JP6523549B2 - 酢酸メチルの生産方法 - Google Patents
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Description
は、アルカリ処理されたZSM−35の、ジメチルエーテルをカルボニル化する反応性能をさらに報告している。その結果、ZSM−35はアルカリ処理された後に明らかにメソ孔構造を有し、反応物及び生成物の触媒上における拡散効果を向上させ、触媒の安定性及び活性を相応的に改善させたことを示している。
H−EMT触媒
焼成されたケイ素原子とアルミニウム原子とのモル比がそれぞれ2、4、15及び25のNa−EMTゼオライト分子篩 100グラムをそれぞれ0.5mol/L硝酸アンモニウムで3回、毎回2時間で交換し、脱イオン水で洗浄し、乾燥させ、550℃で4時間焼成し、押圧により20〜40メッシュの1#、2#、3#及び4#触媒を作製した。
焼成されたガリウム含有Na−EMTゼオライト分子篩(ケイ素原子とアルミニウム原子とのモル比が4) 100グラムを0.5mol/L硝酸アンモニウムで3回、毎回2時間で交換し、脱イオン水で洗浄し、乾燥させ、550℃で4時間焼成して、押圧により20〜40メッシュの5#触媒を作製した。
焼成された鉄含有Na−EMTゼオライト分子篩(ケイ素原子とアルミニウム原子とのモル比が4) 100グラムを0.5mol/L硝酸アンモニウムで3回、毎回2時間で交換し、脱イオン水で洗浄し、乾燥させ、550℃で4時間焼成して、押圧により20〜40メッシュの6#触媒を作製した。
等体積浸漬法を用いて担持型M/EMT触媒を作製する。4.32gのFe(NO3)3、4.32gのCu(NO3)2・3H2O及び3.04gのAgNO3・3H2Oをそれぞれ18mlの脱イオン水中に溶解して相応的な硝酸塩水溶液を調製した。20gの2#h−EMTゼオライト分子篩触媒を上記硝酸塩水溶液中にそれぞれ添加し、24時間静置した後、濾過分離、脱イオン水洗浄により、得られた固体試料を120℃のオーブン中で12時間乾燥させ、乾燥後の試料をマッフル炉中に入れて、2℃/minの昇温速度で550℃に昇温し、4h焼成して、それぞれ7#、8#、9#触媒を作製した。
20gの2#h−EMTゼオライト分子篩触媒と300mlの0.15mol硝酸鉄水溶液とをフラスコに入れて、80℃で、冷却還流の条件で2時間攪拌処理し、固液比が1:15であった。濾過分離し、脱イオン水で洗浄し、上記ステップを2回繰り返し、120℃で12時間乾燥させ、乾燥後の試料をマッフル炉中に入れて、2℃/minの昇温速度で550℃に昇温し、4h焼成して、10#触媒を得た。
ケイ素原子とアルミニウム原子とのモル比が4のNa−EMT 80g、擬ベーマイト 28gを取って10%希硝酸と均一に混合した後に押圧成形し、550℃で4時間焼成し、0.5mol/L硝酸アンモニウムで3回(2時間/回)交換して、脱イオン水で洗浄し、乾燥させ、550℃で4時間焼成して、11#触媒を作製した。
ケイ素原子とアルミニウム原子とのモル比が4のNa−EMT 80g、酸化マグネシウム 20gを取って10%希硝酸と均一に混合した後に押圧成形し、550℃で4時間焼成し、0.5mol/L硝酸アンモニウムで3回、毎回2時間交換して、脱イオン水で洗浄し、乾燥させ、550℃で4時間焼成して、12#触媒を作製した。
ケイ素原子とアルミニウム原子とのモル比が4のNa−EMT 80g、シリカゾル 50gを10%希硝酸と均一に混合した後に押圧成形し、550℃で4時間焼成し、0.5mol/L硝酸アンモニウムで3回、毎回2時間交換して、脱イオン水で洗浄し、乾燥させ、550℃で4時間焼成して、13#触媒を作製した。
比較例
