JP6352631B2 - 積層セラミックコンデンサの製造方法 - Google Patents
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- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 title claims description 55
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 29
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 32
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 27
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical group [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 15
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 15
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 12
- PEVJCYPAFCUXEZ-UHFFFAOYSA-J dicopper;phosphonato phosphate Chemical compound [Cu+2].[Cu+2].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O PEVJCYPAFCUXEZ-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 9
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 9
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
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- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
Description
本発明に係る製造方法で実施品1を製造し、その実施品1が従来の製造方法で製造した比較品1,2に比べて短絡不良を起こし難くなっているか否かの評価試験を行った。
(1)前記実施形態で説明した製造方法の途中までと同様に、ピロリン酸銅とピロリン酸カリウムとの水溶液を使用して電極に銅めっきを施した後、水洗浄を行い、乾燥させた積層セラミックコンデンサ(具体的には、村田製作所製の型番LLU1USR60G224Mのコンデンサ。以下、「現行コンデンサ」という)を3,600個用意した。なお、現行コンデンサの表面積は1,200個で約20[cm2]、縦横高さの寸法は、600[μm]×1000[μm]×165[μm]になっている。
1,200個の実施品1を、80[℃]の純水10[ml]に1時間浸け置きした後(具体的には、IPC規格のIPC−TM−650 2.3.28に準じて漬け置きした後)、その純水10[ml]に含まれるカリウムの濃度を「カリウム残渣」として測定した。これと同じ条件で、1,200個の比較品1を1時間浸け置きした純水10[ml]のカリウム残渣と、1,200個の比較品2を1時間浸け置きした純水10[ml]のカリウム残渣とを測定した。また、各カリウム残渣の測定は、検出限界0.05[ppm]のICP−AES(誘導結合プラズマ発光分光分析装置)で行った。
上記表1のように、本発明の実施品1は、検出限界0.05[ppm]のICP−AESでは測定不能なレベルまでカリウム残渣を除去することができ、現行の積層セラミックコンデンサである比較品1に比べてカリウム残渣を大幅に減らすことができた。このことから、本発明によれば、カリウム残渣を原因としたマイグレーションが生じ難い積層セラミックコンデンサの製造が可能であることを確認することができた。即ち、本発明によれば、短絡不良の原因になり難い積層セラミックコンデンサの製造が可能になることを確認することができた。
本発明は、前記実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下に説明するような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれ、さらに、下記以外にも要旨を逸脱しない範囲内で種々変更して実施することができる。
11 角柱形ボディ
12 電極
13 下地めっき層
14 銅めっき層
Claims (2)
- メッシュ構造の回転バレルに積層セラミックコンデンサを複数収容することと、
前記回転バレルをピロリン酸銅とピロリン酸カリウムとの水溶液に沈め、前記積層セラミックコンデンサの電極に銅めっきを行うことと、
前記回転バレルを硫酸を含む洗浄液に沈め、前記積層セラミックコンデンサに付着しているカリウムの残渣を酸洗浄にて除去することとを有する積層セラミックコンデンサの製造方法。 - 前記積層セラミックコンデンサの前記電極同士の間隔が、200[μm]以下である請求項1に記載の積層セラミックコンデンサの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013266240A JP6352631B2 (ja) | 2013-12-25 | 2013-12-25 | 積層セラミックコンデンサの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013266240A JP6352631B2 (ja) | 2013-12-25 | 2013-12-25 | 積層セラミックコンデンサの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015122451A JP2015122451A (ja) | 2015-07-02 |
JP6352631B2 true JP6352631B2 (ja) | 2018-07-04 |
Family
ID=53533819
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013266240A Active JP6352631B2 (ja) | 2013-12-25 | 2013-12-25 | 積層セラミックコンデンサの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6352631B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01309997A (ja) * | 1988-06-09 | 1989-12-14 | Kanto Kasei Kogyo Kk | 耐食性に優れた銅−ニッケル−クロム光沢電気めっき方法およびそれにより得られためっき皮膜 |
JP2946868B2 (ja) * | 1991-10-04 | 1999-09-06 | 松下電器産業株式会社 | 積層セラミックコンデンサの製造方法 |
US6284122B1 (en) * | 1998-06-09 | 2001-09-04 | International Lead Zinc Research Organization, Inc. | Production of a zinc-aluminum alloy coating by immersion into molten metal baths |
JP2008243717A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 非水電解液二次電池及びその製造方法 |
JP2011129568A (ja) * | 2009-12-15 | 2011-06-30 | Tdk Corp | 電子部品の製造方法及び電子部品 |
-
2013
- 2013-12-25 JP JP2013266240A patent/JP6352631B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015122451A (ja) | 2015-07-02 |
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