JP6419635B2 - Holding device, vacuum processing device - Google Patents

Holding device, vacuum processing device Download PDF

Info

Publication number
JP6419635B2
JP6419635B2 JP2015083674A JP2015083674A JP6419635B2 JP 6419635 B2 JP6419635 B2 JP 6419635B2 JP 2015083674 A JP2015083674 A JP 2015083674A JP 2015083674 A JP2015083674 A JP 2015083674A JP 6419635 B2 JP6419635 B2 JP 6419635B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
holding
vacuum
holding device
contact
adhesive pad
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015083674A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2015216364A (en
Inventor
良太 嶽
良太 嶽
前平 謙
謙 前平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ulvac Inc filed Critical Ulvac Inc
Priority to JP2015083674A priority Critical patent/JP6419635B2/en
Publication of JP2015216364A publication Critical patent/JP2015216364A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6419635B2 publication Critical patent/JP6419635B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Manipulator (AREA)

Description

本発明は、保持対象物を粘着シートで保持して真空雰囲気中を移動できる保持装置と、その保持装置に保持された保持対象物に真空処理を行う真空処理装置に関する。   The present invention relates to a holding apparatus that can hold a holding object with an adhesive sheet and move in a vacuum atmosphere, and a vacuum processing apparatus that performs vacuum processing on the holding object held by the holding apparatus.

液晶ディスプレイ(LCD)やプラズマディスプレイ(PDP)などのフラットパネルディスプレイの製造工程には、基板組立工程や、基板搬送工程が含まれており、基板を保持するために、粘着チャック装置を用いる技術がある。   The manufacturing process of flat panel displays such as liquid crystal displays (LCDs) and plasma displays (PDPs) includes a substrate assembly process and a substrate transport process, and technology that uses an adhesive chuck device to hold the substrate. is there.

たとえば特許第3882004号公報に記載された装置では、基板搬送用ロボットで移送された基板を、保持板に配置された粘着部材に所定圧力で押圧させて、粘着部材の粘着力で基板を保持している。さらに粘着部材と基板に囲まれた凹部を真空吸引することで更に強く吸引保持することが記載されている。   For example, in the apparatus described in Japanese Patent No. 3882004, the substrate transferred by the substrate transfer robot is pressed against the adhesive member arranged on the holding plate with a predetermined pressure, and the substrate is held by the adhesive force of the adhesive member. ing. Further, it is described that the concave portion surrounded by the adhesive member and the substrate is sucked and held more strongly by vacuum suction.

この装置によれば、変形膜で仕切られた凹部と閉空間の圧力差を利用して可動膜を変形させ、基板と粘着部材の引き剥がしや粘着保持を行うことができ、また、通気路・吸気源を備えることで真空吸引をつかった吸引保持や剥離時に気体を噴出させることも可能となっている。   According to this apparatus, the movable film can be deformed by utilizing the pressure difference between the concave portion partitioned by the deformable film and the closed space, and the substrate and the adhesive member can be peeled off and the adhesive can be held. By providing an intake source, it is also possible to eject gas at the time of suction holding or peeling using vacuum suction.

しかし、同公報に記載された吸着保持では、十分な真空度に達していない状態で粘着パッドと基板の貼り合わせが行われると、粘着部材と基板とを貼り合わせる際に空気を噛み込んでしまう問題があり、粘着力は基板と粘着部材の接触面積に依存していることから、空気を噛み込むと接触面積が小さくなり、粘着力が低下し、基板が落下してしまうおそれがある。   However, in the suction holding described in the publication, if the adhesive pad and the substrate are bonded together in a state where the degree of vacuum is not sufficiently reached, air is caught when the adhesive member and the substrate are bonded together. There is a problem, and the adhesive strength depends on the contact area between the substrate and the adhesive member. Therefore, when the air is bitten, the contact area is reduced, the adhesive strength is reduced, and the substrate may be dropped.

また、粘着パッドと基板が密着した部分には圧力差が発生せず押し付け力が生じない為、強い押し付け力を確保するためには粘着パッド間の空間を大きくとる必要があり、圧力により基板が歪むおそれや、装置の大型化が必要になるおそれがあった。   In addition, since the pressure difference does not occur at the part where the adhesive pad and the substrate are in close contact with each other and no pressing force is generated, it is necessary to make a large space between the adhesive pads in order to secure a strong pressing force. There was a risk of distortion or a need to increase the size of the apparatus.

また、変形膜で仕切られた凹部と閉空間に圧力差が生じることで変形膜に配置された粘着パッドが基板方向へ押し付けられるが、変形膜と粘着パッドの接合部での圧力分布により粘着パッドの粘着表面が歪み基板との強い密着が得られないおそれがあった。   In addition, the adhesive pad placed on the deformable membrane is pressed toward the substrate due to a pressure difference between the concave portion and the closed space partitioned by the deformable membrane, but the adhesive pad is pressed by the pressure distribution at the junction of the deformable membrane and the adhesive pad. There was a possibility that strong adhesion with the strained substrate could not be obtained.

また、基板と粘着部材が貼りついた側と反対の基板表面(成膜面)は基板搬送用ロボットの部材が接触しパーティクルが発生する問題がある。特に有機ELディスプレイのガラス基板の成膜面のパーティクルはデバイス特性に悪影響を及ぼしてしまう。   Further, there is a problem in that particles are generated on the substrate surface (film formation surface) opposite to the side where the substrate and the adhesive member are bonded to each other when the member of the substrate transfer robot comes into contact therewith. In particular, particles on the film formation surface of the glass substrate of the organic EL display adversely affect device characteristics.

特開2011−35301号公報に開示された装置では、支持板に粘着パッドが配置されており、粘着パッドを配置した側の支持板と板状ワークで囲まれた吸着溝を負圧にすることで、支持板が圧力で押されて粘着パッドと板状ワークを密着させることと、粘着パッドが配置された吸着溝を大気圧に戻し、支持板に粘着パッドが配置されない側の調圧室を負圧にすることで、支持板に圧力が働き板状ワークから粘着パッドを引き剥がすこととが記載されている。   In the apparatus disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2011-35301, an adhesive pad is disposed on a support plate, and the suction groove surrounded by the support plate on the side where the adhesive pad is disposed and the plate-like work is set to a negative pressure. The pressure-adjusting chamber on the side where the adhesive pad is not disposed on the support plate is returned to atmospheric pressure by pressing the support plate with pressure so that the adhesive pad and the plate-like work are brought into close contact with each other. It is described that the pressure is applied to the support plate and the adhesive pad is peeled off from the plate-like workpiece by using a negative pressure.

特許第4746579号公報に記載された装置では、負圧を利用して粘着剤シートと基板を吸着させることが記載されており、また、弾性多孔質シートを使うことで負圧により基板を吸着させるだけでなく基板のストレスを低減させることが記載されている。しかしながら、弾性多孔質シートの吸着面に対する多孔質の面積が小さいために基板に作用する負圧が低下することで重い基板を持ち上げられない問題があった。また、弾性多孔質シートを使う方法では、真空中において使用することができないという問題があった。   In the apparatus described in Japanese Patent No. 4746579, it is described that a pressure-sensitive adhesive sheet and a substrate are adsorbed using negative pressure, and a substrate is adsorbed by negative pressure using an elastic porous sheet. As well as reducing the stress on the substrate. However, since the porous area with respect to the adsorption surface of the elastic porous sheet is small, there is a problem that a heavy substrate cannot be lifted because the negative pressure acting on the substrate decreases. Further, the method using an elastic porous sheet has a problem that it cannot be used in a vacuum.

特開2011−35301号公報JP 2011-35301 A 特許第3882004号公報Japanese Patent No. 3882004 特許第3917651号公報Japanese Patent No. 3917651 特許第4746579号公報Japanese Patent No. 4746579

本発明は、上記従来技術の課題を解決するために創作された発明であり、保持対象物の真空処理される表面には接触せず、確実に保持対象物を保持して真空雰囲気中で移動できる保持装置を提供することにある。
また、その保持装置によって保持対象物を保持して真空処理を行う真空処理装置を提供することにある。
The present invention was created in order to solve the above-described problems of the prior art, and does not contact the surface of the object to be vacuumed, but reliably holds the object to be moved and moves in a vacuum atmosphere. It is to provide a holding device that can be used.
Another object of the present invention is to provide a vacuum processing apparatus that holds a holding object with the holding apparatus and performs vacuum processing.

一般に、真空中でも粘着部材と基板を貼り合わせることは可能であるが、基板と粘着部材とが貼りついた部分とは、反対の基板表面(成膜面)には、基板搬送用ロボットの部材が接触し、パーティクルが発生する懸念がある。
成膜面に非接触で基板を保持する場合は、真空吸着や基板の自重で粘着部材と基板を粘着保持する方法が考えられるが、前者は真空中において使用することが出来ない。
In general, it is possible to bond the adhesive member and the substrate even in a vacuum, but on the opposite substrate surface (film formation surface) from the portion where the substrate and the adhesive member are attached, there are members of the substrate transport robot. There is a concern that particles come into contact with each other.
In the case of holding the substrate in a non-contact manner on the film formation surface, methods of sticking and holding the adhesive member and the substrate by vacuum suction or the weight of the substrate can be considered, but the former cannot be used in a vacuum.

接着パッドを基板の自重で押圧する場合は、基板と接着パッドとが接触する部分の面積を小さくすれば、単位面積当たりの押圧力が増加し、粘着保持力が強くなるが、基板を吊下保持した場合は、基板と粘着部分の間の引き剥がし力も増加することになるので、基板が落下する懸念がある。   When pressing the adhesive pad with its own weight, if the area where the substrate and the adhesive pad contact is reduced, the pressing force per unit area increases and the adhesive holding force increases, but the substrate is suspended. If held, the peeling force between the substrate and the adhesive portion also increases, so there is a concern that the substrate will drop.

逆に、基板に対して粘着部分の面積を大きくすると、単位面積当たりの押圧力が減少し、基板と粘着パッドとの接触面積が減ることで粘着保持力は低下する。この場合も、基板を吊下保持した場合に、基板が落下してしまう恐れがある。
一方で、粘着パッドの粘着力を強くした場合は、基板を押し剥がす時に基板に局所的ストレスがかかり破損する恐れや基板に歪みが発生する懸念がある。
Conversely, when the area of the adhesive portion is increased with respect to the substrate, the pressing force per unit area is reduced, and the contact area between the substrate and the adhesive pad is reduced, thereby reducing the adhesive holding force. Also in this case, there is a possibility that the substrate falls if the substrate is held suspended.
On the other hand, when the adhesive strength of the adhesive pad is increased, there is a fear that the substrate may be damaged due to local stress when the substrate is pushed and peeled, or the substrate may be distorted.

