JP7382004B2 - 現像ローラ - Google Patents
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Description
本発明は、電子写真法を利用した画像形成装置に組み込んで用いる現像ローラに関するものである。
近時、現像ローラとして、ローラ本体を含み、かつ当該ローラ本体を、ともにゴム組成物の架橋物からなる、筒状の内層と、当該内層の外周面を被覆してローラ本体の外周面を構成する外層とを含む積層構造としたものが検討されている（特許文献１等参照）。
本発明の目的は、積層構造を有し、なおかつ現状よりも画質に優れた画像を形成できる現像ローラを提供することにある。
本発明は、ゴムとしてエピクロルヒドリンゴム、およびジエン系ゴムを含むゴム組成物の架橋物からなる筒状の内層、および前記内層の外周を被覆する筒状の外層を含むローラ本体を含み、前記エピクロルヒドリンゴムの割合は、前記ゴムの総量１００質量部中の２１質量部以上であり、前記外層の外周面である前記ローラ本体の外周面の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）は、式(１)：
７．０≦ｌｏｇＲ１≦８．５ (１)
を満足し、かつ前記ローラ本体の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）は、式(２)：
６．３≦ｌｏｇＲ２≦８．５ (２)
を満足していて、前記外層は、ゴムとしてエピクロルヒドリンゴム、およびジエン系ゴムを含むゴム組成物の架橋物からなる現像ローラである。
７．０≦ｌｏｇＲ１≦８．５ (１)
を満足し、かつ前記ローラ本体の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）は、式(２)：
６．３≦ｌｏｇＲ２≦８．５ (２)
を満足していて、前記外層は、ゴムとしてエピクロルヒドリンゴム、およびジエン系ゴムを含むゴム組成物の架橋物からなる現像ローラである。
本発明によれば、積層構造を有し、なおかつ現状よりも画質に優れた画像を形成できる現像ローラを提供することができる。
現像ローラを組み込む画像形成装置としては、たとえば、レーザープリンタ、静電式複写機、普通紙ファクシミリ装置、あるいはこれらの複合機等が挙げられる。
レーザープリンタ等の画像形成装置の画像評価基準の一つとして、形成画像の黒ベタ濃度と２ｄｏｔ濃度が知られている。
黒ベタ濃度とは、紙面の少なくとも一部が黒一色で塗りつぶされた、いわゆる黒ベタの画像の濃度であり、黒ベタ濃度が高いほど、コントラストの高い画像を形成することができる。
レーザープリンタ等の画像形成装置の画像評価基準の一つとして、形成画像の黒ベタ濃度と２ｄｏｔ濃度が知られている。
黒ベタ濃度とは、紙面の少なくとも一部が黒一色で塗りつぶされた、いわゆる黒ベタの画像の濃度であり、黒ベタ濃度が高いほど、コントラストの高い画像を形成することができる。
２ｄｏｔ濃度とは、孤立２ｄｏｔと呼ばれる、格子長約８０μｍの正方格子上に円が並んだ画像の濃度であり、２ｄｏｔ濃度が高いほど、細線の再現性や階調性を向上して、精細な画像を形成することができる。
ところが、この２つの画像濃度は相反関係にあり、両立が困難である。
すなわち黒ベタ濃度は、現像ローラのローラ抵抗値を低くするほど高くなるが、２ｄｏｔ濃度は、現像ローラのローラ抵抗値が高いほど高くなる傾向があり、従来の単層構造の現像ローラでは、この２つの相反する特性を両立することは困難である。
ところが、この２つの画像濃度は相反関係にあり、両立が困難である。
すなわち黒ベタ濃度は、現像ローラのローラ抵抗値を低くするほど高くなるが、２ｄｏｔ濃度は、現像ローラのローラ抵抗値が高いほど高くなる傾向があり、従来の単層構造の現像ローラでは、この２つの相反する特性を両立することは困難である。
現像ローラのローラ本体を、前述したように、ともにゴム組成物の架橋物からなる内層と外層の２層を含む構造とし、なおかつ両層の抵抗値を調整して、上述した２つの相反する特性を両立させることが考えられる。
すなわち黒ベタ濃度は、ローラ本体の表面付近の抵抗値と関係しており、表面付近の抵抗値を低くすれば、黒ベタ濃度を向上することができる。
すなわち黒ベタ濃度は、ローラ本体の表面付近の抵抗値と関係しており、表面付近の抵抗値を低くすれば、黒ベタ濃度を向上することができる。
一方、２ｄｏｔ濃度にはローラ本体の全体でのローラ抵抗値が関わっており、全体のローラ抵抗値を高くするほど、２ｄｏｔ濃度を高くすることができる。
そのため、
・ 上記のようにローラ本体を、ともにゴム組成物の架橋物からなる内層と外層の２層を含む構造とし、
・ このうち外層は、ローラ本体の表面付近の抵抗値を、黒ベタ濃度を向上しうる範囲に調整するために低抵抗の状態とし、なおかつ
・ その下の内層は、外層と合わせたローラ本体の全体でのローラ抵抗値を、２ｄｏｔ濃度を向上しうる範囲に調整するために高抵抗の状態とすれば、
黒ベタ濃度と２ｄｏｔ濃度を両立させることができる。
そのため、
・ 上記のようにローラ本体を、ともにゴム組成物の架橋物からなる内層と外層の２層を含む構造とし、
・ このうち外層は、ローラ本体の表面付近の抵抗値を、黒ベタ濃度を向上しうる範囲に調整するために低抵抗の状態とし、なおかつ
・ その下の内層は、外層と合わせたローラ本体の全体でのローラ抵抗値を、２ｄｏｔ濃度を向上しうる範囲に調整するために高抵抗の状態とすれば、
黒ベタ濃度と２ｄｏｔ濃度を両立させることができる。
しかし、発明者の検討によると、特許文献１等に記載の従来の、積層構造を有するローラ本体を備えた現像ローラでは、表面付近の抵抗値とローラ抵抗値の範囲の設定や、あるいは両層を形成するゴム組成物の組成などが未だ適切でない。
そのため、画像形成の初期において、黒ベタ濃度（初期黒ベタ濃度）や２ｄｏｔ濃度（初期２ｄｏｔ濃度）が不足したり、画像形成を繰り返した際に２ｄｏｔ濃度が大きく低下したりする場合がある。
そのため、画像形成の初期において、黒ベタ濃度（初期黒ベタ濃度）や２ｄｏｔ濃度（初期２ｄｏｔ濃度）が不足したり、画像形成を繰り返した際に２ｄｏｔ濃度が大きく低下したりする場合がある。
また画像形成を繰り返すと、形成される画像に、用紙の通紙方向と直交する横方向に隣接する画像の濃度に依存した濃度のムラを生じたりする場合もある。
また画像形成を繰り返すと、とくに用紙の、画像形成が可能な領域の全面に黒ベタの画像（全面黒ベタ画像）を形成した際に掠れを生じやすくなって、濃度の均一なきれいな全面黒ベタ画像を形成できなくなる場合もある。
また画像形成を繰り返すと、とくに用紙の、画像形成が可能な領域の全面に黒ベタの画像（全面黒ベタ画像）を形成した際に掠れを生じやすくなって、濃度の均一なきれいな全面黒ベタ画像を形成できなくなる場合もある。
そこで発明者は、とくにローラ本体の表面付近の抵抗値を規定する、当該ローラ本体の外周面の表面抵抗値、およびローラ本体のローラ抵抗値の最適範囲、ならびに、内層を形成するゴム組成物の組成について、さらに検討した。
その結果、前述したように、
・ 内層を、エピクロルヒドリンゴム、およびジエン系ゴムを含むゴム組成物の架橋物によって形成するとともに、エピクロルヒドリンゴムの割合を、ゴムの総量１００質量部中の２１質量部以上とし、
・ ローラ本体の外周面の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）を、式(１)：
７．０≦ｌｏｇＲ１≦８．５ (１)
を満足する範囲に設定し、なおかつ
・ ローラ本体の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を、式(２)：
６．３≦ｌｏｇＲ２≦８．５ (２)
を満足する範囲に設定すればよいことを見出した。
その結果、前述したように、
・ 内層を、エピクロルヒドリンゴム、およびジエン系ゴムを含むゴム組成物の架橋物によって形成するとともに、エピクロルヒドリンゴムの割合を、ゴムの総量１００質量部中の２１質量部以上とし、
・ ローラ本体の外周面の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）を、式(１)：
７．０≦ｌｏｇＲ１≦８．５ (１)
を満足する範囲に設定し、なおかつ
・ ローラ本体の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を、式(２)：
６．３≦ｌｏｇＲ２≦８．５ (２)
を満足する範囲に設定すればよいことを見出した。
すなわち、本発明の現像ローラは、ゴムとしてエピクロルヒドリンゴム、およびジエン系ゴムを含むゴム組成物の架橋物からなる筒状の内層、および当該内層の外周を被覆する筒状の外層を含むローラ本体を含み、上記エピクロルヒドリンゴムの割合は、ゴムの総量１００質量部中の２１質量部以上であり、外層の外周面であるローラ本体の外周面の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）は上記式(１)を満足し、かつローラ本体の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）は上記式(２)を満足していることを特徴とするものである。
本発明の現像ローラによれば、上記の構成とすることにより、黒ベタ濃度と２ｄｏｔ濃度の両方を同時に向上して、コントラストと、細線の再現性や階調性とに優れた画像を形成することができる。
また画像に、横方向に隣接する画像の濃度に依存した濃度のムラが生じるのを抑制したり、画像形成を繰り返した際の２ｄｏｔ濃度の低下、すなわち耐久２ｄｏｔ濃度の低下を抑制したりすることもできる。
また画像に、横方向に隣接する画像の濃度に依存した濃度のムラが生じるのを抑制したり、画像形成を繰り返した際の２ｄｏｔ濃度の低下、すなわち耐久２ｄｏｔ濃度の低下を抑制したりすることもできる。
さらに、画像形成を繰り返した際に全面黒ベタ画像に掠れが生じるのを抑制して、当該全面黒ベタ画像を、濃度の均一なきれいな状態とすることもできる。
掠れの発生の有無は、全面黒ベタ画像のうち最も濃度が低い部分の濃度、すなわち全面黒ベタ濃度でもって評価することができる。
これらのことは、後述する実施例、比較例、従来例の結果からも明らかである。
掠れの発生の有無は、全面黒ベタ画像のうち最も濃度が低い部分の濃度、すなわち全面黒ベタ濃度でもって評価することができる。
これらのことは、後述する実施例、比較例、従来例の結果からも明らかである。
図１(ａ)は、本発明の現像ローラの一例の、全体の外観を示す斜視図、図１(ｂ)は、上記例の現像ローラの端面図である。
図１(ａ)(ｂ)を参照して、この例の現像ローラ１は、弾性材料からなる筒状の内層２の外周面３に、直接に、弾性材料からなる外層４が積層された、２層構造のローラ本体５を備えている。
図１(ａ)(ｂ)を参照して、この例の現像ローラ１は、弾性材料からなる筒状の内層２の外周面３に、直接に、弾性材料からなる外層４が積層された、２層構造のローラ本体５を備えている。
内層２の中心の通孔６には、シャフト７が挿通されて固定されている。
シャフト７は、良導電性の材料、たとえば、鉄、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼等の金属などによって一体に形成されている。
シャフト７は、たとえば、導電性を有する接着剤を介してローラ本体５と電気的に接合され、かつ機械的に固定されるか、あるいは通孔６の内径よりも外径の大きいものを通孔６に圧入することで、ローラ本体５と電気的に接合され、かつ機械的に固定される。
シャフト７は、良導電性の材料、たとえば、鉄、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼等の金属などによって一体に形成されている。
シャフト７は、たとえば、導電性を有する接着剤を介してローラ本体５と電気的に接合され、かつ機械的に固定されるか、あるいは通孔６の内径よりも外径の大きいものを通孔６に圧入することで、ローラ本体５と電気的に接合され、かつ機械的に固定される。
また、この両法を併用して、シャフト７を、ローラ本体５と電気的に接合し、かつ機械的に固定してもよい。
外層４の表面、すなわちローラ本体５の外周面８は、両図中に拡大して示すように、酸化膜９によって被覆されている。
外周面８を酸化膜９によって被覆することで、当該酸化膜９を誘電層として機能させて、現像ローラ１の誘電正接ｔａｎδを低減することができ、また酸化膜９を低摩擦層として機能させて、トナーの付着を良好に抑制することもできる。
外層４の表面、すなわちローラ本体５の外周面８は、両図中に拡大して示すように、酸化膜９によって被覆されている。
外周面８を酸化膜９によって被覆することで、当該酸化膜９を誘電層として機能させて、現像ローラ１の誘電正接ｔａｎδを低減することができ、また酸化膜９を低摩擦層として機能させて、トナーの付着を良好に抑制することもできる。
しかも酸化膜９は、たとえば、外周面８に紫外線を照射する等して、当該外周面８の近傍のゴムを酸化させるだけで簡単に形成できるため、現像ローラ１の生産性が低下したり、製造コストが高くついたりするのを抑制することもできる。
ただし、酸化膜９は省略してもよい。
内層２、外層４は、それぞれの構造を簡略化し、かつ耐久性等を向上するため、いずれも非多孔質の単層に形成するのが好ましい。
ただし、酸化膜９は省略してもよい。
内層２、外層４は、それぞれの構造を簡略化し、かつ耐久性等を向上するため、いずれも非多孔質の単層に形成するのが好ましい。
なお内層２、外層４の「単層」とは、弾性材料からなる層の数が、いずれも単層であることを指す。
またローラ本体５の「２層」も、内層２と外層４の、ともに弾性材料からなる層の数が２層であることを指し、いずれの場合も、紫外線の照射等によって形成される酸化膜９は層数に含まないこととする。
またローラ本体５の「２層」も、内層２と外層４の、ともに弾性材料からなる層の数が２層であることを指し、いずれの場合も、紫外線の照射等によって形成される酸化膜９は層数に含まないこととする。
