JP6435111B2 - 光導波路装置及びその製造方法 - Google Patents
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- 絶縁層の上に、配線と、補助パターンと、ベタパターンとを有する配線層が形成され、かつ、前記配線と、前記補助パターンと、前記ベタパターンとが前記絶縁層の同一平面上に配置された配線基板と、
前記絶縁層及び前記配線層の上に形成された光導波路であって、
前記光導波路は、下から順に、第1クラッド層、コア層及び第2クラッド層を備え、前記配線層は前記第1クラッド層に埋め込まれ、前記配線層の上面と側面とが前記第1クラッド層と接触しており、かつ、
前記コア層は平面視で前記配線層の前記ベタパターンと一部重なるように形成された前記光導波路と、
前記光導波路の端側に形成され、傾斜面を備えた溝部と、
前記傾斜面に形成された光路変換ミラーと、
前記光導波路の下の前記ベタパターンに形成された開口部であって、前記開口部内が前記第1クラッド層で充填された前記開口部と
を有し、
前記補助パターンは、上面視で前記配線と前記溝部との間に配置され、前記補助パターンと前記ベタパターンとは、上面視で前記溝部を挟んで配置されており、かつ、前記溝部の下には前記配線層が形成されていないことを特徴とする光導波路装置。 - 前記光導波路装置は末端に切断面を有し、前記切断面の近傍の前記配線層の側面が前記光導波路で被覆されていることを特徴とする請求項1に記載の光導波路装置。
- 前記溝部は、第2クラッド層の上面から前記第1クラッド層の厚みの途中まで形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の光導波路装置。
- 前記配線基板に実装され、前記光路変換ミラーに光結合される光素子を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の光導波路装置。
- 前記光導波路において、複数の前記コア層が並んで形成され、
前記ベタパターンの開口部は、上面視で前記複数のコア層の全てを跨ぐ帯状に形成されることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の光導波路装置。 - 配線と、補助パターンと、ベタパターンとを有する配線層を備え、前記補助パターンと前記ベタパターンとの間に前記配線層の非形成領域が設けられ、前記ベタパターンに開口部が形成され、かつ、前記配線と、前記補助パターンと、前記ベタパターンとが絶縁層の同一平面上に配置された配線基板を用意する工程と、
前記配線基板の上に、前記配線層を覆うように光導波路を形成する工程であって、
前記光導波路は、下から順に、第1クラッド層、コア層及び第2クラッド層を備え、前記配線層は前記第1クラッド層に埋め込まれ、前記配線層の上面と側面とが前記第1クラッド層と接触し、前記ベタパターンの開口部内が前記第1クラッド層で充填され、かつ、前記コア層は平面視で前記配線層の前記ベタパターンと一部重なるように形成される前記光導波路を形成する工程と、
前記配線層の非形成領域に対応する領域の前記光導波路に傾斜面を備えた溝部を形成する工程と、
前記溝部の傾斜面に光路変換ミラーを形成する工程とを有し、
前記補助パターンは、上面視で前記配線と前記溝部との間に配置され、前記補助パターンと前記ベタパターンとは、上面視で前記溝部を挟んで配置されることを特徴とする光導波路装置の製造方法。 - 前記光路変換ミラーを形成する工程の後に、
前記光導波路及び前記配線基板を切断する工程を有し、
前記光導波路及び前記配線基板の切断面の近傍の前記配線層の側面が前記光導波路によって被覆されていることを特徴とする請求項6に記載の光導波路装置の製造方法。 - 前記溝部を形成する工程において、
前記溝部は、第2クラッド層の上面から前記第1クラッド層の厚みの途中まで形成されることを特徴とする請求項6又は7に記載の光導波路装置の製造方法。 - 前記光路変換ミラーを形成する工程の後に、
前記光路変換ミラーに光結合される光素子を前記配線基板に実装する工程を有することを特徴とする請求項6乃至8のいずれか一項に記載の光導波路装置の製造方法。 - 前記光導波路を形成する工程において、
複数の前記コア層が並んで形成され、
前記配線基板を用意する工程において、
前記ベタパターンの開口部は、上面視で前記複数のコア層の全てを跨ぐ帯状に形成されることを特徴とする請求項6乃至9のいずれか一項に記載の光導波路装置の製造方法。
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