JP2005188615A - 導電性ゴムローラおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 抵抗値の環境依存性、電圧依存性がともに著しく小さく、優れた帯電、転写安定性を有する導電性ゴムローラおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 支持軸に、イオン導電性ゴム層からなる基層と、該イオン導電性ゴム層よりも低い表面抵抗値を有する電子導電性ポリマー層からなる表面層と、を含むゴム層が形成された導電性ゴムローラであって、該イオン導電性ゴム層の表面抵抗値（Ａ）と該電子導電性ポリマー層の表面抵抗値（Ｂ）との比（Ａ）／（Ｂ）が１＜（Ａ）／（Ｂ）≦１００の範囲内に設定されることを特徴とする導電性ゴムローラおよびその製造方法に関する。表面層の厚みは５μｍ〜４０μｍであることが好ましい。
【選択図】 図１

Description

本発明は、電子写真複写機やプリンター、ファクシミリ等の画像形成装置に好適に使用され、優れた帯電、転写安定性を有する導電性ゴムローラおよびその製造方法に関する。

従来、電子写真複写機やプリンター、ファクシミリ等の画像形成装置に使用される導電性ゴムローラにおいては、カーボン、金属酸化物等を含有させることにより導電性を付与した電子導電性ゴム、またはイオン性物質等を含有させることにより導電性を付与したイオン導電性ゴムが一般的に用いられている。

電子導電性ゴムにおいては、カーボンや金属酸化物等の導電性物質の分散が一般に困難であるため、低電圧印加時における抵抗値と高電圧印加時における抵抗値との差、すなわち電圧依存性が大きくなる傾向がある。

一方、イオン導電性ゴムにおいては、イオン性物質の分散が比較的容易であるため、抵抗値の電圧依存性は電子導電性ゴムより小さくすることができる。しかし、イオン導電性ゴム中にはエーテル結合やエステル結合等が存在し、ゴムは全体として親水性を示す。よって、特に高温高湿環境においては、吸水によって抵抗値が上がる傾向にあり、逆に低温低湿環境においては、ゴムが乾燥することによって電荷担体の遊離イオン濃度が減少するため、イオン導電性が低下し、抵抗値が上昇してしまう。すなわち、イオン導電性ゴムにおいては、抵抗値の環境依存性が大きくなり易い。低温低湿環境において抵抗値が上昇した場合には、画像濃度が薄くなる等の問題が生じる。

ゴムローラにおける抵抗値の環境依存性を改善する方法として、特許文献１には、導電性支持体にイオン導電性弾性体層および電子導電性物質を分散させた表面層を順次積層させ、該表面層が静電塗装により形成された塗膜である帯電ロールが開示されている。

上記の帯電ロールにおいては、吸水性を持つイオン導電性弾性体層の上に吸水性のない表面層を静電塗装によって形成することにより、抵抗値の環境依存性を±１桁以内に抑制し、環境変化に関わらず安定した帯電電位を長時間維持することを目的とする。しかし、環境依存性が±１桁以内では未だ変動が大きく、環境変化が大きい所では、画像が薄くなったり、濃くなったりする等の問題が生じる。

一方、特許文献２には、イオン伝導機構を有する中抵抗な弾性材料を主体に構成された導電性の弾性層と、該被帯電体に接触し該弾性層上に表面処理した導電剤を含有した被覆層とが少なくとも積層され、直流電圧−５０Ｖ〜−１０００Ｖを印加した場合に、測定電圧が−５０Ｖのときの該弾性層と該被覆層との間の抵抗値をＲ１、測定電圧が−１０００Ｖのときの該弾性層と該被覆層との間の抵抗値をＲ２とし、Ｒ１≧Ｒ２であるとき、該弾性層と該被覆層との間の抵抗値の変化率ＡをＲ１／Ｒ２としたときに、Ａ＜１００を満足し、かつ、測定電圧が−５０Ｖのときの該弾性層と該被覆層との間の抵抗値Ｒ１を、Ｒ１≦８×１０⁷Ωを満足するように、該弾性層と該被覆層を抵抗調整した帯電部材が開示されている。しかし上記の帯電部材において、弾性層と被覆層との間の抵抗値Ｒ１がたとえば８×１０⁷Ωである場合、弾性層と被覆層との間の抵抗値が大きく、被覆層の厚さが少しでもばらつくと全体のローラ抵抗値が大きく変わってしまうため、製造安定性に欠ける。
特開２０００−３５２８５７号公報 特開２００２−２２９３００号公報

