JP6305884B2 - Film laminating apparatus and operation method thereof - Google Patents
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Description
本発明は、フィルムのラミネート装置に関し、特に、プリント基板の基板表面にパターン形成用の感光性ドライフィルム等の積層フィルムを貼り付けるためのフィルムのラミネート装置及びその動作方法に関するものである。 The present invention relates to a film laminating apparatus, and more particularly to a film laminating apparatus for affixing a laminated film such as a photosensitive dry film for pattern formation on a substrate surface of a printed circuit board and an operation method thereof .
プリント基板は、モバイル機器や携帯電話等を中心に技術革新が進んでいる状況下にあり、特に、基板の小型・軽量化が重要課題になっている。
基板の小型化に対しては、基板に形成するパターンの微細化と基板の多層化とが進められ、軽量化は基板の薄型化が進められている。
ここでパターンの形成は、主にフォトリソグラフィ工程と呼ばれるもので、銅張積層板に感光性ドライフィルム等の積層フィルムをラミネートし、その後に、露光、現像、エッチング又はメッキ処理を行い、パターンを形成するものである。
Printed circuit boards are in a state of technological innovation centering on mobile devices, mobile phones, and the like, and in particular, miniaturization and weight reduction of boards have become important issues.
To reduce the size of the substrate, the pattern to be formed on the substrate is miniaturized and the substrate is multilayered. To reduce the weight, the substrate is made thinner.
Here, the pattern formation is mainly called a photolithography process, and a laminated film such as a photosensitive dry film is laminated on a copper-clad laminate, followed by exposure, development, etching or plating treatment to form a pattern. To form.
感光性ドライフィルム等は、主に3層構造の積層フィルムで構成され、ポリエステルフィルム等からなるベースフィルム上に感光性・熱硬化性を有するレジスト層が塗布され、その上にポリエチレンフィルム等からなる保護フィルムを積層した3層で構成される。
以下、感光性ドライフィルム等を積層フィルムと称する。
A photosensitive dry film or the like is mainly composed of a laminated film having a three-layer structure, and a photosensitive and thermosetting resist layer is applied on a base film made of a polyester film and the like, and a polyethylene film or the like is formed thereon. Consists of three layers laminated with protective films.
Hereinafter, the photosensitive dry film or the like is referred to as a laminated film.
プリント基板製造のフィルムのラミネート工程では、積層フィルムの保護フィルムを剥して、熱圧着ロールであるラミネーションロールで、ベースフィルム上からレジスト層を加熱、加圧して、銅張積層板に積層フィルムを熱圧着するものである。 In the process of laminating films for printed circuit board production, the protective film of the laminated film is peeled off, and the resist layer is heated and pressed from the base film with a lamination roll, which is a thermocompression-bonding roll, to heat the laminated film on the copper-clad laminate. It is to be crimped.
プリント基板のパターン微細化を行う上で、ラミネート工程で課題となっているのは、積層フィルムを基板に貼り付ける際に、ベースフィルムを吸着搬送又はベースフィルムを吸着保持しながらフィルムを滑らして移動する工程で、フィルムを吸着する吸着板に加工された吸着穴の面取り部等のエッジで、吸着面側のベースフィルムに微細傷を発生させる問題がある。
このベースフィルムの微細傷は、露光時に紫外線の散乱等で照度を低下させ、レジスト硬化不足により基板とレジストの密着不良が発生する。このレジスト密着不良は、後のエッチング工程で、銅を溶かしてパターンを形成するエッチング液が密着不良部分に侵入し、パターンを削る不良又はパターンを断線する不良が発生する。
また、レジストを隔壁とし、銅メッキを立ち上げることでパターンを形成する方法では、パターン間のレジスト密着不良により隔壁下部が欠損し、銅メッキ液が隔壁間に侵入し、パターン間が短絡状態となる不良が発生する。
The problem in the laminating process when miniaturizing the pattern of a printed circuit board is that when the laminated film is attached to the board, the base film is sucked and transported or the base film is sucked and held while the film is slid and moved In this process, there is a problem that fine scratches are generated on the base film on the suction surface side at the edge of the suction hole chamfered portion processed into the suction plate that sucks the film.
