JP6486406B2 - 分割露光装置及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
なお、図17Aはスキャン1及びスキャン2の個別照度を示し、図17Bはスキャン1及びスキャン2の合計照度を示す。
まず、照明系151から発生したスリット状の光が照明系151の下方に配置されたマスクステージ153上のマスク152に照射されると、マスク152が載置されたマスクステージ153はY方向に駆動され、それにより、照明系151からの光がマスク152に形成された薄膜パターンの形態でマスク152の下方に転写される。
よって、本発明は、重畳領域での合計照度がFTの100%より高く、好ましくは120%以上、130%未満となるように照度を調整することを特徴とする。ただし、本発明がこれに限定されるものではなく、重畳領域での合計照度は、PAC材料の光に対する感度によって異なり、100%以上、140%未満となるようにしてもよい。
図3A及び図3Bは本発明の第1の実施の形態による分割露光方法における各領域での照度及び合計照度を示すグラフである。
なお、図8Aは各位置でのスキャン1及びスキャン2の個別照度(L、R)を示し、図8Bはスキャン1及びスキャン2の個別照度(L、R)を合計した合計照度を示す。
よって、重畳領域のエッジ(E’)での合計照度は、100%から120%まで変曲点のある3次曲線に類似した形状で増加する。
それに対し、本発明の第3の実施の形態による分割露光装置においては、位置毎に重畳領域を変化させることができ、第2領域では、ブレード360の下端361が実質的に基準線と同じ曲率を有するが、基準線より上方に約20mm切り欠かれている。
161a、161b、261、361、561 下端
265、365、565 補助ブレード
Claims (19)
- 複数回のスキャンにより光照射パターンの形態で光を照射することで基板を分割露光する分割露光装置であって、
前記スキャンが重なる重畳領域において前記光照射パターンの一側に配置され、照射される前記光の露光エネルギー(照度)を位置別に制御するブレードを含み、
前記ブレードは、前記重畳領域の中央での合計照度がフルトーンを100%としたときの120%以上、130%未満となるように制御し、
それぞれのスキャンにおいて、前記重畳領域は、少なくとも第1領域と第2領域に分けられ、前記第1領域と前記第2領域とが異なる照度増加率を有するように前記光が照射される、分割露光装置。 - 前記重畳領域のエッジ(境界)では、前記エッジにより隔てられた2つの領域の一方の照度が100%のとき、前記エッジにより隔てられた2つの領域の他方の照度が0%となるように制御する、請求項1に記載の分割露光装置。
- 前記ブレードは、前記光照射パターンを遮蔽する下端が所定の曲率を有する、請求項1に記載の分割露光装置。
- 前記光照射パターンが前記ブレードの下端に当たる部分が前記重畳領域を構成する、請求項3に記載の分割露光装置。
- 前記ブレードの下端は、前記第2領域では、上方に切り欠かれており、前記第1領域では、前記光照射パターンが前記ブレードの下端に当たる一地点から前記第2領域での前記ブレードの下端に向かって傾斜して切り欠かれて前記第2領域での前記ブレードの下端に当接する、請求項3に記載の分割露光装置。
- 前記第2領域での前記ブレードの下端に向かって傾斜して切り欠かれた部分に対応する形状を有する補助ブレードをさらに含む、請求項3に記載の分割露光装置。
- 前記補助ブレードは、前記第1領域に設けられる、請求項6に記載の分割露光装置。
- 前記重畳領域の中央での合計照度は一定であり、次のスキャンの方向に位置が1mm移動する毎に、スキャン1の個別照度は1%ずつ増加し、前記スキャン1と重なるスキャン2の個別照度は1%ずつ減少する、請求項3に記載の分割露光装置。
- 前記重畳領域のエッジでは、次のスキャンの方向に位置が1mm移動する毎に、前記スキャン1の個別照度は3%ずつ増加し、前記スキャン2の個別照度は1%ずつ減少する、請求項8に記載の分割露光装置。
- 前記スキャン1の個別照度は、次のスキャンの方向に位置が1mmから3mmまでの間では1mm移動する毎に、0.0%から2.0%まで1.0%ずつ増加し、3mmから4mmまでの間では、2.0%から3.5%まで1.5%増加し、4mmから10mmまでの間では1mm移動する毎に、3.5%から15.5%まで2.0%ずつ増加し、10mmから12mmまでの間では1mm移動する毎に、15.5%から20.5%まで2.5%ずつ増加し、12mmから13mmまでの間では、20.5%から23.5%まで3.0%増加し、13mmから15mmまでの間では1mm移動する毎に、23.5%から28.5%まで2.5%ずつ増加し、15mmから20mmまでの間では1mm移動する毎に、28.5%から38.5%まで2.0%ずつ増加し、20mmから21mmまでの間では、38.5%から40.0%まで1.5%増加する、請求項8に記載の分割露光装置。
- 前記スキャン2の個別照度は、次のスキャンの方向に位置が1mmから21mmまでの間では1mm移動する毎に、100.0%から80.0%まで1.0%ずつ減少する、請求項10に記載の分割露光装置。
- 前記重畳領域のエッジでの合計照度のプロファイルは、100%から120%まで線形又は変曲点のある3次曲線の形態を有する、請求項1に記載の分割露光装置。
- それぞれのスキャンにおいて、前記重畳領域は、第1−1領域、第1−2領域及び第1−3領域からなる前記第1領域と前記第2領域に分けられ、前記第1−1領域、前記第1−2領域、前記第1−3領域及び前記第2領域での個別照度のプロファイルは、異なる傾きの線形の形態を有する、請求項1に記載の分割露光装置。
- スキャン1の個別照度は、1mmから11mmまでの前記第1−1領域では、次のスキャンの方向に位置が1mm移動する毎に0.0%から10.0%まで1.0%ずつ増加し、11mmから31mmまでの前記第1−2領域では、次のスキャンの方向に位置が1mm移動する毎に10.0%から40.0%まで1.5%ずつ増加し、31mmから81mmまでの前記第2領域では、次のスキャンの方向に位置が1mm移動する毎に40.0%から90.0%まで1.0%ずつ増加し、81mmから101mmまでの前記第1−3領域では、次のスキャンの方向に位置が1mm移動する毎に90.0%から100.0%まで0.5%ずつ増加する、請求項13に記載の分割露光装置。