本発明において、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）、ならびにローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）が、それぞれ前述した式(１)(２)を満足する範囲に限定されるのは、下記の理由による。
すなわち、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）が、常用対数値ｌｏｇＲ１で表して７．０未満では、ローラ本体５の表面付近の抵抗値が低くなりすぎて、たとえば、画像に、過電流による画像不良等を生じる場合がある。
すなわち、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）が、常用対数値ｌｏｇＲ１で表して７．０未満では、ローラ本体５の表面付近の抵抗値が低くなりすぎて、たとえば、画像に、過電流による画像不良等を生じる場合がある。
一方、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）が、常用対数値ｌｏｇＲ１で表して８．５を超える場合には、ローラ本体５の表面付近の抵抗値を、黒ベタ濃度を向上できる範囲まで十分に低下させることができない。
そのため、初期黒ベタ濃度が不足して画像のコントラストが低下したり、とくに全面黒ベタ画像に掠れを生じて、全面黒ベタ濃度が低下したりする場合がある。
そのため、初期黒ベタ濃度が不足して画像のコントラストが低下したり、とくに全面黒ベタ画像に掠れを生じて、全面黒ベタ濃度が低下したりする場合がある。
また、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）が、常用対数値ｌｏｇＲ２で表して６．３未満では、初期２ｄｏｔ濃度が不足したり、耐久２ｄｏｔ濃度が大きく低下したりし、細線の再現性や階調性が低下して、画像の精細性が低下する場合がある。
一方、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）が、常用対数値ｌｏｇＲ２で表して８．５を超える場合には、画像に、用紙の通紙方向と直交する横方向に隣接する画像の濃度に依存した濃度のムラを生じる場合がある。
一方、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）が、常用対数値ｌｏｇＲ２で表して８．５を超える場合には、画像に、用紙の通紙方向と直交する横方向に隣接する画像の濃度に依存した濃度のムラを生じる場合がある。
また、内層２を形成するゴム組成物中のエピクロルヒドリンゴムの割合が、ゴムの総量１００質量部中の２１質量部以上に限定されるのは、下記の理由による。
すなわち、エピクロルヒドリンゴムの割合が２１質量部未満では、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）に拘らず、初期２ｄｏｔ濃度が不足したり、耐久２ｄｏｔ濃度が大きく低下したりする場合がある。
すなわち、エピクロルヒドリンゴムの割合が２１質量部未満では、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）に拘らず、初期２ｄｏｔ濃度が不足したり、耐久２ｄｏｔ濃度が大きく低下したりする場合がある。
これに対し、表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）を式(１)を満足する範囲、ローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を式(２)を満足する範囲とし、かつ内層２を形成するゴム組成物中のエピクロルヒドリンゴムの割合を上記の範囲とすることにより、上述した様々な不良が生じるのを抑制することができる。
そして、現状よりも画質に優れた画像を、長期間に亘って形成できる現像ローラを提供することが可能となる。
そして、現状よりも画質に優れた画像を、長期間に亘って形成できる現像ローラを提供することが可能となる。
また本発明の現像ローラ１は、ローラ本体５の外周面８を構成する外層４を形成するゴム組成物の組成等にもよるが、当該外周面８における水の接触角θＷ（°）が５０°以上であるのが好ましい。
ローラ本体５の外周面８の、水の接触角θＷ（°）を上記の範囲とすると、当該外周面８は撥水性を呈するため、トナーの離型性を向上できる。
ローラ本体５の外周面８の、水の接触角θＷ（°）を上記の範囲とすると、当該外周面８は撥水性を呈するため、トナーの離型性を向上できる。
そのため、初期黒ベタ濃度をさらに向上できる上、全面黒ベタ画像に掠れが生じて全面黒ベタ濃度が低下するのを、より一層有効に抑制することもできる。
なお、かかる効果をより一層向上することを考慮すると、水の接触角θＷ（°）は、上記の範囲でも６０°以上であるのがさらに好ましい。
ローラ本体５の外周面８の、水の接触角θＷ（°）を上記の範囲に調整するためには、たとえば、外周面８を被覆する酸化膜９を形成するために当該外周面８に照射する紫外線の積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）を調整すればよい。
なお、かかる効果をより一層向上することを考慮すると、水の接触角θＷ（°）は、上記の範囲でも６０°以上であるのがさらに好ましい。
ローラ本体５の外周面８の、水の接触角θＷ（°）を上記の範囲に調整するためには、たとえば、外周面８を被覆する酸化膜９を形成するために当該外周面８に照射する紫外線の積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）を調整すればよい。
具体的には、積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）を小さくするほど、水の接触角θＷ（°）を大きくすることができる。
積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）とは、ローラ本体５の外周面８に照射する紫外線の、単位面積当たりの照射強度（ｍＷ／ｃｍ２）と照射時間（秒）との積で求められる、外周面８に照射される紫外線の総光量である。
積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）とは、ローラ本体５の外周面８に照射する紫外線の、単位面積当たりの照射強度（ｍＷ／ｃｍ２）と照射時間（秒）との積で求められる、外周面８に照射される紫外線の総光量である。
なお、水の接触角θＷ（°）の上限はとくに限定されず、紫外線を照射せず、したがって酸化膜９によって被覆されていない外周面８における水の接触角θＷ（°）まで含むこととする。
〈紫外線の積算光量の測定〉
積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）は、積算光量測定機を用いて測定する。
〈紫外線の積算光量の測定〉
積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）は、積算光量測定機を用いて測定する。
具体的には、たとえば、実際にローラ本体５の外周面８に紫外線を照射する装置（ＵＶ処理装置）の、ローラ本体５をセットする位置に、積算光量測定機をセットする。
次いでＵＶ処理装置を、ローラ本体５の外周面８に紫外線を照射する際と同様に作動させ、積算光量測定機の受光部に紫外線を照射して、当該積算光量測定機によって測定される積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）が目的とする値に達するのに要したＵＶ処理装置の動作条件を求める。
次いでＵＶ処理装置を、ローラ本体５の外周面８に紫外線を照射する際と同様に作動させ、積算光量測定機の受光部に紫外線を照射して、当該積算光量測定機によって測定される積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）が目的とする値に達するのに要したＵＶ処理装置の動作条件を求める。
動作条件としては、たとえば、照射する紫外線の波長、照射強度、照射時間の他、ローラ本体５を回転させながら外周面８に紫外線を照射するＵＶ処理装置の場合は、当該ローラ本体５の回転速度等が挙げられる。
そして、同じＵＶ処理装置にローラ本体５をセットして、先の測定によって求めた動作条件で作動させると、セットしたローラ本体５の外周面８に、同じ積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）で紫外線を照射することができる。
そして、同じＵＶ処理装置にローラ本体５をセットして、先の測定によって求めた動作条件で作動させると、セットしたローラ本体５の外周面８に、同じ積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）で紫外線を照射することができる。
《内層２用のゴム組成物》
内層２は、前述したように、ゴムとしてエピクロルヒドリンゴム、およびジエン系ゴムを含み、イオン導電性が付与されたゴム組成物の架橋物によって形成される。
〈エピクロルヒドリンゴム〉
エピクロルヒドリンゴムとしては、たとえば、エピクロルヒドリン単独重合体、エピクロルヒドリン－エチレンオキサイド二元共重合体（ＥＣＯ）、エピクロルヒドリン－プロピレンオキサイド二元共重合体、エピクロルヒドリン－アリルグリシジルエーテル二元共重合体、エピクロルヒドリン－エチレンオキサイド－アリルグリシジルエーテル三元共重合体（ＧＥＣＯ）、エピクロルヒドリン－プロピレンオキサイド－アリルグリシジルエーテル三元共重合体、エピクロルヒドリン－エチレンオキサイド－プロピレンオキサイド－アリルグリシジルエーテル四元共重合体等が挙げられる。
内層２は、前述したように、ゴムとしてエピクロルヒドリンゴム、およびジエン系ゴムを含み、イオン導電性が付与されたゴム組成物の架橋物によって形成される。
〈エピクロルヒドリンゴム〉
エピクロルヒドリンゴムとしては、たとえば、エピクロルヒドリン単独重合体、エピクロルヒドリン－エチレンオキサイド二元共重合体（ＥＣＯ）、エピクロルヒドリン－プロピレンオキサイド二元共重合体、エピクロルヒドリン－アリルグリシジルエーテル二元共重合体、エピクロルヒドリン－エチレンオキサイド－アリルグリシジルエーテル三元共重合体（ＧＥＣＯ）、エピクロルヒドリン－プロピレンオキサイド－アリルグリシジルエーテル三元共重合体、エピクロルヒドリン－エチレンオキサイド－プロピレンオキサイド－アリルグリシジルエーテル四元共重合体等が挙げられる。
中でも、エチレンオキサイドを含む共重合体、とくにＥＣＯおよび／またはＧＥＣＯが好ましい。
ＥＣＯおよび／またはＧＥＣＯにおけるエチレンオキサイド含量は、いずれも３０モル％以上、とくに５０モル％以上であるのが好ましく、８０モル％以下であるのが好ましい。
ＥＣＯおよび／またはＧＥＣＯにおけるエチレンオキサイド含量は、いずれも３０モル％以上、とくに５０モル％以上であるのが好ましく、８０モル％以下であるのが好ましい。
エチレンオキサイドは、内層２の抵抗値、ひいてはローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を下げる働きをする。
しかし、エチレンオキサイド含量が上記の範囲未満では、かかる働きが十分に得られないため、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を十分に低下できない場合がある。
しかし、エチレンオキサイド含量が上記の範囲未満では、かかる働きが十分に得られないため、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を十分に低下できない場合がある。
一方、エチレンオキサイド含量が上記の範囲を超える場合には、エチレンオキサイドの結晶化が起こり、分子鎖のセグメント運動が妨げられるため、却って、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）が上昇する傾向がある。
また、架橋後の内層２が硬くなりすぎたり、架橋前のゴム組成物の、加熱溶融時の粘度が上昇して、当該ゴム組成物の加工性が低下したりする場合もある。
また、架橋後の内層２が硬くなりすぎたり、架橋前のゴム組成物の、加熱溶融時の粘度が上昇して、当該ゴム組成物の加工性が低下したりする場合もある。
ＥＣＯにおけるエピクロルヒドリン含量は、エチレンオキサイド含量の残量である。
すなわち、エピクロルヒドリン含量は２０モル％以上であるのが好ましく、７０モル％以下、とくに５０モル％以下であるのが好ましい。
また、ＧＥＣＯにおけるアリルグリシジルエーテル含量は０．５モル％以上、とくに２モル％以上であるのが好ましく、１０モル％以下、とくに５モル％以下であるのが好ましい。
すなわち、エピクロルヒドリン含量は２０モル％以上であるのが好ましく、７０モル％以下、とくに５０モル％以下であるのが好ましい。
また、ＧＥＣＯにおけるアリルグリシジルエーテル含量は０．５モル％以上、とくに２モル％以上であるのが好ましく、１０モル％以下、とくに５モル％以下であるのが好ましい。
アリルグリシジルエーテルは、それ自体が側鎖として、自由体積を確保するために機能することにより、エチレンオキサイドの結晶化を抑制して、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を低下させる働きをする。
しかし、アリルグリシジルエーテル含量が上記の範囲未満では、かかる働きが十分に得られないため、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を十分に低下できない場合がある。
しかし、アリルグリシジルエーテル含量が上記の範囲未満では、かかる働きが十分に得られないため、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を十分に低下できない場合がある。
一方、アリルグリシジルエーテルは、ＧＥＣＯの架橋時に架橋点として機能する。
