JP2020171996A - 両面研磨方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】品質レベル(加工精度)の向上とクロスライフの延長とを同時に実現する。【解決手段】下定盤の上面に張り付けられた研磨パッドと前記下定盤の上方に設けられた上定盤の下面に張り付けられた研磨パッドとの間にウェーハを配置して該ウェーハの両面を研磨する両面研磨方法において、前記両研磨パッド間の内周部の空隙と外周部の空隙との差の絶対値をパッド空隙とした場合に、前記ウェーハ両面の研磨を実施しているときの前記パッド空隙を、前記両研磨パッドのドレスを実施しているときの前記パッド空隙よりも大きくすることを特徴とする両面研磨方法。【選択図】図1
Description
本発明は、両面研磨方法に関する。
下定盤の上面に張り付けられた研磨パッドと上定盤の下面に張り付けられた研磨パッドとの間にウェーハを配置して該ウェーハの両面を研磨する両面研磨方法において、ウェーハ形状の加工精度を安定化させるためには、両研磨パッドの形状を一定に保つことが重要な要素の一つとして挙げられる。そのために、従来は、上下の定盤を低熱膨張材から構成するとともに、該上下の定盤を平行に保ち続けて操業を行うことで、ドレスや研磨などで生じる研磨パッドの偏摩耗を抑制していた(特許文献1、2参照)。
しかし、上下の定盤に貼り付けられる研磨パッド(クロス)が定盤の形状精度の影響を受けながらドレス及び研磨により偏摩耗されて形状が変わってしまうために、研磨バッチを重ねていくといった長期的な視点では、該上下の定盤を平行に保ち続けて操業を行うことで、ドレスで生じる偏摩耗を抑制し、長期的にウェーハの加工精度を一定に保っていた。
しかし、研磨スラリーの排出を阻害するという観点から、定盤もしくはパッドが平行な状態では、形状の精度と安定性は高いものの、品質レベルは決して高くはなかった。
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、ウェーハの品質レベル(加工精度)の向上とクロスライフの延長とのトレードオフを解消し、両者を同時に達成する両面研磨方法を提案することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明では、下定盤の上面に張り付けられた研磨パッドと前記下定盤の上方に設けられた上定盤の下面に張り付けられた研磨パッドとの間にウェーハを配置して該ウェーハの両面を研磨する両面研磨方法において、前記両研磨パッド間の内周部の空隙と外周部の空隙との差の絶対値をパッド空隙とした場合に、前記ウェーハ両面の研磨を実施しているときの前記パッド空隙を、前記両研磨パッドのドレスを実施しているときの前記パッド空隙よりも大きくすることを特徴とする両面研磨方法を提供する。
このような両面研磨方法によれば、ウェーハ両面の研磨を実施しているときは、パッド空隙を大きくする、すなわち、両研磨パッドの傾き度合を大きくすることで、スラリーの供給、排出が効率よく行え、ウェーハの品質レベル(加工精度)の向上を図ることができる。また、両研磨パッドのドレスを実施しているときは、パッド空隙を小さくする、すなわち、両研磨パッドの傾き度合を小さくすることで、ドレス時の研磨パッドの摩耗を抑制し、クロスライフの延長を図ることができる。
これにより、ウェーハの品質レベル(加工精度)の向上とクロスライフの延長とを同時に達成することができる。
前記研磨を実施しているときの前記パッド空隙を、前記ドレスを実施しているときの前記パッド空隙よりも20μm以上、100μm以下の値だけ大きくすることが好ましい。
このように、研磨時のパッド空隙とドレス時のパッド空隙との差を20μm以上とすることで、研磨時において、スラリーの供給、排出が効率よく行えるとともに、ドレス時において、研磨パッドの摩耗が抑制されるため、所定のGBIR(Global Backside Ideal Range)を実現可能なクロスライフを延長できる。また、研磨時のパッド空隙とドレス時のパッド空隙との差を100μm以下とすることで、研磨時において、ウェーハがキャリアから飛び出すリスクを回避できる。