本発明が採用する技術では、上記各懸念に対する解決が成されており、本発明は、保持ユニットに設けられた粘着パッドを保持対象物に接触させ、前記粘着パッドによって前記保持対象物を粘着保持して搬送するために用いられる保持装置であって、前記保持ユニットは、真空容器と、前記真空容器の縁に配置され、前記保持対象物と接触して、前記真空容器の内部空間を、前記真空容器の外部空間から遮断させる接触部と、前記真空容器に設けられ、前記保持対象物と前記接触部とで前記外部空間から遮断された前記内部空間の気体が吸着用排気装置によって真空排気される通路となる排気孔と、前記粘着パッドを移動させる移動装置と、を有し、前記粘着パッドは前記内部空間に配置され、前記移動装置が前記粘着パッドを移動させる方向である移動方向は、前記接触部の表面のうち、前記保持対象物と接触する部分が位置する接触平面に対して垂直な方向の移動成分を有するようにされた保持装置である。
本発明は、複数の前記真空容器と、各前記真空容器に配置された前記粘着パッドと、を有し、複数の前記粘着パッドと、複数の前記真空容器の縁に配置された前記接触部とは、同一の前記保持対象物と接触するようにされた保持装置である。
本発明は、同じ前記真空容器の前記内部空間に配置された複数の前記粘着パッドを有し、複数の前記粘着パッドと、前記真空容器の縁に配置された前記接触部とは、同一の前記保持対象物と接触するようにされた保持装置である。
本発明において、前記接触部は、柔軟性を有する環状の部材が用いられた保持装置である。
本発明において、前記接触部は、前記保持装置の平坦な表面上に配置された保持装置である。
本発明は、前記保持装置の表面には溝が設けられ、前記接触部は、前記溝内に設けられた保持装置である。
本発明において、前記接触部は、前記真空容器上に配置され、貫通孔であるシート孔が前記真空容器の開口上に形成された密着シートで構成された保持装置である。
本発明は、前記粘着パッドを、前記真空容器に対して前記接触部から遠ざかる方向に、回転しながら移動させる回転機構を有する保持装置である。
本発明は、前記保持装置を前記吸着用排気装置に接続させる着脱装置を有する保持装置であって、前記着脱装置は、前記保持装置を前記吸着用排気装置から分離させて、前記保持装置を前記吸着用排気装置とは別個に移動できるようにされた保持装置である。
本発明において、前記真空容器は、前記吸着用排気装置から分離されると、前記排気孔を通って前記真空容器内に気体が流入しないようにされた保持装置である。
本発明において、前記保持対象物に接着された前記粘着パッドは弾性力を有する緩衝部材によって、前記保持対象物から離間する方向に力が加えられる保持装置である。
本発明は、上記いずれかの保持装置と、前記保持装置が配置された真空槽と、前記真空槽内に配置され、前記粘着パッドに粘着保持され、処理表面が下向きにされた前記保持対象物の前記処理表面を真空雰囲気中で処理する処理部とを有する真空処理装置である。
本発明において、前記処理部は、薄膜を形成する微粒子を放出し、前記保持対象物表面に薄膜を形成する成膜装置である真空処理装置である。
In the technology adopted by the present invention, the above-mentioned concerns have been solved. In the present invention, the adhesive pad provided in the holding unit is brought into contact with the object to be held, and the object to be held is adhesively held by the adhesive pad. The holding unit is disposed on an edge of the vacuum vessel and the vacuum vessel, and is in contact with the holding object so that the internal space of the vacuum vessel is A contact portion that is shut off from the external space of the vacuum vessel, and the gas in the internal space that is provided in the vacuum vessel and is shut off from the external space by the holding object and the contact portion is evacuated by an adsorption exhaust device. And a moving device that moves the adhesive pad, the adhesive pad is disposed in the internal space, and the moving device moves the adhesive pad. Movement direction is, of the surface of the contact part, a retaining device that is to have a movement component in the direction perpendicular to the contact plane portion in contact with the holding object is located.
The present invention includes a plurality of the vacuum containers and the adhesive pads disposed in each of the vacuum containers, the plurality of adhesive pads, and the contact portions disposed on edges of the plurality of vacuum containers, Is a holding device configured to come into contact with the same holding object.
The present invention includes a plurality of the adhesive pads arranged in the internal space of the same vacuum vessel, and the plurality of the adhesive pads and the contact portion arranged on an edge of the vacuum vessel are the same A holding device that is brought into contact with a holding object.
In the present invention, the contact portion is a holding device using an annular member having flexibility.
In the present invention, the contact portion is a holding device disposed on a flat surface of the holding device.
In the present invention, a groove is provided on a surface of the holding device, and the contact portion is a holding device provided in the groove.
In the present invention, the contact portion is a holding device which is disposed on the vacuum vessel and is configured by a contact sheet in which a sheet hole which is a through hole is formed on an opening of the vacuum vessel.
This invention is a holding | maintenance apparatus which has a rotation mechanism which moves the said adhesive pad, rotating in the direction away from the said contact part with respect to the said vacuum vessel.
The present invention is a holding device having an attachment / detachment device for connecting the holding device to the adsorption exhaust device, wherein the attachment / detachment device separates the retention device from the adsorption exhaust device, and It is a holding device that can be moved separately from the adsorption exhaust device.
In the present invention, the vacuum vessel is a holding device that prevents gas from flowing into the vacuum vessel through the exhaust hole when separated from the adsorption exhaust device.
In the present invention, the pressure-sensitive adhesive pad bonded to the object to be held is a holding device in which a force is applied in a direction away from the object to be held by a buffer member having an elastic force.
The present invention provides any one of the above holding devices, a vacuum chamber in which the holding device is disposed, the holding object that is disposed in the vacuum chamber, is adhesively held on the adhesive pad, and has a processing surface facing downward. A processing section for processing the processing surface in a vacuum atmosphere.
In the present invention, the processing unit is a vacuum processing apparatus that is a film forming apparatus that releases fine particles forming a thin film and forms a thin film on the surface of the object to be held.

本発明では、粘着パッドを保持対象物に押圧するときに、保持対象物が真空吸着されているので、粘着パッドは確実に保持対象物に密着され、粘着パッドが保持対象物を粘着保持する力が向上する。
また、真空中で粘着パッドと保持対象物とを粘着させるので、互いに粘着された粘着パッドの表面と保持対象物との間には、気体が存することはない。
また、保持対象物の片側表面を非接触で粘着保持して搬送することができるので、不良品の発生を防止することができる。
In the present invention, when the pressure-sensitive adhesive pad is pressed against the holding object, the holding object is vacuum-sucked, so that the pressure-sensitive adhesive pad is securely adhered to the holding object and the pressure-sensitive adhesive pad holds and holds the holding object. Will improve.
Further, since the adhesive pad and the object to be held are adhered in a vacuum, there is no gas between the surface of the adhesive pad and the object to be held that are adhered to each other.
In addition, since one side surface of the object to be held can be held in a non-contact manner and conveyed, defective products can be prevented from being generated.

また、粘着パッドの粘着物質は有機物質であり、粘着パッドから放出ガスが放出されるが、復元力による保持対象物の接触部への押圧と真空容器の排気孔からガスが流入しない構成とによって、真空処理中は、真空容器の内部空間は外部空間から分離されているので真空処理中の処理対象物が配置された処理室内に、放出ガスが放出されないようになっている。
また、複数の保持ユニットで一枚の保持対象物を保持するので、保持対象物に印加される力が分散し、保持対象物の割れや歪みを抑えることができる。
In addition, the adhesive substance of the adhesive pad is an organic substance, and the release gas is released from the adhesive pad, but the structure is such that the restoring force exerts a pressure on the contact portion of the object to be held and the gas does not flow from the exhaust hole of the vacuum vessel. During the vacuum processing, the internal space of the vacuum vessel is separated from the external space, so that the released gas is not released into the processing chamber in which the processing object being vacuum processed is placed.
Moreover, since one holding | maintenance object is hold | maintained with a some holding | maintenance unit, the force applied to a holding | maintenance object disperse | distributes and it can suppress the crack and distortion of a holding | maintenance object.

本発明の真空処理装置を示す図The figure which shows the vacuum processing apparatus of this invention (a):保持対象物を保持していない状態の本発明の第一例の保持装置を示す図 (b):複数の保持ユニットが保持対象物を保持した状態の第一例の保持装置を示す図(a): The figure which shows the holding | maintenance apparatus of the 1st example of this invention of the state which does not hold | maintain the holding | maintenance target object. Illustration (a):複数の粘着パッドが同じ保持対象物に押圧されている状態の第一例の保持装置を示す図 (b):保持対象物が複数の粘着パッドで粘着保持された状態を示す図(a): The figure which shows the holding | maintenance apparatus of the 1st example of the state in which the some adhesion pad is pressed by the same holding object (b): The figure which shows the state by which the holding object was adhesively hold | maintained with the some adhesion pad (a):保持対象物を保持していない保持ユニットを示す図 (b):保持対象物を保持した保持ユニットを示す図(a): The figure which shows the holding unit which is not holding the holding object (b): The figure which shows the holding unit holding the holding object (a):同じ保持対象物に押圧されている状態の粘着パッドを示す図 (b):保持対象物を粘着パッドで粘着保持する状態を示す図(a): The figure which shows the adhesion pad of the state currently pressed by the same holding object (b): The figure which shows the state which carries out adhesion holding of the holding object with an adhesion pad (a):保持対象物を吊下する状態を示す図 (b):粘着パッドが移動板の回転と降下によって保持対象物から離間された状態を示す図(a): The figure which shows the state which suspends a holding target object (b): The figure which shows the state from which the adhesive pad was separated from the holding target object by rotation and descent | fall of a moving board (a):回転前の移動板を示す図 (b):回転した移動板を示す図(a): Diagram showing moving plate before rotation (b): Diagram showing rotated moving plate 第二例の保持装置を説明するための図(1)Figure for explaining the holding device of the second example (1) 第二例の保持装置を説明するための図(2)Diagram for explaining the holding device of the second example (2) 第二例の保持装置を説明するための図(3)FIG. (3) for explaining the holding device of the second example 第三例の保持装置を説明するための図The figure for demonstrating the holding | maintenance apparatus of a 3rd example 第四例の保持装置を説明するための図The figure for demonstrating the holding | maintenance apparatus of a 4th example (a)〜(c):第二例〜第四例の保持装置の平面図(a)-(c): Plan view of holding device of second example to fourth example 第五例の保持装置を説明するための図The figure for demonstrating the holding | maintenance apparatus of a 5th example

図1の符号10は、本発明の真空処理装置を示している。
この真空処理装置10は真空槽21を有しており、この真空槽21と前工程の真空槽281との間と、また、この真空槽21と後工程の真空槽282との間とは、主ゲートバルブ291、292によってそれぞれ接続されている。
Reference numeral 10 in FIG. 1 indicates a vacuum processing apparatus of the present invention.
The vacuum processing apparatus 10 has a vacuum chamber 21, and between the vacuum chamber 21 and the vacuum chamber 28 1 in the previous process, and between the vacuum chamber 21 and the vacuum chamber 28 2 in the subsequent process. Are connected by main gate valves 29 1 and 29 2 , respectively.

ここでは、真空槽21は、配置室22aと、処理室22bと、分離室22cとに分かれており、配置室22aと処理室22bの間と、処理室22bと分離室22cの間とは、それぞれ副ゲートバルブ27a、27bによって接続されている。
先ず、主ゲートバルブ291、292と副ゲートバルブ27a、27bとは閉じ、各室22a〜22c間と、各真空槽21、281、282間とを分離させておく。
Here, the vacuum chamber 21 is divided into an arrangement chamber 22a, a processing chamber 22b, and a separation chamber 22c. Between the arrangement chamber 22a and the processing chamber 22b and between the processing chamber 22b and the separation chamber 22c, The sub gate valves 27a and 27b are connected to each other.
First, the main gate valves 29 1 and 29 2 and the sub gate valves 27a and 27b are closed, and the chambers 22a to 22c and the vacuum chambers 21, 28 1 and 28 2 are separated from each other.

前工程の真空槽281と配置室22aには空気や窒素を導入して予め大気圧にしておく。真空処理装置10での処理を開始する際には、先ず、真空処理装置10の真空槽21と前工程の真空槽281との間の主ゲートバルブ291を開け、搬送ロボットのハンド311上に載せられた基板状の保持対象物5を前工程の真空槽281内から配置室22a内に搬入する。 Air and nitrogen are introduced into the vacuum chamber 28 1 and the arrangement chamber 22a in the previous process and set to atmospheric pressure in advance. When the processing in the vacuum processing apparatus 10 is started, first, the main gate valve 29 1 between the vacuum tank 21 of the vacuum processing apparatus 10 and the vacuum tank 28 1 of the previous process is opened, and the hand 31 1 of the transfer robot. The substrate-like holding object 5 placed thereon is carried into the arrangement chamber 22a from the vacuum chamber 28 1 of the previous process.