- スキャン2の個別照度は、次のスキャンの方向に位置が1mmから21mmまでの間では1mm移動する毎に、100.0%から90.0%まで0.5%ずつ減少し、21mmから71mmまでの間では1mm移動する毎に、90.0%から40.0%まで1.0%ずつ減少し、71mmから91mmまでの間では1mm移動する毎に、40.0%から10.0%まで1.5%ずつ減少し、91mmから101mmまでの間では1mm移動する毎に、10.0%から0.0%まで1.0%ずつ減少する、請求項14に記載の分割露光装置。
- 次のスキャンの方向に位置が1mmから41mmまでの間では1mm移動する毎に、スキャン1の個別照度は0.0%から40.0%まで1.0%ずつ増加し、スキャン2の個別照度は100.0%から80.0%まで0.5%ずつ減少し、次のスキャンの方向に位置が41mから81mmまでの間では1mm移動する毎に、前記スキャン1の個別照度は40.0%から80.0%まで1.0%ずつ増加し、前記スキャン2の個別照度は80.0%から40.0%まで1.0%ずつ減少し、次のスキャンの方向に位置が81mから121mmまでの間では1mm移動する毎に、前記スキャン1の個別照度は80.0%から100.0%まで0.5%ずつ増加し、前記スキャン2の個別照度は40.0%から0.0%まで1.0%ずつ減少する、請求項1に記載の分割露光装置。
- 複数回のスキャンにより光照射パターンの形態で光を照射することで基板を分割露光する分割露光装置であって、
前記スキャンが重なる重畳領域において前記光照射パターンの一側に配置され、照射される前記光の露光エネルギー(照度)を位置別に制御するブレードを含み、
前記ブレードは、前記重畳領域の中央での合計照度がフルトーンを100%としたときの120%以上、130%未満となるように制御する、分割露光装置。 - 前記重畳領域のエッジ(境界)では、前記エッジにより隔てられた2つの領域の一方の照度が100%のとき、前記エッジにより隔てられた2つの領域の他方の照度が0%となるように制御する、請求項17に記載の分割露光装置。
- それぞれのスキャンにおいて、前記重畳領域は、少なくとも第1領域と第2領域に分けられ、前記第1領域と前記第2領域とが異なる照度増加率を有するように前記光が照射される、請求項18に記載の分割露光装置。
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WO2020203003A1 (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 株式会社ニコン | 露光装置、照明光学系、およびデバイス製造方法 |
JP7484893B2 (ja) | 2019-03-29 | 2024-05-16 | 株式会社ニコン | 露光装置、照明光学系、およびデバイス製造方法 |
KR20220139332A (ko) | 2020-02-07 | 2022-10-14 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 화상 처리 시스템 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US5285236A (en) | 1992-09-30 | 1994-02-08 | Kanti Jain | Large-area, high-throughput, high-resolution projection imaging system |
CA2294021C (en) * | 1997-06-16 | 2004-01-27 | The Procter & Gamble Company | Interlabial device adapted for menses component management |
JP2000260686A (ja) * | 1999-03-08 | 2000-09-22 | Toshiba Corp | 露光方法及び露光装置 |
JP2001060546A (ja) | 1999-08-20 | 2001-03-06 | Nikon Corp | 露光方法及び露光装置 |
JP3498020B2 (ja) | 1999-09-29 | 2004-02-16 | Nec液晶テクノロジー株式会社 | アクティブマトリックス基板及びその製造方法 |
JP2001319871A (ja) * | 2000-02-29 | 2001-11-16 | Nikon Corp | 露光方法、濃度フィルタの製造方法、及び露光装置 |
JP2001297975A (ja) * | 2000-04-17 | 2001-10-26 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP4362999B2 (ja) * | 2001-11-12 | 2009-11-11 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
KR101050312B1 (ko) * | 2003-12-30 | 2011-07-19 | 엘지디스플레이 주식회사 | 분할 노광 방법 |
KR100614332B1 (ko) | 2004-03-30 | 2006-08-18 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
KR100628272B1 (ko) * | 2004-06-30 | 2006-09-27 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Cot형 액정표시소자의 제조방법 |
JP2012022194A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Kurabo Ind Ltd | ダイレクト露光装置及びダイレクト露光方法 |
KR101611923B1 (ko) * | 2012-02-27 | 2016-04-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
JP2014066954A (ja) | 2012-09-27 | 2014-04-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 描画装置、および、描画方法 |
JP6015930B2 (ja) * | 2012-12-07 | 2016-10-26 | 株式会社ニコン | 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
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