そのため、アリルグリシジルエーテル含量が上記の範囲を超える場合には、ＧＥＣＯの架橋密度が高くなりすぎることによって分子鎖のセグメント運動が妨げられて、却って、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）が上昇する傾向がある。
そのため、アリルグリシジルエーテル含量が上記の範囲を超える場合には、ＧＥＣＯの架橋密度が高くなりすぎることによって分子鎖のセグメント運動が妨げられて、却って、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）が上昇する傾向がある。
ＧＥＣＯにおけるエピクロルヒドリン含量は、エチレンオキサイド含量、およびアリルグリシジルエーテル含量の残量である。
すなわち、エピクロルヒドリン含量は１０モル％以上、とくに１９．５モル％以上であるのが好ましく、６９．５モル％以下、とくに６０モル％以下であるのが好ましい。
なおＧＥＣＯとしては、先に説明した３種の単量体を共重合させた、狭義の意味での共重合体の他に、エピクロルヒドリン－エチレンオキサイド共重合体（ＥＣＯ）をアリルグリシジルエーテルで変性した変性物も知られている。
すなわち、エピクロルヒドリン含量は１０モル％以上、とくに１９．５モル％以上であるのが好ましく、６９．５モル％以下、とくに６０モル％以下であるのが好ましい。
なおＧＥＣＯとしては、先に説明した３種の単量体を共重合させた、狭義の意味での共重合体の他に、エピクロルヒドリン－エチレンオキサイド共重合体（ＥＣＯ）をアリルグリシジルエーテルで変性した変性物も知られている。
本発明では、このいずれのＧＥＣＯを用いることもできる。
エピクロルヒドリンゴムとしては、とくにＧＥＣＯが好ましい。
ＧＥＣＯは、アリルグリシジルエーテルに起因して、主鎖中に、架橋点として機能する二重結合を有するため、主鎖間での架橋によって、架橋後の圧縮永久ひずみを小さくすることができる。
エピクロルヒドリンゴムとしては、とくにＧＥＣＯが好ましい。
ＧＥＣＯは、アリルグリシジルエーテルに起因して、主鎖中に、架橋点として機能する二重結合を有するため、主鎖間での架橋によって、架橋後の圧縮永久ひずみを小さくすることができる。
そのため内層２を、圧縮永久ひずみが小さく、ヘタリを生じにくいものとすることができる。
これらエピクロルヒドリンゴムの１種または２種以上を用いることができる。
〈ジエン系ゴム〉
ジエン系ゴムは、ゴム組成物に良好な加工性を付与したり、内層２の機械的強度や耐久性等を向上したり、あるいは内層２にゴムとしての良好な特性、すなわち柔軟で、しかも圧縮永久ひずみが小さくヘタリを生じにくい特性を付与したりするために機能する。
これらエピクロルヒドリンゴムの１種または２種以上を用いることができる。
〈ジエン系ゴム〉
ジエン系ゴムは、ゴム組成物に良好な加工性を付与したり、内層２の機械的強度や耐久性等を向上したり、あるいは内層２にゴムとしての良好な特性、すなわち柔軟で、しかも圧縮永久ひずみが小さくヘタリを生じにくい特性を付与したりするために機能する。
ジエン系ゴムとしては、たとえば、天然ゴム、イソプレンゴム（ＩＲ）、アクリロニトリルブタジエンゴム（ＮＢＲ）、スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）等が挙げられる。
中でも、ジエン系ゴムとしては非極性のジエン系ゴム、具体的にはＩＲ、ＢＲ、およびＳＢＲの３種のうちの少なくとも１種、とくにＩＲとＢＲの２種、またはＩＲとＳＢＲの２種を併用するのが好ましい。
中でも、ジエン系ゴムとしては非極性のジエン系ゴム、具体的にはＩＲ、ＢＲ、およびＳＢＲの３種のうちの少なくとも１種、とくにＩＲとＢＲの２種、またはＩＲとＳＢＲの２種を併用するのが好ましい。
また上記併用系に、さらにＣＲおよび／またはＮＢＲを併用してもよい。
（ＩＲ）
ＩＲとしては、天然ゴムの構造を人工的に再現した、ポリイソプレン構造を有する種々のＩＲがいずれも使用可能である。
またＩＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、感光体の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＩＲを用いるのが好ましい。
（ＩＲ）
ＩＲとしては、天然ゴムの構造を人工的に再現した、ポリイソプレン構造を有する種々のＩＲがいずれも使用可能である。
またＩＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、感光体の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＩＲを用いるのが好ましい。
これらＩＲの１種または２種以上を用いることができる。
（ＢＲ）
ＢＲとしては、分子中にポリブタジエン構造を備え、架橋性を有する種々のＢＲがいずれも使用可能である。
とくに、低温から高温までの広い温度範囲でゴムとしての良好な特性を発現しうる、シス－１，４結合の含量が９５％以上の高シスＢＲが好ましい。
（ＢＲ）
ＢＲとしては、分子中にポリブタジエン構造を備え、架橋性を有する種々のＢＲがいずれも使用可能である。
とくに、低温から高温までの広い温度範囲でゴムとしての良好な特性を発現しうる、シス－１，４結合の含量が９５％以上の高シスＢＲが好ましい。
またＢＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、やはり感光体の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＢＲを用いるのが好ましい。
これらＢＲの１種または２種以上を用いることができる。
（ＳＢＲ）
ＳＢＲとしては、スチレンと１，３－ブタジエンとを、乳化重合法、溶液重合法等の種々の重合法によって共重合させて合成される種々のＳＢＲが、いずれも使用可能である。
これらＢＲの１種または２種以上を用いることができる。
（ＳＢＲ）
ＳＢＲとしては、スチレンと１，３－ブタジエンとを、乳化重合法、溶液重合法等の種々の重合法によって共重合させて合成される種々のＳＢＲが、いずれも使用可能である。
またＳＢＲとしては、スチレン含量によって分類される高スチレンタイプ、中スチレンタイプ、および低スチレンタイプのＳＢＲがあるが、このいずれも使用可能である。
さらにＳＢＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、やはり感光体等の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＳＢＲを用いるのが好ましい。
さらにＳＢＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、やはり感光体等の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＳＢＲを用いるのが好ましい。
これらＳＢＲの１種または２種以上を用いることができる。
（ＣＲ）
ＣＲは極性を有するジエン系ゴムであって、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を微調整するために機能する。
ＣＲは、クロロプレンを乳化重合させて合成されるもので、その際に用いる分子量調整剤の種類によって、硫黄変性タイプと非硫黄変性タイプとに分類される。
（ＣＲ）
ＣＲは極性を有するジエン系ゴムであって、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を微調整するために機能する。
ＣＲは、クロロプレンを乳化重合させて合成されるもので、その際に用いる分子量調整剤の種類によって、硫黄変性タイプと非硫黄変性タイプとに分類される。
このうち硫黄変性タイプのＣＲは、クロロプレンと、分子量調整剤としての硫黄とを共重合させたポリマを、チウラムジスルフィド等で可塑化して所定の粘度に調整することで合成される。
また非硫黄変性タイプのＣＲは、たとえば、メルカプタン変性タイプ、キサントゲン変性タイプ等に分類される。
また非硫黄変性タイプのＣＲは、たとえば、メルカプタン変性タイプ、キサントゲン変性タイプ等に分類される。
このうち、メルカプタン変性タイプのＣＲは、ｎ－ドデシルメルカプタン、ｔｅＲｔ－ドデシルメルカプタン、オクチルメルカプタン等のアルキルメルカプタン類を分子量調整剤として使用すること以外は、硫黄変性タイプのＣＲと同様にして合成される。
また、キサントゲン変性タイプのＣＲは、アルキルキサントゲン化合物を分子量調整剤として使用すること以外は、やはり硫黄変性タイプのＣＲと同様にして合成される。
また、キサントゲン変性タイプのＣＲは、アルキルキサントゲン化合物を分子量調整剤として使用すること以外は、やはり硫黄変性タイプのＣＲと同様にして合成される。
またＣＲは、その結晶化速度に基づいて、結晶化速度が遅いタイプ、中庸であるタイプ、および速いタイプに分類される。
本発明においては、いずれのタイプのＣＲを用いてもよいが、中でも非硫黄変性タイプで、かつ結晶化速度が遅いタイプのＣＲが好ましい。
また、ＣＲとしては、クロロプレンと他の共重合成分との共重合体を用いてもよい。他の共重合成分としては、たとえば、２，３－ジクロロ－１，３－ブタジエン、１－クロロ－１，３－ブタジエン、スチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、イソプレン、ブタジエン、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、およびメタクリル酸エステル等の１種または２種以上が挙げられる。
本発明においては、いずれのタイプのＣＲを用いてもよいが、中でも非硫黄変性タイプで、かつ結晶化速度が遅いタイプのＣＲが好ましい。
また、ＣＲとしては、クロロプレンと他の共重合成分との共重合体を用いてもよい。他の共重合成分としては、たとえば、２，３－ジクロロ－１，３－ブタジエン、１－クロロ－１，３－ブタジエン、スチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、イソプレン、ブタジエン、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、およびメタクリル酸エステル等の１種または２種以上が挙げられる。
さらに、ＣＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、やはり感光体の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＣＲを用いるのが好ましい。
これらＣＲの１種または２種以上を用いることができる。
（ＮＢＲ）
ＮＢＲも、やはり極性を有するジエン系ゴムであって、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を微調整するために機能する。
これらＣＲの１種または２種以上を用いることができる。
（ＮＢＲ）
ＮＢＲも、やはり極性を有するジエン系ゴムであって、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を微調整するために機能する。
ＮＢＲとしては、アクリロニトリル含量が２４％以下である低ニトリルＮＢＲ、２５～３０％である中ニトリルＮＢＲ、３１～３５％である中高ニトリルＮＢＲ、３６～４２％である高ニトリルＮＢＲ、４３％以上である極高ニトリルＮＢＲが、いずれも使用可能である。
またＮＢＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、やはり感光体等の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＮＢＲを用いるのが好ましい。
またＮＢＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、やはり感光体等の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＮＢＲを用いるのが好ましい。
これらＮＢＲの１種または２種以上を用いることができる。
〈ゴムの割合〉
ゴムの割合は、内層２に求められる各種の特性、とくに内層２の抵抗値、そしてローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）や、内層２の柔軟性等に応じて任意に設定できる。
〈ゴムの割合〉
ゴムの割合は、内層２に求められる各種の特性、とくに内層２の抵抗値、そしてローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）や、内層２の柔軟性等に応じて任意に設定できる。
ただしエピクロルヒドリンゴムの割合は、ゴムの総量１００質量部中の２１質量部以上である必要がある。
この理由は、先に説明したとおりである。
なおエピクロルヒドリンゴムの割合は、上記の範囲でも、ゴムの総量１００質量部中の３０質量部以下であるのが好ましい。
この理由は、先に説明したとおりである。
なおエピクロルヒドリンゴムの割合は、上記の範囲でも、ゴムの総量１００質量部中の３０質量部以下であるのが好ましい。
エピクロルヒドリンゴムの割合がこの範囲を超える場合には、ゴム組成物の組成等にもよるが、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）が式(２)の範囲未満となって、初期２ｄｏｔ濃度が不足したり、耐久２ｄｏｔ濃度が大きく低下したりする場合がある。
これに対し、エピクロルヒドリンゴムの割合を、ゴムの総量１００質量部中の３０質量部以下とすることにより、これらの特性が低下するのを抑制することができる。
これに対し、エピクロルヒドリンゴムの割合を、ゴムの総量１００質量部中の３０質量部以下とすることにより、これらの特性が低下するのを抑制することができる。
ＣＲおよび／またはＮＢＲの割合は、ゴムの総量１００質量部中の１質量部以上であるのが好ましく、１５質量部以下であるのが好ましい。