The fine scratches on the base film lower the illuminance due to scattering of ultraviolet rays or the like during exposure, and poor adhesion between the substrate and the resist occurs due to insufficient curing of the resist. In the resist adhesion failure, an etching solution that forms a pattern by dissolving copper invades into the adhesion failure portion in a later etching step, and a defect that cuts the pattern or a failure that breaks the pattern occurs.
Also, in the method of forming a pattern by using a resist as a partition and starting copper plating, the lower part of the partition is lost due to poor resist adhesion between patterns, the copper plating solution enters between the partitions, and the pattern is short-circuited. A defect occurs.
この吸着によるベースフィルムの微細傷対策として、ラミネート終了前のフィルム保持に、エアーシャワーノズルと送りガイドにて、貼り付けローラ後方のフィルム張力を保持しながら、上記送りガイド上を同調移動させる構造のものが提案されている(特許文献1参照。)。 As a countermeasure against fine scratches on the base film due to this adsorption, the film is held before the end of lamination, and the air shower nozzle and feed guide hold the film tension behind the affixing roller and move it synchronously on the feed guide. The thing is proposed (refer patent document 1).
また、ラミネート工程でパターンの微細化を阻害する因子として、基板に貼り付けるレジスト面に微小異物が付着する課題がある。
この原因は、保護フィルムを剥離したレジスト面がウェットな状態であることと、保護フィルムを剥離時に剥離帯電の静電気により、周囲環境及び装置の駆動源等から発生する浮遊異物が、静電気によりレジスト面に付着するためである。
また、フィルム切断時に発生するレジストチップ及びベースフィルムの切断チップ等の異物が貼り付け基板上に落下すると、レジストと基板間に異物が混入し、レジスト密着不良が発生する。この場合、上記記載のレジスト密着不良と同様な不良が発生する。
レジスト面への異物付着防止対策として、ラミネート前に離型紙を、フィルムが被覆される直前に剥離する方法が提案されている(特許文献2参照。)。
Further, as a factor that hinders pattern miniaturization in the laminating process, there is a problem that minute foreign matters adhere to the resist surface to be attached to the substrate.
This is because the resist surface from which the protective film is peeled off is wet, and the floating foreign matter generated from the surrounding environment and the drive source of the device is caused by static electricity when the protective film is peeled off. It is because it adheres to.
Further, when foreign matters such as a resist chip generated during film cutting and a cutting tip for base film fall on the pasting substrate, the foreign matter is mixed between the resist and the substrate, resulting in a resist adhesion failure. In this case, a defect similar to the resist adhesion defect described above occurs.
As a measure for preventing foreign matter from adhering to the resist surface, a method has been proposed in which the release paper is peeled off before lamination before the film is coated (see Patent Document 2).
ところで、基板に積層フィルムをラミネートする際、基板に対して積層フィルムを額縁状に貼り付けるため、投入される基板長さに応じて積層フィルムを基板長さより短く切断する必要がある。
一般的なフィルム切断方法は、特許文献2に開示されているように、ラミネート途中に基板長さに応じて積層フィルムの後方を吸着保持しながら切断し、積層フィルム後方を吸着しながら滑らせる。
この方式での課題は、フィルム吸着による積層フィルムに発生する微細傷である。
また、この切断方法の課題は、切断によって発生する積層フィルムからの切断チップが貼り付け基板上に落下し、密着不良を起こすことである。
By the way, when laminating a laminated film on a substrate, it is necessary to cut the laminated film to be shorter than the substrate length in accordance with the length of the substrate to be loaded in order to attach the laminated film to the frame in a frame shape.
As disclosed in
The problem with this method is a fine scratch generated in the laminated film due to film adsorption.
Moreover, the subject of this cutting method is that the cutting | disconnection chip | tip from the laminated | multilayer film which generate | occur | produces by cut | disconnects on a sticking board | substrate, and raise | generates the adhesion defect.