配置室22aの内部では、ハンド311よりも下方位置に、本発明の第一例の保持装置11aが配置されている。図1の符号11b、11cは、配置室22aから処理室22bと分離室22cに移動した保持装置をそれぞれ示している。図1に示された保持装置11a〜11cは同じ構造であり、図2(a)、(b)、図3(a)、(b)は、それら同じ構造の保持装置11a〜11cを代表する保持装置11が示されている。 Inside the disposing chamber 22a, at a lower position than the hand 31 1, the holding device 11a of the first example of the present invention is disposed. Reference numerals 11b and 11c in FIG. 1 indicate holding devices that have moved from the arrangement chamber 22a to the processing chamber 22b and the separation chamber 22c, respectively. The holding devices 11a to 11c shown in FIG. 1 have the same structure, and FIGS. 2A, 2B, 3A and 3B represent the holding devices 11a to 11c having the same structure. A holding device 11 is shown.

その第一例の保持装置11を説明すると、先ず、図2(a)を参照し、保持装置11は、連結板41と、連結板41に固定された一乃至複数個の保持ユニット13とを有している。
図4(a)に、一台の保持ユニット13の拡大図を示す。保持ユニット13は、真空容器15と、接触部18とを有している。接触部18は、この例では柔軟性を有する材料が環状に整形されて構成されており、真空容器15の開口19を形成する縁上に、真空容器15の開口19を取り囲んで配置されている。
The holding device 11 of the first example will be described. First, referring to FIG. 2A, the holding device 11 includes a connecting plate 41 and one or more holding units 13 fixed to the connecting plate 41. Have.
FIG. 4A shows an enlarged view of one holding unit 13. The holding unit 13 includes a vacuum container 15 and a contact portion 18. In this example, the contact portion 18 is formed by forming a flexible material in an annular shape, and is disposed on the edge forming the opening 19 of the vacuum vessel 15 so as to surround the opening 19 of the vacuum vessel 15. .

各保持ユニット13の真空容器15は、同じ向きを向いて、連結板41にそれぞれ固定されている。
真空容器15の内部空間には、真空容器15の開口19よりも底面側の位置に、粘着パッド17が配置されている。
The vacuum containers 15 of the respective holding units 13 are fixed to the connecting plate 41 in the same direction.
In the internal space of the vacuum vessel 15, an adhesive pad 17 is disposed at a position closer to the bottom surface than the opening 19 of the vacuum vessel 15.

各真空容器15の底面には貫通孔54が形成されている。貫通孔54には支持棒52が挿通され、支持棒52の一端は真空容器15の底面と縁との間の内部空間25に位置し、その一端に支持板53が固定され、粘着パッド17は、支持板53上に固定されている。
支持棒52の他端は真空容器15の外部空間26に位置しており、その他端には、移動板51が固定されている。
A through hole 54 is formed in the bottom surface of each vacuum vessel 15. A support rod 52 is inserted into the through hole 54, one end of the support rod 52 is located in the internal space 25 between the bottom surface and the edge of the vacuum vessel 15, a support plate 53 is fixed to one end thereof, and the adhesive pad 17 is It is fixed on the support plate 53.
The other end of the support bar 52 is located in the external space 26 of the vacuum vessel 15, and the moving plate 51 is fixed to the other end.

貫通孔54の内部には、軸シール材57と軸受58とが配置されている。
支持棒52は軸シール材57と密着し、軸シール材57によって、真空容器15の内部空間25と外部空間26とが気密に分離されるように構成されており、また、支持棒52は貫通孔54の内部で軸受58によって保持されている。
A shaft seal material 57 and a bearing 58 are disposed inside the through hole 54.
The support rod 52 is in close contact with the shaft seal material 57, and the shaft seal material 57 is configured so that the internal space 25 and the external space 26 of the vacuum vessel 15 are hermetically separated. It is held inside the hole 54 by a bearing 58.

支持棒52は、軸シール材57と軸受58と接触しながら、内側空間25と外側空間26とが分離された状態で、貫通孔54の長手方向に沿って移動できるように構成されており、支持棒52が貫通孔54の長手方向に沿って往復移動することによって、粘着パッド17が、真空容器15の内部空間25に於いて、開口19側と底面側とに移動できるようにされている。   The support bar 52 is configured to be movable along the longitudinal direction of the through hole 54 in a state where the inner space 25 and the outer space 26 are separated while being in contact with the shaft seal material 57 and the bearing 58. As the support bar 52 reciprocates along the longitudinal direction of the through hole 54, the adhesive pad 17 can be moved to the opening 19 side and the bottom surface side in the internal space 25 of the vacuum vessel 15. .

外部空間26には、連結板41とは離間した位置に、連結板41に対して相対移動可能に設けられた押圧板44が、移動板51と対面する位置に配置されている。
移動板51と押圧板44との間には、押圧部材45が配置されている。
押圧部材45は、当接板48と緩衝部材49とを有しており、当接板48は、緩衝部材49を介して押圧板44に取り付けられている。
In the external space 26, a pressing plate 44 provided so as to be relatively movable with respect to the connecting plate 41 is disposed at a position facing the moving plate 51 at a position separated from the connecting plate 41.
A pressing member 45 is disposed between the moving plate 51 and the pressing plate 44.
The pressing member 45 includes a contact plate 48 and a buffer member 49, and the contact plate 48 is attached to the press plate 44 via the buffer member 49.

この真空処理装置10には、粘着パッド17を移動させる移動装置が設けられている。図2(a)、図4(a)の符号47は、移動装置が有するモータであり、押圧板44と真空容器15とは、このモータ47が動作することで、移動装置によって相対的に移動して距離を変更するように構成されている。   The vacuum processing apparatus 10 is provided with a moving device that moves the adhesive pad 17. Reference numeral 47 in FIGS. 2A and 4A denotes a motor included in the moving device. The pressing plate 44 and the vacuum vessel 15 are relatively moved by the moving device when the motor 47 is operated. And is configured to change the distance.

保持対象物5を保持する手順を開始する際には、移動板51と当接板48とは離間した状態にされており、移動装置によって押圧板44が真空容器15が位置する方向に移動され、押圧板44と各真空容器15との間の距離が縮められると押圧部材45が真空容器15側に移動し、先ず、移動板51と当接板48とが接触する。   When the procedure for holding the holding object 5 is started, the moving plate 51 and the contact plate 48 are separated from each other, and the pressing plate 44 is moved in the direction in which the vacuum vessel 15 is positioned by the moving device. When the distance between the pressing plate 44 and each vacuum vessel 15 is reduced, the pressing member 45 moves to the vacuum vessel 15 side, and first, the moving plate 51 and the contact plate 48 come into contact with each other.

移動板51と真空容器15の底面との間には圧縮変形可能な復元部材55が配置されている。復元部材55は、真空容器15の底面と移動板51との間に位置しており、緩衝部材49と復元部材55は弾性力を有しており、緩衝部材49と復元部材55は、押圧されると圧縮方向に変形し、押圧が解除されると、元の形状に復帰する弾性材料で構成されている。   Between the moving plate 51 and the bottom surface of the vacuum vessel 15, a restoring member 55 that can be compressed and deformed is disposed. The restoring member 55 is located between the bottom surface of the vacuum vessel 15 and the moving plate 51. The buffer member 49 and the restoring member 55 have an elastic force, and the buffer member 49 and the restoring member 55 are pressed. Then, it is made of an elastic material that deforms in the compression direction and returns to its original shape when the pressure is released.

移動板51と当接板48とが接触した後、押圧板44が更に真空容器15が位置する方向に移動するときには、移動板51は当接板48によって押圧され、その際、緩衝部材49と復元部材55は押圧され、圧縮方向に変形しながら、押圧板44と各真空容器15との間の距離が縮められ、その結果、粘着パッド17が、開口19が位置する方向に移動する。   When the pressing plate 44 further moves in the direction in which the vacuum vessel 15 is positioned after the moving plate 51 and the contact plate 48 come into contact with each other, the moving plate 51 is pressed by the contact plate 48, While the restoring member 55 is pressed and deformed in the compression direction, the distance between the pressing plate 44 and each vacuum vessel 15 is reduced, and as a result, the adhesive pad 17 moves in the direction in which the opening 19 is positioned.

このように、移動板51が真空容器15に近づくことで、粘着パッド17は、真空容器15の開口19側に移動し、反対に、移動板51が真空容器15から遠ざかると、粘着パッド17は、真空容器15の開口19とは反対側、即ち、底面側に移動する。
なお、上記例とは逆に、押圧板44が固定されていて、連結板41が押圧板44に対して移動するように構成されていても同じである。
Thus, when the moving plate 51 approaches the vacuum vessel 15, the adhesive pad 17 moves to the opening 19 side of the vacuum vessel 15. Conversely, when the moving plate 51 moves away from the vacuum vessel 15, the adhesive pad 17 is The vacuum container 15 moves to the side opposite to the opening 19, that is, the bottom side.
Contrary to the above example, the same applies even if the pressing plate 44 is fixed and the connecting plate 41 is configured to move relative to the pressing plate 44.

複数の保持ユニット13が連結板41に設けられている保持装置11では、各保持ユニット13の接触部18の表面は同じ平面上に位置しており、その表面を保持対象物5と接触する接触平面とすると、複数の粘着パッド17の表面は、接触平面と平行な同一平面であり、また、複数の移動板51が位置する平面も、接触平面と平行な同一平面であり、複数の当接板48が位置する平面も、接触平面と平行な同一平面である。   In the holding device 11 in which a plurality of holding units 13 are provided on the connecting plate 41, the surface of the contact portion 18 of each holding unit 13 is located on the same plane, and the surface is in contact with the holding object 5. Assuming that it is a plane, the surfaces of the plurality of adhesive pads 17 are the same plane parallel to the contact plane, and the plane on which the plurality of moving plates 51 are located is also the same plane parallel to the contact plane. The plane on which the plate 48 is located is also the same plane parallel to the contact plane.

従って、押圧板44によって、各保持ユニット13の移動板51がそれぞれ押圧されると、各保持ユニット13に設けられた緩衝部材49と復元部材55とは圧縮変形し、各粘着パッド17は、表面が同一平面上に位置しながら、開口19の方向にそれぞれ移動する。   Therefore, when the moving plate 51 of each holding unit 13 is pressed by the pressing plate 44, the buffer member 49 and the restoring member 55 provided in each holding unit 13 are compressed and deformed, and each adhesive pad 17 Move in the direction of the opening 19 while being positioned on the same plane.

保持ユニット13は、上述のように構成されており、そのような保持ユニット13を一個乃至複数個有する保持装置11によって、保持対象物5を保持する手順を説明する。
先ず、保持装置11aによって保持対象物5を配置する。このとき、接触平面は水平にされており、図1に示されたハンド311上の一枚の保持対象物5は、ピン等の装置によって、ハンド311上から、一台乃至複数台の保持ユニット13の接触部18上に移動され、保持対象物5は、接触部18と接触して真空容器15上に配置されている。
The holding unit 13 is configured as described above, and a procedure for holding the holding object 5 by the holding device 11 having one or a plurality of such holding units 13 will be described.
First, the holding object 5 is arranged by the holding device 11a. At this time, the contact plane is horizontal, and one object to be held 5 on the hand 31 1 shown in FIG. 1 is one or a plurality of objects from above the hand 31 1 by a device such as a pin. It is moved onto the contact portion 18 of the holding unit 13, and the holding object 5 is placed on the vacuum vessel 15 in contact with the contact portion 18.

保持対象物5が保持ユニット13上に移動した後、ハンド311が前工程の真空槽281の内部に戻り、前工程の真空槽281と配置室22aとの間の主ゲートバルブ291は閉じられる。 After the holding object 5 moves onto the holding unit 13, the hand 31 1 returns to the inside of the vacuum chamber 28 1 of the previous process, and the main gate valve 29 1 between the vacuum chamber 28 1 of the previous process and the arrangement chamber 22a. Is closed.

図2(b)は、複数の保持ユニット13を有する保持装置11の上に一枚の保持対象物5が配置された状態を示しており、図4(b)は、その保持装置11の一台の保持ユニット13を示している。
保持対象物5と接触部18とが接触する部分は環形状になっており、内部空間25は、保持対象物5が接触部18と接触することによって閉塞される。
FIG. 2B shows a state in which one holding object 5 is arranged on a holding device 11 having a plurality of holding units 13, and FIG. 4B shows one of the holding devices 11. A holding unit 13 is shown.
A portion where the holding object 5 and the contact portion 18 come into contact has an annular shape, and the internal space 25 is closed when the holding object 5 comes into contact with the contact portion 18.