ＣＲおよび／またはＮＢＲの割合がこの範囲未満では、これらのゴムを配合することによる前述した効果、すなわちローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を微調整する効果が十分に得られない場合がある。
ＣＲおよび／またはＮＢＲの割合がこの範囲未満では、これらのゴムを配合することによる前述した効果、すなわちローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を微調整する効果が十分に得られない場合がある。
一方、これらのゴムの割合が上記の範囲を超える場合には、相対的にエピクロルヒドリンゴムが少なくなって、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を、前述した式(２)を満足する範囲まで十分に低下させることができない場合がある。
ＣＲおよび／またはＮＢＲ以外の、非極性のジエン系ゴムの割合は、エピクロルヒドリンゴム、もしくはエピクロルヒドリンゴムとＣＲおよび／またはＮＢＲの残量である。
ＣＲおよび／またはＮＢＲ以外の、非極性のジエン系ゴムの割合は、エピクロルヒドリンゴム、もしくはエピクロルヒドリンゴムとＣＲおよび／またはＮＢＲの残量である。
すなわちエピクロルヒドリンゴム、またはエピクロルヒドリンゴムとＣＲおよび／またはＮＢＲの割合をそれぞれ前述した範囲内の所定値に設定した際にゴムの総量が１００質量部となるように、非極性のジエン系ゴムの割合を設定すればよい。
〈架橋成分〉
内層２用のゴム組成物には、ゴムを架橋させるための架橋成分を配合する。
〈架橋成分〉
内層２用のゴム組成物には、ゴムを架橋させるための架橋成分を配合する。
架橋成分としては、ゴムを架橋させるための架橋剤と、当該架橋剤によるゴムの架橋を促進するための架橋促進剤とを併用するのが好ましい。
このうち架橋剤としては、たとえば硫黄系架橋剤、チオウレア系架橋剤、トリアジン誘導体系架橋剤、過酸化物系架橋剤、各種モノマー等が挙げられ、とくに硫黄系架橋剤が好ましい。
このうち架橋剤としては、たとえば硫黄系架橋剤、チオウレア系架橋剤、トリアジン誘導体系架橋剤、過酸化物系架橋剤、各種モノマー等が挙げられ、とくに硫黄系架橋剤が好ましい。
（硫黄系架橋剤）
硫黄系架橋剤としては、たとえば、粉末硫黄、オイル処理粉末硫黄、沈降硫黄、コロイド硫黄、分散性硫黄等の硫黄や、あるいはテトラメチルチウラムジスルフィド、Ｎ，Ｎ－ジチオビスモルホリン等の有機含硫黄化合物などが挙げられ、とくに硫黄が好ましい。
硫黄の割合は、ローラ本体にゴムとしての良好な特性を付与すること等を考慮すると、ゴムの総量１００質量部あたり０．５質量部以上であるのが好ましく、２質量部以下であるのが好ましい。
硫黄系架橋剤としては、たとえば、粉末硫黄、オイル処理粉末硫黄、沈降硫黄、コロイド硫黄、分散性硫黄等の硫黄や、あるいはテトラメチルチウラムジスルフィド、Ｎ，Ｎ－ジチオビスモルホリン等の有機含硫黄化合物などが挙げられ、とくに硫黄が好ましい。
硫黄の割合は、ローラ本体にゴムとしての良好な特性を付与すること等を考慮すると、ゴムの総量１００質量部あたり０．５質量部以上であるのが好ましく、２質量部以下であるのが好ましい。
なお、硫黄としてオイル処理粉末硫黄、分散性硫黄等を使用する場合、上記の割合は、それぞれの中に含まれる有効成分としての硫黄自体の割合とする。
また、架橋剤として有機含硫黄化合物を使用する場合、その割合は、分子中に含まれる硫黄の、ゴムの総量１００質量部あたりの割合が上記の範囲となるように調整するのが好ましい。
また、架橋剤として有機含硫黄化合物を使用する場合、その割合は、分子中に含まれる硫黄の、ゴムの総量１００質量部あたりの割合が上記の範囲となるように調整するのが好ましい。
（架橋促進剤）
ゴムの架橋を促進するための架橋促進剤としては、たとえば、チウラム系促進剤、チアゾール系促進剤、チオウレア系促進剤、グアニジン系促進剤、スルフェンアミド系促進剤、ジチオカルバミン酸塩系促進剤等の１種または２種以上が挙げられる。
このうちチウラム系促進剤、チアゾール系促進剤、チオウレア系促進剤、およびグアニジン系促進剤を併用するのが好ましい。
ゴムの架橋を促進するための架橋促進剤としては、たとえば、チウラム系促進剤、チアゾール系促進剤、チオウレア系促進剤、グアニジン系促進剤、スルフェンアミド系促進剤、ジチオカルバミン酸塩系促進剤等の１種または２種以上が挙げられる。
このうちチウラム系促進剤、チアゾール系促進剤、チオウレア系促進剤、およびグアニジン系促進剤を併用するのが好ましい。
チウラム系促進剤としては、たとえば、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド等の１種または２種以上が挙げられ、とくにテトラメチルチウラムモノスルフィドが好ましい。
チアゾール系促進剤としては、たとえば、２－メルカプトベンゾチアゾール、ジ－２－ベンゾチアゾリルジスルフィド、２－メルカプトベンゾチアゾールの亜鉛塩、２－メルカプトベンゾチアゾールのシクロヘキシルアミン塩、２－（４′－モルホリノジチオ）ベンゾチアゾール等の１種または２種以上が挙げられ、とくにジ－２－ベンゾチアゾリルジスルフィドが好ましい。
チアゾール系促進剤としては、たとえば、２－メルカプトベンゾチアゾール、ジ－２－ベンゾチアゾリルジスルフィド、２－メルカプトベンゾチアゾールの亜鉛塩、２－メルカプトベンゾチアゾールのシクロヘキシルアミン塩、２－（４′－モルホリノジチオ）ベンゾチアゾール等の１種または２種以上が挙げられ、とくにジ－２－ベンゾチアゾリルジスルフィドが好ましい。
チオウレア系促進剤としては、分子中にチオウレア構造を有する種々のチオウレア化合物が使用可能である。
チオウレア系促進剤としては、たとえば、エチレンチオウレア、Ｎ,Ｎ′－ジフェニルチオウレア、トリメチルチオウレア、式(５)：
（ＣｎＨ２ｎ＋１ＮＨ）２Ｃ＝Ｓ (５)
〔式中、ｎは１～１２の整数を示す。〕で表されるチオウレア、テトラメチルチオウレア等の１種または２種以上が挙げられ、とくにエチレンチオウレアが好ましい。
チオウレア系促進剤としては、たとえば、エチレンチオウレア、Ｎ,Ｎ′－ジフェニルチオウレア、トリメチルチオウレア、式(５)：
（ＣｎＨ２ｎ＋１ＮＨ）２Ｃ＝Ｓ (５)
〔式中、ｎは１～１２の整数を示す。〕で表されるチオウレア、テトラメチルチオウレア等の１種または２種以上が挙げられ、とくにエチレンチオウレアが好ましい。
グアニジン系促進剤としては、たとえば、１,３－ジフェニルグアニジン、１，３－ジ－ｏ－トリルグアニジン、１－ｏ－トリルビグアニド等の１種または２種以上が挙げられ、とくに１，３－ジ－ｏ－トリルグアニジンが好ましい。
上記４種の併用系において、ゴムの架橋を促進する効果を十分に発現させること等を考慮すると、チウラム系促進剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．３質量部以上であるのが好ましく、１質量部以下であるのが好ましい。
上記４種の併用系において、ゴムの架橋を促進する効果を十分に発現させること等を考慮すると、チウラム系促進剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．３質量部以上であるのが好ましく、１質量部以下であるのが好ましい。
また、チアゾール系促進剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．３質量部以上であるのが好ましく、２質量部以下であるのが好ましい。
チオウレア系促進剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．３質量部以上であるのが好ましく、１質量部以下であるのが好ましい。
さらに、グアニジン系促進剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．２質量部以上であるのが好ましく、１質量部以下であるのが好ましい。
チオウレア系促進剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．３質量部以上であるのが好ましく、１質量部以下であるのが好ましい。
さらに、グアニジン系促進剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．２質量部以上であるのが好ましく、１質量部以下であるのが好ましい。
なおチオウレア系促進剤は、硫黄架橋性を有しないＥＣＯの架橋剤、グアニジン系促進剤は、チオウレア系促進剤によるＥＣＯの架橋の促進剤としても機能する。
〈イオン導電剤〉
内層２用のゴム組成物には、さらにイオン導電剤を配合してもよい。
イオン導電剤としては、分子中にフルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンと、陽イオンとの塩（イオン塩）が好ましい。
〈イオン導電剤〉
内層２用のゴム組成物には、さらにイオン導電剤を配合してもよい。
イオン導電剤としては、分子中にフルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンと、陽イオンとの塩（イオン塩）が好ましい。
イオン導電剤を配合することにより、ゴム組成物のイオン導電性をさらに向上して、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を、より一層低下させることができる。
イオン塩を構成する、分子中にフルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンとしては、たとえば、フルオロアルキルスルホン酸イオン、ビス（フルオロアルキルスルホニル）イミドイオン、トリス（フルオロアルキルスルホニル）メチドイオン等の１種または２種以上が挙げられる。
イオン塩を構成する、分子中にフルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンとしては、たとえば、フルオロアルキルスルホン酸イオン、ビス（フルオロアルキルスルホニル）イミドイオン、トリス（フルオロアルキルスルホニル）メチドイオン等の１種または２種以上が挙げられる。
このうちフルオロアルキルスルホン酸イオンとしては、たとえば、ＣＦ３ＳＯ３
－、Ｃ４Ｆ９ＳＯ３
－等の１種または２種以上が挙げられる。
またビス（フルオロアルキルスルホニル）イミドイオンとしては、たとえば、(ＣＦ３ＳＯ２)２Ｎ－、(Ｃ２Ｆ５ＳＯ２)２Ｎ－、(Ｃ４Ｆ９ＳＯ２)(ＣＦ３ＳＯ２)Ｎ－、(ＦＳＯ２Ｃ６Ｆ４)(ＣＦ３ＳＯ２)Ｎ－、(Ｃ８Ｆ１７ＳＯ２)(ＣＦ３ＳＯ２)Ｎ－、(ＣＦ３ＣＨ２ＯＳＯ２)２Ｎ－、(ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＳＯ２)２Ｎ－、(ＨＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＳＯ２)２Ｎ－、[(ＣＦ３)２ＣＨＯＳＯ２]２Ｎ－等の１種または２種以上が挙げられる。
またビス（フルオロアルキルスルホニル）イミドイオンとしては、たとえば、(ＣＦ３ＳＯ２)２Ｎ－、(Ｃ２Ｆ５ＳＯ２)２Ｎ－、(Ｃ４Ｆ９ＳＯ２)(ＣＦ３ＳＯ２)Ｎ－、(ＦＳＯ２Ｃ６Ｆ４)(ＣＦ３ＳＯ２)Ｎ－、(Ｃ８Ｆ１７ＳＯ２)(ＣＦ３ＳＯ２)Ｎ－、(ＣＦ３ＣＨ２ＯＳＯ２)２Ｎ－、(ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＳＯ２)２Ｎ－、(ＨＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＳＯ２)２Ｎ－、[(ＣＦ３)２ＣＨＯＳＯ２]２Ｎ－等の１種または２種以上が挙げられる。
さらにトリス（フルオロアルキルスルホニル）メチドイオンとしては、たとえば、(ＣＦ３ＳＯ２)３Ｃ－、(ＣＦ３ＣＨ２ＯＳＯ２)３Ｃ－等の１種または２種以上が挙げられる。
また陽イオンとしては、たとえば、ナトリウム、リチウム、カリウム等のアルカリ金属のイオン、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等の第２族元素のイオン、遷移元素のイオン、両性元素の陽イオン、第４級アンモニウムイオン、イミダゾリウム陽イオン等の１種または２種以上が挙げられる。
また陽イオンとしては、たとえば、ナトリウム、リチウム、カリウム等のアルカリ金属のイオン、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等の第２族元素のイオン、遷移元素のイオン、両性元素の陽イオン、第４級アンモニウムイオン、イミダゾリウム陽イオン等の１種または２種以上が挙げられる。
イオン塩としては、とくに陽イオンとしてリチウムイオンを用いたリチウム塩、またはカリウムイオンを用いたカリウム塩が好ましい。
中でも、ゴム組成物のイオン導電性を向上してローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を低下させる効果の点で、(ＣＦ３ＳＯ２)２ＮＬｉ〔リチウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドＬｉ－ＴＦＳＩ〕、および／または(ＣＦ３ＳＯ２)２ＮＫ〔カリウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｋ－ＴＦＳＩ〕が好ましい。
中でも、ゴム組成物のイオン導電性を向上してローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を低下させる効果の点で、(ＣＦ３ＳＯ２)２ＮＬｉ〔リチウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドＬｉ－ＴＦＳＩ〕、および／または(ＣＦ３ＳＯ２)２ＮＫ〔カリウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｋ－ＴＦＳＩ〕が好ましい。
イオン塩等のイオン導電剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．１質量部以上であるのが好ましく、２質量部以下であるのが好ましい。