本発明は上記の課題を解決し、抵抗値の環境依存性、電圧依存性がともに著しく小さく、優れた帯電、転写安定性を有する導電性ゴムローラおよびその製造方法を提供することを目的とする。

本発明は、支持軸に、イオン導電性ゴム層からなる基層と、該イオン導電性ゴム層よりも低い表面抵抗値を有する電子導電性ポリマー層からなる表面層とを含むゴム層が形成された導電性ゴムローラであって、イオン導電性ゴム層の表面抵抗値（Ａ）と電子導電性ポリマー層の表面抵抗値（Ｂ）との比（Ａ）／（Ｂ）が１＜（Ａ）／（Ｂ）≦１００の範囲内に設定されることを特徴とする導電性ゴムローラに関する。

また、表面層の厚みは５μｍ〜４０μｍであることが好ましい。

本発明に用いられる電子導電性ポリマー層は、カーボンまたは金属酸化物を含有するフッ素樹脂からなることが好ましい。

本発明はまた、支持軸に、イオン導電性ゴム層からなる基層と、該イオン導電性ゴム層よりも低い表面抵抗値を有する電子導電性ポリマー層からなる表面層とを含むゴム層が形成された導電性ゴムローラの製造方法であって、
イオン導電性ゴム層からなる基層を形成する工程と、
該イオン導電性ゴム層の表面温度および／または雰囲気温度を１３０℃〜１５０℃の範囲内に設定する工程と、
該イオン導電性ゴム層よりも低い表面抵抗値を有する電子導電性ポリマー層からなる表面を、該イオン導電性ゴム層の外周に形成する工程と、
を含み、
該イオン導電性ゴム層の表面抵抗値（Ａ）と該電子導電性ポリマー層の表面抵抗値（Ｂ）との比（Ａ）／（Ｂ）が１＜（Ａ）／（Ｂ）≦１００の範囲内に設定されることを特徴とする、導電性ゴムローラの製造方法に関する。

本発明によれば、イオン導電性ゴム層からなる基層と電子導電性ポリマー層からなる表面層とを有するゴム層を形成し、イオン導電性ゴム層と電子導電性ポリマー層との表面抵抗値の関係を所定の範囲内に設定することにより、抵抗値の電圧依存性を大きく上昇させることなく環境依存性を低減させることが可能であり、幅広い使用環境において優れた帯電、転写安定性を有する導電性ゴムローラを提供することが可能となる。

図１は、本発明の典型的な形態を示す断面図である。本発明の導電性ゴムローラは、イオン導電性ゴム層からなる基層１１と、該イオン導電性ゴム層よりも低い表面抵抗値を有する電子導電性ポリマー層からなる表面層１２とを含むゴム層、および支持軸１３より形成される。

ゴム層は、上記の基層および表面層のみから形成されていても、上記の基層の内周または外周にさらに別の層が形成された構成であっても良いが、特に、イオン導電性ゴム層と、その外周に電子導電性ポリマー層が形成された２層構造とすることができる。この場合、複雑な工程を経ることなく安価に製造可能で、しかも優れた帯電、転写安定性を有する導電性ゴムローラが得られる。

一般に、イオン導電性ポリマーは、抵抗値の電圧依存性が小さい点で優れるが、ポリマー全体として親水性を示すため、抵抗値の環境依存性が大きくなり易い傾向がある。一方電子導電性ポリマーは、抵抗値の環境依存性が小さい点では優れるが、導電性物質をポリマー中に均一に分散させることが困難であり、抵抗値の電圧依存性が大きくなり易い傾向がある。よって、いずれかの導電性を示すポリマーを単独で導電性ゴムローラに用いた場合には、抵抗値の電圧依存性と環境依存性の両方を小さくすることは困難である。

本発明においては、外界に露出しない基層部分にイオン導電性ゴムを用い、外界の環境の影響を受け易い表面層に電子導電性ポリマーを使用することにより、イオン導電性に対する外界の水分の影響を排除でき、抵抗値における低環境依存性と低電圧依存性とを両立することができる。また、基層の表面抵抗値よりも表面層の表面抵抗値を小さくすることによって、導電性ゴムローラに良好な帯電、転写安定性を付与することができる。

本発明において、イオン導電性ゴム層の表面抵抗値（Ａ）と、電子導電性ポリマー層の表面抵抗値（Ｂ）との比（Ａ）／（Ｂ）は、１＜（Ａ）／（Ｂ）≦１００の範囲内に設定される。本発明においては、イオン導電性ゴム層よりも低抵抗の電子導電性ポリマー層を設けるため、上記（Ａ）／（Ｂ）は１より大きいことが必要である。一方、上記（Ａ）／（Ｂ）が１００以下であれば、帯電、転写安定性の低下を効果的に防止できる。