また、流れている積層フィルムに刃物を同期移動して切断するが、駆動源が異なることによるラミネート速度とのフィルム切断ユニット速度の同期不良によって、ラミネート中のフィルム後方の保持張力が変動して、貼り付け品質が問題になることがある。
このフィルム保持張力が小さくなると、積層フィルムの弛みによりしわが発生し、転写される可能性がある。また、フィルム保持張力が大きくなると、フィルム流れ方向に縦しわが発生し、転写される可能性がある。
このことから、フィルム保持張力は、積層フィルムの幅及び厚さ等により最適値を保持し、変動させないことが課題である。
また、ラミネート中はフィルム切断等のフィルム保持張力を変動させないことが、品質向上に繋がる。
フィルムの保持張力変動を無くする対策として、フィルムカット時にフィルム流れを停止することが考えられるが、ラミネーションロールはレジスト特性により、ロールの表面温度を約110℃にする必要がある。ラミネート中にフィルム流れを停止することで、ラミネーションロールと接触したレジスト部分に熱ムラの発生による品質不良及びレジストの染み出しによる膜厚の変化が発生する。
Further, although cut by synchronously moving blade in laminate film which is flowing, the synchronization failure of the film cutting unit speed between laminating speed by a driving source different, holding the tension of the film behind in the laminate fluctuates , Pasting quality may be a problem.
When this film holding tension becomes small, wrinkles occur due to the looseness of the laminated film, and there is a possibility that the film will be transferred. Further, when the film holding tension is increased, vertical wrinkles are generated in the film flow direction, which may be transferred.
For this reason, it is a problem that the film holding tension is maintained at an optimum value depending on the width and thickness of the laminated film and is not changed.
Moreover, it is connected with quality improvement not to fluctuate film holding tension, such as film cutting, during lamination.
As a measure for eliminating fluctuations in the holding tension of the film, it is conceivable to stop the film flow when the film is cut. However, the lamination roll needs to have a roll surface temperature of about 110 ° C. due to resist characteristics. By stopping the film flow during laminating, the resist portion in contact with the lamination roll causes a quality defect due to the occurrence of thermal unevenness and a change in film thickness due to the bleeding of the resist.
積層フィルムは、保護フィルムを剥離してレジスト面を露出させるが、剥離時に剥離帯電により静電気が発生し、静電気により浮遊異物をレジスト面に付着させる課題がある。
また、ナイフエッジ部で保護フィルムを剥離するが、ナイフエッジ部で保護フィルムを滑らせることで、摩擦帯電により静電気が発生し、ナイフエッジ部先端から露出した貼り付け面に異物を付着させる課題がある。
The laminated film peels off the protective film and exposes the resist surface, but there is a problem in that static electricity is generated by peeling electrification at the time of peeling, and the floating foreign matter adheres to the resist surface by the static electricity.
In addition, the protective film is peeled off at the knife edge part, but by sliding the protective film at the knife edge part, static electricity is generated due to frictional charging, and there is a problem of adhering foreign matter to the pasting surface exposed from the tip of the knife edge part. is there.
生産工場では、生産管理のためにロット毎に基板を流すことが主流であり、ロット間で基板投入の時間が長くなると、特許文献2に開示されている通常のラミネート装置では、待機中の積層フィルムの先端部は、基板に仮圧着させるため、レジスト面貼り付け先端部を露出した状態で待機する。
このため、露出したレジスト面は、異物の付着及び吸湿等により、レジスト表面が変質する。このため製造現場では、基板待機時間が長くなると装置を手動運転に切り替えて、露出したレジスト部分を切断除去する作業が行われている。
この作業は、自動運転ラインで自動運転を停止し、人手作業にて実施するため、生産効率を低下させる課題がある。
In production factories, it is the mainstream to flow substrates for each lot for production management. When the time for substrate loading becomes longer between lots, the normal laminating apparatus disclosed in
For this reason, the exposed resist surface changes in quality due to adhesion of foreign substances, moisture absorption, and the like. For this reason, at the manufacturing site, when the substrate standby time becomes longer, the apparatus is switched to manual operation, and the exposed resist portion is cut and removed.