各真空容器15の壁面又は底面には、排気孔14が設けられている。各真空容器15の排気孔14は、真空槽21の外部に配置された吸着用排気装置42に、排気配管43によってそれぞれ接続されている。   An exhaust hole 14 is provided on the wall surface or bottom surface of each vacuum vessel 15. The exhaust hole 14 of each vacuum vessel 15 is connected to an adsorption exhaust device 42 disposed outside the vacuum chamber 21 by an exhaust pipe 43.

保持対象物5が各保持ユニット13上に載せられる前は、配置室22a内は大気圧にされており、保持対象物5が各保持ユニット13上に載せられ、保持対象物5と各保持ユニット13の接触部18とが接触した後、吸着用排気装置42によって各真空容器15の内部空間25の真空排気が開始される。   Before the holding object 5 is placed on each holding unit 13, the inside of the arrangement chamber 22 a is at atmospheric pressure, and the holding object 5 is put on each holding unit 13, and the holding object 5 and each holding unit are placed. After the 13 contact portions 18 come into contact with each other, the evacuation of the internal space 25 of each vacuum vessel 15 is started by the adsorption exhaust device 42.

このとき、真空容器15の外部空間26である配置室22aの内部雰囲気は大気圧であり、接触部18と真空容器15の縁との間は気密に構成され、また、接触部18は柔軟性を有するため、保持対象物5と接触部18との間は、接触によって気密になっており、真空容器15の内部空間25が真空排気されるときには、外部空間26から内部空間25へは、外部空間26に位置する気体は流入せず、真空容器15の内部空間25が真空雰囲気になると、保持対象物5は、外部空間26の圧力によって接触部18に押圧されるため、真空容器15に真空吸着され、保持対象物5は接触部18に押しつけられる。
接触部18は押圧力によって変形する材料で構成されており、保持対象物5が接触部18に押しつけられると、保持対象物5と接触部18との間は密着され、気密になる。
At this time, the internal atmosphere of the arrangement chamber 22a, which is the external space 26 of the vacuum vessel 15, is atmospheric pressure, and the space between the contact portion 18 and the edge of the vacuum vessel 15 is airtight, and the contact portion 18 is flexible. Therefore, the space between the object to be held 5 and the contact portion 18 is hermetically sealed by contact. When the internal space 25 of the vacuum vessel 15 is evacuated, the external space 26 to the internal space 25 are externally connected. When the gas located in the space 26 does not flow in and the internal space 25 of the vacuum vessel 15 is in a vacuum atmosphere, the object 5 to be held is pressed against the contact portion 18 by the pressure of the external space 26, so that the vacuum vessel 15 is vacuumed. The object 5 is sucked and pressed against the contact portion 18.
The contact portion 18 is made of a material that is deformed by a pressing force. When the holding object 5 is pressed against the contact portion 18, the holding object 5 and the contact portion 18 are in close contact with each other and become airtight.

真空容器15の内部空間25の真空排気を開始する際には、粘着パッド17と保持対象物5とは離間して隙間が形成されており、保持対象物5が真空吸着によって接触部18に押しつけられた後、吸着用排気装置42によって真空容器15の内部空間25の真空排気を継続しながら、押圧板44と真空容器15とを相対的に近接させると、当接板48は移動板51と接触し、更に近接させると、緩衝部材49と復元部材55とが圧縮変形しながら粘着パッド17が保持対象物5が位置する方向に移動し、粘着パッド17の表面が保持対象物5の裏面と接触する。   When starting to evacuate the internal space 25 of the vacuum vessel 15, the adhesive pad 17 and the holding object 5 are spaced apart to form a gap, and the holding object 5 is pressed against the contact portion 18 by vacuum suction. After that, when the pressing plate 44 and the vacuum vessel 15 are brought relatively close to each other while the vacuum exhaust of the internal space 25 of the vacuum vessel 15 is continued by the adsorption exhaust device 42, the contact plate 48 and the moving plate 51 When they are brought into contact with each other, the buffer member 49 and the restoring member 55 are compressed and deformed while the adhesive pad 17 moves in the direction in which the holding object 5 is positioned, and the surface of the adhesive pad 17 is in contact with the back surface of the holding object 5. Contact.

接触した後、更に押圧板44を真空容器15側に移動させようとすると、粘着パッド17により、緩衝部材49と復元部材55とが圧縮変形されながら保持対象物5は接触部18から離間される方向に押圧される。   When the pressing plate 44 is further moved to the vacuum container 15 side after the contact, the holding object 5 is separated from the contact portion 18 while the buffer member 49 and the restoring member 55 are compressed and deformed by the adhesive pad 17. Pressed in the direction.

このとき、保持対象物5に印加される押圧力は、緩衝部材49の圧縮変形する距離を調整し、保持対象物5が真空吸着によって接触部18に押圧される真空吸着力よりも弱くすることで、保持対象物5は粘着パッド17と密着した状態が維持されるので、粘着パッド17は保持対象物5との接触面積が飽和するまで、押圧板44からの押圧力によって押圧することで、粘着パッド17と保持対象物5とは強く粘着される。   At this time, the pressing force applied to the object to be held 5 adjusts the compression deformation distance of the buffer member 49 so that the object to be held 5 is weaker than the vacuum suction force that is pressed against the contact portion 18 by vacuum suction. Since the holding object 5 is kept in close contact with the adhesive pad 17, the adhesive pad 17 is pressed by the pressing force from the pressing plate 44 until the contact area with the holding object 5 is saturated. The adhesive pad 17 and the holding object 5 are strongly adhered.

図3(a)は、複数の保持ユニット13の粘着パッド17が、一枚の保持対象物5に押圧され、保持装置11が保持対象物5を粘着保持した状態を示している。図5(a)は、そのときの保持対象物5と一台の保持ユニット13とを示しており、緩衝部材49と復元部材55とは圧縮変形されている。   FIG. 3A shows a state where the adhesive pads 17 of the plurality of holding units 13 are pressed against a single holding object 5 and the holding device 11 is holding the holding object 5 in an adhesive state. FIG. 5A shows the holding object 5 and one holding unit 13 at that time, and the buffer member 49 and the restoring member 55 are compressed and deformed.

粘着パッド17の表面が保持対象物5の裏面に密着されている状態では、移動板51と保持対象物5との間の距離は、粘着パッド17の厚みと、支持棒52の長さ等の粘着パッド17を支持する部材の長さとによって決まっており、復元部材55は、押圧板44と保持対象物5とで、圧縮変形されている。   In a state where the surface of the adhesive pad 17 is in close contact with the back surface of the holding object 5, the distance between the moving plate 51 and the holding object 5 is the thickness of the adhesive pad 17, the length of the support bar 52, and the like. The restoring member 55 is compressed and deformed by the pressing plate 44 and the holding object 5 depending on the length of the member that supports the adhesive pad 17.

その状態から、押圧板44が真空容器15から離間する方向に移動して、当接板48と移動板51とが離間すると、復元部材55の復元力は移動板51に印加され、移動板51を真空容器15から離間させる方向の力となる。   From this state, when the pressing plate 44 moves away from the vacuum container 15 and the contact plate 48 and the moving plate 51 are separated from each other, the restoring force of the restoring member 55 is applied to the moving plate 51, and the moving plate 51 is moved. Is a force in the direction of separating the V from the vacuum vessel 15.

圧縮変形された緩衝部材49と復元部材55とには、元の長さに戻ろうとする復元力が発生しているが、粘着パッド17が保持対象物5に押圧されて発生した粘着パッド17と保持対象物5との間の粘着力は、復元部材55の復元力よりも強くされており、粘着パッド17は保持対象物5から剥離せず、復元部材55は伸びることができないため、圧縮変形されたままである。他方、緩衝部材49は、その復元力によって伸び、元の長さに戻っている。   The buffer member 49 and the restoring member 55 that have been compressed and deformed have a restoring force to return to the original length, but the adhesive pad 17 that is generated when the adhesive pad 17 is pressed against the object to be held 5 The adhesive force between the holding object 5 is stronger than the restoring force of the restoring member 55, the adhesive pad 17 does not peel from the holding object 5, and the restoring member 55 cannot expand, so that the compression deformation It has been done. On the other hand, the buffer member 49 is stretched by its restoring force and returned to its original length.

図3(b)、図5(b)は、復元部材55は圧縮変形され、緩衝部材49は元の長さに戻った状態である。
このとき、粘着パッド17は保持対象物5に粘着しており、復元部材55の復元力によって粘着パッド17は真空容器15の底面側に牽引されているから、保持対象物5は粘着パッド17によって真空容器15の底面側に牽引され、保持対象物5の裏面の接触部18と接触する部分は、接触部18に押しつけられて密着し、一枚の保持対象物5は、各保持ユニット13の真空吸着力と復元部材55の復元力とによって、接触部18に押圧されている状態になる。
3 (b) and 5 (b), the restoring member 55 is compressed and deformed, and the buffer member 49 is returned to its original length.
At this time, the adhesive pad 17 is adhered to the object to be held 5, and the adhesive pad 17 is pulled to the bottom surface side of the vacuum container 15 by the restoring force of the restoring member 55. A portion that is pulled to the bottom surface side of the vacuum vessel 15 and contacts the contact portion 18 on the back surface of the holding object 5 is pressed against and closely contacts the contact portion 18, and one holding object 5 is attached to each holding unit 13. The contact portion 18 is pressed by the vacuum suction force and the restoring force of the restoring member 55.

当接板48が移動板51と離間する前後に拘わらず、各保持ユニット13の粘着パッド17の表面が保持対象物5に押圧されて粘着された後に、配置室22aに接続された真空排気装置24aによって、配置室22a内の真空排気が開始され、配置室22aの内部雰囲気である真空槽21の外部空間26の圧力は次第に低下する。
外部空間26の圧力が内部空間25の圧力以下まで低下すると、真空容器15の保持対象物5に対する真空吸着力は消滅する。
Regardless of before or after the contact plate 48 is separated from the moving plate 51, the vacuum exhaust device connected to the arrangement chamber 22a after the surface of the adhesive pad 17 of each holding unit 13 is pressed and adhered to the object 5 to be held. 24a starts evacuation in the arrangement chamber 22a, and the pressure in the external space 26 of the vacuum chamber 21, which is the internal atmosphere of the arrangement chamber 22a, gradually decreases.
When the pressure in the external space 26 is reduced to a pressure equal to or lower than the pressure in the internal space 25, the vacuum suction force with respect to the holding object 5 of the vacuum vessel 15 disappears.

粘着パッド17と保持対象物5との間の粘着力は、復元部材55の復元力による剥離力よりも大きいので、保持対象物5は粘着パッド17に粘着し、接触部18に密着した状態が維持される。
一枚の保持対象物5は、複数の粘着パッド17によって粘着保持されており、一枚の保持対象物5を粘着保持する複数の粘着パッド17の粘着力の合計値は、各復元部材55の復元力の合計値と、粘着保持された保持対象物5の重量による重力とを加算した力の値よりも大きくなっている。
従って、複数の粘着パッド17によって、保持対象物5を懸吊しても、保持対象物5が粘着パッド17から剥離して落下するようなことはない。
Since the adhesive force between the adhesive pad 17 and the holding object 5 is larger than the peeling force due to the restoring force of the restoring member 55, the holding object 5 adheres to the adhesive pad 17 and is in close contact with the contact portion 18. Maintained.
One holding object 5 is adhesively held by the plurality of adhesive pads 17, and the total value of the adhesive forces of the plurality of adhesive pads 17 that hold the one holding object 5 is determined by the restoring members 55. It is larger than the value of the force obtained by adding the total value of the restoring force and the gravity due to the weight of the object 5 to be adhered and held.
Therefore, even if the holding object 5 is suspended by the plurality of adhesive pads 17, the holding object 5 does not peel off from the adhesive pad 17 and fall.