〈カーボンブラック〉
内層２用のゴム組成物には、さらに充填剤としてカーボンブラックを配合してもよい。
カーボンブラックを配合することにより、現像ローラの機械的強度等を向上できる。
〈カーボンブラック〉
内層２用のゴム組成物には、さらに充填剤としてカーボンブラックを配合してもよい。
カーボンブラックを配合することにより、現像ローラの機械的強度等を向上できる。
カーボンブラックとしては、たとえば、ＳＡＦ、ＩＳＡＦ、ＨＡＦ、ＦＥＦ等が挙げられる。
またカーボンブラックとして導電性カーボンブラックを用いると、内層２に電子導電性を付与できる。
導電性カーボンブラックとしては、たとえば、アセチレンブラック等が挙げられる。
またカーボンブラックとして導電性カーボンブラックを用いると、内層２に電子導電性を付与できる。
導電性カーボンブラックとしては、たとえば、アセチレンブラック等が挙げられる。
カーボンブラックの割合は、ゴムの総量１００質量部あたり３質量部以上であるのが好ましく、１０質量部以下であるのが好ましい。
〈その他〉
内層２用のゴム組成物には、さらに必要に応じて、各種の添加剤を配合してもよい。
添加剤としては、たとえば、架橋促進助剤、受酸剤、可塑剤、加工助剤等が挙げられる。
〈その他〉
内層２用のゴム組成物には、さらに必要に応じて、各種の添加剤を配合してもよい。
添加剤としては、たとえば、架橋促進助剤、受酸剤、可塑剤、加工助剤等が挙げられる。
このうち架橋促進助剤としては、たとえば、酸化亜鉛等の金属化合物；ステアリン酸、オレイン酸、綿実脂肪酸等の脂肪酸その他、従来公知の架橋促進助剤の１種または２種以上が挙げられる。
架橋促進助剤の割合は、個別に、ゴムの総量１００質量部あたり０．１質量部以上であるのが好ましく、７質量部以下であるのが好ましい。
架橋促進助剤の割合は、個別に、ゴムの総量１００質量部あたり０．１質量部以上であるのが好ましく、７質量部以下であるのが好ましい。
受酸剤は、架橋時にエピクロルヒドリンゴムやＣＲから発生する塩素系ガスの、内層２内への残留と、それによる架橋阻害や感光体の汚染等を防止するために機能する。
受酸剤としては、酸受容体として作用する種々の物質を用いることができるが、中でも分散性に優れたハイドロタルサイト類またはマグサラットが好ましく、とくにハイドロタルサイト類が好ましい。
受酸剤としては、酸受容体として作用する種々の物質を用いることができるが、中でも分散性に優れたハイドロタルサイト類またはマグサラットが好ましく、とくにハイドロタルサイト類が好ましい。
また、ハイドロタルサイト類等を酸化マグネシウムや酸化カリウムと併用すると、より高い受酸効果を得ることができ、感光体の汚染をより一層確実に防止できる。
受酸剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．１質量部以上であるのが好ましく、７質量部以下であるのが好ましい。
可塑剤としては、たとえば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、トリクレジルホスフェート等の各種可塑剤や、極性ワックス等の各種ワックス等が挙げられ、加工助剤としては、たとえば、ステアリン酸亜鉛等の脂肪酸金属塩などが挙げられる。
受酸剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．１質量部以上であるのが好ましく、７質量部以下であるのが好ましい。
可塑剤としては、たとえば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、トリクレジルホスフェート等の各種可塑剤や、極性ワックス等の各種ワックス等が挙げられ、加工助剤としては、たとえば、ステアリン酸亜鉛等の脂肪酸金属塩などが挙げられる。
可塑剤および／または加工助剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり３質量部以下であるのが好ましい。
また添加剤としては、さらにカーボンブラック以外の他の充填剤、劣化防止剤、スコーチ防止剤、滑剤、顔料、帯電防止剤、難燃剤、中和剤、造核剤、共架橋剤等の各種添加剤を、任意の割合で配合してもよい。
また添加剤としては、さらにカーボンブラック以外の他の充填剤、劣化防止剤、スコーチ防止剤、滑剤、顔料、帯電防止剤、難燃剤、中和剤、造核剤、共架橋剤等の各種添加剤を、任意の割合で配合してもよい。
カーボンブラック以外の他の充填剤としては、たとえば、酸化亜鉛、シリカ、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化アルミニウム等の１種または２種以上が挙げられる。
〈ゴム組成物の調製〉
以上で説明した各成分を含む、内層２用のゴム組成物は、従来同様に調製することができる。
〈ゴム組成物の調製〉
以上で説明した各成分を含む、内層２用のゴム組成物は、従来同様に調製することができる。
まずゴムを素練りし、次いで、架橋成分以外の各成分を加えて混練した後、最後に架橋成分を加えて混練することで、内層２用のゴム組成物が得られる。
混練には、たとえば、ニーダ、バンバリミキサ、押出機等を用いることができる。
《外層４用のゴム組成物》
外層４は、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）を前述した範囲に調整できる、種々の弾性材料によって形成することができる。
混練には、たとえば、ニーダ、バンバリミキサ、押出機等を用いることができる。
《外層４用のゴム組成物》
外層４は、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）を前述した範囲に調整できる、種々の弾性材料によって形成することができる。
とくに外層４は、エピクロルヒドリンゴム、およびジエン系ゴムを含むゴム組成物の架橋物によって形成するのが好ましい。
〈エピクロルヒドリンゴム〉
エピクロルヒドリンゴムとしては、内層２で使用するのと同様のエピクロルヒドリンゴムの１種または２種以上を用いることができる。
〈エピクロルヒドリンゴム〉
エピクロルヒドリンゴムとしては、内層２で使用するのと同様のエピクロルヒドリンゴムの１種または２種以上を用いることができる。
中でもＥＣＯおよび／またはＧＥＣＯが好ましく、とくにＧＥＣＯが好ましい。
その理由は、内層２の場合と同様である。
すなわち、エピクロルヒドリンゴムとしてＧＥＣＯを用いることで、外層４を、圧縮永久ひずみが小さく、ヘタリを生じにくいものとすることができる。
〈ジエン系ゴム〉
ジエン系ゴムは、ゴム組成物に良好な加工性を付与したり、外層４の機械的強度や耐久性等を向上したり、あるいは外層４にゴムとしての良好な特性を付与したりするために機能する。
その理由は、内層２の場合と同様である。
すなわち、エピクロルヒドリンゴムとしてＧＥＣＯを用いることで、外層４を、圧縮永久ひずみが小さく、ヘタリを生じにくいものとすることができる。
〈ジエン系ゴム〉
ジエン系ゴムは、ゴム組成物に良好な加工性を付与したり、外層４の機械的強度や耐久性等を向上したり、あるいは外層４にゴムとしての良好な特性を付与したりするために機能する。
またジエン系ゴムは、紫外線照射によって酸化されて、外層４の表面、すなわちローラ本体５の外周面８に酸化膜９を形成する材料ともなる。
ジエン系ゴムとしては、内層２で使用するのと同様のジエン系ゴムの１種または２種以上を用いることができる。
すなわちジエン系ゴムとしては、たとえば、天然ゴム、ＩＲ、ＮＢＲ、ＳＢＲ、ＢＲ、ＣＲ等が挙げられる。
ジエン系ゴムとしては、内層２で使用するのと同様のジエン系ゴムの１種または２種以上を用いることができる。
すなわちジエン系ゴムとしては、たとえば、天然ゴム、ＩＲ、ＮＢＲ、ＳＢＲ、ＢＲ、ＣＲ等が挙げられる。
中でも、ジエン系ゴムとしては非極性のジエン系ゴム、具体的にはＩＲ、ＢＲ、およびＳＢＲの３種のうちの少なくとも１種、とくにＳＢＲを用いるのが好ましい。
また、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）を微調整するため、非極性のジエン系ゴムとともに、さらにＣＲおよび／またはＮＢＲを併用してもよい。
また、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）を微調整するため、非極性のジエン系ゴムとともに、さらにＣＲおよび／またはＮＢＲを併用してもよい。
これらのジエン系ゴムの具体例は、前述したとおりである。
（ゴムの割合）
ゴムの割合は、外層４に求められる各種の特性、とくにローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）や、外層４の柔軟性等に応じて任意に設定できる。
ただしエピクロルヒドリンゴムの割合は、ゴムの総量１００質量部中の２０質量部以上、中でも２５質量部以上であるのが好ましく、５０質量部以下であるのが好ましい。
（ゴムの割合）
ゴムの割合は、外層４に求められる各種の特性、とくにローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）や、外層４の柔軟性等に応じて任意に設定できる。
ただしエピクロルヒドリンゴムの割合は、ゴムの総量１００質量部中の２０質量部以上、中でも２５質量部以上であるのが好ましく、５０質量部以下であるのが好ましい。
エピクロルヒドリンゴムの割合がこの範囲未満では、ゴム組成物の組成等にもよるが、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）が前述した式(１)の範囲を超える場合がある。
そして、初期黒ベタ濃度が不足して画像のコントラストが低下したり、全面黒ベタ画像に掠れが生じて全面黒ベタ濃度が低下したりする場合がある。
そして、初期黒ベタ濃度が不足して画像のコントラストが低下したり、全面黒ベタ画像に掠れが生じて全面黒ベタ濃度が低下したりする場合がある。
一方、エピクロルヒドリンゴムの割合が上記の範囲を超える場合には、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）が前述した式(１)の範囲未満となり、ローラ本体５の表面付近の抵抗値が低くなりすぎて、画像に、過電流による画像不良等を生じる場合がある。
これに対し、エピクロルヒドリンゴムの割合を上記の範囲とすることにより、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）を式(１)の範囲として、これらの特性が低下するのを抑制することができる。
これに対し、エピクロルヒドリンゴムの割合を上記の範囲とすることにより、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）を式(１)の範囲として、これらの特性が低下するのを抑制することができる。
ＣＲおよび／またはＮＢＲの割合は、ゴムの総量１００質量部中の１質量部以上、とくに２．５質量部以上であるのが好ましく、１０質量部以下であるのが好ましい。
ＣＲおよび／またはＮＢＲの割合がこの範囲未満では、これらのゴムを配合することによる前述した効果、すなわち、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）を微調整する効果が十分に得られない場合がある。
ＣＲおよび／またはＮＢＲの割合がこの範囲未満では、これらのゴムを配合することによる前述した効果、すなわち、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）を微調整する効果が十分に得られない場合がある。
一方、これらのゴムの割合が上記の範囲を超える場合には、相対的にエピクロルヒドリンゴムが少なくなって、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）を、前述した式(１)を満足する範囲まで十分に低下させることができない場合がある。
ＣＲおよび／またはＮＢＲ以外の、非極性のジエン系ゴムの割合は、エピクロルヒドリンゴム、もしくはエピクロルヒドリンゴムとＣＲおよび／またはＮＢＲの残量である。
ＣＲおよび／またはＮＢＲ以外の、非極性のジエン系ゴムの割合は、エピクロルヒドリンゴム、もしくはエピクロルヒドリンゴムとＣＲおよび／またはＮＢＲの残量である。
すなわちエピクロルヒドリンゴム、またはエピクロルヒドリンゴムとＣＲおよび／またはＮＢＲの割合をそれぞれ前述した範囲内の所定値に設定した際にゴムの総量が１００質量部となるように、非極性のジエン系ゴムの割合を設定すればよい。
〈架橋成分〉
架橋成分としては、内層２で使用するのと同様の架橋剤、架橋促進剤を組み合わせて用いるのが好ましい。
〈架橋成分〉
架橋成分としては、内層２で使用するのと同様の架橋剤、架橋促進剤を組み合わせて用いるのが好ましい。
すなわち、架橋剤としては硫黄系架橋剤、とくに硫黄が好ましく、当該硫黄系架橋剤と組み合わせる架橋促進剤としては、チウラム系促進剤、チアゾール系促進剤、チオウレア系促進剤、およびグアニジン系促進剤の４種を併用するのが好ましい。
硫黄系架橋剤、および４種の架橋促進剤の割合も、内層２の場合と同程度とするのが好ましい。
硫黄系架橋剤、および４種の架橋促進剤の割合も、内層２の場合と同程度とするのが好ましい。
〈イオン導電剤〉
外層４用のゴム組成物には、さらにイオン導電剤を配合してもよい。
イオン導電剤を配合することにより、ゴム組成物のイオン導電性をさらに向上して、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）を、より一層低下させることができる。
外層４用のゴム組成物には、さらにイオン導電剤を配合してもよい。
イオン導電剤を配合することにより、ゴム組成物のイオン導電性をさらに向上して、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）を、より一層低下させることができる。
イオン導電剤としては、内層２で使用するのと同様の、分子中にフルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンと、陽イオンとの塩（イオン塩）が好ましい。
