JP6300413B2 - 現像ローラおよび画像形成装置 - Google Patents
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Description
まず光導電性を有する感光体の表面を一様に帯電させた状態で露光して、当該表面に形成画像に対応する静電潜像を形成する(帯電工程→露光工程)。
次いでトナー像を用紙の表面に転写し(転写工程)、さらに定着させる(定着工程)ことにより当該用紙の表面に画像が形成される。
上記のうち現像工程では、感光体の表面に形成された静電潜像をトナー像に現像するために現像ローラが用いられる。
黒ベタ濃度は形成画像の全体のコントラストを向上するために重要であり、ドット濃度は細線画像の再現性を向上するために重要である。
そのため黒ベタ濃度とドット濃度をともに良好な範囲にすることは、従来の現像ローラでは実現困難であり、通常はどちらもベストではなくベターのレベルで両濃度のバランスをとっているのが現状である。
前記表層の厚みd1(mm)、
温度23℃、相対湿度55%の常温常湿環境下、回転するアルミニウムドラムに、前記表層を形成する前の基層の外周面を、前記シャフトの両端部にそれぞれ500gの荷重をかけて圧接させた状態で測定される、前記基層のみの状態でのローラ抵抗値R′(log Ω、10V印加時)、および
温度23℃、相対湿度55%の常温常湿環境下、回転するアルミニウムドラムに、前記現像ローラの外周面を、前記シャフトの両端部にそれぞれ500gの荷重をかけて圧接させた状態で測定される、前記基層と表層の積層体の全体でのローラ抵抗値R(log Ω、100V印加時)は式(1)〜式(3):
1.0≦R−R′ (1)
0.1≦d1≦2 (2)
7.5≦R≦8.5 (3)
を全て満足している現像ローラである。
シャフト3は、例えばアルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼等の金属によって一体に形成されている。
本発明では、上記のうち表層6の厚みd1(mm)、基層のみの状態でのローラ抵抗値R′(log Ω、10V印加時)、および基層4と表層6の積層体、すなわち現像ローラ1の全体でのローラ抵抗値R(log Ω、100V印加時)が式(1)〜式(3):
1.0≦R−R′ (1)
0.1≦d1≦2 (2)
7.5≦R≦8.5 (3)
を全て満足している必要がある。
一方、厚みd1(mm)が式(2)の範囲を超える場合には現像ローラ1の全体でのローラ抵抗値R(log Ω、100V印加時)が式(3)の範囲を超えて黒ベタ濃度が低下してしまう。
《基層4》
基層4は、上記表層6と組み合わせた際に現像ローラ1の全体でのローラ抵抗値R(log Ω、100V印加時)を式(3)の範囲内に維持しうる導電性が付与された種々の弾性材料によって形成性できる。
かかる基層4は、上記のように現像ローラ1の全体でのローラ抵抗値R(log Ω、100V印加時)を式(3)の範囲内に維持するため、当該基層4のみの状態でのローラ抵抗値R′(log Ω、10V印加時)を上記ローラ抵抗値R(log Ω、100V印加時)より低く設定するのが好ましく、特に式(4):
R′≦7.0 (4)
を満足する範囲とするのが好ましい。これにより、先に説明した表層6と組み合わせた際に現像ローラの全体でのローラ抵抗値R(Ω)を式(3)の範囲に調整できる。
また基層4は表層6で覆われて感光体やトナー等と直接に接触しないため、上記ゴム組成物にはオイルや可塑剤、あるいは脂肪酸等の加工助剤を多量に配合して基層4の、ひいては現像ローラ1の全体の柔軟性を向上させることも可能である。
〈ジエン系ゴム〉
ジエン系ゴムとしては、例えばスチレンブタジエンゴム(SBR)、クロロプレンゴム(CR)、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)およびブタジエンゴム(BR)からなる群より選ばれた少なくとも1種が挙げられる。
このうちSBRとしては、スチレンと1,3−ブタジエンとを乳化重合法、溶液重合法等の種々の重合法によって共重合させて合成される種々のSBRがいずれも使用可能である。またSBRとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと加えない非油展タイプのものとがあるが、このいずれも使用可能である。