Since this operation is performed manually by stopping the automatic operation on the automatic operation line, there is a problem of reducing the production efficiency.
本発明は、これらの上記課題を解決するラミネート装置及びその動作方法を供給することを目的としたものである。 The object of the present invention is to provide a laminating apparatus and an operation method thereof for solving these problems.
フィルム吸着による積層フィルムに発生する微細傷の課題に対して、請求項1に記載の、積層フィルムを基板貼り付け長さ1枚分の位置でラミネート前にハーフカットし、連続した保護フィルムをフィルム搬送手段とすることで、解決するものである。
また、フィルム保持張力は、積層フィルムの幅及び厚さ等により最適値を保持し、変動させない課題に対して、ラミネート前にハーフカットを行い、ラミネート中はフィルム保持張力を一定とし、フィルム切断をラミネート中に行わない手段で、解決するものである。
より具体的には、基板の搬送手段と、積層フィルムの保護フィルムを剥離して、基板に貼り付けるフィルムラミネート部とを備えたフィルムのラミネート装置において、ラミネート前に基板の長さを測長し、投入する基板の長さに応じて、フィルム貼り付け長さを変化させるため、ナイフエッジ部とハーフカット位置の間に、基板の長さに応じてフィルム貼り付け長さを変化させるフィルム長さ調整機構を備え、該フィルム長さ調整機構により積層フィルムを基板貼り付け長さ1枚分の位置でラミネート前にハーフカットし、連続した保護フィルムを、フィルム搬送手段により、ラミネーションロール近傍に設けたナイフエッジ部まで、積層フィルムから保護フィルムを剥離しないで搬送するようにしたことを特徴とする。
In order to solve the problem of fine scratches generated in the laminated film due to film adsorption, the laminated film according to
In addition, the film holding tension is maintained at the optimum value depending on the width and thickness of the laminated film, and the half-cut is performed before laminating to the problem that it does not fluctuate. This is solved by means not performed during lamination.
More specifically, in a film laminating apparatus comprising a substrate transport means and a film laminating unit that peels off the protective film of the laminated film and attaches it to the substrate, the length of the substrate is measured before lamination. In order to change the film attachment length according to the length of the substrate to be input, the film length changes the film attachment length according to the length of the substrate between the knife edge part and the half-cut position. An adjustment mechanism is provided, and the laminated film is half-cut before lamination at a position corresponding to the length of the substrate affixed by the film length adjustment mechanism, and a continuous protective film is provided in the vicinity of the lamination roll by the film conveying means. The protective film is conveyed from the laminated film to the knife edge portion without being peeled off.
そして、切断によって発生する積層フィルムからの切断チップが貼り付け基板上に落下し、密着不良を起こす課題に対して、ハーフカット位置に鉛直方向に引き出された積層フィルムをハーフカットするときに発生する切断チップを貼り付け基板上に落下させないための切断チップの落下防止カバーをハーフカット位置の下方に設けるようにして解決するものである。
ここで、フィルムラミネート部を、基板の搬送手段を挟んで上下対称に設けるようにすることで、基板の両面に積層フィルムをラミネートすることができる。
Then, the cutting chips from the laminated film of disconnection may fall on applied substrate, with respect to problems to cause adhesion failure, generates a laminated film drawn in the vertical direction half-cut position when half-cut The solution is to provide a cutting chip drop prevention cover for preventing the cutting chip from dropping onto the pasted substrate , below the half-cut position .
Here, a laminated film can be laminated on both surfaces of a board | substrate by providing a film laminating part vertically symmetrically about the conveyance means of a board | substrate.
そして、保護フィルム剥離時に剥離帯電により静電気が発生し、静電気により浮遊異物をレジスト面に付着させる課題及びナイフエッジ部で保護フィルムを滑らせることで、摩擦帯電による静電気により浮遊異物をレジスト面に付着させる課題に対しては、保護フィルムを剥離するナイフエッジ部は、導電性部材にて構成し、保護フィルム剥離時等に発生する静電気を、筐体アースに落とす機構を有するようにして解決するものである。 Then , static electricity is generated by peeling electrification when the protective film is peeled off, and the problem of attaching floating foreign matters to the resist surface due to static electricity, and sliding the protective film at the knife edge, the floating foreign matters are attached to the resist surface by static electricity due to frictional charging. those against the challenges to the knife edge portion to peel off the protective film, which constitutes a conductive member, static electricity generated in the protective film peeling or the like, the solution so as to have a mechanism for dropping the housing ground It is.