イオン導電剤の割合も、内層２の場合と同程度とするのが好ましい。
〈その他〉
外層４用のゴム組成物には、さらに必要に応じて、各種の添加剤を配合してもよい。
イオン導電剤の割合も、内層２の場合と同程度とするのが好ましい。
〈その他〉
外層４用のゴム組成物には、さらに必要に応じて、各種の添加剤を配合してもよい。
添加剤としては、内層２で使用するのと同様の添加剤、たとえば、架橋促進助剤、受酸剤、充填剤、可塑剤、加工助剤、劣化防止剤、劣化防止剤、スコーチ防止剤、滑剤、顔料、帯電防止剤、難燃剤、中和剤、造核剤、共架橋剤等が挙げられる。
充填剤としては、たとえば、サーマルブラック等のカーボンブラックが好ましい。
添加剤の割合も、内層２の場合と同程度とするのが好ましい。
充填剤としては、たとえば、サーマルブラック等のカーボンブラックが好ましい。
添加剤の割合も、内層２の場合と同程度とするのが好ましい。
〈ゴム組成物の調製〉
以上で説明した各成分を含む、外層４用のゴム組成物は、従来同様に調製することができる。
すなわち、まずゴムを素練りし、次いで架橋成分以外の各成分を加えて混練した後、最後に架橋成分を加えて混練することで、外層４用のゴム組成物が得られる。
以上で説明した各成分を含む、外層４用のゴム組成物は、従来同様に調製することができる。
すなわち、まずゴムを素練りし、次いで架橋成分以外の各成分を加えて混練した後、最後に架橋成分を加えて混練することで、外層４用のゴム組成物が得られる。
混練には、たとえば、ニーダ、バンバリミキサ、押出機等を用いることができる。
《現像ローラ１の製造》
上記内層２用、および外層４用のゴム組成物を用いて、図１(ａ)(ｂ)に示す現像ローラ１を製造するには、たとえば、両ゴム組成物を２層押出機に供給して、積層された２層構造の筒状に共押出成形したのち、全体を架橋させて内層２と外層４を形成する。
《現像ローラ１の製造》
上記内層２用、および外層４用のゴム組成物を用いて、図１(ａ)(ｂ)に示す現像ローラ１を製造するには、たとえば、両ゴム組成物を２層押出機に供給して、積層された２層構造の筒状に共押出成形したのち、全体を架橋させて内層２と外層４を形成する。
あるいは、内層２用のゴム組成物を筒状に押出成形し、架橋させて内層２を形成し、次いでその外周面３に、外層４用のゴム組成物のシートを巻き付けて、プレス成形等によって筒状に成形し、架橋させるとともに、内層２と一体化させて外層４を形成する。
次いで、形成した内層２と外層４の積層体を、オーブン等を用いて加熱して二次架橋させ、冷却したのち所定の外径となるように研磨すると、上記積層体からなるローラ本体５が形成される。
次いで、形成した内層２と外層４の積層体を、オーブン等を用いて加熱して二次架橋させ、冷却したのち所定の外径となるように研磨すると、上記積層体からなるローラ本体５が形成される。
内層２の厚みは、組み込む画像形成装置の構造や寸法等に応じて任意に設定できる。
また、外層４の厚みも任意に設定できるものの、０．１ｍｍ以上であるのが好ましく、２ｍｍ以下であるのが好ましい。
外層４の厚みをこの範囲とすることで、それぞれ前述した所定のゴム組成物からなる内層２と外層４とを組み合わせた際に、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）、および全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を、いずれも前述した範囲に調整することができる。
また、外層４の厚みも任意に設定できるものの、０．１ｍｍ以上であるのが好ましく、２ｍｍ以下であるのが好ましい。
外層４の厚みをこの範囲とすることで、それぞれ前述した所定のゴム組成物からなる内層２と外層４とを組み合わせた際に、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）、および全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を、いずれも前述した範囲に調整することができる。
そのため、黒ベタ濃度と２ｄｏｔ濃度の両方を同時に向上して、コントラストと、細線の再現性や階調性とに優れた画像を形成することができる。
また画像に、横方向に隣接する画像の濃度に依存した濃度のムラが生じるのを抑制したり、耐久２ｄｏｔ濃度や全面黒ベタ濃度の低下を抑制したりすることもできる。
研磨方法としては、たとえば、乾式トラバース研磨等の種々の研磨方法が採用可能であり、研磨工程の最後に鏡面研磨をして仕上げてもよい。
また画像に、横方向に隣接する画像の濃度に依存した濃度のムラが生じるのを抑制したり、耐久２ｄｏｔ濃度や全面黒ベタ濃度の低下を抑制したりすることもできる。
研磨方法としては、たとえば、乾式トラバース研磨等の種々の研磨方法が採用可能であり、研磨工程の最後に鏡面研磨をして仕上げてもよい。
その場合は、外周面８の離型性を向上して、酸化膜９を形成せずに、あるいは酸化膜９を形成することとの相乗効果によって、トナーの付着をより一層良好に抑制することができる上、感光体等の汚染を有効に防止することもできる。
シャフト７は、ローラ本体５のもとになる筒状体のカット後から研磨後までの任意の時点で、通孔６に挿通して固定できる。
シャフト７は、ローラ本体５のもとになる筒状体のカット後から研磨後までの任意の時点で、通孔６に挿通して固定できる。
ただしカット後、まず通孔６にシャフト７を挿通した状態で二次架橋、および研磨をするのが好ましい。これにより、二次架橋時の膨張収縮によるローラ本体５の反りや変形を抑制できる。
また、シャフト７を中心として回転させながら研磨することで、当該研磨の作業性を向上し、なおかつ外周面８のフレを抑制できる。
また、シャフト７を中心として回転させながら研磨することで、当該研磨の作業性を向上し、なおかつ外周面８のフレを抑制できる。
シャフト７は、先に説明したように、導電性を有する接着剤、特に導電性の熱硬化性接着剤を介して二次架橋前の筒状体の通孔６に挿通したのち二次架橋させるか、あるいは通孔６の内径より外径の大きいものを通孔６に圧入すればよい。
前者の場合は、オーブン中での加熱によって筒状体が二次架橋されるのと同時に熱硬化性接着剤が硬化して、当該シャフト７がローラ本体５に電気的に接合されるとともに機械的に固定される。
前者の場合は、オーブン中での加熱によって筒状体が二次架橋されるのと同時に熱硬化性接着剤が硬化して、当該シャフト７がローラ本体５に電気的に接合されるとともに機械的に固定される。
また後者の場合は、圧入と同時に電気的な接合と機械的な固定が完了する。
また、前述したように、この両法を併用して、シャフト７を、ローラ本体５と電気的に接合し、かつ機械的に固定してもよい。
酸化膜９は、先に説明したように、外層４の表面であるローラ本体５の外周面８に紫外線を照射して形成するのが好ましい。
また、前述したように、この両法を併用して、シャフト７を、ローラ本体５と電気的に接合し、かつ機械的に固定してもよい。
酸化膜９は、先に説明したように、外層４の表面であるローラ本体５の外周面８に紫外線を照射して形成するのが好ましい。
すなわち、ローラ本体５の外周面８に所定波長の紫外線を所定時間照射して、当該外周面８の近傍を構成するゴムを酸化させるだけで酸化膜９を形成できる。
そのため、酸化膜９の形成工程が簡単で効率的であって、現像ローラ１の生産性が低下したり製造コストが高くついたりするのを抑制することができる。
また、前述したように紫外線の積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）を調整することにより、形成された酸化膜９で被覆された外周面８の水の接触角θＷ（°）を調整することもできる。
そのため、酸化膜９の形成工程が簡単で効率的であって、現像ローラ１の生産性が低下したり製造コストが高くついたりするのを抑制することができる。
また、前述したように紫外線の積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）を調整することにより、形成された酸化膜９で被覆された外周面８の水の接触角θＷ（°）を調整することもできる。
しかも、紫外線の照射によって形成される酸化膜９は、たとえば、従来の、塗剤を塗布して形成されるコーティング膜のような問題を生じることがない上、厚みの均一性やローラ本体５との密着性等にも優れている。
照射する紫外線の波長は、外層４用のゴム組成物中のジエン系ゴムを効率よく酸化させて、前述した機能に優れた酸化膜９を形成することを考慮すると、１００ｎｍ以上であるのが好ましく、４００ｎｍ以下、とくに３００ｎｍ以下であるのが好ましい。
照射する紫外線の波長は、外層４用のゴム組成物中のジエン系ゴムを効率よく酸化させて、前述した機能に優れた酸化膜９を形成することを考慮すると、１００ｎｍ以上であるのが好ましく、４００ｎｍ以下、とくに３００ｎｍ以下であるのが好ましい。
また照射の時間は、紫外線の積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）に基づく水の接触角θＷ（°）が前述した所定の範囲となるように、任意に設定することができる。
ただし、酸化膜９は他の方法で形成してもよいし、前述したように形成しなくてもよい。
内層２と外層４の間には、任意の中間層を１層または２層以上介在させてもよい。
ただし、酸化膜９は他の方法で形成してもよいし、前述したように形成しなくてもよい。
内層２と外層４の間には、任意の中間層を１層または２層以上介在させてもよい。
しかし、ローラ本体５の構造を簡略化することを考慮すると、当該ローラ本体５は、図１(ａ)(ｂ)に示すように、内層２と外層４を直接に積層した２層構造とするのが好ましい。
本発明の現像ローラ１は、たとえば、レーザープリンタ、静電式複写機、普通紙ファクシミリ装置、およびこれらの複合機等の、電子写真法を利用した各種の画像形成装置に組み込んで用いることができる。
本発明の現像ローラ１は、たとえば、レーザープリンタ、静電式複写機、普通紙ファクシミリ装置、およびこれらの複合機等の、電子写真法を利用した各種の画像形成装置に組み込んで用いることができる。
以下に本発明を、実施例、比較例に基づいて説明するが、本発明の構成は、必ずしもこれらの例に限定されるものではない。
《ゴム組成物の調製》
〈内層２用のゴム組成物(Ａ)〉
ゴムとしては、ＧＥＣＯ〔(株)大阪ソーダ製のエピオン（登録商標）３０１Ｌ、ＥＯ／ＥＰ／ＡＧＥ＝７３／２３／４（モル比）〕１６質量部、ＩＲ〔日本ゼオン(株)製のＮｉｐｏｌ（登録商標）ＩＲ２２００、非油展〕７７質量部、ＳＢＲ〔ＪＳＲ(株)製のＪＳＲ １５０２、結合スチレン：２３．５％、非油展〕６質量部、およびＣＲ〔昭和電工(株)製のショウプレン（登録商標）ＷＲＴ、非油展〕１質量部を用いた。
《ゴム組成物の調製》
〈内層２用のゴム組成物(Ａ)〉
ゴムとしては、ＧＥＣＯ〔(株)大阪ソーダ製のエピオン（登録商標）３０１Ｌ、ＥＯ／ＥＰ／ＡＧＥ＝７３／２３／４（モル比）〕１６質量部、ＩＲ〔日本ゼオン(株)製のＮｉｐｏｌ（登録商標）ＩＲ２２００、非油展〕７７質量部、ＳＢＲ〔ＪＳＲ(株)製のＪＳＲ １５０２、結合スチレン：２３．５％、非油展〕６質量部、およびＣＲ〔昭和電工(株)製のショウプレン（登録商標）ＷＲＴ、非油展〕１質量部を用いた。
上記ゴムの総量１００質量部を、バンバリミキサを用いて素練りしながら、下記の各成分を配合して混練した。
表１中の各成分は下記のとおりであり、表中の質量部は、ゴムの総量１００質量部あたりの質量部である。
イオン塩：カリウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド〔Ｋ－ＴＦＳＩ、三菱マテリアル電子化成(株)製のＥＦ－Ｎ１１２〕
架橋促進助剤：酸化亜鉛２種〔堺化学工業(株)製〕
充填剤：カーボンブラックＦＥＦ〔東海カーボン(株)製のシースト（登録商標）ＳＯ〕
受酸剤：ハイドロタルサイト類〔協和化学工業(株)製のＤＨＴ－４Ａ（登録商標）－２〕
加工助剤：ステアリン酸亜鉛〔堺化学工業(株)製のＳＺ－２０００〕
次いで混練を続けながら、下記の架橋成分を配合してさらに混練して、内層２用のゴム組成物(Ａ)を調製した。
イオン塩：カリウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド〔Ｋ－ＴＦＳＩ、三菱マテリアル電子化成(株)製のＥＦ－Ｎ１１２〕
架橋促進助剤：酸化亜鉛２種〔堺化学工業(株)製〕
充填剤：カーボンブラックＦＥＦ〔東海カーボン(株)製のシースト（登録商標）ＳＯ〕
受酸剤：ハイドロタルサイト類〔協和化学工業(株)製のＤＨＴ－４Ａ（登録商標）－２〕
加工助剤：ステアリン酸亜鉛〔堺化学工業(株)製のＳＺ－２０００〕
次いで混練を続けながら、下記の架橋成分を配合してさらに混練して、内層２用のゴム組成物(Ａ)を調製した。
表２中の各成分は下記のとおりであり、表中の質量部は、ゴムの総量１００質量部あたりの質量部である。
架橋剤：オイル処理粉末硫黄〔鶴見化学工業(株)製の金華印５％油入微粉硫黄〕
促進剤ＤＭ：ジ－２－ベンゾチアゾリルジスルフィド〔大内新興化学工業(株)製のノクセラー（登録商標）ＤＭ、チアゾール系促進剤〕
促進剤ＴＳ：テトラメチルチウラムモノスルフィド〔三新化学工業(株)製のサンセラー（登録商標）ＴＳ、チウラム系促進剤〕
促進剤２２：エチレンチオウレア〔２－メルカプトイミダゾリン、川口化学工業(株)製のアクセル（登録商標）２２－Ｓ、チオウレア系促進剤〕
促進剤ＤＴ：１，３－ジ－ｏ－トリルグアニジン〔大内新興化学工業(株)製のノクセラーＤＴ、グアニジン系促進剤〕
〈内層２用のゴム組成物(Ｂ)〉
ＧＥＣＯの量を１８質量部、ＩＲの量を７５質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｂ)を調製した。
架橋剤：オイル処理粉末硫黄〔鶴見化学工業(株)製の金華印５％油入微粉硫黄〕
促進剤ＤＭ：ジ－２－ベンゾチアゾリルジスルフィド〔大内新興化学工業(株)製のノクセラー（登録商標）ＤＭ、チアゾール系促進剤〕
