JP6321265B2 - マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
(構成1)
透光性基板上に位相シフト膜を備えたマスクブランクであって、
位相シフト膜は、ArFエキシマレーザーの露光光を所定の透過率で透過させる機能と、位相シフト膜を透過した露光光に対して位相シフト膜の厚さと同じ距離だけ空気中を通過した露光光との間で所定の位相差を生じさせる機能とを有し、
位相シフト膜は、低透過層と高透過層の積層構造の組み合わせを1組以上有し、
低透過層及び前記高透過層は、ケイ素及び窒素からなる材料、又は該材料に半金属元素、非金属元素及び希ガスから選ばれる1以上の元素を含有する材料で形成され、
位相シフト膜は、透光性基板と接する位置に最下層を有し、
最下層は、ケイ素及び窒素を含有し、金属及び酸素を実質的に含有しない材料であり、かつケイ素及び窒素の合計含有量に対する窒素の含有量の比率が50%以上である材料で形成されていることを特徴とするマスクブランク。
透光性基板上に位相シフト膜を備えたマスクブランクであって、
位相シフト膜は、ArFエキシマレーザーの露光光を所定の透過率で透過させる機能と、位相シフト膜を透過した露光光に対して位相シフト膜の厚さと同じ距離だけ空気中を通過した露光光との間で所定の位相差を生じさせる機能とを有し、
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低透過層及び前記高透過層は、ケイ素及び窒素からなる材料、又は該材料に半金属元素、非金属元素及び希ガスから選ばれる1以上の元素を含有する材料で形成され、
位相シフト膜は、前記透光性基板と接する位置に最下層を有し、
最下層は、金属及びケイ素を含有する材料で形成されていることを特徴とするマスクブランク。
最下層は、酸素を実質的に含有しない材料で形成されていることを特徴とする構成2記載のマスクブランク。
(構成4)
最下層は、金属及びケイ素の合計含有量に対する金属の含有量の比率が5%以上であることを特徴とする構成2又は3に記載のマスクブランク。
最下層は、金属及びケイ素の合計含有量に対する金属の含有量の比率が15%以下であることを特徴とする構成2から4のいずれかに記載のマスクブランク。
(構成6)
最下層は、金属、ケイ素及び窒素からなる材料で形成されていることを特徴とする構成2から5のいずれかに記載のマスクブランク。
最下層は、厚さが2nm以上であることを特徴とする構成1から6のいずれかに記載のマスクブランク。
(構成8)
低透過層は、高透過層に比べて窒素含有量が相対的に少ないことを特徴とする構成1から7のいずれかに記載のマスクブランク。
低透過層及び前記高透過層は、同じ構成元素からなることを特徴とする構成1から8のいずれかに記載のマスクブランク。
(構成10)
高透過層は、ケイ素及び窒素の合計含有量に対する窒素の含有量の比率が50%以上であることを特徴とする構成1から9のいずれかに記載のマスクブランク。
低透過層及び高透過層は、ケイ素及び窒素からなる材料で形成されていることを特徴とする構成1から10のいずれかに記載のマスクブランク。
(構成12)
位相シフト膜は、高透過層と低透過層との積層構造の組み合わせを2組以上有することを特徴とする構成1から11のいずれかに記載のマスクブランク。
位相シフト膜は、透光性基板から最も離れた位置に、ケイ素及び酸素からなる材料、ケイ素、窒素及び酸素からなる材料、又はこれらの材料に半金属元素、非金属元素及び希ガスから選ばれる1以上の元素を含有する材料のいずれかで形成された最上層を有することを特徴とする構成1から12のいずれかに記載のマスクブランク。
(構成14)
構成1から13のいずれかに記載のマスクブランクの位相シフト膜に転写パターンが形成されていることを特徴とする位相シフトマスク。
構成1から13のいずれかに記載のマスクブランクの位相シフト膜に対してドライエッチングを行って転写パターンを形成する工程と、
転写パターンが形成された位相シフト膜に対してマスク欠陥検査を行う工程と、
マスク欠陥検査によって検出された位相シフト膜の黒欠陥部に対し、フッ素を含有する物質を供給し、かつ荷電粒子を照射することによるエッチングを行うことで黒欠陥部を修正する工程とを備えることを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。
構成14記載の位相シフトマスクを用い、半導体基板上のレジスト膜に転写パターンを露光転写する工程を備えることを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
(構成17)
構成15記載の位相シフトマスクの製造方法により製造された位相シフトマスクを用い、半導体基板上のレジスト膜に転写パターンを露光転写する工程を備えることを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