この場合、前記ドレスを実施しているときは、前記両研磨パッドを平行にし、前記研磨を実施しているときは、前記両研磨パッドを非平行にすることが好ましい。
このように、ドレス時のパッド空隙を0μm(平行)とすることで、パッド空隙の制御が容易化される。すなわち、ドレス時には、例えば、下定盤と上定盤とを平行にすることで、両研磨パッドを平行にすることができる。一方、研磨時には、例えば、上定盤を傾け、下定盤と上定盤とを非平行にすることで、両研磨パッドを非平行にすることができる。
本発明では、前記下定盤及び前記上定盤を、線熱膨張係数が6×10−6/K以下の低熱膨張材とすることが好ましい。
このように、下定盤及び上定盤を低熱膨張材とすれば、ウェーハと研磨パッドとの摩擦熱によりこれら定盤が熱変形し難くなるため、該熱変形により研磨パッドの形状が変形し、それがウェーハの品質レベル(加工精度)やクロスライフに悪影響を与えるといったリスクを回避できる。
また、前記上定盤の傾きを変えることにより前記パッド空隙を変更することが好ましい。
このように、下定盤を固定し、上定盤の傾きを変えることで両研磨パッドのパッド空隙を制御すれば、上定盤の動きのみを制御すればよいため、該パッド空隙の制御を容易化することができる。
以上のように、本発明によれば、ウェーハ両面の研磨を実施しているときのパッド空隙を、両研磨パッドのドレスを実施しているときのパッド空隙よりも大きくすることで、ウェーハの品質レベル(加工精度)の向上とクロスライフの延長とのトレードオフを解消し、両者を同時に実現することができる。例えば、研磨時には、下定盤と上定盤とを非平行にすることで、ウェーハの品質レベル(加工精度)の向上を図ることができる。また、ドレス時には、下定盤と上定盤とを平行にすることで、パッドの偏摩耗が抑制され、ドレス回数が増えても(ドレスによる摩耗が加速されても)、ウェーハ形状を良好なままとすることができるクロスライフを延長できる。
上記のとおり、ウェーハを両面研磨するに当たっては、該研磨によって劣化してしまった研磨パッドの表面をリフレッシュするために、例えば、ダイヤモンド砥粒を有するドレッサを摺接させて該研磨パッドの表層を除去することが行われる。このような研磨パッドの表層を除去して該研磨パッドの表面をリフレッシュすることをドレスという。しかし、このドレス作業の回数が増えると、研磨パッドの形状が徐々に変化していき、ウェーハのフラットネスから要求される形状から早期に外れてしまい、所定の品質、例えば、GBIRを実現可能なクロスライフを短くしてしまうという問題が発生していた。
そこで、本発明者は、上記問題について鋭意検討を重ねた結果、クロスライフを短くしてしまうような研磨パッドの摩耗は、研磨時よりもドレス時による影響が支配的であることを見出した。すなわち、本発明者は、ウェーハの両面を研磨する研磨時においては、両研磨パッド間の内周部の空隙と外周部の空隙との差(パッド空隙)の絶対値を大きくして、スラリーの供給、排出を効率化し、両研磨パッドのドレスを行うドレス時においては、パッド空隙の絶対値を小さくし、両研磨パッドの摩耗を抑制することで、研磨されるウェーハの品質の向上とクロスライフの延長とを同時に実現できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、下定盤の上面に張り付けられた研磨パッドと前記下定盤の上方に設けられた上定盤の下面に張り付けられた研磨パッドとの間にウェーハを配置して該ウェーハの両面を研磨する両面研磨方法において、前記両研磨パッド間の内周部の空隙と外周部の空隙との差の絶対値をパッド空隙とした場合に、前記ウェーハ両面の研磨を実施しているときの前記パッド空隙を、前記両研磨パッドのドレスを実施しているときの前記パッド空隙よりも大きくすることを特徴とする両面研磨方法である。