促進剤ＴＳ：テトラメチルチウラムモノスルフィド〔三新化学工業(株)製のサンセラー（登録商標）ＴＳ、チウラム系促進剤〕
促進剤２２：エチレンチオウレア〔２－メルカプトイミダゾリン、川口化学工業(株)製のアクセル（登録商標）２２－Ｓ、チオウレア系促進剤〕
促進剤ＤＴ：１，３－ジ－ｏ－トリルグアニジン〔大内新興化学工業(株)製のノクセラーＤＴ、グアニジン系促進剤〕
〈内層２用のゴム組成物(Ｂ)〉
ＧＥＣＯの量を１８質量部、ＩＲの量を７５質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｂ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｃ)〉
ＧＥＣＯの量を２１質量部、ＩＲの量を７２質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｃ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｄ)〉
ＧＥＣＯの量を２３質量部、ＩＲの量を７０質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｄ)を調製した。
ＧＥＣＯの量を２１質量部、ＩＲの量を７２質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｃ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｄ)〉
ＧＥＣＯの量を２３質量部、ＩＲの量を７０質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｄ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｅ)〉
ＧＥＣＯの量を２６質量部、ＩＲの量を６７質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｅ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｆ)〉
ＧＥＣＯの量を２８質量部、ＩＲの量を６５質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｆ)を調製した。
ＧＥＣＯの量を２６質量部、ＩＲの量を６７質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｅ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｆ)〉
ＧＥＣＯの量を２８質量部、ＩＲの量を６５質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｆ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｇ)〉
ＧＥＣＯの量を３０質量部、ＩＲの量を６３質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｇ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｈ)〉
ＧＥＣＯの量を３２質量部、ＩＲの量を６１質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｈ)を調製した。
ＧＥＣＯの量を３０質量部、ＩＲの量を６３質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｇ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｈ)〉
ＧＥＣＯの量を３２質量部、ＩＲの量を６１質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｈ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｉ)〉
ゴムとして、ＧＥＣＯ〔前出の(株)大阪ソーダ製のエピオン３０１Ｌ〕２６質量部、ＢＲ〔宇部興産(株)製のＵＢＥＰＯＬ（登録商標）ＢＲ１３０Ｂ、非油展〕５９質量部、ＣＲ〔前出の昭和電工(株)製のショウプレンＷＲＴ〕１０質量部、およびＮＢＲ〔日本ゼオン(株)製のＮｉｐｏｌ ＤＮ４０１ＬＬ、アクリロニトリル含量：１８．０％、非油展〕５質量部を用い、かつイオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｉ)を調製した。
ゴムとして、ＧＥＣＯ〔前出の(株)大阪ソーダ製のエピオン３０１Ｌ〕２６質量部、ＢＲ〔宇部興産(株)製のＵＢＥＰＯＬ（登録商標）ＢＲ１３０Ｂ、非油展〕５９質量部、ＣＲ〔前出の昭和電工(株)製のショウプレンＷＲＴ〕１０質量部、およびＮＢＲ〔日本ゼオン(株)製のＮｉｐｏｌ ＤＮ４０１ＬＬ、アクリロニトリル含量：１８．０％、非油展〕５質量部を用い、かつイオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｉ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｊ)〉
ゴムとして、ＧＥＣＯ〔前出の(株)大阪ソーダ製のエピオン３０１Ｌ〕１７．５質量部、ＩＲ〔前出の日本ゼオン(株)製のＮｉｐｏｌ ＩＲ２２００〕３６．２５質量部、ＳＢＲ〔前出のＪＳＲ(株)製のＪＳＲ １５０２〕３６．２５質量部、ＣＲ〔前出の昭和電工(株)製のショウプレンＷＲＴ〕５質量部、および非ジエン系ゴムであるエチレンプロピレンジエンゴム〔ＥＰＤＭ、住友化学(株)製のエスプレン（登録商標）５０５Ａ〕５質量部を用いたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｊ)を調製した。
ゴムとして、ＧＥＣＯ〔前出の(株)大阪ソーダ製のエピオン３０１Ｌ〕１７．５質量部、ＩＲ〔前出の日本ゼオン(株)製のＮｉｐｏｌ ＩＲ２２００〕３６．２５質量部、ＳＢＲ〔前出のＪＳＲ(株)製のＪＳＲ １５０２〕３６．２５質量部、ＣＲ〔前出の昭和電工(株)製のショウプレンＷＲＴ〕５質量部、および非ジエン系ゴムであるエチレンプロピレンジエンゴム〔ＥＰＤＭ、住友化学(株)製のエスプレン（登録商標）５０５Ａ〕５質量部を用いたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｊ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｋ)〉
ゴムとして、ＧＥＣＯ〔前出の(株)大阪ソーダ製のエピオン３０１Ｌ〕５質量部、ＩＲ〔前出の日本ゼオン(株)製のＮｉｐｏｌ ＩＲ２２００〕４５質量部、ＢＲ〔前出の宇部興産(株)製のＵＢＥＰＯＬ ＢＲ１３０Ｂ〕４０質量部、およびＣＲ〔前出の昭和電工(株)製のショウプレンＷＲＴ〕１０質量部を用い、かつイオン塩の量を１質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｋ)を調製した。
ゴムとして、ＧＥＣＯ〔前出の(株)大阪ソーダ製のエピオン３０１Ｌ〕５質量部、ＩＲ〔前出の日本ゼオン(株)製のＮｉｐｏｌ ＩＲ２２００〕４５質量部、ＢＲ〔前出の宇部興産(株)製のＵＢＥＰＯＬ ＢＲ１３０Ｂ〕４０質量部、およびＣＲ〔前出の昭和電工(株)製のショウプレンＷＲＴ〕１０質量部を用い、かつイオン塩の量を１質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｋ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｌ)〉
ＧＥＣＯの量を１０質量部、ＩＲの量を４２．５質量部、ＢＲの量を３７．５質量部としたこと以外はゴム組成物(Ｋ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｌ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｍ)〉
ＧＥＣＯの量を１２．５質量部、ＩＲの量を４１．２５質量部、ＢＲの量を３６．２５質量部としたこと以外はゴム組成物(Ｋ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｍ)を調製した。
ＧＥＣＯの量を１０質量部、ＩＲの量を４２．５質量部、ＢＲの量を３７．５質量部としたこと以外はゴム組成物(Ｋ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｌ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｍ)〉
ＧＥＣＯの量を１２．５質量部、ＩＲの量を４１．２５質量部、ＢＲの量を３６．２５質量部としたこと以外はゴム組成物(Ｋ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｍ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｎ)〉
ＧＥＣＯの量を１５質量部、ＩＲの量を４０質量部、ＢＲの量を３５質量部としたこと以外はゴム組成物(Ｋ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｎ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｏ)〉
ＧＥＣＯの量を２０質量部、ＩＲの量を３７．５質量部、ＢＲの量を３２．５質量部としたこと以外はゴム組成物(Ｋ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｏ)を調製した。
ＧＥＣＯの量を１５質量部、ＩＲの量を４０質量部、ＢＲの量を３５質量部としたこと以外はゴム組成物(Ｋ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｎ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｏ)〉
ＧＥＣＯの量を２０質量部、ＩＲの量を３７．５質量部、ＢＲの量を３２．５質量部としたこと以外はゴム組成物(Ｋ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｏ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｐ)〉
ＧＥＣＯの量を３０質量部、ＩＲの量を３２．５質量部、ＢＲの量を２７．５質量部としたこと以外はゴム組成物(Ｋ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｐ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｑ)〉
ゴムとして、ＧＥＣＯ〔前出の(株)大阪ソーダ製のエピオン３０１Ｌ〕２８質量部、ＩＲ〔前出の日本ゼオン(株)製のＮｉｐｏｌ ＩＲ２２００〕６０質量部、ＳＢＲ〔前出のＪＳＲ(株)製のＪＳＲ １５０２〕６質量部、ＣＲ〔前出の昭和電工(株)製のショウプレンＷＲＴ〕１質量部、およびＥＰＤＭ〔前出の住友化学(株)製のエスプレン５０５Ａ〕５質量部を用いたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｑ)を調製した。
ＧＥＣＯの量を３０質量部、ＩＲの量を３２．５質量部、ＢＲの量を２７．５質量部としたこと以外はゴム組成物(Ｋ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｐ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(Ｑ)〉
ゴムとして、ＧＥＣＯ〔前出の(株)大阪ソーダ製のエピオン３０１Ｌ〕２８質量部、ＩＲ〔前出の日本ゼオン(株)製のＮｉｐｏｌ ＩＲ２２００〕６０質量部、ＳＢＲ〔前出のＪＳＲ(株)製のＪＳＲ １５０２〕６質量部、ＣＲ〔前出の昭和電工(株)製のショウプレンＷＲＴ〕１質量部、およびＥＰＤＭ〔前出の住友化学(株)製のエスプレン５０５Ａ〕５質量部を用いたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(Ｑ)を調製した。
〈外層４用のゴム組成物(ｉ)〉
ゴムとしては、ＧＥＣＯ〔前出の(株)大阪ソーダ製のエピオン３０１Ｌ〕１５質量部、ＳＢＲ〔前出のＪＳＲ(株)製のＪＳＲ １５０２〕７５質量部、およびＣＲ〔前出の昭和電工(株)製のショウプレンＷＲＴ〕１０質量部を用いた。
上記ゴムの総量１００質量部を、バンバリミキサを用いて素練りしながら、下記の各成分を配合して混練した。
ゴムとしては、ＧＥＣＯ〔前出の(株)大阪ソーダ製のエピオン３０１Ｌ〕１５質量部、ＳＢＲ〔前出のＪＳＲ(株)製のＪＳＲ １５０２〕７５質量部、およびＣＲ〔前出の昭和電工(株)製のショウプレンＷＲＴ〕１０質量部を用いた。
上記ゴムの総量１００質量部を、バンバリミキサを用いて素練りしながら、下記の各成分を配合して混練した。
表３中の各成分は下記のとおり。また表中の質量部は、ゴムの総量１００質量部あたりの質量部である。
イオン塩：カリウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド〔Ｋ－ＴＦＳＩ、前出の三菱マテリアル電子化成(株)製のＥＦ－Ｎ１１２〕
架橋促進助剤：酸化亜鉛２種〔堺化学工業(株)製〕
充填剤：カーボンブラック〔サーマルブラック、旭カーボン(株)製の旭＃１５〕
受酸剤：ハイドロタルサイト類〔前出の協和化学工業(株)製のＤＨＴ－４Ａ－２〕
加工助剤：ステアリン酸亜鉛〔前出の堺化学工業(株)製のＳＺ－２０００〕
次いで、混練を続けながら、下記の架橋成分を配合してさらに混練して、外層４用のゴム組成物(ｉ)を調製した。
イオン塩：カリウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド〔Ｋ－ＴＦＳＩ、前出の三菱マテリアル電子化成(株)製のＥＦ－Ｎ１１２〕
架橋促進助剤：酸化亜鉛２種〔堺化学工業(株)製〕
充填剤：カーボンブラック〔サーマルブラック、旭カーボン(株)製の旭＃１５〕
