - プリント配線板用の複合金属箔、プリント配線板用のキャリア付複合金属箔、これらを用いて得られるプリント配線板用の金属張積層板及びプリント配線板 - Google Patents
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-
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Description
本件出願に係るプリント配線板用の複合金属箔は、1層以上の銅層と、1層以上のニッケル合金層とからなる複合金属箔である。そして、このニッケル合金層は、モリブデン含有量が10at%〜50at%、残部がニッケル及び不可避不純物であるニッケル−モリブデン合金層であり、当該1層以上の銅層の合計厚さをTCu、当該1層以上のニッケル−モリブデン合金層の合計厚さをTNi−Moとしたとき、0.08≦TNi−Mo/TCu≦1.70の関係を満たすことを特徴とする。
本件出願に係るプリント配線板用の複合金属箔の場合、プリント配線板に形成する配線回路ピッチ、電源回路やシグナル回路等の用途を考慮し、その全体厚さを定めるため、特段の限定はない。一般的には、本件出願に係るプリント配線板用の複合金属箔の厚さは、1μm〜35μmの範囲で使用される。
上述の本件出願に係るプリント配線板用の複合金属箔の全体厚さとは異なり、当該複合金属箔を構成する「銅層」と、「ニッケル−モリブデン合金層」との厚さの関係は、非常に重要となる。ここで、「1層以上の銅層の合計厚さ」をTCu、「1層以上のニッケル−モリブデン合金層の合計厚さ」をTNi−Moとしたとき、0.08≦TNi−Mo/TCu≦1.70の関係を満たすことが好ましい。ここで、TNi−Mo/TCuが0.08未満の場合には、銅よりも良好な低熱膨張性能を備えるニッケル−モリブデン合金層が存在しても、複合金属箔全体として、銅よりも良好な低熱膨張性能が得られない。一方、TNi−Mo/TCuが1.70を超えると、ニッケル−モリブデン合金層が厚くなり、エッチング加工によって所望の回路形状が形成できなかったり、良好なエッチングファクターを備える配線回路が得られない等の不具合が生じる。なお、本件出願に係るプリント配線板用の複合金属箔が「2層以上の銅層」を備える場合には、2層以上の銅層の合計厚さを「TCu」とし、「2層以上のニッケル−モリブデン合金層」を備える場合には、2層以上のニッケル−モリブデン合金層の合計厚さを「TNi−Mo」としている。
図1を用いて、本件出願に係るプリント配線板用の複合金属箔の具体的形態に関して述べる。以下に述べる複合金属箔は、上述の条件を満たす限り、「銅よりも良好な低熱膨張性能」、「良好な導電性能」、「銅エッチング液である塩化鉄系銅エッチング液、塩化銅系銅エッチング液、硫酸−過酸化水素水系銅エッチング液による溶解容易性」という性能を備える。しかし、本件出願に係るプリント配線板用の複合金属箔の形態は、以下に述べる形態に限定して解釈されるものではなく、ニッケル−モリブデン合金層を3層以上含む層構成を適宜採用可能である。
硫酸ニッケル・6水和物:30g/L〜50g/L
モリブデン酸2ナトリウム・2水和物: 5g/L〜60g/L
錯化剤:10g/L〜150g/L
溶液pH:8〜12
電流密度:5A/dm2〜30A/dm2
図2を用いて、本件出願に係るプリント配線板用のキャリア付複合金属箔の具体的形態に関して述べる。このキャリア付複合金属箔は、上述の複合金属箔1の片面側に、剥離層11を介してキャリア12を備えることを特徴とする。このキャリア付複合金属箔は、上述の複合金属箔に対する要求厚さが薄く、ハンドリングが困難となったり、複合金属箔の表面の汚染防止・異物付着等の防止を考えるときに有用な形態である。以下に述べるキャリア付複合金属箔を構成する複合金属箔が、上述の条件を満たす限り、「銅よりも良好な低熱膨張性能」、「良好な導電性能」、「銅エッチング液である塩化鉄系銅エッチング液、塩化銅系銅エッチング液、硫酸−過酸化水素水系銅エッチング液による溶解容易性」という性能を備える。しかし、本件出願に係るプリント配線板用のキャリア付き複合金属箔の形態は、以下に述べる形態に限定して解釈されるものではなく、ニッケル−モリブデン合金層を3層以上含む層構成を適宜採用可能である。