H−MOR(ケイ素原子とアルミニウム原子とのモル比Si/Al=6.7)を比較触媒とし、10gの当該触媒を列管内径が28ミリメートルの固定床反応器内に装入し、窒素ガス雰囲気下で5℃/minで550℃に昇温し、4時間保持した後、窒素ガス雰囲気下で反応温度に降温し、COを用いて反応系の圧力を5MPaに上昇させ、反応温度が190℃であった。ジメチルエーテルの試料供給空間速度が0.10h−1、一酸化炭素とジメチルエーテルとのモル比が6:1、一酸化炭素原料ガスにおける一酸化炭素と水素ガスとのモル比が2:1である条件下、触媒反応が1、50及び100時間である結果を表1に示す。
表2に示すように、10gの触媒を列管内径が28ミリメートルの固定床反応器内に入れて、窒素ガス雰囲気下で5℃/minで550℃に昇温し、4時間保持した後、窒素ガス雰囲気下で反応温度190℃に降温し、COを用いて反応系の圧力を5MPaに向上させた。その中、ジメチルエーテルの試料供給空間速度が0.10h−1、一酸化炭素とジメチルエーテルとのモル比が6:1、一酸化炭素の原料ガスにおける一酸化炭素と水素ガスとのモル比が2:1の条件下、反応温度が190℃である条件下で、触媒反応を100時間運行し、触媒反応結果を表2に示す。
異なる反応温度におけるジメチルエーテルのカルボニル化反応結果
用いる触媒は3#試料であり、反応温度はそれぞれ170℃、210℃及び240℃であり、その他の条件が実施例1と同様である。触媒反応を100時間運行した結果を表3に示す。
異なる反応圧力下におけるジメチルエーテルのカルボニル化反応結果
用いる触媒は4#試料であり、反応圧力はそれぞれ1、6、10及び15MPaであり、反応温度が190℃であり、その他の条件が実施例1と同様である。反応を100時間運行した場合、反応結果を表4に示す。
異なるジメチルエーテル空間速度の場合のジメチルエーテルのカルボニル化反応結果
用いる触媒は6#試料であり、ジメチルエーテルの試料供給空間速度はそれぞれ0.25h−1、1h−1、2h−1及び2.5h−1であり、反応温度が190℃であり、その他の条件が実施例1と同様である。反応を100時間運行した場合、反応結果を表5に示す。
一酸化炭素とジメチルエーテルとのモル比が異なる場合のジメチルエーテルのカルボニル化反応結果
用いる触媒は5#試料であり、一酸化炭素とジメチルエーテルとのモル比はそれぞれ12:1、8:1、4:1、2:1であり、反応温度が190℃であり、その他の条件が実施例1と同様である。反応を100時間運行した場合、反応結果を表6に示す。
一酸化炭素含有原料ガスが不活性ガスを含有する場合のジメチルエーテルのカルボニル化反応結果
用いる触媒は9#試料であり、一酸化炭素と水素ガスとの割合がそれぞれ12、1.5であり、ジメチルエーテルの試料供給空間速度が0.1h−1であり、一酸化炭素原料ガスとジメチルエーテルとのモル比が9:1であり、反応温度が190℃であり、その他の条件が実施例1と同様である。反応を200時間運行したとき、反応結果を表7に示す。
異なる反応器タイプの反応結果
用いる触媒は6#試料であり、反応温度が230℃であり、反応器がそれぞれ流動床反応器及び移動床反応器であり、その他の条件が実施例1と同様である。反応結果を表8に示す。
酢酸エチルを加水分解して酢酸を製造する
カルボニル化生成物である酢酸メチルを加水分解触媒が存在する条件下で加水分解して酢酸を生成し、水エステル比が4であり、酢酸メチルの空間速度が0.4h−1であり、触媒充填量が10gであり、反応結果を表10に示す。
酢酸メチルを水素添加してエタノールを製造する
カルボニル化生成物である酢酸メチルを水素添加触媒が存在する条件下で水素添加してエタノールを生成する反応において、圧力が5.5MPaであり、 原料ガスにおける水素ガスと酢酸メチルとのモル比が20:1であり、水素ガスと一酸化炭素とのモル比が20:1であり、酢酸メチルの空間速度が3h−1であり、触媒充填量が10gであり、反応結果を表10に示す。