これらSBRの1種または2種以上を使用できる。
(CR)
CRは、例えばクロロプレンを乳化重合させて合成され、その際に用いる分子量調整剤の種類によって硫黄変性タイプと非硫黄変性タイプに分類されるが、本発明ではこのいずれのCRも使用可能である。
また非硫黄変性タイプのCRはメルカプタン変性タイプ、キサントゲン変性タイプ等に分類される。
このうちメルカプタン変性タイプのCRは、例えばn−ドデシルメルカプタン、tert−ドデシルメルカプタン、オクチルメルカプタン等のアルキルメルカプタン類を分子量調整剤として使用して、硫黄変性タイプのCRと同様にして合成される。またキサントゲン変性タイプのCRは、アルキルキサントゲン化合物を分子量調整剤として使用して、硫黄変性タイプのCRと同様にして合成される。
本発明ではいずれのタイプのCRを用いてもよいが、中でも非硫黄変性タイプでかつ結晶化速度が遅いタイプのCRの1種または2種以上が好ましい。
さらにCRとしては、クロロプレンと他の共重合成分との共重合ゴムを用いてもよい。
(NBR)
NBRとしては、アクリロニトリル含量によって分類される低ニトリルNBR、中ニトリルNBR、中高ニトリルNBR、高ニトリルNBR、および極高ニトリルNBRがいずれも使用可能である。
これらNBRの1種または2種以上を使用できる。
(BR)
BRとしては、架橋性を有する種々のBRがいずれも使用可能である。
またBRとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと加えない非油展タイプのものとがあるが、このいずれも使用可能である。
これらBRの1種または2種以上を使用できる。
電子導電性の導電剤としては、特にヨウ素吸着量80mg/g以上、吸油量60ml/100g以上のカーボンまたは黒鉛等の電子導電性の導電剤が好ましい。
カーボンまたは黒鉛のヨウ素吸着量、および吸油量がそれぞれ上記の範囲に限定されるのは下記の理由による。
カーボンまたは黒鉛の配合割合がこの範囲未満では基層4の抵抗値が高くなりすぎて、現像ローラ1の全体でのローラ抵抗値Rが先述した式(3)の範囲の上限を超え、それにともなって黒ベタ濃度が低下するおそれがある。
そのためカーボンまたは黒鉛の配合割合は、ゴム分の総量100質量部あたり60質量部以下であるのが好ましい。
加工助剤としては、例えばプロセスオイル等のオイル、ジブチルフタレート(DBP)、ジオクチルフタレート(DOP)、トリクレジルホスフェート等の各種可塑剤、極性ワックス等の各種ワックス、あるいはステアリン酸等の脂肪酸などの1種または2種以上が挙げられる。
〈架橋成分〉
ゴム分を架橋させるため、ゴム組成物には架橋成分を配合する。架橋成分としては架橋剤、促進剤、促進助剤等が挙げられる。
また硫黄系架橋剤としては、粉末硫黄等の硫黄や有機含硫黄化合物等が挙げられる。また有機含硫黄化合物等としては、テトラメチルチウラムジスルフィド、N,N−ジチオビスモルホリン等が挙げられる。
さらに過酸化物架橋剤としては、例えばベンゾイルペルオキシド等が挙げられる。
架橋剤としては硫黄が好ましい。
促進剤としては、例えば消石灰、マグネシア(MgO)、リサージ(PbO)等の無機促進剤や、下記の有機促進剤等の1種または2種以上が挙げられる。
また有機促進剤としては、例えば1,3−ジ−o−トリルグアニジン、1,3−ジフェニルグアニジン、1−o−トリルビグアニド、ジカテコールボレートのジ−o−トリルグアニジン塩等のグアニジン系促進剤;2−メルカプトベンゾチアゾール、ジ−2−ベンゾチアゾリルジスルフィド等のチアゾール系促進剤;N−シクロへキシル−2−ベンゾチアジルスルフェンアミド等のスルフェンアミド系促進剤;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド等のチウラム系促進剤;チオウレア系促進剤等の1種または2種以上が挙げられる。
個々の促進剤の配合割合は種類によって任意に設定できるが、通常は個別に、ゴム分の総量100質量部あたり0.1質量部以上、特に0.2質量部以上であるのが好ましく、5質量部以下、特に2質量部以下であるのが好ましい。