本発明者らは、マスクブランクの位相シフト膜を形成する材料にSiNxを適用した場合における好適な構成について鋭意研究を行った。一般に、位相シフト膜は、ArF露光光を所定の透過率(例えば、1%〜30%)で透過し、かつ位相シフト膜を透過するArF露光光に対し、その位相シフト膜の厚さと同じ距離だけ空気中を通過した光との間で所定の位相差(例えば、150度〜190度)を生じさせる機能を有する必要がある。
近年、黒欠陥を修正するときにEB欠陥修正を適用することが多くなってきている。ケイ素系材料膜の低透過層と高透過層を積層した構造を有する位相シフト膜の黒欠陥に対し、EB欠陥修正で修正を行う場合、位相シフト膜と透光性基板との境界を検出するためのエッチング終点の検出が、MoSiNからなる単層構造の位相シフト膜に比べて難しいということが新たに判明した。
(実施例1)
[マスクブランクの製造]
主表面の寸法が約152mm×約152mmで、厚さが約6.35mmの合成石英ガラスからなる透光性基板1を準備した。この透光性基板1は、端面及び主表面が所定の表面粗さに研磨され、その後、所定の洗浄処理及び乾燥処理を施されたものであった。
次に、この実施例1のマスクブランク100を用い、以下の手順で実施例1の位相シフトマスク200を作製した。最初に、ハードマスク膜4の表面にHMDS処理を施した。続いて、スピン塗布法によって、ハードマスク膜4の表面に接して、電子線描画用化学増幅型レジストからなるレジスト膜を膜厚80nmで形成した。次に、このレジスト膜に対して、位相シフト膜に形成すべき位相シフトパターンである第1のパターンを電子線描画し、所定の現像処理及び洗浄処理を行い、第1のパターンを有する第1のレジストパターン5aを形成した(図2(a)参照)。なお、このとき、電子線描画した第1のパターンには、位相シフト膜2に黒欠陥が形成されるように、本来形成されるべき位相シフトパターンのほかにプログラム欠陥を加えておいた。
[マスクブランクの製造]
この実施例2のマスクブランクは、最下層24を形成する工程以外は実施例1のマスクブランクと同様の手順で製造された。この実施例2の最下層24は、以下の手順によって形成された。
次に、この実施例2のマスクブランク100を用い、実施例1と同様の手順で、実施例2の位相シフトマスク200を作製した。作製した実施例2のハーフトーン型の位相シフトマスク200に対してマスク検査装置によってマスクパターンの検査を行ったところ、プログラム欠陥を配置していた箇所の位相シフトパターン2aに黒欠陥の存在が確認された。その黒欠陥部分に対してEB欠陥修正を行ったところ、エッチング終点を容易に検出することができ、透光性基板1の表面へのエッチングを最小限にとどめることができた。
[マスクブランクの製造]
次に、この比較例1のマスクブランクを用い、実施例1と同様の手順で、比較例1の位相シフトマスクを作製した。作製した参考例1のハーフトーン型の位相シフトマスクに対してマスク検査装置によってマスクパターンの検査を行ったところ、プログラム欠陥を配置していた箇所の位相シフトパターンに黒欠陥の存在が確認された。その黒欠陥部分に対してEB欠陥修正を行ったところ、エッチング終点を検出することが難しく、透光性基板の表面からエッチングが進んでしまった。
[マスクブランクの製造]
実施例1の場合と同様の手順で、主表面の寸法が約152mm×約152mmで、厚さが約6.35mmの合成石英ガラスからなる透光性基板を準備した。次に、枚葉式DCスパッタ装置内に透光性基板を設置し、モリブデン(Mo)とケイ素(Si)との混合焼結ターゲット(Mo:Si=12原子%:88原子%)を用い、アルゴン(Ar)、窒素(N2)及びヘリウム(He)の混合ガス(流量比 Ar:N2:He=8:72:100,圧力=0.2Pa)をスパッタリングガスとし、反応性スパッタリング(DCスパッタリング)により、透光性基板1上に、モリブデン、ケイ素及び窒素からなる位相シフト膜を69nmの厚さで形成した。
次に、この比較例2のマスクブランクを用い、実施例1と同様の手順で、比較例2の位相シフトマスクを作製した。作製した比較例2のハーフトーン型の位相シフトマスクに対してマスク検査装置によってマスクパターンの検査を行ったところ、プログラム欠陥を配置していた箇所の位相シフトパターンに黒欠陥の存在が確認された。その黒欠陥部分に対してEB欠陥修正を行ったところ、エッチング終点を容易に検出することができ、透光性基板の表面へのエッチングを最小限にとどめることができた。
2 位相シフト膜
21 低透過層
22 高透過層
23 最上層
24 最下層
2a 位相シフトパターン
3 遮光膜
3a,3b 遮光パターン
4 ハードマスク膜