本発明におけるイオン導電性ゴム層および電子導電性ポリマー層の表面抵抗値は、たとえば以下の方法で測定できる。図２は、本発明においてゴム層の表面抵抗値を測定する方法を説明する図である。金属ローラ２１の表面に絶縁体２２を置き、その上に、厚み０．５ｍｍ、幅２０ｍｍの金属板２３を１００ｍｍ間隔で２つ設置する。その上に、支持軸の外周にゴム層を形成させた導電性ゴムローラ２４を置き、該ゴムローラ２４の軸方向各端部に、矢印Ａ方向に１．０ｋｇ、合計２．０ｋｇの荷重をかけた状態で、２枚の金属板に定電流および定電圧を流して５秒後の表面抵抗値を測定し、３箇所の測定値を平均して表面抵抗値とする。

本発明においては、表面層の厚みが５μｍ〜４０μｍであることが好ましい。表面層の厚みが５μｍ以上であれば、電子導電性ポリマー層を設けることによる抵抗値の環境依存性の低減効果が所望の程度得られ、４０μｍ以下であれば、イオン導電性ゴム層が有する抵抗値の低電圧依存性を損なうことがない。中でも、表面層の厚みを１０μｍ以上３０μｍ以下に設定することが特に好ましい。

本発明に用いるイオン導電性ゴムのゴム成分としては、エピクロロヒドリンゴム、ウレタンゴム、ニトリルブタジエンゴム、アクリルゴム、クロロプレンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、ノルボルネンゴム、等のイオン導電性を有するゴムの他、天然ゴム（ＮＲ）、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、スチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム（ＥＰＤＭ）、ブチルゴム、シリコンゴム、等のゴムを、単独または２種以上の混合物として用いることができる。これらのうちエピクロロヒドリンゴムは良好な導電性および物性を有する点で特に好適である。

イオン導電性ゴムには、イオン導電性を示す充填剤を配合することが好ましく、たとえば、過塩素酸リチウム、過塩素酸ナトリウム、過塩素酸カルシウム等の無機塩の他、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、オクタデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド、変性脂肪族ジメチルエチルアンモニウムエトサルフェート、過塩素酸テトラエチルアンモニウム、過塩素酸テトラブチルアンモニウム、ホウフッ化テトラブチルアンモニウム、ホウフッ化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム等の第四級アンモニウム塩、さらに過塩素酸塩、アルキルスルホン酸塩、リン酸エステル塩等が挙げられる。これらの充填剤は単独で用いても２種以上を組み合わせて用いても良い。

本発明に用いる電子導電性ポリマーのポリマー成分としては、イオン導電性ゴム層の表面抵抗値（Ａ）と、電子導電性ポリマー層の表面抵抗値（Ｂ）との比（Ａ）／（Ｂ）が、１＜（Ａ）／（Ｂ）≦１００の範囲内となるように表面抵抗値の調整が可能なポリマーであれば特に限定はなく、たとえばフッ素樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等を使用できる。これらのポリマー成分は１種でも２種以上の混合物でも良い。また、電子導電性を付与する充填剤としては、カーボン、金属酸化物等が使用できる。

イオン導電性ゴムおよび電子導電性ポリマーには、この他以下に説明するようなゴム製品の製造に一般的に用いられる配合成分が適宜配合される。

加硫剤としては、硫黄、テトラアルキルチウラム−ジサルファイド、モルホリン−ジサルファイド、アルキル−フェノール−ジサルファイドなどの硫黄系有機化合物、酸化マグネシウムなどの金属化合物、ｐ−キノン−オキシム、ｐ，ｐ’−ジベンゾイル−キノンジオキシムなどのオキシム、ジクミル−パーオキサイド、ベンゾイル−パーオキサイドなどの過酸化物、塩化硫黄、セレン、テルルなどがあるが、安価で容易に入手でき、かつ加硫作用も十分に大きく、またゴムローラ表面の耐磨耗性が優れる点で、硫黄が好ましい。