促進助剤の配合割合は、個別にゴム分の総量100質量部あたり0.1質量部以上、特に0.5質量部以上であるのが好ましく、7質量部以下、特に5質量部以下であるのが好ましい。
ゴム組成物には、さらに必要に応じて各種の添加剤を配合してもよい。添加剤としては、例えば受酸剤、劣化防止剤、充填剤、スコーチ防止剤、滑剤、顔料、帯電防止剤、難燃剤、中和剤、造核剤、共架橋剤等が挙げられる。
このうち受酸剤は、ゴム分の架橋時にCRから発生する塩素系ガスが基層4内に残留したり、それによって架橋阻害や感光体の汚染等を生じたりするのを防止するために機能する。
また、ハイドロタルサイト類等を酸化マグネシウムや酸化カリウムと併用するとより高い受酸効果を得ることができ、感光体の汚染をより一層確実に防止できる。
劣化防止剤としては、各種の老化防止剤や酸化防止剤等が挙げられる。
このうち酸化防止剤は、現像ローラ1のローラ抵抗値の環境依存性を低減するとともに、連続通電時のローラ抵抗値の上昇を抑制する働きをする。酸化防止剤としては、例えばジエチルジチオカルバミン酸ニッケル〔大内新興化学工業(株)製のノクラック(登録商標)NEC−P〕、ジブチルジチオカルバミン酸ニッケル〔大内新興化学工業(株)製のノクラックNBC〕等が挙げられる。
充填剤を配合することにより、基層4の機械的強度等を向上できる。
充填剤の配合割合は、ゴム分の総量100質量部あたり5質量部以上であるのが好ましく、25質量部以下、特に20質量部以下であるのが好ましい。
スコーチ防止剤の配合割合は、ゴム分の総量100質量部あたり0.1質量部以上であるのが好ましく、5質量部以下、特に1質量部以下であるのが好ましい。
共架橋剤としては、例えばメタクリル酸エステルや、あるいはメタクリル酸またはアクリル酸の金属塩等に代表されるエチレン性不飽和単量体、1,2−ポリブタジエンの官能基を利用した多官能ポリマ類、あるいはジオキシム等の1種または2種以上が挙げられる。
(a) アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボン酸類、
(b) マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などのジカルボン酸類、
(c) (a)(b)の不飽和カルボン酸類のエステルまたは無水物、
(d) (a)〜(c)の金属塩、
(e) 1,3−ブタジエン、イソプレン、2−クロル−1,3−ブタジエンなどの脂肪族共役ジエン、
(f) スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、エチルビニルベンゼン、ジビニルベンゼンなどの芳香族ビニル化合物、
(g) トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート、ビニルピリジンなどの、複素環を有するビニル化合物、
(h) その他、(メタ)アクリロニトリルもしくはα−クロルアクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物、アクロレイン、ホルミルステロール、ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルブチルケトン
等の1種または2種以上が挙げられる。
モノカルボン酸類のエステルとしては、例えば
メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、i−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、n−ぺンチル(メタ)アクリレート、i−ぺンチル(メタ)アクリレート、n−へキシル(メタ)アクリレート、シクロへキシル(メタ)アクリレート、2−エチルへキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、i−ノニル(メタ)アクリレート、tert−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ヒドロキシメチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどの、(メタ)アクリル酸のアルキルエステル;
アミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ブチルアミノエチル(メタ)アクリレートなどの、(メタ)アクリル酸のアミノアルキルエステル;
べンジル(メタ)アクリレート、ベンゾイル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレートなどの、芳香族環を有する(メタ)アクリレート;
グリシジル(メタ)アクリレート、メタグリシジル(メタ)アクリレート、エポキシシクロヘキシル(メタ)アクリレートなどの、エポキシ基を有する(メタ)アクリレート;
N−メチロール(メタ)アクリルアミド、γ−(メタ)アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、テトラハイドロフルフリルメタクリレートなどの、各種官能基を有する(メタ)アクリレート;
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンジメタクリレート(EDMA)、ポリエチレングリコールジメタクリレート、イソブチレンエチレンジメタクリレートなどの多官能(メタ)アクリレート;
等の1種または2種以上が挙げられる。
以上で説明した各成分を含むゴム組成物は従来同様に調製できる。まずゴム分を素練りし、次いで架橋成分以外の各種添加剤を加えて混練した後、最後に架橋成分を加えて混練することでゴム組成物が得られる。混練には、例えばニーダ、バンバリミキサ、押出機等を用いることができる。
基層4を作製するには、まず上記ゴム組成物を押出成形機を用いて筒状に押出成形し、次いで所定の長さにカットして加硫缶内で加圧、加熱して架橋させる。
次いで架橋させた筒状体を、オーブン等を用いて加熱して二次架橋させ、冷却したのち所定の外径となるように研磨することで基層4が作製される。
また基層4は任意の硬さや圧縮永久ひずみ等を有するように調整できる。かかる硬さや圧縮永久ひずみ等を調整するためには、例えば先述したカーボンや黒鉛、あるいは加工助剤の種類や配合割合を調整すればよい他、ゴム分の種類や量を調整したり、架橋成分の種類や量を調整したり、充填剤その他の成分の種類や量を調整したりしてもよい。
基層4は、構造を簡略化するとともにその耐久性等を向上するため、非多孔質で単層に形成するのが好ましい。
《表層6》
表層6は、先に説明した式(1)〜(3)を全て満足しうる任意の弾性材料によって形成できる。
ゴム組成物からなる表層は上記コーティングやチューブからなるものに比べて低硬度でしかも圧縮永久ひずみが小さいため、たとえその厚みd1を先述した範囲でも厚めに設定したとしても現像ローラ1の全体での柔軟性の低下を抑制できる上、例えば現像ローラ1を一箇所で感光体と当接させた状態で長期間保管しても圧接痕を生じにくいという利点がある。
〈エピクロルヒドリンゴム〉
ゴム分のうちエピクロルヒドリンゴムとしては、エピクロルヒドリン単独重合体、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド二元共重合体(ECO)、エピクロルヒドリン−プロピレンオキサイド二元共重合体、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル二元共重合体、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル三元共重合体(GECO)、エピクロルヒドリン−プロピレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル三元共重合体、およびエピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−プロピレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル四元共重合体等の1種または2種以上が挙げられる。
両共重合体においてエチレンオキサイド含量は、いずれも30モル%以上、特に50モル%以上であるのが好ましく、80モル%以下であるのが好ましい。