一台乃至複数台の保持ユニット13は、連結板41によって、一緒に移動するようにされており、移動装置は保持装置11の上下を反転させる反転機構(不図示)を有している。
一台の保持装置11の各保持ユニット13が、保持対象物5が上方に配置されて保持対象物5を粘着保持している状態で、保持装置11が反転されると、保持対象物5は、各保持ユニット13の下方に位置し、保持装置11によって、懸吊された状態になる。図6(a)は、その状態を示している。
One or a plurality of holding units 13 are moved together by a connecting plate 41, and the moving device has a reversing mechanism (not shown) for reversing the holding device 11 up and down.
When each holding unit 13 of one holding device 11 is in a state in which the holding object 5 is disposed above and holds the holding object 5 in an adhesive state, when the holding device 11 is inverted, the holding object 5 is It is located below each holding unit 13 and is suspended by the holding device 11. FIG. 6A shows this state.

上述したように、各保持ユニット13の真空容器15と吸着用排気装置42とは、排気配管43によって接続されている。その排気配管43の途中には、着脱装置40が設けられており、真空雰囲気にされた配置室22a内で、各保持ユニット13は着脱装置40によって、吸着用排気装置42に接続された排気配管43から分離され、吸着用排気装置42とは別個に移動できるようにされている。   As described above, the vacuum container 15 of each holding unit 13 and the adsorption exhaust device 42 are connected by the exhaust pipe 43. An attachment / detachment device 40 is provided in the middle of the exhaust pipe 43, and each holding unit 13 is connected to the adsorption exhaust device 42 by the attachment / detachment device 40 in the arrangement chamber 22 a in a vacuum atmosphere. 43, and can be moved separately from the adsorption exhaust device 42.

保持対象物5が粘着パッド17によって、粘着保持された後、着脱装置40によって、保持装置11が吸着用排気装置42から分離される前後で吸着用排気装置42による真空容器15の真空排気動作は停止するようにされており、保持装置11は、着脱装置40で吸着用排気装置42側の排気配管43から分離される。このとき、着脱装置40の少なくとも一部は、真空容器15に接続された排気配管43に取り付けられたままである。配置室22aの真空排気は継続して行われている。   After the holding object 5 is adhesively held by the adhesive pad 17, the evacuation operation of the vacuum container 15 by the adsorption exhaust device 42 is performed before and after the holding device 11 is separated from the adsorption exhaust device 42 by the attachment / detachment device 40. The holding device 11 is separated from the exhaust pipe 43 on the adsorption exhaust device 42 side by the attachment / detachment device 40. At this time, at least a part of the attachment / detachment device 40 remains attached to the exhaust pipe 43 connected to the vacuum vessel 15. The evacuation of the arrangement chamber 22a is continuously performed.

ここで、吸着用排気装置42から保持装置11が分離される前、又は、分離された後は、真空容器15に接続された排気配管43は、その排気配管43に残った着脱装置40の少なくとも一部によって閉塞されており、真空容器15の内部空間25は、外部空間26から分離されている。粘着パッド17から放出され、真空容器15の内部空間25に充満したガスは、排気孔14を通過して、真空容器15の外部に流出しないようにされている。
なお、着脱装置40とは別の部材によって、真空容器15が吸着用排気装置42から分離されたときには、真空容器15内の気体が排気孔14を通過して流出しないように構成してもよい。
Here, before or after the holding device 11 is separated from the adsorption exhaust device 42, the exhaust pipe 43 connected to the vacuum vessel 15 is at least of the attaching / detaching device 40 remaining in the exhaust pipe 43. The internal space 25 of the vacuum vessel 15 is separated from the external space 26 by being partially closed. The gas discharged from the adhesive pad 17 and filling the internal space 25 of the vacuum vessel 15 is prevented from flowing out of the vacuum vessel 15 through the exhaust hole 14.
In addition, when the vacuum vessel 15 is separated from the adsorption exhaust device 42 by a member different from the attaching / detaching device 40, the gas in the vacuum vessel 15 may be configured not to flow out through the exhaust hole 14. .

各真空容器15の開口19には、保持対象物5が配置され、接触部18に密着されており、従って、各真空容器15の内部空間25は、外部空間26から分離されている。真空容器15の内部空間25は、外部空間26と分離された状態で、保持対象物5は保持装置11によって懸吊された状態で、真空雰囲気中を移動できるようになる。   The object 5 to be held is disposed in the opening 19 of each vacuum vessel 15 and is in close contact with the contact portion 18. Therefore, the internal space 25 of each vacuum vessel 15 is separated from the external space 26. The inner space 25 of the vacuum vessel 15 is separated from the outer space 26, and the holding object 5 can be moved in the vacuum atmosphere while being hung by the holding device 11.

処理室22bの内部は真空排気装置24bによって真空排気され、真空雰囲気にされており、配置室22aと処理室22bとの間の副ゲートバルブ27aを開け、吸着用排気装置42から分離され、保持対象物5を懸吊している保持装置11aは、配置室22aから処理室22bに移動される。開けられた副ゲートバルブ27aは閉じられる。   The inside of the processing chamber 22b is evacuated and evacuated by an evacuation device 24b. The sub-gate valve 27a between the arrangement chamber 22a and the processing chamber 22b is opened, separated from the adsorption exhaust device 42, and held. The holding device 11a that suspends the object 5 is moved from the arrangement chamber 22a to the processing chamber 22b. The opened sub gate valve 27a is closed.

処理室22bの内部には、懸吊された保持対象物5の表面を真空雰囲気中で処理する処理部23が設けられている。
この真空処理装置10では、処理部23は成膜源であり、薄膜を構成させる材料の微粒子(蒸気を含む)を放出し、懸吊され、下方を向く保持対象物5の表面に放出した微粒子を到達させて、保持対象物5の表面に薄膜を成長させる。
Inside the processing chamber 22b, a processing unit 23 for processing the surface of the suspended holding object 5 in a vacuum atmosphere is provided.
In this vacuum processing apparatus 10, the processing unit 23 is a film formation source, which emits fine particles (including vapor) of the material constituting the thin film, is suspended, and is discharged onto the surface of the holding object 5 facing downward. And a thin film is grown on the surface of the holding object 5.

符号11bは、処理室22b内を移動し、懸吊している保持対象物5を処理部23上に位置させた保持装置を示している。
処理部23は、微粒子は上方に向けて放出するようにされており、保持対象物5の真空処理される表面は下方に位置する処理部23に向けられている。
処理部23からの微粒子の放出により、保持対象物5の表面に微粒子が到達して薄膜を形成する真空処理が行われる。
Reference numeral 11 b denotes a holding device that moves in the processing chamber 22 b and positions the holding object 5 that is suspended on the processing unit 23.
The processing unit 23 discharges the fine particles upward, and the surface of the object 5 to be vacuum processed is directed to the processing unit 23 positioned below.
Due to the release of the fine particles from the processing unit 23, a vacuum process is performed in which the fine particles reach the surface of the holding object 5 to form a thin film.

なお、保持装置11bは、保持対象物5を処理部23上で静止させずに、処理部23から微粒子を放出させた状態で、保持対象物5に処理部23上を通過させることで、保持対象物5の表面を真空処理してもよい。   Note that the holding device 11b holds the holding object 5 by passing the holding object 5 over the processing unit 23 in a state where the particles are released from the processing unit 23 without causing the holding object 5 to stand still on the processing unit 23. The surface of the object 5 may be vacuum-treated.

次に、分離室22cの内部は、真空排気装置24cによって真空排気され、真空雰囲気にされており、所定膜厚の薄膜が形成され、真空処理が終了すると、処理室22bと分離室22cとの間の副ゲートバルブ27bが開けられ、保持対象物5を保持した保持装置11bは、処理室22bから分離室22cに移動される。副ゲートバルブ27bは、移動後、閉じられる。
分離室22cの内部には、移動装置が有する反転機構(不図示)が配置されている。
Next, the inside of the separation chamber 22c is evacuated by a vacuum evacuation device 24c and is in a vacuum atmosphere. When a thin film having a predetermined thickness is formed and the vacuum processing is completed, the separation chamber 22c is separated from the processing chamber 22b and the separation chamber 22c. The holding gate 11b holding the holding object 5 is moved from the processing chamber 22b to the separation chamber 22c. The sub gate valve 27b is closed after the movement.
A reversing mechanism (not shown) included in the moving device is disposed inside the separation chamber 22c.

処理室22b内の保持装置11bは、分離室22c内に移動した後、保持対象物5を粘着保持した状態で回転され、保持対象物5は、保持装置11c上に配置された状態になる。この状態では、保持対象物5は保持装置11cに粘着保持されている。   After the holding device 11b in the processing chamber 22b is moved into the separation chamber 22c, the holding device 5 is rotated in a state where the holding object 5 is adhered and held, and the holding object 5 is placed on the holding device 11c. In this state, the holding object 5 is adhesively held by the holding device 11c.

次に、保持対象物5を保持装置11cから分離させる手順について説明する。
図7(a)、(b)を参照し、粘着パッド17を移動させる移動装置は、回転機構59を有している。
Next, a procedure for separating the holding object 5 from the holding device 11c will be described.
With reference to FIGS. 7A and 7B, the moving device that moves the adhesive pad 17 has a rotation mechanism 59.

図7(a)に示すように、回転機構59は、二本のロッド59a、59bを有しており、二本のロッド59a、59bの一端は、移動板51の中央位置56を中心とした回転対称の位置で、ビス52a、52bによって、移動板51の表面に回転可能に取り付けられている。   As shown in FIG. 7A, the rotation mechanism 59 has two rods 59a and 59b, and one end of each of the two rods 59a and 59b is centered on the central position 56 of the moving plate 51. It is rotatably attached to the surface of the movable plate 51 by screws 52a and 52b at rotationally symmetric positions.

ロッド59a、59bは平行に配置され、その他端側は、回転機構59が有する回転装置59cに取り付けられており、回転装置59cが動作すると、ロッド59a、59bには、互いに逆方向に移動させようとする力が印加される。   The rods 59a and 59b are arranged in parallel, and the other end is attached to a rotation device 59c included in the rotation mechanism 59. When the rotation device 59c operates, the rods 59a and 59b are moved in opposite directions to each other. A force is applied.

この力は、移動板51のロッド59a、59bが取り付けられた位置を逆向きに移動させようとする力であり、移動板51を、中央位置56を中心にして、同じ回転方向に回転させようとする回転力となる。   This force is a force for moving the position of the moving plate 51 where the rods 59a and 59b are attached in the opposite direction, and the moving plate 51 is rotated about the central position 56 in the same rotation direction. This is the rotational force.

支持棒52は移動板51と粘着パッド17の表面に対して垂直であり、支持棒52の中心軸線は、中央位置56を通っており、移動板51を回転させようとする回転力は、粘着パッド17を回転させようとする回転力になる。   The support bar 52 is perpendicular to the surfaces of the moving plate 51 and the adhesive pad 17, the central axis of the support bar 52 passes through the central position 56, and the rotational force for rotating the moving plate 51 is adhesive. It becomes the rotational force which tries to rotate the pad 17.

保持対象物5にも、粘着パッド17から回転力が印加されるが、接触部18は、真空容器15の縁上で移動しないようにされており、保持対象物5は粘着パッド17によって粘着保持された状態では、復元部材55の復元力によって接触部18によって押圧されており、接触部18と保持対象物5との間の静止摩擦力によって、保持対象物5は接触部18に対して静止した状態が維持される。   Although the rotational force is also applied to the holding object 5 from the adhesive pad 17, the contact portion 18 is prevented from moving on the edge of the vacuum container 15, and the holding object 5 is adhesively held by the adhesive pad 17. In this state, the contact member 18 is pressed by the restoring force of the restoring member 55, and the holding object 5 is stationary relative to the contact part 18 by the static frictional force between the contact part 18 and the holding object 5. Maintained.