また、ラミネート動作を行わない待機中の状態では、基板に仮圧着させるため、レジスト貼り付け先端部を露出した状態で待機する。この部位は、異物の付着及び吸湿等により、レジスト表面が変質するため、露出したレジスト部分を切断除去する作業があり、自動運転ラインで自動運転を停止し、人手作業にて実施するため、生産効率を低下させる課題に対して、請求項3に記載のラミネート装置の動作方法によって、より具体的には、ラミネート動作を行わない待機中の状態では、次の基板に貼り付けする積層フィルムの保護フィルム剥離は、次の基板が投入されるまで実施せず、レジスト面等の貼り付け面を露出させないようにして解決するものである。
Further, in a standby state in which the laminating operation is not performed, in order to temporarily press-bond to the substrate, the standby is performed with the resist attachment tip portion exposed. Since the resist surface changes in quality due to adhesion of foreign matter and moisture absorption, there is work to cut and remove the exposed resist part, and automatic operation is stopped in the automatic operation line and manual operation is performed for this part. In order to reduce the efficiency, the operation of the laminating apparatus according to
本発明は、基板の微細パターン形成のラミネート工程において、製品の不良を低減する効果がある。
1.不良低減内容
(1)露光障害となる積層フィルムの微細傷を防止
(2)レジスト密着不良を起こす積層フィルム切断チップの混入防止
(3)事前ハーフカット切断によるフィルム保持張力均一化としわ発生の防止
(4)レジスト密着不良を起こす微小異物付着を静電気除去により防止
(5)基板待機中は、レジストを露出させないため、異物付着及び変質防止
2.その他の効果
フィルム搬送及びフィルム保持に吸着機構を用いないため、この装置を真空室に入れることで、真空中のラミネート装置が容易に構成可能である。この真空ラミネータは、大気中でラミネートするときに混入するマイクロボイド(微小気泡)を防止し、微細パターン形成時の不良低減に貢献する。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention has an effect of reducing product defects in a laminating process for forming a fine pattern on a substrate.
1. Defect reduction content (1) Preventing fine scratches on the laminated film that will cause exposure failure (2) Preventing mixed film cutting chips from causing resist adhesion failure (3) Making film holding tension uniform and preventing wrinkles by pre-half-cut cutting (4) Prevention of adhesion of minute foreign matter that causes resist adhesion failure by static electricity removal (5) Prevention of foreign matter adhesion and alteration during exposure to the substrate because the resist is not exposed. Other Effects Since an adsorption mechanism is not used for film conveyance and film holding, a laminating apparatus in a vacuum can be easily configured by placing this apparatus in a vacuum chamber. This vacuum laminator prevents microvoids (microbubbles) mixed when laminating in the air, and contributes to reducing defects when forming a fine pattern.