エチレンオキサイドは、表層6の抵抗値を下げる働きをする。
一方、エチレンオキサイド含量が範囲を超える場合には、エチレンオキサイドの結晶化が起こり分子鎖のセグメント運動が妨げられるため、逆に抵抗値が上昇する傾向がある。また架橋後の表層6が硬くなりすぎたり、架橋前のゴム組成物の、加熱溶融時の粘度が上昇したりするおそれもある。
またGECOにおけるアリルグリシジルエーテル含量は0.5モル%以上、特に2モル%以上であるのが好ましく、10モル%以下、特に5モル%以下であるのが好ましい。
しかしアリルグリシジルエーテル含量がこの範囲未満ではかかる働きが得られないため、当該抵抗値を十分に低下できないおそれがある。
GECOにおけるエピクロルヒドリン含量は、エチレンオキサイド含量、およびアリルグリシジルエーテル含量の残量である。すなわちエピクロルヒドリン含量は10モル%以上、特に19.5モル%以上であるのが好ましく、69.5モル%以下、特に60モル%以下であるのが好ましい。
エピクロルヒドリンゴムの配合割合は、ゴム分の総量100質量部中の10質量部以上であるのが好ましく、80質量部以下、特に70質量部以下であるのが好ましい。
ジエン系ゴムとしては、例えばスチレンブタジエンゴム(SBR)、クロロプレンゴム(CR)、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)およびブタジエンゴム(BR)からなる群より選ばれた少なくとも1種が挙げられる。
特にジエン系ゴムとしては、耐油性に優れたNBRおよび/またはCRを併用するのが好ましい。
これに対し表層4を上記のように耐油性に優れたNBRおよび/またはCRを含むゴム組成物によって形成すれば、当該表層4をバリアとして機能させて加工助剤のブリードとそれに伴う感光体の汚染とを抑制できる。
〈架橋成分〉
上記ゴム分を架橋させるため、ゴム組成物には架橋成分を配合する。架橋成分としては架橋剤、促進剤、促進助剤等が挙げられる。これら架橋成分の詳細も先に説明したとおりである。
かかる併用系において硫黄の配合割合は、ゴム分の総量100質量部あたり0.2質量部以上、特に0.5質量部以上であるのが好ましく、3質量部以下、特に2質量部以下であるのが好ましい。
またチオウレア系架橋剤の配合割合は、ゴム分の総量100質量部あたり0.2質量部以上、特に0.5質量部以上であるのが好ましく、3質量部以下、特に1質量部以下であるのが好ましい。
〈その他〉
ゴム組成物には、さらに必要に応じて各種の添加剤を配合してもよい。添加剤としては、例えば受酸剤、可塑剤、加工助剤、劣化防止剤、充填剤、スコーチ防止剤、滑剤、顔料、帯電防止剤、難燃剤、中和剤、造核剤、共架橋剤等が挙げられる。これら添加剤の詳細や配合割合も先に説明したとおりである。
導電性カーボンブラックとしては、例えば電気化学工業(株)製のデンカブラック(登録商標)、ライオン(株)製のケッチェンブラック(登録商標)EC300J等の1種または2種以上が挙げられる。
〈ゴム組成物〉
以上で説明した各成分を含むゴム組成物は従来同様に調製できる。まずゴム分を所定の割合で配合して素練りし、次いで架橋成分以外の各種添加剤を加えて混練した後、最後に架橋成分を加えて混練することでゴム組成物が得られる。混練には、例えばニーダ、バンバリミキサ、押出機等を用いることができる。
基層4の外周面5に表層6を積層するには、まず上記ゴム組成物をシート状に成形する。
それを上記外周面5に巻き付けた状態で、例えばプレス金型内に仕込んでプレスして成形し、架橋させるとともに基層4と一体化させ、さらに冷却したのち所定の厚みd1(mm)となるように研磨することで表層6が形成される。
表層6は、構造を簡略化するとともにその耐久性等を向上するため、やはり非多孔質で単層に形成するのが好ましい。
図2は、現像ローラ1の全体でのローラ抵抗値R、および基層4のみの状態でのローラ抵抗値R′を測定する方法を説明する図である。
図1、図2を参照して、本発明では上記ローラ抵抗値R、R′を、前述したように温度23℃、相対湿度55%の常温常湿環境下、現像ローラ1の全体でのローラ抵抗値Rは印加電圧100V、基層4のみの状態でのローラ抵抗値R′は印加電圧10Vの条件で、下記の方法によって測定した値でもって表すこととする。