粘着パッド17に回転力が印加されるときには、粘着パッド17には、復元部材55の復元力による底面方向へ移動させようとする剥離力が印加されており、その剥離力が印加された状態で回転力が印加されると、粘着パッド17と保持対象物5との間の粘着力は、回転力によって弱められ、粘着パッド17が真空容器15や接触部18に対して回転しながら、真空容器15の開口19や接触部18から離間する方向に移動することで、粘着パッド17は、保持対象物5に対して回転しながら剥離される(図6(b))。
移動板51と粘着パッド17の回転量は同じであり、図7(a)、(b)の符号50は、移動板51の回転量と方向を示すための指標である。
When a rotational force is applied to the adhesive pad 17, a peeling force is applied to the adhesive pad 17 so as to move the adhesive member 17 toward the bottom surface due to the restoring force of the restoring member 55. When the rotational force is applied, the adhesive force between the adhesive pad 17 and the holding object 5 is weakened by the rotational force, and the vacuum pad 15 rotates while rotating the adhesive pad 17 with respect to the vacuum container 15 and the contact portion 18. The adhesive pad 17 is peeled off while rotating with respect to the holding object 5 by moving in a direction away from the 15 openings 19 and the contact portion 18 (FIG. 6B).
The rotation amount of the moving plate 51 and the adhesive pad 17 is the same, and reference numeral 50 in FIGS. 7A and 7B is an index for indicating the rotation amount and direction of the moving plate 51.

支持棒52は、接触部18と保持対象物5とが接触する接触平面に対して垂直であり、このように、移動装置によって粘着パッド17に印加される力は、保持対象物5の表面、即ち、接触平面に対して垂直な方向の成分と、その接触平面と平行な平面内で回転する成分とに分けることができる。   The support bar 52 is perpendicular to the contact plane where the contact portion 18 and the holding object 5 are in contact with each other. Thus, the force applied to the adhesive pad 17 by the moving device is the surface of the holding object 5, That is, it can be divided into a component in a direction perpendicular to the contact plane and a component that rotates in a plane parallel to the contact plane.

粘着パッド17と保持対象物5とが離間すると、保持対象物5を保持装置11cから分離することが可能になる。
図1の分離室22cの内部は真空排気されており、保持対象物5が接触部18から離間されると、真空容器15の内部空間25と、分離室22cの内部雰囲気とが接続され、真空容器15内に充満していた粘着パッド17からの放出ガスは、分離室22c内に放出され、真空排気されて分離室22cから除去される。
When the adhesive pad 17 and the holding object 5 are separated from each other, the holding object 5 can be separated from the holding device 11c.
The inside of the separation chamber 22c in FIG. 1 is evacuated, and when the object to be held 5 is separated from the contact portion 18, the internal space 25 of the vacuum vessel 15 and the internal atmosphere of the separation chamber 22c are connected to form a vacuum. The gas released from the adhesive pad 17 filling the container 15 is released into the separation chamber 22c, evacuated and removed from the separation chamber 22c.

後工程の真空槽282との間の主ゲートバルブ292が開けられ、後工程の真空槽282から分離室22c内にハンド312が挿入され、接触部18から離間された保持対象物5はハンド312上に移動され、保持対象物5は、ハンド312上に載せられて分離室22cから後工程の真空槽282に移動される。 The main gate valve 29 2 between the post-process vacuum chamber 28 2 is opened, the hand 31 2 is inserted into the separation chamber 22 c from the post-process vacuum chamber 28 2 , and the object to be held separated from the contact portion 18. 5 is moved on the hand 31 2, holding object 5 is moved in the vacuum chamber 28 2 of the rear step is placed on the hand 31 2 from the separation chamber 22c.

保持対象物5が分離された保持装置11cは、不図示の移動室を通って、配置室22aに戻る。配置室22a内の保持装置11aは、真空容器15に接続された排気配管43が、着脱装置40の部分で、吸着用排気装置42の排気配管43に接続され、真空排気が可能な状態になり、上記と同様に、保持対象物5が配置された後、懸吊して保持対象物5の真空処理が行われる。   The holding device 11c from which the holding object 5 is separated returns to the arrangement chamber 22a through a moving chamber (not shown). In the holding device 11a in the arrangement chamber 22a, the exhaust pipe 43 connected to the vacuum vessel 15 is connected to the exhaust pipe 43 of the adsorption exhaust device 42 at the part of the attachment / detachment device 40, so that the vacuum exhaust can be performed. In the same manner as described above, after the holding object 5 is arranged, the holding object 5 is suspended and subjected to vacuum processing.

なお、保持対象物5に対して粘着パッド17を回転させながら離間させて、保持対象物5と粘着パッド17とを剥離させることにより、剥離の際の保持対象物5の撓みが生じにくく、また、回転させずに垂直に剥離させた場合に比べて、粘着パッド17の粘着力の低下が少ない、という効果がある。   In addition, by separating the holding object 5 and the adhesive pad 17 by rotating the adhesive pad 17 away from the holding object 5 and causing the holding object 5 and the adhesive pad 17 to peel off, it is difficult for the holding object 5 to bend at the time of peeling. There is an effect that the decrease in the adhesive force of the adhesive pad 17 is small compared to the case where the adhesive pad 17 is peeled off vertically without being rotated.

次に、本発明の他の保持装置を説明する。
図8は、本発明の第二例の保持装置112を示している。
第一例の保持装置11とは異なり、第二例の保持装置112では、複数の真空容器15の上部に連結板41aが設けられており、その連結板41aによって、複数の真空容器15が一緒に移動するように構成されている。連結板41aには、複数の貫通孔35が形成されており、複数の真空容器15と連結板41aとは、その貫通孔35と、真空容器15の開口19とが連通するように配置されている。
Next, another holding device of the present invention will be described.
Figure 8 shows a second example holding device 11 2 of the present invention.
Unlike holding device 11 of the first example, the second example of the holding device 11 2, the connecting plate 41a is provided on the upper portion of the plurality of vacuum containers 15, by the connecting plate 41a, a plurality of vacuum containers 15 Configured to move together. The connecting plate 41a is formed with a plurality of through holes 35, and the plurality of vacuum vessels 15 and the connecting plate 41a are arranged so that the through holes 35 and the opening 19 of the vacuum vessel 15 communicate with each other. Yes.

この第二例では、貫通孔35と開口19は、同径にされ、貫通孔35の全周と開口19の全周とが重なり合うように配置されているが、少なくとも貫通孔35の一部の位置と、開口19の一部の位置とは、高さの相違を除いて重なり合っていて、粘着パッド17は、その重なり合った部分の内部又は下方に位置していればよい。   In this second example, the through-hole 35 and the opening 19 have the same diameter, and are arranged so that the entire circumference of the through-hole 35 and the entire circumference of the opening 19 overlap each other. The position and the position of a part of the opening 19 are overlapped except for the height difference, and the adhesive pad 17 may be positioned inside or below the overlapped part.

真空容器15の上端部は、連結板41aの表面よりも下方に位置する場合と、連結板41aの表面と同じ高さに位置する場合とがあり、保持装置112の表面は平坦であり、連結板41aの表面又は、連結板41aの表面と真空容器15の上部表面とで構成されている。 The upper end of the vacuum container 15, a case which is located below the surface of the connecting plate 41a, there is a case which is located flush with the surface of the connecting plate 41a, the holding device 11 the second surface is flat, The surface of the connecting plate 41 a or the surface of the connecting plate 41 a and the upper surface of the vacuum vessel 15 is configured.

保持装置112の表面には、少なくとも、開口19と貫通孔35の高さ方向を除いて重なり合った部分を取り囲むようにして、リング状の溝36が形成されており、溝36の内部には、開口19と貫通孔35の重なり合った部分を取り囲んで、柔軟性を有する円形の接触部18aが配置されている。 The holding device 11 second surface, at least, so as to surround the height direction excluding overlapping portions of the openings 19 and the through-hole 35, is formed with a ring-shaped groove 36, in the trench 36 A circular contact portion 18 a having flexibility is disposed so as to surround the overlapping portion of the opening 19 and the through hole 35.

連結板41aのうち、溝36の外部側にはピン挿通孔33が配置されており、ピン挿通孔33よりも下方の位置から、細棒状のピン32が上昇し、ピン32の上端が、接触部18aの上端よりも上方に突き出されると、ピン32の上端に、保持対象物5を配置できる状態になる。
図8の保持装置112はその状態である。
A pin insertion hole 33 is disposed on the outer side of the groove 36 in the connecting plate 41a, and the thin rod-like pin 32 rises from a position below the pin insertion hole 33, and the upper end of the pin 32 is in contact with the connection plate 41a. When protruding above the upper end of the portion 18a, the holding object 5 can be placed at the upper end of the pin 32.
Holding device 11 2 in FIG. 8 is that state.

接触部18aの上端は、保持装置112の表面よりも高い位置に配置されており、粘着パッド17を降下させておき、ピン32を降下させると、図9に示すように、保持対象物5は接触部18a上に乗せられる。 The upper end of the contact portion 18a is located higher than the holding device 11 and second surface, allowed to lower the adhesive pad 17, when lowering the pin 32, as shown in FIG. 9, the holding object 5 Is placed on the contact portion 18a.

接触部18a上の保持対象物5は、接触部18aと接触しており、裏面の一部は、粘着パッド17とは非接触の状態で、真空容器15の内部空間25内に露出する。内部空間25に露出する部分は、粘着パッド17の表面が接触できるようになっている。   The object 5 to be held on the contact portion 18a is in contact with the contact portion 18a, and a part of the back surface is exposed in the internal space 25 of the vacuum vessel 15 in a non-contact state with the adhesive pad 17. The portion exposed to the internal space 25 can be brought into contact with the surface of the adhesive pad 17.

このとき、外部空間26は大気圧の雰囲気にされており、第一例で説明したように、吸着用排気装置42によって各真空容器15の内部空間25の真空排気が開始されると、真空容器15の内部空間25は減圧され、外部空間26と内部空間25との圧力差により、保持対象物5が、真空容器15側に吸引されると、接触部18aが押圧され、厚みが小さくなる方向に変形する。   At this time, the external space 26 is in an atmosphere of atmospheric pressure, and when the evacuation of the internal space 25 of each vacuum vessel 15 is started by the adsorption exhaust device 42 as described in the first example, the vacuum vessel 15, the internal space 25 is depressurized, and when the holding object 5 is sucked toward the vacuum container 15 due to the pressure difference between the external space 26 and the internal space 25, the contact portion 18 a is pressed and the thickness decreases. Transforms into

接触部18aの柔軟性や厚さは、吸着用排気装置42の真空排気によって保持対象物5が押圧されると、接触部18aは、厚さが溝の深さ以下に変形可能な値に設定されており、図10に示すように、押圧されている保持対象物5は、保持装置112の表面にも接触する。 The flexibility and thickness of the contact portion 18a are set to values that allow the thickness of the contact portion 18a to be deformed below the depth of the groove when the object to be held 5 is pressed by the vacuum exhaust of the adsorption exhaust device 42. It is, as shown in FIG. 10, the holding object 5 that is pressed into contact to the holding device 11 second surface.

このとき、保持対象物5は、接触部18aと接触する部分の面積よりも、保持装置112の表面に接触する部分の方が大きくなり、保持対象物5が接触部18aとだけ接触する場合よりも、保持対象物5が変形しないようになっている。 At this time, the holding object 5, than the area of the portion in contact with the contact portion 18a, towards the portion contacting the holding apparatus 11 second surface is increased, when the holding object 5 in contact only with the contact portion 18a Rather, the holding object 5 is not deformed.

粘着パッド17の表面は、保持装置112の表面の高さ以上の高さに上昇できるようにされており、粘着パッド17の表面が、吸着保持された保持対象物5の裏面に接触して押圧されると、保持対象物5は、粘着パッド17に粘着保持される。 Surface of the adhesive pad 17 is to be raised to a height above the height of the holding device 11 and second surface, the surface of the adhesive pad 17 contacts the rear surface of the holding object 5 held suction When pressed, the object to be held 5 is adhesively held by the adhesive pad 17.