加硫促進剤としては、ジベンゾチアゾリルジサルファイド（ＤＭ）、２−メルカプトベンゾチアゾール（Ｄ）、２−メルカプトベンゾチアゾール亜鉛塩（ＭＺ）などのチアゾール類、ジイソプロピルスルフェンアミド（ＤＩＢＳ）、シクロヘキシルスルフェンアミド（ＣＺ）などのスルフェンアミド類、テトラメチルチラウムジサルファイド（ＴＴ）、テトラエチルチウラム−ジサルファイド（ＴＥＴ）、ジペンタメチレンチウラム−テトラサルファイド（ＴＲＡ）などのチウラム類、ジメチルジチオカーバメート亜鉛塩（ＰＺ）、ジエチルジチオカーバメート亜鉛塩（ＥＺ）等のジチオ酸塩、その他グアニジン類、チオウレア類、アルデヒドアンモニア類、ザンテート類などがある。ゴム成分と加硫剤との反応を促進し、加硫時間の短縮、加硫温度の低下、硫黄量の低減を図り、ゴムローラの破断強度、耐磨耗性を向上させる点で、チアゾール類は好ましく、特にＤＭが好ましい。また、チアゾール類よりスコーチが遅く、加硫の立ち上がりが速い点で、スルフェンアミド類も好ましく、特にＣＺが好ましい。

加硫促進助剤としては、亜鉛華等の金属酸化物、ステアリン酸亜鉛、オレイン酸等の脂肪酸が挙げられる。

その他、アミン系、フェノール系等の老化防止剤、カーボン、シリカ、クレー、コルク、タルク、炭酸カルシウム、二塩基亜リン酸塩（ＤＬＰ）、塩基性炭酸マグネシウム、アルミナ等の充填剤の他、軟化剤、補強剤等を適宜配合することができる。

本発明に用いるゴム層は、中実のソリッドゴム（硬質ゴム）として調製しても、スポンジゴムとして調製しても良く、本発明の導電性ゴムローラを適用する電子写真装置における所望の性能に応じて適宜選択すれば良い。

スポンジゴムは、ゴム組成物の配合成分に発泡剤、および必要に応じて発泡助剤を添加し、好ましくは密閉条件下で加硫成形することによって製造することができる。

発泡剤としては、化学発泡剤が好適に用いられ、有機系と無機系に分類される。有機系の発泡剤としては、アゾジカルボンアミド（ＡＤＣＡ）、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、バリウムアゾジカルボキシレート（Ｂａ／ＡＣ）等のアゾ化合物、Ｎ，Ｎ’−ジニトロソペンタメチレンテトラミン（ＤＰＴ）等のニトロソ化合物、ベンゼンスルホニルヒドラジド（ＢＳＨ）、４，４オキシビス（ベンゼンスルホニルヒドラジド）（ＯＢＳＨ）、トルエンスルホニルヒドラジド（ＴＳＨ）、ヒドラゾジカルボンアミド（ＨＤＣＡ）等のヒドラジン誘導体等が使用できる。無機系の発泡剤としては、重炭酸ナトリウム（重曹）、重炭酸アンモニウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム等が使用できる。これらは単独でも２種以上を組み合わせて用いても良い。

また発泡助剤としては、サリチル酸等の有機酸系助剤の他、尿素系助剤等が使用可能である。これらのうち、本発明において好適に用いられるエピクロロヒドリンゴムに対する発泡剤としては、Ｎ，Ｎ’−ジニトロソペンタメチレンテトラミン（ＤＰＴ）等のニトロソ化合物が特に好ましい。

本発明の導電性ゴムローラは、以下の方法で製造することができる。すなわち、導電性を有する支持軸に、イオン導電性ゴム層からなる基層と、該イオン導電性ゴム層よりも低い表面抵抗値を有する電子導電性ポリマー層からなる表面層とを含むゴム層を形成する。

基層および表面層は、たとえば以下の方法で製造することができる。すなわち、ゴム組成物の配合成分をまずニーダー機等で素練りした後、円筒形に押出し成型する。これをたとえば４ｋｇｆ／ｃｍ²（３．９２２６６×１０⁵Ｐａ）の荷重下で、１５０℃で５０分間蒸気加硫し、ステンレス製の芯金に挿入した後、ゴム表面を研磨して、円筒形の基層を得る。続いて、基層の外周に、フッ素樹脂等の電子導電性ポリマーを、所定の乾燥厚みとなるように、スプレー、塗布等の方法で塗装し、たとえば１５０℃の雰囲気温度で１時間乾燥させ、表面層を形成する。