本発明に係るラミネート装置及びその動作方法を実施するための形態を図面に基づいて説明する。
図1は当該形態に係るラミネート装置の側面図を示し、基板の両面に積層フィルムをラミネートする形態を示すもので、フィルムラミネート部2では、ラミネート直前の状態を示す。
装置の構成は、基板投入コンベア部1とフィルムラミネート部2と基板搬出コンベア部3及びこれらを制御する図示していない制御装置から構成される。なお、フィルムラミネート部2は上下対称のため、下側の符号を省略する。
An embodiment for carrying out a laminating apparatus and an operation method thereof according to the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a side view of a laminating apparatus according to the embodiment, showing a form in which a laminated film is laminated on both surfaces of a substrate. In the
The configuration of the apparatus includes a substrate
図1において、基板4aは左方向から前工程の搬送コンベア等で搬入され、図示していない基板整列装置等により、積層フィルム9のフィルム幅に合わせて基板幅方向が整列される。基板投入コンベア部1では、投入された基板4aの長さを測長する。
この目的は、ラミネート前に、基板4aの長さを検出し、その情報により積層フィルム貼り付け長さを決定し、積層フィルム9をラミネート前にハーフカットユニット10及びカッタ受け11でハーフカット切断するためである。
また、基板4a先端のラミネート位置停止は、指定された貼り付け位置に積層フィルムを貼り付けるために図示していない制御装置で設定する。
In FIG. 1, the substrate 4 a is carried in from the left direction by a transport conveyor or the like in the previous process, and the substrate width direction is aligned with the film width of the
The purpose is to detect the length of the substrate 4a before lamination, determine the laminated film attachment length based on the information, and cut the
Further, the stop of the laminate position at the tip of the substrate 4a is set by a control device (not shown) in order to attach the laminated film to the designated attachment position.
図1のフィルムラミネート部2では、フィルム巻出ユニット8から積層フィルム9が 保護フィルム送りロール17にて引き出され、保護フィルム16の送りにて積層フィルム9が搬送される。
ハーフカットユニット10及びカッタ受け11では、投入された基板4aの貼り付け長さに応じた長さに、積層フィルム9の保護フィルム16を残してベースフィルム及びレジストを切断する。このように積層フィルムのすべての厚みを切断するのでなく、ハーフカットユニット10の反対側である保護フィルムを残して切断することをハーフカットと称する。
ここで、積層フィルム9をハーフカットするときに発生する切断チップは、下部に設けた切断チップ落下防止カバー12にて回収し、ラミネーションロール20の貼り付け部に落下させない構造としている。また、回収した切断チップは、吸引にて自動廃棄も可能である。
In the
In the half cut unit 10 and the cutter receiver 11, the base film and the resist are cut while leaving the protective film 16 of the
Here, the cutting chip generated when half-cutting the
ナイフエッジ部14では、保護フィルム16を鋭角に折り返すことで、基板4bに貼合せる保護フィルムを剥離した積層フィルム先端15を引き出すものである。
このナイフエッジ部14の材質は、積層フィルム9を搬送処理又は保護フィルム剥離時に発生した静電気を除電するため、導電性の部材を用いるものとし、筐体アースに配線接続して、静電気を逃がす構造としている。また、市販の除電バーを併用設置することで、更に除電効果が向上する。
In the knife edge part 14, the laminated | multilayer film front-end | tip 15 which peeled off the protective film bonded by the board | substrate 4b is pulled out by folding the protective film 16 at an acute angle.
The material of the knife edge portion 14 is a structure in which a conductive member is used in order to remove static electricity generated when the
ラミネート位置に位置決めされた基板4bと積層フィルム先端15をラミネーションロール20の図示していないクランプ機構にてクランプし、図示していない回転駆動機構にて熱圧着しながらラミネートを行う。このとき、積層フィルム9は、ラミネーションロール20の回転駆動により引き出される。
また、フィルム巻出ユニット8は、トルクモータ等でフィルム巻出軸にブレーキトルクを発生させて、ラミネート時の積層フィルムの保持張力を最適化する。