以下、本発明の実施の形態について、添付した図面に基づいて具体的に説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
図1は、本発明の両面研磨方法を示す。
以下に説明する両面研磨方法は、例えば、下定盤、上定盤、サンギア、及びインターナルギアの各駆動部を有する4ウェイ式の両面研磨装置により実行可能である。また、該研磨装置は、両研磨パッドの傾き度合を変更するために、上定盤が変形可能、すなわち、上定盤の傾きを変更可能なものであることが好ましい。但し、両研磨パッドの傾き度合を変更する手法については、特に限定されない。
以下に説明する両面研磨方法は、例えば、下定盤、上定盤、サンギア、及びインターナルギアの各駆動部を有する4ウェイ式の両面研磨装置により実行可能である。また、該研磨装置は、両研磨パッドの傾き度合を変更するために、上定盤が変形可能、すなわち、上定盤の傾きを変更可能なものであることが好ましい。但し、両研磨パッドの傾き度合を変更する手法については、特に限定されない。
まず、ステップS1に示すように、下定盤の上面に張り付けられた研磨パッドと下定盤の上方に設けられた上定盤の下面に張り付けられた研磨パッドとの間にウェーハを配置し、パッド空隙をDpにして該ウェーハの研磨を実施する。ここで、1回の研磨で研磨可能なウェーハ数は、例えば、5枚(1バッチ)である。
この時、図2の「研磨実施時」に示すように、両研磨パッド間の内周部の空隙PSinと外周部の空隙PSoutとの差の絶対値としてのパッド空隙Dpは、スラリーの供給、排出を効率よく行うために十分に大きな値(例えば、60μm)とする。また、両研磨パッド間の外周部の空隙PSoutを基準とし、該両研磨パッド間の内周部の空隙PSinを変化させる、すなわち、PSinを大きくすれば、パッド空隙Dpの制御が容易化される。
次に、ステップS2に示すように、ドレス実施回数がn回以上であるか否かを確認する。ここで、nは、所定の品質(GBIR)のウェーハを得ることが可能なドレス回数を示す数値であり、後述するように、本発明によれば、この数値を大きくすることができる。
そして、ドレス回数がn回以上である場合には、例えば、研磨パッドの交換が必要である旨をオペレータに知らせた後に、本フローを終了する。また、ドレス回数がn回以上でない場合には、ステップS3に進む。
次に、ステップS3に示すように、すべてのウェーハの研磨が終了しているか否かを確認する。すべてのウェーハの研磨が終了している場合には、本フローを終了する。
また、すべてのウェーハの研磨が終了していない場合には、ステップS4に進み、研磨実施回数がN回以上であるか否かを確認する。ここで、Nは、ドレス頻度を示す数値であり、N=1であれば、研磨とドレスを交互に行うことになり、N=5であれば、5回の研磨を行う毎(5バッチ毎)に1回のドレスを行うことになる。
そして、研磨実施回数がN回以上でない場合には、ステップS1に戻り、パッド空隙をDpにした状態で、再び、ウェーハの研磨を実施する。
また、研磨実施回数がN回以上である場合には、ステップS5に進み、パッド空隙をDdにして両研磨パッドのドレスを実施する。
ここで、ドレス時のパッド空隙Ddは、研磨時のパッド空隙Dpよりも小さな値とする。これは、ドレス時のパッド空隙Ddを小さな値、より好ましくは、パッド空隙Ddを0μm(両研磨パッドが平行な状態)にすることで、ドレス時における研磨パッドの変形が抑制され、所定の品質のウェーハを得ることが可能なドレスライフを延長できる(ステップS2におけるnの数値を大きくできる)からである。
なお、図2の「ドレス実施時」に示すように、両研磨パッド間の外周部の空隙PSoutを基準とし、該両研磨パッド間の内周部の空隙PSinを変化させる、すなわち、PSinを小さくすれば、パッド空隙Ddの制御が容易化される。
また、研磨時とドレス時のパッド空隙Dp、Ddに関し、パッド空隙Dpは、パッド空隙Dpよりも20μm以上、100μm以下の値だけ大きくすることが好ましい。これにより、研磨時において、スラリーの供給、排出が効率よく行えるとともに、ウェーハがキャリアから飛び出すリスクを回避できる。また、ドレス時において、研磨パッドの摩耗が抑制され、クロスライフを延長できる。