またシャフト3とアルミニウムドラム8との間に直流電源10および抵抗11を直列に接続して計測回路12を構成する。直流電源10は(−)側をシャフト3、(+)側を抵抗11と接続する。抵抗11の抵抗値r11は100Ωとする。
rまたはr′=r 11 ×E/V−r 11 (1)′
によって求められる。ただし式(1)′中の−r11の項は微小とみなすことができるため、本発明では式(1):
rまたはr′=r 11 ×E/V (1)
によって求めた値r(Ω)またはr′(Ω)のlog値でもって現像ローラ1のローラ抵抗値R(log Ω、100V印加時)、または基層4のみの状態でのローラ抵抗値R′(log Ω、10V印加時)とすることとする。
本発明の画像形成装置は、上記本発明の現像ローラを組み込んだことを特徴とするものである。
かかる本発明の画像形成装置としては、例えばレーザープリンタ、静電式複写機、普通紙ファクシミリ装置、あるいはこれらの複合機等の、電子写真法を利用した種々の画像形成装置が挙げられる。
(ゴム組成物)
ゴム分としてはSBR〔JSR(株)製のJSR1502、非油展、スチレン含量:23.5%〕を用意した。
上記SBR100質量部をバンバリミキサを用いて素練りしながら、ヨウ素吸着量113mg/g、吸油量78ml/100gのカーボンブラック〔キャボットジャパン(株)製のショウブラックN219〕50質量部、およびアロマ系プロセスオイル〔H&R社製のVivaTec 400、T−DAE〕50質量部と、下記表1に示す各成分のうち架橋成分以外を加えて混練した後、架橋成分を加えてさらに混練して基層i用のゴム組成物を調製した。
5%オイル入り硫黄:架橋剤、鶴見化学工業(株)製
促進剤MBTS:ジ−2−ベンゾチアゾリルジスルフィド、チアゾール系促進剤、大内新興化学工業(株)製のノクセラー(登録商標)DM−P
促進剤TS:テトラメチルチウラムモノスルフィド、チウラム系促進剤、三新化学工業(株)製のサンセラー(登録商標)TS
酸化亜鉛2種:促進助剤、堺化学工業(株)製
(基層iの作製)
上記ゴム組成物を押出成形機に供給して外径φ20.0mm、内径φ7.0mmの筒状に押出成形し、架橋用の仮のシャフトに装着して加硫缶内で160℃×1時間架橋させた。
《基層ii》
カーボンブラック〔キャボットジャパン(株)製のショウブラックN219〕の配合割合を、SBR100質量部あたり40質量部としたこと以外は基層iと同様にして基層ii用のゴム組成物を調製し、シャフトと一体化された基層iiを作製した。
《基層iii》
カーボンブラックとして、ヨウ素吸着量119mg/g、吸油量115ml/100gのカーボンブラック〔キャボットジャパン(株)製のショウブラックN220〕を、SBR100質量部あたり50質量部配合したこと以外は基層iと同様にして基層iii用のゴム組成物を調製し、シャフトと一体化された基層iiiを作製した。
《基層iv》
カーボンブラック〔キャボットジャパン(株)製のショウブラックN219〕の配合割合を、SBR100質量部あたり37質量部としたこと以外は基層iと同様にして基層iv用のゴム組成物を調製し、シャフトと一体化された基層ivを作製した。
《表層I》
(ゴム組成物)
ゴム分としてGECO〔ダイソー(株)製のエピオン(登録商標)301L、EO/EP/AGE=73/23/4(モル比)〕5質量部、CR〔昭和電工(株)製のショウプレン(登録商標)WRT〕10質量部、およびNBR〔JSR(株)製のJSR N250 SL、低ニトリルNBR、アクリロニトリル含量:20%〕85質量部を配合した。
促進剤DT:1,3−ジ−o−トリルグアニジン、グアニジン系促進剤、三新化学工業(株)製のサンセラーDT
カーボンブラック:補強用カーボンブラック、旭カーボン(株)製の#15(FT)
受酸剤:ハイドロタルサイト類、協和化学工業(株)製のDHT−4A(登録商標)−2
(表層Iの形成)
上記ゴム組成物をシート状に成形し、先に作製した基層の外周面に巻き付けた状態でφ20のプレス金型内に仕込んで160℃×1時間プレスして成形し、架橋させるとともに基層と一体化させ、さらに冷却したのち表3、表4に示す厚みd1(mm)になるように研磨して表層Iを形成し、現像ローラを製造した。