図11の符号113は、本発明の第三例の保持装置を示しており、この保持装置113の表面には溝が形成されておらず、保持装置113の表面上に柔軟性を有する接触部18bが配置されている。
保持対象物5を、接触部18bと接触させて接触部18b上に配置し、内部空間25を真空排気すると、保持対象物5は、真空吸着されて接触部18b上に保持される。
Reference numeral 11 3 of FIG. 11 shows a third example of a holding device of the present invention, not formed with grooves on the surface of the holding device 11 3, the flexibility on the surface of the holding device 11 3 The contact part 18b which has is arrange | positioned.
When the holding object 5 is placed on the contact part 18b in contact with the contact part 18b and the internal space 25 is evacuated, the holding object 5 is vacuum-sucked and held on the contact part 18b.

この第三例の保持装置113では連結板41bの構造が簡単で、低コストである。図13(a)、(b)は、それぞれ、保持対象物5が配置されていないときの、第二例の保持装置112の平面図と、第三例の保持装置113の平面図である。 In the holding device 11 3 of the third example, the structure of the connecting plate 41b is simple and the cost is low. Figure 13 (a), (b), respectively, when the holding object 5 is not disposed, a second example plan view of the holding device 11 2, in a plan view of the holding device 11 3 of the third embodiment is there.

次に、図12の符号114は、本発明の第四例の保持装置を示しており、図13(c)は、その平面図である。
この保持装置114は、第三例の保持装置113のリング状の接触部18bに替え、保持ユニット13の表面には密着シート39が接触部として配置されている。
Next, reference numeral 11 4 of FIG. 12 shows the holding device of the fourth example of the present invention, FIG. 13 (c) is a plan view thereof.
The holding device 11 4 is replaced with the ring-shaped contact portion 18b of the holding device 11 3 of the third example, and a contact sheet 39 is disposed on the surface of the holding unit 13 as a contact portion.

密着シート39には、開口19と貫通孔35の重なり合った部分の上方位置に、シート孔38が形成され、シート孔38と開口19と貫通孔35とはそれぞれ一部が重なり合い、粘着パッド17は、密着シート39の表面よりも低い位置と、密着シート39の表面以上の位置との間で移動できるようにされている。   A sheet hole 38 is formed in the contact sheet 39 above the portion where the opening 19 and the through hole 35 overlap. The sheet hole 38, the opening 19, and the through hole 35 partially overlap each other, and the adhesive pad 17 In addition, it can be moved between a position lower than the surface of the contact sheet 39 and a position higher than the surface of the contact sheet 39.

粘着パッド17の表面が、密着シート39の表面よりも低くなるように、粘着パッド17を降下させておき、密着シート39の表面に保持対象物5を配置すると、保持対象物5は密着シート39と接触し、保持対象物5の裏面の一部は、開口19と貫通孔35とシート孔38とを介して、内部空間25に露出されている。
保持対象物5の、内部空間25に露出する部分は、シート孔38を形成する、シート孔38周囲の密着シート39の環状の部分によって、取り囲まれ、内部空間25が閉塞するようにされている。
When the adhesive pad 17 is lowered so that the surface of the adhesive pad 17 is lower than the surface of the adhesive sheet 39 and the holding object 5 is disposed on the surface of the adhesive sheet 39, the holding object 5 becomes the adhesive sheet 39. A part of the back surface of the holding object 5 is exposed to the internal space 25 through the opening 19, the through hole 35, and the sheet hole 38.
A portion of the holding object 5 exposed to the internal space 25 is surrounded by an annular portion of the contact sheet 39 around the sheet hole 38 that forms the sheet hole 38 so that the internal space 25 is closed. .

上記各例と同じく、内部空間25の真空排気によって、保持対象物5は密着シート39に真空吸着され、粘着パッド17が上昇すると、粘着パッド17の表面が保持対象物5の裏面に接触し、保持対象物5は粘着パッド17に粘着保持される。   As in the above examples, the object to be held 5 is vacuum-adsorbed to the contact sheet 39 by evacuation of the internal space 25, and when the adhesive pad 17 rises, the surface of the adhesive pad 17 comes into contact with the back surface of the object to be retained 5, The holding object 5 is adhesively held on the adhesive pad 17.

なお、密着シート39には、ピン挿通孔33と連通する位置に、シート側ピン挿通孔34が形成されており、ピン32は、上端部が連結板41cの下方に位置する状態から、上方に移動されると、ピン挿通孔33とシート側ピン挿通孔34とを通って、上端部が、シート側ピン挿通孔34よりも上方位置に突き出せるように構成されている。   Note that a sheet side pin insertion hole 34 is formed in the contact sheet 39 at a position communicating with the pin insertion hole 33, and the pin 32 extends upward from a state where the upper end portion is positioned below the connecting plate 41 c. When moved, the upper end portion passes through the pin insertion hole 33 and the sheet side pin insertion hole 34 and is configured to protrude above the sheet side pin insertion hole 34.

以上第一〜第四例の保持装置111〜114では、一個の真空容器15には、一個の粘着パッド17が配置されて一個の保持ユニット13が形成されていたが、図14に示す第五例の保持装置115では、一個の真空容器65に、複数個の粘着パッド17が配置されて一個の保持ユニット13aが構成されている。 As described above, in the holding devices 11 1 to 11 4 of the first to fourth examples, one adhesive pad 17 is arranged in one vacuum vessel 15 and one holding unit 13 is formed. in the holding device 11 5 of the fifth embodiment, the one of the vacuum vessel 65, a plurality of adhesive pad 17 is one of the holding units 13a are disposed is formed.

この第五例の保持装置115では、真空容器65の縁上には、真空容器65の開口を取り囲むリング状の接触部18cが配置されている。
真空容器65の縁よりも内側の部分の粘着パッド17と粘着パッド17の間には、真空容器65の底面上に立設された複数の補助棒61が配置されている。
In the holding device 11 5 of the fifth embodiment, the upper edge of the vacuum vessel 65, a ring-shaped contact portion 18c which surrounds the opening of the vacuum container 65 is disposed.
A plurality of auxiliary bars 61 erected on the bottom surface of the vacuum vessel 65 are arranged between the adhesive pad 17 and the adhesive pad 17 in the inner part of the edge of the vacuum vessel 65.

補助棒61の側面は互いに離間しており、従って、各粘着パッド17が位置する雰囲気は互いに連通され、真空容器65の内部には、一個の内部空間25が形成されている。粘着パッド17はその内部空間25に配置されている。   The side surfaces of the auxiliary rods 61 are separated from each other. Therefore, the atmosphere in which the adhesive pads 17 are located communicates with each other, and one internal space 25 is formed inside the vacuum vessel 65. The adhesive pad 17 is disposed in the internal space 25.

真空容器65の内周よりも大きな一枚の保持対象物5を、真空容器65の縁と保持対象物5とで接触部18cを挟むようにして接触部18c上に載置すると、保持対象物5は、真空容器65に乗せられる。
真空容器65の壁面又は底面には、排気孔14が設けられており、内部空間25は、排気孔14と排気配管43とによって、真空槽21の外部に配置された吸着用排気装置42に接続されている。
When one holding object 5 larger than the inner periphery of the vacuum vessel 65 is placed on the contact portion 18c with the edge of the vacuum vessel 65 and the holding object 5 sandwiching the contact portion 18c, the holding object 5 is The vacuum vessel 65 is placed.
An exhaust hole 14 is provided on the wall surface or bottom surface of the vacuum vessel 65, and the internal space 25 is connected to an adsorption exhaust device 42 disposed outside the vacuum chamber 21 by the exhaust hole 14 and the exhaust pipe 43. Has been.

保持対象物5が、真空容器65の縁上で接触部18cと接触している状態で、真空容器65内が真空排気されると、保持対象物5は真空容器65に真空吸着され、接触部18cは保持対象物5によって押圧されて潰され、保持対象物5は下方に微少量移動する。   When the inside of the vacuum vessel 65 is evacuated while the holding object 5 is in contact with the contact portion 18c on the edge of the vacuum vessel 65, the holding object 5 is vacuum-sucked by the vacuum vessel 65, and the contact portion 18c is pressed and crushed by the holding object 5, and the holding object 5 moves a small amount downward.

このとき、真空容器65の縁よりも内側の位置では、保持対象物5の裏面は、補助棒61の先端と接触し、補助棒61によって支持されて撓まないようになっている。
粘着パッド17が保持対象物5の裏面に密着している状態では、真空吸着が停止されても、支持棒52と粘着パッド17とを介して、保持対象物5は粘着保持されるようになっている。
At this time, at the position inside the edge of the vacuum vessel 65, the back surface of the holding object 5 is in contact with the tip of the auxiliary rod 61 and is supported by the auxiliary rod 61 so as not to bend.
In a state where the adhesive pad 17 is in close contact with the back surface of the object 5 to be held, the object 5 to be held is adhesively held via the support bar 52 and the adhesive pad 17 even when the vacuum suction is stopped. ing.

剥離の際には、同じ保持対象物5に接触された粘着パッド17が回転しながら、又は直線的に降下する。
真空容器65の外周には、リング状の補助板41dが設けられており、保持対象物5の縁部分は、補助板41d上に位置している。補助板41dにはピン挿通孔33が設けられており、ピン挿通孔33の真下位置にはピン32が配置されており、ピン32の上下移動によって、ピン32の先端がピン挿通孔33内を上下移動できるようにされている。
At the time of peeling, the adhesive pad 17 in contact with the same holding object 5 is lowered or linearly lowered.
A ring-shaped auxiliary plate 41d is provided on the outer periphery of the vacuum vessel 65, and the edge portion of the holding object 5 is located on the auxiliary plate 41d. The auxiliary plate 41d is provided with a pin insertion hole 33, and a pin 32 is disposed immediately below the pin insertion hole 33. When the pin 32 moves up and down, the tip of the pin 32 passes through the pin insertion hole 33. It can be moved up and down.

粘着パッド17が保持対象物5から離間された後、ピン32が上昇すると、保持対象物5をピン32上に乗せることができる。また、保持対象物5が乗せられたピン32を降下させると、保持対象物5を、真空容器65の縁上に配置することができる。   After the adhesive pad 17 is separated from the holding object 5, when the pin 32 rises, the holding object 5 can be placed on the pin 32. Further, when the pin 32 on which the holding object 5 is placed is lowered, the holding object 5 can be disposed on the edge of the vacuum vessel 65.

なお、粘着パッド17の材質と構成と動作とは第四例の保持装置114と同じであり、移動装置が粘着パッド17を移動させる方向である移動方向は、保持装置115の表面のうち、保持対象物5と接触する部分が位置する接触平面に対して垂直な方向の移動成分を有するようにされている。 Note that the operation and the material and configuration of the adhesive pad 17 is the same as the holding device 11 4 of the fourth embodiment, the moving direction moving device is a direction of moving the adhesive pad 17, of the holding device 11 5 surface The moving object has a moving component in a direction perpendicular to the contact plane where the portion in contact with the holding object 5 is located.

また、第五例の保持装置115のリング状の接触部18cを密着シート39に替えることもできる。 It is also possible to replace the fifth example ring-shaped contact portion 18c of the holding device 11 5 of the contact sheet 39.