本件出願に係るプリント配線板用の金属張積層板は、上述の本件出願に係るプリント配線板用の複合金属箔又はプリント配線板用のキャリア箔付複合金属箔と絶縁層構成材とを張り合わせたものであり、リジッド金属張積層板、フレキシブル金属張積層板の双方を含む。即ち、ここでいう絶縁層構成材の種類に関しては、特段の限定は無い。本件出願に係るプリント配線板用の複合金属箔又はプリント配線板用のキャリア箔付複合金属箔を用いれば、絶縁層構成材に張り合わせても、「銅よりも良好な低熱膨張性能」を備えるため、金属張積層板に発生する反り・捻れを低減できる。
本件出願に係るプリント配線板は、上述の複合金属箔又はキャリア付複合金属箔を用いて得られることを特徴とする。ここでいうプリント配線板とは、リジッドタイプのプリント配線板、フレキシブルタイプのプリント配線板等の全てのプリント配線板概念を含むものである。そして、本件出願に係るプリント配線板は、片面プリント配線板、両面プリント配線板、多層プリント配線板等、全てのプリント配線板を含むものである。そして、本件出願に係るプリント配線板は、本件出願にいう複合金属箔又はキャリア付複合金属箔を用いて配線回路が形成されており、「銅よりも良好な低熱膨張性能」、「良好な導電性能」、「銅エッチング液である塩化鉄系銅エッチング液、塩化銅系銅エッチング液、硫酸−過酸化水素水系銅エッチング液による溶解容易性」を備えるものとなる。
硫酸ニッケル・6水和物:40g/L
モリブデン酸2ナトリウム・2水和物:25g/L
クエン酸3ナトリウム:80g/L
溶液pH:9
電流密度:16A/dm2
アノード電極:不溶性陽極
以下に述べる比較例1は、上述の複合金属箔に関する実施例1と対比するためのものである。比較例1では、実施試料1と同じ未処理の銅箔(厚さ(TCu)が12μmの電解銅箔)を用い、実施試料1の「ニッケル−モリブデン合金めっき」を「ニッケルめっき」に代えて、銅箔の両面に表1に示した厚さ(両面の合計厚さ)のニッケルめっきを行い、「ニッケル層/銅層/ニッケル層」の層構成を備え、両面のニッケルめっき層の厚さが等しい複合金属箔(比較試料1)を得た。そして、実施例1と同様に比較試料1の複合金属箔1の熱膨張係数と電気抵抗値を測定した。この測定結果を表1に示す。なお、このときのニッケルめっき液及びめっき条件は、以下のとおりである。
硫酸ニッケル・6水和物:40g/L
クエン酸3ナトリウム:80g/L
溶液pH:9
電流密度:16A/dm2
アノード電極:不溶性陽極
比較例2は、上述の複合金属箔に関する実施例1と対比するためのものである。比較例2では、実施試料4と同じ未処理の銅箔(厚さ(TCu)が12μmの電解銅箔)を用い、実施試料4の「ニッケル−モリブデン合金めっき」を「モリブデンめっき」に代えて、銅箔の両面に表1に示した厚さ(両面の合計厚さ)のモリブデンめっきを行い、「モリブデン層/銅層/モリブデン層」の層構成を備え、両面のモリブデンめっき層の厚さが等しい複合金属箔(比較試料2)を得ようとした。しかしながら、モリブデン層が脆化した状態となり金属張積層板への加工もできず、複合金属箔としての熱膨張係数・電気抵抗値の測定も不可能であった。なお、このときのモリブデンめっき液及びめっき条件は、以下のとおりである。
モリブデン酸2ナトリウム・2水和物:25g/L
クエン酸3ナトリウム:80g/L
溶液pH:9
電流密度:16A/dm2
アノード電極:不溶性陽極