ゴム分のうちGECOの配合割合を10質量部、NBRの配合割合を80質量部としたこと以外は表層Iと同様にして表層II用のゴム組成物を調製するとともに基層と一体化された表層IIを形成し、現像ローラを製造した。
《表層III》
ゴム分のうちGECOの配合割合を15質量部、NBRの配合割合を75質量部としたこと以外は表層Iと同様にして表層III用のゴム組成物を調製するとともに基層と一体化された表層IIIを形成し、現像ローラを製造した。
ゴム分のうちGECOの配合割合を30質量部、NBRの配合割合を60質量部としたこと以外は表層Iと同様にして表層IV用のゴム組成物を調製するとともに基層と一体化された表層IVを形成し、現像ローラを製造した。
《実施例1〜8、比較例1〜3》
上記基層i〜ivと表層I〜IVを表3、表4に示すように組み合わせて実施例1〜8、比較例1〜3の現像ローラを製造した。
先述した表層II(比較例4)、表層III(比較例5)、および表層IV(比較例6)用のゴム組成物を用いて全体の外径:φ16.00mm(公差0.05)の単層の現像ローラを製造した。
《ローラ抵抗値Rの測定》
製造した現像ローラ1の全体のローラ抵抗値R(log Ω、100V印加時)を先に説明した測定方法によって測定した。また測定したローラ抵抗値Rと、各基層のみのローラ抵抗値R′(log Ω、10V印加時)との差R−R′を求めた。
〈黒ベタ濃度〉
上記実施例、比較例で製造した現像ローラを、正帯電性の非磁性1成分トナーを使用し、印刷可能枚数が約4000枚(A4サイズ、日本工業規格JIS X6932:2008公表値)程度であるレーザープリンタに組み込んで温度23.5℃、相対湿度55%の環境下、普通紙に1%濃度の画像を連続的に4000枚連続して画像形成した直後に、黒ベタ画像を1枚画像形成した。
〈ドット濃度〉
上記黒ベタ濃度と同様に普通紙に1%濃度の画像を連続的に4000枚連続して画像形成した直後に、ドット画像を1枚画像形成した。
以上の結果を表3、表4に示す。
2 通孔
3 シャフト
4 基層
5 外周面
6 表層
7 外周面
11 アルミニウムドラム
12 外周面
13 直流電源
14 抵抗
15 計測回路
F 荷重
V 検出電圧
Claims (5)
- 弾性材料からなる筒状の基層、および当該基層の外周面に積層された弾性材料からなる表層を備え、前記基層にシャフトが挿通されて固定された現像ローラであって、
前記表層の厚みd1(mm)、
温度23℃、相対湿度55%の常温常湿環境下、回転するアルミニウムドラムに、前記表層を形成する前の基層の外周面を、前記シャフトの両端部にそれぞれ500gの荷重をかけて圧接させた状態で測定される、前記基層のみの状態でのローラ抵抗値R′(log Ω、10V印加時)、および
温度23℃、相対湿度55%の常温常湿環境下、回転するアルミニウムドラムに、前記現像ローラの外周面を、前記シャフトの両端部にそれぞれ500gの荷重をかけて圧接させた状態で測定される、前記基層と表層の積層体の全体でのローラ抵抗値R(log Ω、100V印加時)は式(1)〜式(3):
1.0≦R−R′ (1)
0.1≦d1≦2 (2)
7.5≦R≦8.5 (3)
を全て満足している現像ローラ。 - 前記表層はゴム分としてジエン系ゴムを含むゴム組成物からなる請求項1に記載の現像ローラ。
- 前記表層はゴム分としてアクリルニトリルブタジエンゴムおよびクロロプレンゴムからなる群より選ばれた少なくとも1種のジエン系ゴムと、エピクロルヒドリンゴムとを含んでいる請求項2に記載の現像ローラ。
- 前記基層はゴム分と、当該ゴム分の総量100質量部あたり30質量部以上の、ヨウ素吸着量80mg/g以上、吸油量60ml/100g以上のカーボンまたは黒鉛とを含むゴム組成物からなり、かつ前記基層のみの状態でのローラ抵抗値R′(log Ω、10V印加時)が式(4):
R′≦7.0 (4)
を満足している請求項1ないし3のいずれか1項に記載の現像ローラ。 - 前記請求項1ないし4のいずれか1項に記載の現像ローラを組み込んだ画像形成装置。
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