5……保持対象物
10……真空処理装置
11、11a、11b、11c……保持装置
13、13a……保持ユニット
14……排気孔
15、65……真空容器
17……粘着パッド
18、18a、18b、18c……接触部
19……開口
21……真空槽
25……内部空間
26……外部空間
38……シート孔
39……密着シート(接触部)
40……着脱装置
59……回転機構

5 ... Holding object 10 ... Vacuum processing apparatus 11, 11a, 11b, 11c ... Holding apparatus 13, 13a ... Holding unit 14 ... Exhaust hole 15, 65 ... Vacuum container 17 ... Adhesive pads 18, 18a , 18b, 18c …… Contact portion 19 …… Open 21 …… Vacuum chamber 25 …… Internal space 26 …… External space 38 …… Sheet hole 39 …… Close contact sheet (contact portion)
40 …… Removal device 59 …… Rotation mechanism

Claims (13)

保持ユニットに設けられた粘着パッドを保持対象物に接触させ、前記粘着パッドによって前記保持対象物を粘着保持して搬送するために用いられる保持装置であって、
前記保持ユニットは、
真空容器と、
前記真空容器の縁に配置され、前記保持対象物と接触して、前記真空容器の内部空間を、前記真空容器の外部空間から遮断させる接触部と、
前記真空容器に設けられ、前記保持対象物と前記接触部とで前記外部空間から遮断された前記内部空間の気体が吸着用排気装置によって真空排気される通路となる排気孔と、
前記粘着パッドを移動させる移動装置と、
を有し、
前記粘着パッドは前記内部空間に配置され、
前記移動装置が前記粘着パッドを移動させる方向である移動方向は、前記接触部の表面のうち、前記保持対象物と接触する部分が位置する接触平面に対して垂直な方向の移動成分を有するようにされた保持装置。
A holding device used for bringing an adhesive pad provided in a holding unit into contact with an object to be held, and holding and conveying the object to be held by the adhesive pad,
The holding unit is
A vacuum vessel;
A contact portion that is disposed at an edge of the vacuum vessel and contacts the object to be held to block the internal space of the vacuum vessel from the external space of the vacuum vessel;
An exhaust hole which is provided in the vacuum container and serves as a passage through which the gas in the internal space blocked from the external space by the holding object and the contact portion is evacuated by an adsorption exhaust device;
A moving device for moving the adhesive pad;
Have
The adhesive pad is disposed in the internal space,
The moving direction, which is a direction in which the moving device moves the adhesive pad, has a moving component in a direction perpendicular to a contact plane where a portion of the surface of the contact portion that contacts the holding object is located. Holding device.
複数の前記真空容器と、
各前記真空容器に配置された前記粘着パッドと、を有し、
複数の前記粘着パッドと、複数の前記真空容器の縁に配置された前記接触部とは、同一の前記保持対象物と接触するようにされた請求項1記載の保持装置。
A plurality of said vacuum vessels;
The adhesive pad disposed in each of the vacuum containers,
The holding device according to claim 1, wherein the plurality of adhesive pads and the contact portions arranged on edges of the plurality of vacuum vessels are in contact with the same holding object.
同じ前記真空容器の前記内部空間に配置された複数の前記粘着パッドを有し、
複数の前記粘着パッドと、前記真空容器の縁に配置された前記接触部とは、同一の前記保持対象物と接触するようにされた請求項1記載の保持装置。
A plurality of the adhesive pads disposed in the internal space of the same vacuum vessel;
The holding device according to claim 1, wherein the plurality of adhesive pads and the contact portion disposed on an edge of the vacuum vessel are in contact with the same holding object.
前記接触部は、柔軟性を有する環状の部材が用いられた請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の保持装置。   The holding device according to any one of claims 1 to 3, wherein an annular member having flexibility is used for the contact portion. 前記接触部は、前記保持装置の平坦な表面上に配置された請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の保持装置。   The holding device according to any one of claims 1 to 3, wherein the contact portion is disposed on a flat surface of the holding device. 前記保持装置の表面には溝が設けられ、前記接触部は、前記溝内に設けられた請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の保持装置。   The holding device according to any one of claims 1 to 3, wherein a groove is provided on a surface of the holding device, and the contact portion is provided in the groove. 前記接触部は、前記真空容器上に配置され、貫通孔であるシート孔が前記真空容器の開口上に形成された密着シートで構成された請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の保持装置。   The said contact part is arrange | positioned on the said vacuum vessel, The sheet | seat hole which is a through-hole was comprised by the contact | adherence sheet | seat formed on the opening of the said vacuum vessel. Holding device. 前記粘着パッドを、前記真空容器に対して前記接触部から遠ざかる方向に、回転しながら移動させる回転機構を有する請求項1乃至請求項7のいずれか1項記載の保持装置。   The holding device according to any one of claims 1 to 7, further comprising: a rotation mechanism that moves the adhesive pad while rotating in a direction away from the contact portion with respect to the vacuum container. 前記保持装置を前記吸着用排気装置に接続させる着脱装置を有する保持装置であって、
前記着脱装置は、前記保持装置を前記吸着用排気装置から分離させて、前記保持装置を前記吸着用排気装置とは別個に移動できるようにされた請求項1乃至請求項8のいずれか1項記載の保持装置。
A holding device having a detachable device for connecting the holding device to the adsorption exhaust device,
9. The attachment / detachment device according to any one of claims 1 to 8, wherein the attachment / detachment device is configured to separate the holding device from the adsorption exhaust device and to move the holding device separately from the adsorption exhaust device. The holding device as described.
前記真空容器は、前記吸着用排気装置から分離されると、前記排気孔を通って前記真空容器内に気体が流入しないようにされた請求項9記載の保持装置。   The holding device according to claim 9, wherein when the vacuum vessel is separated from the adsorption exhaust device, gas does not flow into the vacuum vessel through the exhaust hole. 前記保持対象物に接着された前記粘着パッドは弾性力を有する緩衝部材によって、前記保持対象物から離間する方向に力が加えられる請求項1乃至請求項10のいずれか1項記載の保持装置。   11. The holding device according to claim 1, wherein a force is applied to the adhesive pad bonded to the holding object in a direction away from the holding object by a buffer member having an elastic force. 請求項1乃至請求項11のいずれか1項記載の保持装置と、
前記保持装置が配置された真空槽と、
前記真空槽内に配置され、前記粘着パッドに粘着保持され、処理表面が下向きにされた前記保持対象物の前記処理表面を真空雰囲気中で処理する処理部とを有する真空処理装置。
A holding device according to any one of claims 1 to 11,
A vacuum chamber in which the holding device is disposed;
A vacuum processing apparatus comprising: a processing unit that is disposed in the vacuum chamber, is adhesively held by the adhesive pad, and that processes the processing surface of the holding object whose processing surface faces downward in a vacuum atmosphere.
前記処理部は、薄膜を形成する微粒子を放出し、前記保持対象物表面に薄膜を形成する成膜装置である請求項12記載の真空処理装置。
The vacuum processing apparatus according to claim 12, wherein the processing unit is a film forming apparatus that releases fine particles forming a thin film and forms a thin film on the surface of the object to be held.
JP2015083674A 2014-04-23 2015-04-15 Holding device, vacuum processing device Active JP6419635B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015083674A JP6419635B2 (en) 2014-04-23 2015-04-15 Holding device, vacuum processing device

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014089564 2014-04-23
JP2014089564 2014-04-23
JP2015083674A JP6419635B2 (en) 2014-04-23 2015-04-15 Holding device, vacuum processing device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015216364A JP2015216364A (en) 2015-12-03
JP6419635B2 true JP6419635B2 (en) 2018-11-07

Family

ID=54373312

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015083674A Active JP6419635B2 (en) 2014-04-23 2015-04-15 Holding device, vacuum processing device

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6419635B2 (en)
CN (1) CN105000384B (en)
TW (1) TWI602764B (en)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108884561B (en) * 2016-11-02 2019-08-06 株式会社爱发科 Vacuum treatment installation
JP6810584B2 (en) * 2016-11-30 2021-01-06 タツモ株式会社 Laminating device
CN106737803B (en) * 2017-02-15 2018-12-25 泉州市墨语贸易有限公司 Structure improved sucker on a kind of robot sticking fixture
WO2019098142A1 (en) * 2017-11-17 2019-05-23 浜松ホトニクス株式会社 Suction method
JP7057337B2 (en) * 2019-10-29 2022-04-19 キヤノントッキ株式会社 Board peeling device, board processing device, and board peeling method
JP7057336B2 (en) * 2019-10-29 2022-04-19 キヤノントッキ株式会社 Substrate holding member, substrate holding device, substrate processing device, substrate holding method, film forming method, and manufacturing method of electronic device
JP7057335B2 (en) * 2019-10-29 2022-04-19 キヤノントッキ株式会社 Substrate holding device, substrate processing device, substrate holding method, film forming method, and manufacturing method of electronic device
JP7057334B2 (en) * 2019-10-29 2022-04-19 キヤノントッキ株式会社 Manufacturing method of board holding unit, board holding member, board holding device, board processing device and electronic device

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3773866B2 (en) * 2002-03-14 2006-05-10 株式会社 日立インダストリイズ Substrate assembly method and apparatus
KR100869088B1 (en) * 2004-04-09 2008-11-18 신에츠 엔지니어링 가부시키가이샤 Adhesive chuck device
KR20070009523A (en) * 2004-05-07 2007-01-18 신에츠 엔지니어링 가부시키가이샤 Work neutralizing method and apparatus thereof
KR100895468B1 (en) * 2004-10-28 2009-05-06 신에츠 엔지니어링 가부시키가이샤 Adhesive chuck device
JP4671817B2 (en) * 2005-09-08 2011-04-20 信越ポリマー株式会社 Parts holder
JP2007281053A (en) * 2006-04-04 2007-10-25 Miraial Kk Thin plate housing container
JP4662284B2 (en) * 2006-09-21 2011-03-30 信越ポリマー株式会社 Holding jig
WO2008093408A1 (en) * 2007-01-31 2008-08-07 Shin-Etsu Engineering Co., Ltd. Adhesive chuck device
JP4746579B2 (en) * 2007-03-29 2011-08-10 シャープ株式会社 Low load conveyor
KR101066603B1 (en) * 2009-01-20 2011-09-22 에이피시스템 주식회사 Substrate holder unit and subtrate assembling appartus having the same
JP5337620B2 (en) * 2009-08-05 2013-11-06 信越エンジニアリング株式会社 Workpiece adhesive holding device and vacuum bonding machine
KR101488668B1 (en) * 2009-12-28 2015-02-02 울박, 인크 Film forming device and film forming method
JP4785995B1 (en) * 2011-02-28 2011-10-05 信越エンジニアリング株式会社 Workpiece adhesive chuck device and workpiece bonding machine
KR101583167B1 (en) * 2011-09-05 2016-01-07 가부시끼가이샤 도시바 Reticle chuck cleaner and reticle chuck cleaning method

Also Published As

Publication number Publication date
TWI602764B (en) 2017-10-21
CN105000384B (en) 2019-01-08
TW201619029A (en) 2016-06-01
JP2015216364A (en) 2015-12-03
CN105000384A (en) 2015-10-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6419635B2 (en) Holding device, vacuum processing device
KR101898355B1 (en) Suction stage, bonding device, and method for manufacturing bonded substrate
WO2005098522A1 (en) Adhesive chuck device
JP2009238881A (en) Method and apparatus for peeling electronic component
TW201434105A (en) Bonding apparatus and bonding process method
JP4012887B2 (en) Flat board holder
JP4797027B2 (en) Substrate body sticking apparatus and substrate body handling method
JP4221271B2 (en) Tape applicator
JP5337620B2 (en) Workpiece adhesive holding device and vacuum bonding machine
KR20130051686A (en) Substrate attaching/detaching apparatus
JP2012247507A (en) Substrate bonding device
JP2015187648A (en) Bonding method and bonding device
JP6126938B2 (en) Sheet sticking device and sheet sticking method
KR20120084883A (en) A substrate holder attaching and detaching device
JP4642350B2 (en) Substrate laminating apparatus and laminating method
KR101362298B1 (en) Apparatus and method of bonding substrates using jig-type flexible pad
KR101288864B1 (en) Substrate bonding apparatus
JP2008122555A (en) Optical film sticking method and device, and manufacturing method of display panel
JP2010165883A (en) Carrying device for semiconductor wafer, and carrying method therefor
JP6226768B2 (en) Substrate adsorption / detachment mechanism and vacuum apparatus
KR101384695B1 (en) Apparatus and method of bonding substrates using flexible film
JP2023081084A (en) Holding mechanism and sticking device
KR101552676B1 (en) Method and apparatus for bonding substrates
KR20150083682A (en) Suction apparatus for transfering
WO2017110356A1 (en) Manufacturing method and manufacturing device for glass film laminate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180123

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180925

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180920

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20181010

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6419635

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250