4a ハードマスクパターン
5a 第1のレジストパターン
6b 第2のレジストパターン
100 マスクブランク
200 位相シフトマスク
Claims (14)
- 透光性基板上に位相シフト膜を備えたマスクブランクであって、
前記位相シフト膜は、ArFエキシマレーザーの露光光を所定の透過率で透過させる機能と、前記位相シフト膜を透過した前記露光光に対して前記位相シフト膜の厚さと同じ距離だけ空気中を通過した前記露光光との間で所定の位相差を生じさせる機能とを有し、
前記位相シフト膜は、第1の層と第2の層との積層構造の組み合わせを1組以上有し、
前記第1の層及び前記第2の層は、ケイ素及び窒素からなる材料、又は該材料に半金属元素、非金属元素及び希ガスから選ばれる1以上の元素を含有する材料で形成され、
前記第1の層は、ケイ素及び窒素の合計含有量[原子%]に対する窒素の含有量[原子%]の比率が48%以下であり、
前記第2の層は、ケイ素及び窒素の合計含有量[原子%]に対する窒素の含有量[原子%]の比率が50%以上であり、
前記位相シフト膜は、前記透光性基板と接する位置に最下層を有し、
前記最下層は、ケイ素及び窒素を含有し、金属及び酸素を実質的に含有しない材料であり、かつケイ素及び窒素の合計含有量[原子%]に対する窒素の含有量[原子%]の比率が50%以上である材料で形成されていることを特徴とするマスクブランク。 - 前記最下層は、ケイ素及び窒素からなる材料で形成されていることを特徴とする請求項1記載のマスクブランク。
- 前記最下層は、厚さが2nm以上であることを特徴とする請求項1または2に記載のマスクブランク。
- 前記第1の層及び前記第2の層は、同じ構成元素からなることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記第1の層及び前記第2の層は、酸素の含有量が10原子%以下であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記第1の層及び前記第2の層は、ケイ素及び窒素からなる材料で形成されていることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記第1の層は、消衰係数kが1.0以上である材料で形成され、前記第2の層は、消衰係数が1.0未満である材料で形成されていることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記第1の層は、屈折率nが2.5未満である材料で形成され、前記第2の層は、屈折率nが2.5以上である材料で形成されていることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記位相シフト膜は、前記第1の層と前記第2の層との積層構造の組み合わせを2組以上有することを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記位相シフト膜は、前記透光性基板から最も離れた位置に、ケイ素及び酸素からなる材料、ケイ素、窒素及び酸素からなる材料、又はこれらの材料に半金属元素、非金属元素及び希ガスから選ばれる1以上の元素を含有する材料のいずれかで形成された最上層を有することを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載のマスクブランク。
- 請求項1から10のいずれかに記載のマスクブランクの前記位相シフト膜に転写パターンが形成されていることを特徴とする位相シフトマスク。
- 請求項1から10のいずれかに記載のマスクブランクの前記位相シフト膜に対してドライエッチングを行って転写パターンを形成する工程と、
前記転写パターンが形成された前記位相シフト膜に対してマスク欠陥検査を行う工程と、
前記マスク欠陥検査によって検出された前記位相シフト膜の黒欠陥部に対し、フッ素を含有する物質を供給し、かつ荷電粒子を照射することによるエッチングを行うことで黒欠陥部を修正する工程とを備えることを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。 - 請求項11記載の位相シフトマスクを用い、半導体基板上のレジスト膜に転写パターンを露光転写する工程を備えることを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
- 請求項12記載の位相シフトマスクの製造方法により製造された位相シフトマスクを用い、半導体基板上のレジスト膜に転写パターンを露光転写する工程を備えることを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
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