JP6304132B2 - ワークの加工装置 - Google Patents
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Description
前記センタードラムは、さらに、前記外周面に軸方向に形成された少なくとも1つの第2の溝を有し、
該第2の溝は、前記第1の溝と異なる長さを有し、前記上定盤が前記ワークの加工を行う位置よりも上方となる位置で、前記フックを下方から支持する支持面を有するものであることを特徴とするワークの加工装置を提供する。
上述したように、ワークの加工を行う位置よりも上方となる位置で上定盤を停止させた際に、上定盤の研磨面に対して垂直方向の力が作用すると、上定盤を水平に維持することができないという問題があった。
このようなものであれば、特に高平坦度が要求されるシリコンウェーハ等のワークの製造プロセスに好適に適応できる。
図1に示すように、本発明の両面研磨装置1は、上下に相対向して設けられた上定盤2と下定盤3を備えており、各上下定盤2、3には、それぞれ研磨パッド4が貼付されている。上定盤2と下定盤3の間の中心部にはサンギア(不図示)が、周縁部にはインターナルギア(不図示)が設けられている。
図1に示した本発明の両面研磨装置1を用いて、上定盤2を中間高さ位置に停止させた際に、上定盤2の研磨面に対して垂直方向の力を掛けた際の上定盤2の安定性を調べた。
図7に示すように、両面研磨装置101は、上下に相対向して設けられた上定盤102と下定盤103を備えており、各定盤102、103には、それぞれ研磨パッド104が貼付されている。上定盤102は、ユニバーサルジョイント107に接続され、その角度を自由に変えられるようになっている。
図11に示すような、両面研磨装置101を用いて、第1の溝109を用いて中間高さ位置でドレッシングを行ったこと以外は、実施例2と同様にして、ワークWの両面研磨及び、研磨パッド104の研磨面の洗浄・ドレッシングを繰り返し行った。即ち、図9におけるSP6とSP10を行わなかった。
5…キャリア、 6…保持孔、 7…ユニバーサルジョイント、
8…センタードラム、 9…第1の溝、 10…第2の溝、 10a…支持面
11…フック、 12…エアーバック、 13…ダイアルゲージ、
14…ドレスヘッド、 W…ワーク。
Claims (5)
- 外周面に軸方向に形成された少なくとも1つの第1の溝を有する回転軸周りに回転可能なセンタードラムと、加工するワークを挿入して保持する保持孔を有するキャリアと、前記ワークを保持した前記キャリアを挟んだ状態で、前記回転軸周りに回転可能な上定盤及び下定盤と、前記上定盤の内周部に取り付けられ、前記第1の溝に挿入した先端部を前記第1の溝に沿って移動可能な少なくとも1つのフックを有するワークの加工装置であって、
前記センタードラムは、さらに、前記外周面に軸方向に形成された少なくとも1つの第2の溝を有し、
該第2の溝は、前記第1の溝と異なる長さを有し、前記上定盤が前記ワークの加工を行う位置よりも上方となる位置で、前記フックを下方から支持する支持面を有するものであることを特徴とするワークの加工装置。 - 前記第2の溝の前記支持面は、前記フックを介して少なくとも前記上定盤の荷重の全てを支持することができる表面積を有するものであることを特徴とする請求項1に記載のワークの加工装置。
- 前記少なくとも1つのフック、前記少なくとも1つの第1の溝、及び前記少なくとも1つの第2の溝は、それぞれが180°の角度間隔で配置される一対で構成させるものであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のワークの加工装置。
- 前記センタードラムに、前記一対の第1の溝と前記一対の第2の溝とが配置される角度間隔は、90°であることを特徴とする請求項3に記載のワークの加工装置。
- 前記ワークの加工装置は、両面研磨装置または両面ラップ装置であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のワークの加工装置。
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