次に、ステップS5におけるドレス処理が終了したら、ステップS1に戻り、パッド空隙をDpにした状態で、再び、ウェーハの研磨を実施する。
このような両面研磨方法によれば、研磨時とドレス時とでパッド空隙を変えるという新たな研磨技術により、研磨時のウェーハの品質レベル(加工精度)の向上とドレス時の研磨パッドの摩耗の抑制によるクロスライフの延長とを同時に図ることができる。
なお、上記両面研磨方法において、内周部及び外周部とは、両研磨パッドが回転軸を中心にリング状に形成さている場合に、回転軸寄りの円周部を内周部とし、該内周部よりも外側の円周部を外周部とすることとする。すなわち、内周部及び外周部の位置は、特に限定されず、研磨実施時とドレス実施時とでその位置関係が同じであれば、問題がない。
但し、内周部の空隙PSinと外周部の空隙PSoutとを容易に検出するためには、内周部及び外周部は、それぞれリング状の両研磨パッドの最内周及び最外周であることが好ましい。
以下に、研磨時とドレス時のパッド形状の例を説明する。
図3は、偏摩耗がない場合のドレス時の両研磨パッドの関係を示す。図4は、偏摩耗がない場合の研磨時の両研磨パッドの関係を示す。
図3は、偏摩耗がない場合のドレス時の両研磨パッドの関係を示す。図4は、偏摩耗がない場合の研磨時の両研磨パッドの関係を示す。
例えば、図3に示すように、研磨パッド3、4の交換直後など、下定盤1の上面と上定盤2の下面とが平行な状態で両研磨パッド3、4が互いに平行である場合、内周部の空隙PSinと外周部の空隙PSoutとの差は、零である。そこで、ドレス時には、下定盤1の上面と上定盤2の下面とを平行にし、両研磨パッド3、4を互いに平行にすることで、パッド空隙Ddが零の状態で研磨パッド3、4のドレスを行う。
また、図3に示すように、下定盤1の上面と上定盤2の下面とが平行な状態で両研磨パッド3、4が互いに平行である場合、図4に示すように、研磨時には、下定盤1の形状(下定盤形状)及び上定盤2の形状(上定盤形状)を変形させ、すなわち、下定盤1の上面と上定盤2の下面とを非平行にし、両研磨パッド3、4を互いに非平行にすることで、パッド空隙Dpがプラス値(例えば、60μm)を持つ状態でウェーハの研磨を行う。
なお、研磨時において、両研磨パッド3、4を互いに非平行にするには、下定盤形状及び上定盤形状の少なくとも1つを変形させればよい。
図5は、偏摩耗がある場合の研磨時の両研磨パッドの関係を示す。図6は、偏摩耗がある場合のドレス時の両研磨パッドの関係を示す。
例えば、図5に示すように、研磨パッド3、4の偏摩耗が進み、下定盤1の上面と上定盤2の下面とが平行な状態で両研磨パッド3、4が互いに非平行である場合、内周部の空隙PSinと外周部の空隙PSoutとの差は、プラス値である。そこで、研磨時には、下定盤1の上面と上定盤2の下面とを平行にし(パッド空隙Ddの調整のために非平行にしてもよい)、両研磨パッド3、4を互いに非平行にすることで、パッド空隙Dpがプラス値(例えば、60μm)を持つ状態でウェーハの研磨を行う。
また、図5に示すように、下定盤1の上面と上定盤2の下面とが平行な状態で両研磨パッド3、4が互いに非平行である場合、図6に示すように、ドレス時には、下定盤1の形状(下定盤形状)及び上定盤2の形状(上定盤形状)を変形させ、すなわち、下定盤1の上面と上定盤2の下面とを非平行にし、両研磨パッド3、4を互いに平行にすることで、パッド空隙Ddが零の状態で研磨パッド3、4のドレスを行う。
なお、ドレス時において、両研磨パッド3、4を互いに平行にするには、下定盤形状及び上定盤形状の少なくとも1つを変形させればよい。
以上の両面研磨方法によれば、研磨時とドレス時とでパッド空隙を変えて操業を行う研磨技術により、ウェーハの品質レベル(加工精度)の向上とクロスライフの延長とのトレードオフを解消し、両者を同時に達成する両面研磨方法を実現できる。