また、保護フィルム16の巻取りは、保護フィルム送りロール17にて保護フィルム16を引き出し、保護フィルム巻取ユニット19にて巻取り回収する。この保護フィルム送り速度は、ラミネーションロール20のラミネート速度と同期するようにローラ駆動用サーボモータ18で制御する。
The substrate 4b positioned at the laminating position and the laminated film tip 15 are clamped by a clamping mechanism (not shown) of the
Further, the
Further, the protection film 16 is wound up by drawing out the protection film 16 with the protection film feeding roll 17 and winding and collecting it with the protection
図1の基板搬出コンベア部3では、ラミネート速度に同調した基板搬出コンベア速度で、ラミネート済み積層フィルム21を貼り付けた基板4cを受け取り、次工程の装置に搬出する。
In the substrate carry-out
運転準備のため、図1に示すフィルム巻出ユニット8から積層フィルム9を引き出し、各ガイドロールに積層フィルム9を通して、積層フィルム9の先端を保護フィルム巻取ユニット19に固定する。
次に保護フィルム送りロール17で、積層フィルム9をクランプ固定する。このとき、フィルム引き出し調整ユニット13のローラ位置は、基板貼り付け長さが最も短い位置となる原点位置とし、ローラ移動の左端位置とする。
次にフィルム巻出ユニット8及び保護フィルム巻取ユニット19に図示していないトルクモータ等で、積層フィルム9に保持張力をかける方向に、回転トルクを与える。
次にハーフカットユニット10及びカッタ受け11にて、積層フィルム9の保護フィルムを残してハーフカットユニット10側のベースフィルム及びレジスト層をハーフカットする。
次に保護フィルム送りロール17をローラ駆動用サーボモータ18にて回転駆動させて積層フィルム9を引き出し、ナイフエッジ部14の先端で、積層フィルム先端15が一致するように、ローラ駆動用サーボモータ18で積層フィルム9を引き出す。
以上の動作にて、積層フィルム9をラミネートする準備が完了する。
In preparation for operation, the
Next, the
Next, rotational torque is applied to the
Next, in the half cut unit 10 and the cutter receiver 11, the base film and the resist layer on the half cut unit 10 side are half cut while leaving the protective film of the
Next, the protective film feed roll 17 is rotationally driven by a
With the above operation, the preparation for laminating the
運転開始は、図1の左側より基板4aが投入され、基板検出センサ5にて基板4aの先端及び後端を検出し、その間の基板4aの基板長さは、コンベアローラ回転検出器7の回転量とコンベアローラ径の積算にて検出する。この基板4aの長さにて、積層フィルム9の貼り付け長さを決定し、この貼り付け長さにてフィルム引き出し調整ユニット13のローラ位置を原点から移動させて、ハーフカット位置を決定する。フィルム引き出し調整ユニット13の駆動実施例として、図示していないローラ両側をガイドレールで支持し、ボールネジとパルスモータ又はサーボモータで制御する。
When starting operation, the substrate 4a is loaded from the left side of FIG. 1, and the
基板投入コンベア部1の基板4aがフィルムラミネート部2へ移動する基板4bは、基板投入コンベア部1を右方向に進み、基板先端位置決めセンサ6にて基板先端を検知し、その位置からコンベアローラ回転検出器7にて、積層フィルム先端15との貼合せ位置で基板4bが停止するよう制御する。
The substrate 4b on which the substrate 4a of the substrate
図2は、ラミネート開始時の状態を示す。
ラミネーションロール20の上下ロールを図示しないエアーシリンダ等を用いて、積層フィルム先端15の位置で基板4bを挟んで、ラミネーションロール20をクランプし、クランプした状態でラミネーションロール20を回転駆動する。回転駆動源は、図示していないサーボモータ又は速度コントロールモータ等を使用し、ラミネート動作を開始する。
FIG. 2 shows a state at the start of lamination.
The upper and lower rolls of the
図3は、基板4bのラミネート途中の状態を示す。
ラミネート条件は、基板厚みと積層フィルムの特性により異なるが、一般的にラミネーションロール20のゴム表面は、積層フィルム9のメーカ推奨条件である約110℃に加熱されて、加圧力約0.3MPa、速度約3m/minで積層フィルムをラミネートする。
ここで、フィルム巻出ユニット8でフィルム保持張力を制御し、積層フィルム9のフィルム保持張力一定化が重要なラミネート条件となる。フィルム保持張力は、積層フィルム9の幅及び厚み等により異なるが、一般的なフィルム保持張力の最適値は、約9.8N/フィルム500mm幅が目安となる。
微細パターン形成のラミネート条件であるフィルム保持張力の実施例として、フィルム巻出ユニット8のフィルム巻径は、積層フィルム9の消費により、巻径が小さくなるため、フィルム巻出ユニット8を制御するトルクモータ等のトルク一定では、巻径が小さくなるに従い、積層フィルム9に作用するフィルム保持張力が増加する。
このため、超音波センサ又は光電センサ等でフィルム巻径を測定し、巻径が小さくなるに従いフィルム巻出ユニット8に作用させるトルクは、積層フィルム9の巻径に比例して減少するように制御を行う。
FIG. 3 shows a state during the lamination of the substrate 4b.