以上の方法で本発明の導電性ゴムローラを製造することができる。

なお、上記の方法において、電子導電性ポリマーを塗布する際のイオン導電性ゴム層の表面温度および／または雰囲気温度は、１３０〜１５０℃の範囲内に設定されることが好ましい。電子導電性ポリマー層は、加熱状態の基層上に電子導電性ポリマー層用配合材料を、スプレー等の方法により塗装した後、冷却とともに該材料を収縮させることにより、基層上に形成させることが好ましい。このとき、雰囲気温度を１３０〜１５０℃の範囲内に設定すると、電子導電性ポリマー層の収縮力を一定の範囲内に制御することができ、特に良好な電子導電性が得られる。この理由は明らかでないが、電子導電性ポリマー層の収縮力を制御することによって、該電子導電性ポリマー層中の電子導電性物質の分散状態が最適化され、電子導電性が向上するものと考えられる。雰囲気温度が高温過ぎる場合には、電子導電性ポリマー層の収縮力を精密にコントロールすることが困難であり、結果として外形安定性が低下する危険性がある。一方、雰囲気温度が低過ぎる場合には、冷却時の電子導電性ポリマー層の収縮力が小さく、電子導電性の向上効果は小さい。

＜実施例＞
以下に本発明の実施例について説明する。

（１） ゴムローラの製造
（実施例１〜４）
エピクロロヒドリンゴム８０質量部、ＮＢＲ２０質量部をニーダー機で素練りし、ステアリン酸１質量部、亜鉛華５質量部、カーボン２０質量部、加硫促進剤３質量部、硫黄１質量部を順にニーダー機に投入、混練してゴムコンパウンドを得た。これを円筒形に押出し成形し、４ｋｇｆ／ｃｍ²（３．９２２６６×１０⁵Ｐａ）の荷重下で、１５０℃で５０分間蒸気加硫し、ステンレス製の芯金に挿入後、ゴム表面を研磨して基層を形成した。
なお、エピクロロヒドリンゴムはエチレンオキサイド、アリルグリシジルエーテル、およびエピクロロヒドリンの３種類の共重合体、ＮＢＲは低ニトリルＮＢＲ、カーボンはサーマルブラック、加硫促進剤はテトラメチルチラウムジサルファイド（ＴＴ）およびジベンゾチアゾリルジサルファイド（ＤＭ）、加硫剤は硫黄、をそれぞれ用いた。

基層につき、図２に示す方法で表面抵抗値を測定した。金属ローラ２１の表面に絶縁体２２を置き、その上に、厚み０．５ｍｍ、幅２０ｍｍの金属板２３を１００ｍｍ間隔で２つ設置した。その上に、支持軸の外周に基層を形成させた導電性ゴムローラ２４として、上記で基層を形成したローラを置き、該ローラの軸方向各端部に、矢印Ａ方向に１．０ｋｇ、合計２．０ｋｇの荷重をかけた状態で、２枚の金属板２３に定電流および定電圧を流して５秒後の表面抵抗値を測定し、３箇所の測定値を平均して表面抵抗値とした。基層の表面抵抗値は、１．１Ｅ＋０７Ωであった。

形成した基層の外周に電子導電性のフッ素樹脂をスプレー塗装した後、１５０℃の雰囲気下にて１時間乾燥し、表１および表２に示す乾燥膜厚となるように表面層を形成し、導電性ゴムローラを得た。なお、基層の両端部にはスプレー塗装していない。

得られた導電性ゴムローラにつき、基層を形成したローラと同様の方法で表面抵抗値を測定した。導電性ゴムローラの表面抵抗値は、９．８Ｅ＋０５Ωであった。

（２） 環境依存性
得られた導電性ゴムローラを、Ｌ／Ｌ（温度１０℃、湿度１５％）、Ｎ／Ｎ（温度２２℃、湿度５５％）、Ｈ/Ｈ（温度２８℃、湿度８５％）の各環境下にそれぞれ２４時間放置した後、ゴムローラ全体の抵抗値を測定した。

抵抗値は以下の方法で測定した。すなわち、直径３０ｍｍの回転金属ロールに、金属シャフトに形成したゴムローラを２．０ｋｇで当接し、抵抗計（トレック社製）により、ゴムローラを形成した金属シャフトに５０μＡの定電流を流し、５秒後の電圧を読み取り、抵抗値を算出した。

得られた抵抗値につき、以下の式、
環境依存性指数（ｌｏｇΩ）＝[Ｌ／Ｌ環境下の抵抗値（ｌｏｇΩ）]−[Ｈ／Ｈ環境下の抵抗値（ｌｏｇΩ）]
によって環境依存性指数を算出した。結果を表１に示す。