以下に本発明の実施例を挙げて、本発明を詳細に説明するが、これらは、本発明を限定するものではない。
(実施例)
以下に示す両面研磨装置を用いて、所定のGBIRを実現可能なクロスライフ(研磨パッドの寿命)を検証した。ここで、GBIRとは、ウェーハの平坦度を表す指標の一つであり、裏面基準平面からウェーハ表面までの距離の最大値と最小値との差のことである。
以下に示す両面研磨装置を用いて、所定のGBIRを実現可能なクロスライフ(研磨パッドの寿命)を検証した。ここで、GBIRとは、ウェーハの平坦度を表す指標の一つであり、裏面基準平面からウェーハ表面までの距離の最大値と最小値との差のことである。
・両面研磨装置の詳細
図7は、本発明の両面研磨方法を実施可能な両面研磨装置の例を示す。
以下の実施例は、該両面研磨装置を用いて実施するものとし、具体的には、不二越機械工業のDSP−20Bを使用した。
図7は、本発明の両面研磨方法を実施可能な両面研磨装置の例を示す。
以下の実施例は、該両面研磨装置を用いて実施するものとし、具体的には、不二越機械工業のDSP−20Bを使用した。
両面研磨装置は、下定盤1、上定盤2、サンギア5、及びインターナルギア6の各駆動部を有する4ウェイ式で20Bサイズである。上定盤2と吊り天板9とは、同一円周C0上に配置される6個の吊り支柱7で連結し、各吊り支柱7の材料は、SUS(ステンレス鋼材)とした。下定盤1及び上定盤2の材料は、常温付近で熱膨張係数が小さいインバー(熱膨張係数=1.5×10−6/K〜4.0×10−6/K)とした。
6個の吊り支柱7が配置される同一円周C0のPCD(ピッチ円直径)に対して、それよりも300mm小さいPCDを有する同一円周C1上、すなわち、6個の吊り支柱7が配置される同一円周C0から内側に150mm離れた同一円周C1上に、10個のアクチュエータ8を配置した。また、6個の吊り支柱7が配置される同一円周C0のPCDに対して、それよりも300mm大きいPCDを有する同一円周C2上、すなわち、6個の吊り支柱7が配置される同一円周C0から外側に150mm離れた同一円周C2上に、10個のアクチュエータ8を配置した。
アクチュエータ8は、圧縮空気を駆動源としたエアーシリンダとし、上定盤2の傾斜を調整する際には、両面研磨装置の外部の供給源から該両面研磨装置内のアクチュエータ8に圧縮空気を供給してアクチュエータ8を動作させた。
そして、ウェーハの研磨及び研磨パッドのドレスを行うに当たって、下定盤形状は固定とし、上定盤形状、すなわち、上定盤の傾きを変形させることで、ウェーハ両面の研磨を実施しているときのパッド空隙Dpが両研磨パッド3、4のドレスを実施しているときのパッド空隙Ddよりも大きくなるように調整した。
・実験内容
ウェーハは、直径300mmのP型シリコン単結晶ウェーハを用いた。
研磨パッドは、ショアA硬度85の発泡ポリウレタンパッドを用いた。
キャリアは、チタン基板に、インサートとしてガラス繊維にエポキシ樹脂を含浸したFRPを用いた。キャリアは、5枚を1セットとして上記両面研磨装置にセットし、ウェーハは、キャリア1枚毎に1枚をセットした。
スラリーは、シリカ砥粒含有、平均粒径35nm、砥粒濃度1.0wt%、pH10.5、KOHベースを用いた。
ウェーハは、直径300mmのP型シリコン単結晶ウェーハを用いた。
研磨パッドは、ショアA硬度85の発泡ポリウレタンパッドを用いた。
キャリアは、チタン基板に、インサートとしてガラス繊維にエポキシ樹脂を含浸したFRPを用いた。キャリアは、5枚を1セットとして上記両面研磨装置にセットし、ウェーハは、キャリア1枚毎に1枚をセットした。
スラリーは、シリカ砥粒含有、平均粒径35nm、砥粒濃度1.0wt%、pH10.5、KOHベースを用いた。
加工荷重は、180gf/cm2に設定した。
加工時間は、キャリアセット毎に最適ギャップとなるように設定した。
各駆動部の回転速度は、上定盤:−13.4rpm、下定盤:35rpm、サンギア:25rpm、及びインターナルギア:7rpmに設定した。