Claims (16)
- ジメチルエーテルと一酸化炭素含有原料ガスとを、触媒としての酸性EMTゼオライト分子篩が充填された反応器中でカルボニル化反応させる、酢酸メチルの生産方法。
- 前記酸性EMTゼオライト分子篩のケイ素原子とアルミニウム原子とのモル比が1.5〜30であることを特徴とする請求項1に記載の酢酸メチルの生産方法。
- 前記酸性EMTゼオライト分子篩のケイ素原子とアルミニウム原子とのモル比が2〜15であることを特徴とする請求項2に記載の酢酸メチルの生産方法。
- 前記酸性EMTゼオライト分子篩は、助触媒としてガリウム、鉄、銅及び銀からなる群より選ばれる1種又は2種以上をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の酢酸メチルの生産方法。
- 前記助触媒は、原位置合成、金属イオン交換又は浸漬担持により前記酸性EMTゼオライト分子篩中に導入されることを特徴とする請求項4に記載の酢酸メチルの生産方法。
- 触媒の全質量に対して、前記助触媒の金属単体重量で算出した含有量が0.01〜10.0重量%であることを特徴とする請求項4に記載の酢酸メチルの生産方法。
- 触媒の全質量に対して、前記助触媒の金属単体重量で算出した含有量が0.05〜1.0重量%であることを特徴とする請求項6に記載の酢酸メチルの生産方法。
- 前記酸性EMTゼオライト分子篩は、バインダーとして酸化アルミニウム、二酸化ケイ素及び酸化マグネシウムからなる群より選ばれる1種又は2種以上をさらに含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の酢酸メチルの生産方法。
- 前記触媒の全質量に対して、前記バインダーの含有量が0〜50重量%であることを特徴とする請求項8に記載の酢酸メチルの生産方法。
- 前記カルボニル化反応は、温度が160〜250℃であり、圧力が0.5〜20.0MPaであり、ジメチルエーテルの試料供給質量空間速度が0.05〜3h−1であり、一酸化炭素とジメチルエーテルとのモル比が20:1〜0.5:1である条件下で行われることを特徴とする請求項1に記載の酢酸メチルの生産方法。
- 前記温度が170〜240℃であり、圧力が1.0〜15.0MPaであり、ジメチルエーテルの試料供給質量空間速度が0.1〜2.5h−1であり、かつ、一酸化炭素とジメチルエーテルとのモル比が15:1〜1:1であることを特徴とする請求項10に記載の酢酸メチルの生産方法。
- 前記一酸化炭素含有原料ガスは、一酸化炭素と、水素ガスと、窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガス、二酸化炭素、メタン及びエタンからなる群より選ばれる任意の1種又は任意の2種以上の不活性ガスと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の酢酸メチルの生産方法。
- 前記一酸化炭素含有原料ガスの総体積に対して、一酸化炭素の体積含有量が50〜100%であり、水素ガスの体積含有量が0〜50%であり、不活性ガスの体積含有量が0〜50%であることを特徴とする請求項12に記載の酢酸メチルの生産方法。
- 酢酸を生産するように前記酢酸メチルはさらに加水分解されることを特徴とする請求項1に記載の酢酸メチルの生産方法。
- エタノールを生産するように前記酢酸メチルはさらに水素添加還元されることを特徴とする請求項1に記載の酢酸メチルの生産方法。
- 前記カルボニル化反応は固定床反応器、流動床反応器又は移動床反応器中で行われることを特徴とする請求項1に記載の酢酸メチルの生産方法。
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