（３） 電圧依存性
得られた導電性ゴムローラを直径３０ｍｍの回転金属ロールに荷重２．０ｋｇで当接し、抵抗計（アドバンテスト社製「Ｒ８３４０Ａ」）を用いて１００Ｖ、および５００Ｖの直流電圧を印加し、３０秒後の抵抗値の最大値と最小値とから平均値を求めた。

得られた平均値につき、以下の式、
電圧依存性指数（ｌｏｇΩ）＝[１００Ｖ印加時の抵抗値（ｌｏｇΩ）]−[５００Ｖ印加時の抵抗値（ｌｏｇΩ）]
によって電圧依存性指数を算出した。結果を表２に示す。

表１に示す結果より、本発明の導電性ゴムローラにおいては、環境依存性指数がいずれも０．５ｌｏｇΩ以下であり、導電性ゴムローラとしての実用面で満足できるレベルを達成している。電子導電性ポリマーからなる表面層を形成していない比較例の環境依存性指数が０．９５ｌｏｇΩ〜０．９７ｌｏｇΩの範囲内であるのと比べて、環境依存性が著しく低減されていることが分かる。

また、表２に示す結果より、本発明の導電性ゴムローラにおいては、電圧依存性指数がいずれも０．２ｌｏｇΩ以下であり、電子導電性ポリマーからなる表面層を形成していない比較例の電圧依存性が０．０５ｌｏｇΩ〜０．０６ｌｏｇΩであるのと比べて若干高いものの、著しい上昇は見られず、導電性ゴムローラとしての実用面において満足できるレベルである。電子導電性ポリマーからなる表面層を形成した場合にも、イオン導電性ゴムからなる基層が有する低電圧依存性を損なわないことが分かる。

これらの結果より、本発明の導電性ゴムローラは、抵抗値の電圧依存性および環境依存性が著しく低く、優れた帯電、転写安定性を示すことが分かる。

今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。

本発明によれば、抵抗値の電圧依存性および環境依存性がともに著しく低く、幅広い使用環境において優れた帯電、転写安定性を得ることが可能な導電性ゴムローラを提供することが可能となる。

本発明の典型的な形態を示す断面図である。 本発明においてゴム層の表面抵抗値を測定する方法を説明する図である。

符号の説明

１１ 基層、１２ 表面層、１３ 支持軸、２１ 金属ローラ、２２ 絶縁体、２３ 金属板、２４ 導電性ゴムローラ。

Claims (5)

1. 支持軸に、イオン導電性ゴム層からなる基層と、前記イオン導電性ゴム層よりも低い表面抵抗値を有する電子導電性ポリマー層からなる表面層と、を含むゴム層が形成された導電性ゴムローラであって、
   前記イオン導電性ゴム層の表面抵抗値（Ａ）と前記電子導電性ポリマー層の表面抵抗値（Ｂ）との比（Ａ）／（Ｂ）が１＜（Ａ）／（Ｂ）≦１００の範囲内に設定されることを特徴とする、導電性ゴムローラ。
2. 前記表面層の厚みが５μｍ〜４０μｍであることを特徴とする、請求項１に記載の導電性ゴムローラ。
3. 表面層の厚みが１０μｍ〜３０μｍであることを特徴とする、請求項１に記載の導電性ゴムローラ。
4. 前記電子導電性ポリマー層は、カーボンまたは金属酸化物を含有するフッ素樹脂からなることを特徴とする、請求項１に記載の導電性ゴムローラ。
5. 支持軸に、イオン導電性ゴム層からなる基層と、前記イオン導電性ゴム層よりも低い表面抵抗値を有する電子導電性ポリマー層からなる表面層と、を含むゴム層が形成された導電性ゴムローラの製造方法であって、
   イオン導電性ゴム層からなる基層を形成する工程と、
   前記イオン導電性ゴム層の表面温度および／または雰囲気温度を１３０℃〜１５０℃の範囲内に設定する工程と、
   前記イオン導電性ゴム層よりも低い表面抵抗値を有する電子導電性ポリマー層からなる表面層を、前記イオン導電性ゴム層の外周に形成する工程と、
   を含み、
   前記イオン導電性ゴム層の表面抵抗値（Ａ）と前記電子導電性ポリマー層の表面抵抗値（Ｂ）との比（Ａ）／（Ｂ）が１＜（Ａ）／（Ｂ）≦１００の範囲内に設定されることを特徴とする導電性ゴムローラの製造方法。

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