Lamination conditions vary depending on the thickness of the substrate and the characteristics of the laminated film. Generally, the rubber surface of the
Here, the film holding tension is controlled by the
As an example of film holding tension, which is a lamination condition for forming a fine pattern, the film winding diameter of the
Therefore, the film winding diameter is measured by an ultrasonic sensor or a photoelectric sensor, and the torque applied to the
図4は、基板4bのラミネート終了前の状態を示す。
ラミネーションロール20でラミネート済み積層フィルム21を貼り付けて、基板4aの長さより設定された積層フィルム貼り付け長さにより、ラミネート終端位置でラミネーションロール20のクランプを開くことで、ラミネート動作を完了する。
ここでラミネート動作完了時、積層フィルム先端15は、ナイフエッジ部14の先端でフィルム流れを止めるように保護フィルム送りロール17の回転を制御する。実施方法は、ナイフエッジ部14の先端とラミネーションロール20のクランプ位置までの一定距離に対して、保護フィルム送りロール17の回転量をローラ駆動用サーボモータ18で制御する。
図1で、次に投入される基板4bのラミネート位置への到着で、ローラ駆動用サーボモータ18を回転駆動させて、積層フィルム先端15をラミネート位置まで送り出し、上記と同様にラミネートを開始する。
FIG. 4 shows a state before the substrate 4b is laminated.
The
Here, when the laminating operation is completed, the laminated film front end 15 controls the rotation of the protective film feed roll 17 so as to stop the film flow at the front end of the knife edge portion 14. The implementation method is such that the rotation amount of the protective film feed roll 17 is controlled by a
In FIG. 1, when the substrate 4b to be loaded next arrives at the laminating position, the roller driving
以上、本発明のフィルムのラミネート装置及びその動作方法について、その実施例に基づいて説明したが、本発明は上記実施例に記載した構成に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において適宜その構成を変更することができるものである。 The film laminating apparatus and the operation method thereof according to the present invention have been described based on the embodiments. However, the present invention is not limited to the configurations described in the above embodiments, and does not depart from the spirit of the present invention. The configuration can be changed as appropriate.
本発明のフィルムのラミネート装置及びその動作方法は、露光障害となる積層フィルムの微細傷を防止等することにより、基板の微細パターン形成のラミネート工程において、製品の不良を低減することができる特性を有していることから、プリント基板の基板表面にパターン形成用の感光性ドライフィルム等の積層フィルムを貼り付けるためのフィルムのラミネートの用途に好適に用いることができる。 The film laminating apparatus of the present invention and the operation method thereof have characteristics that can reduce product defects in a laminating process of forming a fine pattern on a substrate by preventing fine scratches on a laminated film that becomes an exposure obstacle. Since it has, it can use suitably for the use of the lamination of the film for sticking laminated films, such as a photosensitive dry film for pattern formation, to the board | substrate surface of a printed circuit board.
1 基板投入コンベア部(搬送手段)
2 フィルムラミネート部
3 基板搬出コンベア部(搬送手段)
4a、4b、4c 基板
5 基板検出センサ
6 基板先端位置決めセンサ
7 コンベアローラ回転検出器
8 フィルム巻出ユニット
9 積層フィルム
10 ハーフカットユニット
11 カッタ受け
12 切断チップ落下防止カバー
13 フィルム引き出し調整ユニット(フィルム長さ調整機構)
14 ナイフエッジ部
15 積層フィルム先端
16 保護フィルム
17 保護フィルム送りロール
18 ローラ駆動用サーボモータ
19 保護フィルム巻取ユニット
20 ラミネーションロール
21 ラミネート済み積層フィルム
1 Board loading conveyor (conveying means)
2
4a, 4b, 4c
14 Knife Edge 15 Laminated Film Tip 16 Protective Film 17 Protective
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