比較例2(比較試料2)に関しては、上述のとおりモリブデン層が脆化した状態となり金属張積層板への加工もできないため、実施例との対比が出来ない。よって、以下においては、実施例1(実施試料1〜実施試料4)と比較例1(比較試料1)との対比に関して述べる。
厚さ18μmの電解銅箔をキャリア箔として用い、このキャリア箔の表面に、硫酸150g/L、銅濃度10g/L、カルボキシベンゾトリアゾール濃度800mg/L、液温30℃の有機剤含有希硫酸水溶液にキャリア箔を30秒間浸漬し、キャリア箔に付着した汚染成分を除去すると共に、キャリア箔の表面にカルボキシベンゾトリアゾールを吸着させて剥離層を形成した。
[実施試料5〜実施試料7のキャリア付複合金属箔の形成]
最初に、キャリア箔付複合箔の複合金属箔が「銅層2/ニッケル−モリブデン合金層3/銅層2」の層構成を備える実施試料5〜実施試料7に関して述べる。実施試料5〜実施試料7は、表2に示す条件で、剥離層を備えるキャリア箔をめっき液中でカソード分極し、剥離層上に厚さ1.5μmの銅層を形成し、この銅層の表面にニッケル−モリブデン合金めっきを行い、厚さ4μmのニッケル−モリブデン合金層を形成し、更にニッケル−モリブデン合金層の表面に厚さ1.5μmの銅層を形成して厚さ7μmのキャリア付複合金属箔とした。
次に、キャリア箔付複合箔の複合金属箔が「ニッケル−モリブデン合金層3/銅層2/ニッケル−モリブデン合金層3」の層構成を備える実施試料8に関して述べる。実施試料8は、表2に示す条件で、剥離層を備えるキャリア箔をめっき液中でカソード分極し、ニッケル−モリブデン合金めっきを行い、厚さ1.5μmのニッケル−モリブデン合金層を形成し、このニッケル−モリブデン合金層の表面に厚さ4μmの銅層を形成し、更に銅層の表面に厚さ1.5μmのニッケル−モリブデン合金層を形成して厚さ7μmのキャリア付複合金属箔とした。
上記で得られたキャリア箔付複合金属箔の複合金属箔の表面に、粗化処理を施すことなく、亜鉛−ニッケル合金防錆層を形成し、電解クロメート処理、アミノ系シランカップリング剤処理を施し、表面処理したキャリア箔付複合金属箔(実施試料5〜実施試料8)を得た。
以下に実施例2(実施試料5〜実施試料8)に関する考察を述べる。表3に実施試料5〜実施試料8の熱膨張係数と電気抵抗の測定結果を示す。
2 銅層
3 ニッケル−モリブデン合金層
10 キャリア付複合金属箔
11 剥離層
12 キャリア
Claims (6)
- 1層以上の銅層と、1層以上のニッケル合金層とからなる複合金属箔であって、
当該ニッケル合金層は、モリブデン含有量が10at%〜50at%、残部がニッケル及び不可避不純物であるニッケル−モリブデン合金層であり、
当該1層以上の銅層の合計厚さをTCu、当該1層以上のニッケル−モリブデン合金層の合計厚さをTNi−Moとしたとき、0.08≦TNi−Mo/TCu≦1.70の関係を満たすことを特徴とするプリント配線板用の複合金属箔。 - 銅層/ニッケル−モリブデン合金層/銅層の層構成を備える請求項1に記載のプリント配線板用の複合金属箔。
- ニッケル−モリブデン合金層/銅層/ニッケル−モリブデン合金層の層構成を備える請求項1に記載のプリント配線板用の複合金属箔。
- 請求項1〜請求項3のいずれかに記載のプリント配線板用の複合金属箔の片面側に、剥離層を介してキャリアを備えることを特徴とするプリント配線板用のキャリア付複合金属箔。
- 請求項1〜請求項3のいずれかに記載のプリント配線板用の複合金属箔又は請求項4に記載のプリント配線板用のキャリア付複合金属箔を用いて得られることを特徴とするプリント配線板用の金属張積層板。
- 請求項5に記載のプリント配線板用の金属張積層板を用いて得られることを特徴とするプリント配線板。
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