研磨パッドのドレッシングは、ダイヤ砥粒が電着されたドレスプレートを120gf/cm2で純水を流しながら上下の各研磨パッドに摺接させることで行った。摺接時間は、1時間とし、研磨とドレスを交互に実施した。
加工後のウェーハに対しては、SC−1洗浄を条件(NH4OH:H2O2:H2O=1:1:15)で行った。
加工時間は、キャリアセット毎に最適ギャップとなるように設定した。
各駆動部の回転速度は、上定盤:−13.4rpm、下定盤:35rpm、サンギア:25rpm、及びインターナルギア:7rpmに設定した。
研磨パッドのドレッシングは、ダイヤ砥粒が電着されたドレスプレートを120gf/cm2で純水を流しながら上下の各研磨パッドに摺接させることで行った。摺接時間は、1時間とし、研磨とドレスを交互に実施した。
加工後のウェーハに対しては、SC−1洗浄を条件(NH4OH:H2O2:H2O=1:1:15)で行った。
パッド空隙は、測定した上下パッドの半径プロファイルから算出した。また、ウェーハ形状が良好であるとされるGBIR、すなわち、製品規格値を下回るGBIRを基準値とし、ドレス回数に応じてGBIRが基準値に対してどのように変化するかを検証した。
ドレス時のパッド空隙を0μm(両研磨パッドが平行な状態)とし、研磨時のパッド空隙を、それぞれ10μm、20μm、40μm、及び60μmと変化させて検証した。
ドレス時のパッド空隙を0μm(両研磨パッドが平行な状態)とし、研磨時のパッド空隙を、それぞれ10μm、20μm、40μm、及び60μmと変化させて検証した。
・GBIRの算出
以上の実験内容の下で、ウェーハの研磨及びドレスを交互に行い、洗浄後のウェーハについてそのフラットネスを測定し、かつGBIRを算出した。なお、フラットネスは、洗浄後のウェーハをKLA TencorのWaferSightを用いて測定した。GBIRは、ウェーハのエッジから2mmの領域を除外して算出した。
以上の実験内容の下で、ウェーハの研磨及びドレスを交互に行い、洗浄後のウェーハについてそのフラットネスを測定し、かつGBIRを算出した。なお、フラットネスは、洗浄後のウェーハをKLA TencorのWaferSightを用いて測定した。GBIRは、ウェーハのエッジから2mmの領域を除外して算出した。
(比較例)
・両面研磨装置の詳細
上記実施例と同じ両面研磨装置を用いた。
・実験内容
上記実施例の実験内容と同じ条件とした。
但し、研磨時とドレス時のパッド空隙の差を0μmとした。具体的には、研磨時とドレス時の双方において、パッド空隙を40μmとした。
・GBIRの算出
上記実施例と同じ算出方法によりGBIRの算出を行った。
・両面研磨装置の詳細
上記実施例と同じ両面研磨装置を用いた。
・実験内容
上記実施例の実験内容と同じ条件とした。
但し、研磨時とドレス時のパッド空隙の差を0μmとした。具体的には、研磨時とドレス時の双方において、パッド空隙を40μmとした。
・GBIRの算出
上記実施例と同じ算出方法によりGBIRの算出を行った。
(検証結果)
図8は、ドレス回数とウェーハの品質(GBIR)との関係を示す。
同図において、横軸は、ドレス回数を示し、縦軸は、GBIRを示す。なお、実施例及び比較例ともに、1プロットは、1バッチ5枚の平均値である。
図8は、ドレス回数とウェーハの品質(GBIR)との関係を示す。
同図において、横軸は、ドレス回数を示し、縦軸は、GBIRを示す。なお、実施例及び比較例ともに、1プロットは、1バッチ5枚の平均値である。
ここで、縦軸のGBIRは、製品規格値を1としてある。すなわち、同図において、GBIRが1を下回る範囲は、ウェーハの品質レベル(加工精度)が良好である範囲である。言い換えれば、GBIRが1を超える直前のドレス回数までの研磨パッドを使用してウェーハの研磨を行うことができることを意味する。
同図から明らかなように、空隙差0μm(比較例)では、ドレス回数を3回行った後のウェーハの研磨では、良好なウェーハ形状が得られない(GBIRが1を超える)。これに対し、空隙差10μmでは、ドレス回数を3回行った後のウェーハの研磨でも、良好なウェーハ形状を得ることができる。また、空隙差20μm、40μm、及び60μmでは、ドレス回数を5回行った後のウェーハの研磨でも、該研磨により得られるウェーハのGBIRが1を超えないことが分かる。
このように、少なくとも研磨時のパッド空隙とドレス時のパッド空隙とに差を設ける、すなわち、研磨時の両研磨パッドを非平行な状態とし、かつドレス時の両研磨パッドを平行又はそれに近い状態とすることで、良好なウェーハ形状を得ることが可能なドレスライフを延長できることが立証された。
特に、研磨時のパッド空隙とドレス時のパッド空隙との差を20μm以上とすることで、ドレスを5回行っても良好なウェーハ形状を得ることが確認され、この場合にドレスライフを格段に延長できることが立証された。
以上、説明してきたように、本発明によれば、ウェーハの品質レベル(加工精度)の向上とクロスライフの延長とのトレードオフを解消し、両者を同時に達成する両面研磨方法を実現できる。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
1…下定盤、 2…上定盤、 3、4…研磨パッド、 5…サンギア、 6…インターナルギア、 7…吊り支柱、 8…アクチュエータ、 9…吊り天板、 10…回転軸。
そこで、本発明者は、上記問題について鋭意検討を重ねた結果、クロスライフを短くしてしまうような研磨パッドの摩耗は、研磨時よりもドレス時による影響が支配的であることを見出した。すなわち、本発明者は、ウェーハの両面を研磨する研磨時においては、両研磨パッド間の内周部の空隙と外周部の空隙との差の絶対値(パッド空隙)を大きくして、スラリーの供給、排出を効率化し、両研磨パッドのドレスを行うドレス時においては、パッド空隙の絶対値を小さくし、両研磨パッドの摩耗を抑制することで、研磨されるウェーハの品質の向上とクロスライフの延長とを同時に実現できることを見出し、本発明を完成させた。
また、研磨時とドレス時のパッド空隙Dp、Ddに関し、パッド空隙Dpは、パッド空隙Ddよりも20μm以上、100μm以下の値だけ大きくすることが好ましい。これにより、研磨時において、スラリーの供給、排出が効率よく行えるとともに、ウェーハがキャリアから飛び出すリスクを回避できる。また、ドレス時において、研磨パッドの摩耗が抑制され、クロスライフを延長できる。
Claims (5)
- 下定盤の上面に張り付けられた研磨パッドと前記下定盤の上方に設けられた上定盤の下面に張り付けられた研磨パッドとの間にウェーハを配置して該ウェーハの両面を研磨する両面研磨方法において、
前記両研磨パッド間の内周部の空隙と外周部の空隙との差の絶対値をパッド空隙とした場合に、前記ウェーハ両面の研磨を実施しているときの前記パッド空隙を、前記両研磨パッドのドレスを実施しているときの前記パッド空隙よりも大きくすることを特徴とする両面研磨方法。 - 前記研磨を実施しているときの前記パッド空隙を、前記ドレスを実施しているときの前記パッド空隙よりも20μm以上、100μm以下の値だけ大きくすることを特徴とする請求項1に記載の両面研磨方法。
- 前記ドレスを実施しているときは、前記両研磨パッドを平行にし、前記研磨を実施しているときは、前記両研磨パッドを非平行にすることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の両面研磨方法。
- 前記下定盤及び前記上定盤を、線熱膨張係数が6×10−6/K以下の低熱膨張材とすることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の両面研磨方法。
- 前記上定盤の傾きを変えることにより前記パッド空隙を変更することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の両面研磨方法。
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