受酸剤：ハイドロタルサイト類〔前出の協和化学工業(株)製のＤＨＴ－４Ａ－２〕
加工助剤：ステアリン酸亜鉛〔前出の堺化学工業(株)製のＳＺ－２０００〕
次いで、混練を続けながら、下記の架橋成分を配合してさらに混練して、外層４用のゴム組成物(ｉ)を調製した。
表４中の各成分は下記のとおり。また表中の質量部は、ゴムの総量１００質量部あたりの質量部である。
架橋剤：オイル処理粉末硫黄〔前出の鶴見化学工業(株)製の金華印５％油入微粉硫黄〕
促進剤ＤＭ：ジ－２－ベンゾチアゾリルジスルフィド〔前出の大内新興化学工業(株)製のノクセラーＤＭ、チアゾール系促進剤〕
促進剤ＴＳ：テトラメチルチウラムモノスルフィド〔前出の三新化学工業(株)製のサンセラーＴＳ、チウラム系促進剤〕
促進剤２２：エチレンチオウレア〔２－メルカプトイミダゾリン、前出の川口化学工業(株)製のアクセル２２－Ｓ、チオウレア系促進剤〕
促進剤ＤＴ：１，３－ジ－ｏ－トリルグアニジン〔前出の大内新興化学工業(株)製のノクセラーＤＴ、グアニジン系促進剤〕
〈外層４用のゴム組成物(ii)〉
ＧＥＣＯの量を２０質量部、ＳＢＲの量を７０質量部としたこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、外層４用のゴム組成物(ii)を調製した。
架橋剤：オイル処理粉末硫黄〔前出の鶴見化学工業(株)製の金華印５％油入微粉硫黄〕
促進剤ＤＭ：ジ－２－ベンゾチアゾリルジスルフィド〔前出の大内新興化学工業(株)製のノクセラーＤＭ、チアゾール系促進剤〕
促進剤ＴＳ：テトラメチルチウラムモノスルフィド〔前出の三新化学工業(株)製のサンセラーＴＳ、チウラム系促進剤〕
促進剤２２：エチレンチオウレア〔２－メルカプトイミダゾリン、前出の川口化学工業(株)製のアクセル２２－Ｓ、チオウレア系促進剤〕
促進剤ＤＴ：１，３－ジ－ｏ－トリルグアニジン〔前出の大内新興化学工業(株)製のノクセラーＤＴ、グアニジン系促進剤〕
〈外層４用のゴム組成物(ii)〉
ＧＥＣＯの量を２０質量部、ＳＢＲの量を７０質量部としたこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、外層４用のゴム組成物(ii)を調製した。
〈外層４用のゴム組成物(iii)〉
ＧＥＣＯの量を２５質量部、ＳＢＲの量を６５質量部としたこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、外層４用のゴム組成物(iii)を調製した。
〈外層４用のゴム組成物(iv)〉
ＧＥＣＯの量を３０質量部、ＳＢＲの量を６０質量部としたこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、外層４用のゴム組成物(iv)を調製した。
ＧＥＣＯの量を２５質量部、ＳＢＲの量を６５質量部としたこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、外層４用のゴム組成物(iii)を調製した。
〈外層４用のゴム組成物(iv)〉
ＧＥＣＯの量を３０質量部、ＳＢＲの量を６０質量部としたこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、外層４用のゴム組成物(iv)を調製した。
〈外層４用のゴム組成物(ｖ)〉
ＧＥＣＯの量を５０質量部、ＳＢＲの量を４０質量部としたこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、外層４用のゴム組成物(ｖ)を調製した。
〈外層４用のゴム組成物(vi)〉
ＧＥＣＯの量を３０質量部、ＳＢＲの量を６７．５質量部、ＣＲの量を２．５質量部としたこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、外層４用のゴム組成物(vii)を調製した。
ＧＥＣＯの量を５０質量部、ＳＢＲの量を４０質量部としたこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、外層４用のゴム組成物(ｖ)を調製した。
〈外層４用のゴム組成物(vi)〉
ＧＥＣＯの量を３０質量部、ＳＢＲの量を６７．５質量部、ＣＲの量を２．５質量部としたこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、外層４用のゴム組成物(vii)を調製した。
〈外層４用のゴム組成物(vii)〉
イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(vi)と同様にして、外層４用のゴム組成物(viii)を調製した。
〈外層４用のゴム組成物(viii)〉
ＧＥＣＯの量を４０質量部、ＳＢＲの量を５７．５質量部としたこと以外はゴム組成物(vii)と同様にして、外層４用のゴム組成物(viii)を調製した。
イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(vi)と同様にして、外層４用のゴム組成物(viii)を調製した。
〈外層４用のゴム組成物(viii)〉
ＧＥＣＯの量を４０質量部、ＳＢＲの量を５７．５質量部としたこと以外はゴム組成物(vii)と同様にして、外層４用のゴム組成物(viii)を調製した。
〈外層４用のゴム組成物(ix)〉
ＧＥＣＯの量を２５質量部、ＳＢＲの量を７２．５質量部としたこと以外はゴム組成物(vii)と同様にして、外層４用のゴム組成物(ix)を調製した。
《実施例１～９、比較例１～１０》
内層２用のゴム組成物(Ｂ)～(Ｐ)、および外層用のゴム組成物(ｉ)～(Ｖ)を、表５～表８に示す組み合わせで２層押出機に供給して、外径φ１６ｍｍ、内径φ６．５ｍｍの、２層構造の筒状に押出成形し、架橋用の仮のシャフトに装着して加硫缶内で１６０℃×１時間架橋させた。
ＧＥＣＯの量を２５質量部、ＳＢＲの量を７２．５質量部としたこと以外はゴム組成物(vii)と同様にして、外層４用のゴム組成物(ix)を調製した。
《実施例１～９、比較例１～１０》
内層２用のゴム組成物(Ｂ)～(Ｐ)、および外層用のゴム組成物(ｉ)～(Ｖ)を、表５～表８に示す組み合わせで２層押出機に供給して、外径φ１６ｍｍ、内径φ６．５ｍｍの、２層構造の筒状に押出成形し、架橋用の仮のシャフトに装着して加硫缶内で１６０℃×１時間架橋させた。
次いで、架橋させた筒状体を、外周面に導電性の熱硬化性接着剤を塗布した外径φ７．５ｍｍの金属製のシャフト７に装着し直して、オーブン中で１６０℃に加熱してシャフト７に接着させた。
次いで、筒状体の両端を整形するとともに、外周面８を、円筒研磨機を用いてトラバース研磨したのち仕上げとして鏡面研磨して外径φ１６ｍｍになるように仕上げて、内層２と外層４の２層構造を有し、シャフト７と一体化されたローラ本体５を形成した。
次いで、筒状体の両端を整形するとともに、外周面８を、円筒研磨機を用いてトラバース研磨したのち仕上げとして鏡面研磨して外径φ１６ｍｍになるように仕上げて、内層２と外層４の２層構造を有し、シャフト７と一体化されたローラ本体５を形成した。
研磨後の外層４の厚みは約０．１～２ｍｍであった。
次いで、形成したローラ本体５の外周面８をアルコール拭きしたのち、当該外周面８からＵＶランプまでの距離が５０ｍｍになるように設定して紫外線照射装置〔セン特殊光源(株)製のＰＬ２１－２００〕にセットした。
そして、シャフトを中心として９０°ずつ回転させながら、波長１８４．９ｎｍと２５３．７ｎｍの紫外線を照射することで上記外周面８を酸化膜９で被覆して、現像ローラ１を製造した。
次いで、形成したローラ本体５の外周面８をアルコール拭きしたのち、当該外周面８からＵＶランプまでの距離が５０ｍｍになるように設定して紫外線照射装置〔セン特殊光源(株)製のＰＬ２１－２００〕にセットした。
そして、シャフトを中心として９０°ずつ回転させながら、波長１８４．９ｎｍと２５３．７ｎｍの紫外線を照射することで上記外周面８を酸化膜９で被覆して、現像ローラ１を製造した。
紫外線の積算光量は、いずれも１００ｍＪ／ｃｍ２とした。
《特性測定》
上記各実施例、比較例で製造した現像ローラ１について、下記の各試験を実施して、その特性を求めた。
なお各試験は、いずれも温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で実施した。
《特性測定》
上記各実施例、比較例で製造した現像ローラ１について、下記の各試験を実施して、その特性を求めた。
なお各試験は、いずれも温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で実施した。
〈表面抵抗値Ｒ１の測定〉
ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）を、抵抗率計〔(株)三菱ケミカルアナリテック製のハイレスタ（登録商標）ＵＰ ＭＣＰ－ＨＴ８００〕と同社製の専用ＭＣＰプローブ（ＵＡタイプ）とを用いて、表面抵抗モードで測定した。
すなわちＭＣＰプローブを、４８０ｇの荷重をかけて、ローラ本体５の外周面８の、軸方向の中央部に押し当てて１０秒経過後の値を、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）とした。
ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）を、抵抗率計〔(株)三菱ケミカルアナリテック製のハイレスタ（登録商標）ＵＰ ＭＣＰ－ＨＴ８００〕と同社製の専用ＭＣＰプローブ（ＵＡタイプ）とを用いて、表面抵抗モードで測定した。
すなわちＭＣＰプローブを、４８０ｇの荷重をかけて、ローラ本体５の外周面８の、軸方向の中央部に押し当てて１０秒経過後の値を、ローラ本体５の外周面８の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）とした。
測定の条件は、ＲＣＦ（Ｓ）：１．０５０、印加電圧：１０Ｖとした。
表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）は、前述したように、常用対数値ｌｏｇＲ１が７．０以上、８．５以下であったものを合格（○）、それ以外を不合格（×）とした。
〈ローラ抵抗値Ｒ２の測定〉
ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を、図２に示す方法で測定した。
表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）は、前述したように、常用対数値ｌｏｇＲ１が７．０以上、８．５以下であったものを合格（○）、それ以外を不合格（×）とした。
〈ローラ抵抗値Ｒ２の測定〉
ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）を、図２に示す方法で測定した。
すなわち図１、図２を参照して、まず一定の回転速度で回転させることができるアルミニウムドラム１０を用意し、用意したアルミニウムドラム１０の外周面１１に、上方から、ローラ本体５の外周面８を接触させた。
また、シャフト７とアルミニウムドラム１０との間に直流電源１２、および抵抗１３を直列に接続して計測回路１４を構成した。
また、シャフト７とアルミニウムドラム１０との間に直流電源１２、および抵抗１３を直列に接続して計測回路１４を構成した。
直流電源１２は、(－)側をシャフト７、（＋）側を抵抗１３と接続し、抵抗１３の抵抗値ｒは１００Ωとした。
次いで、シャフト７の両端部にそれぞれ４５０ｇの荷重Ｆをかけて、ローラ本体５をアルミニウムドラム１０に圧接させた状態で、アルミニウムドラム１０を４０ｒｐｍで回転させた。
次いで、シャフト７の両端部にそれぞれ４５０ｇの荷重Ｆをかけて、ローラ本体５をアルミニウムドラム１０に圧接させた状態で、アルミニウムドラム１０を４０ｒｐｍで回転させた。
そして回転を続けながら、ローラ本体５とアルミニウムドラム１０との間に、直流電源１２から直流４００Ｖの印加電圧Ｅを印加した際に、抵抗１３にかかる検出電圧Ｖを計測した。
検出電圧Ｖと印加電圧Ｅ（＝４００Ｖ）とから、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２は、基本的に式(３)：
Ｒ２＝ｒ×Ｅ／Ｖ－ｒ (３)
によって求められる。
検出電圧Ｖと印加電圧Ｅ（＝４００Ｖ）とから、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２は、基本的に式(３)：
Ｒ２＝ｒ×Ｅ／Ｖ－ｒ (３)
によって求められる。
ただし式(３)中の－ｒの項は微小とみなすことができるため、本発明では式(３ａ)：
Ｒ２＝ｒ×Ｅ／Ｖ (３ａ)
によって求めた値でもって、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）とした。
ローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）は、前述したように、常用対数値ｌｏｇＲ２が６．３以上、８．５以下であったものを合格（○）、それ以外を不合格（×）とした。
Ｒ２＝ｒ×Ｅ／Ｖ (３ａ)
によって求めた値でもって、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）とした。
ローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）は、前述したように、常用対数値ｌｏｇＲ２が６．３以上、８．５以下であったものを合格（○）、それ以外を不合格（×）とした。
〈水の接触角θＷの測定〉
ローラ本体５の外周面８の、水の接触角θＷ（°）は、自動接触角計〔協和界面科学(株)のＤＭｏ－５０１〕を用いて、液滴量：２μＬ、着滴後の測定開始時間：１０００ｍｓの条件で測定した。
具体的には、図３を参照して、まずマイクロシリンジに充填した純水を、ローラ本体５の外周面８に２μＬ滴下し、滴下から１０００ｍｓ後の液滴１５の形状から、式(４)：
θＷ＝２ａｒｃｔａｎ（ｈ／ｒ） (４)
によって水の接触角θＷ（°）を求めた。
ローラ本体５の外周面８の、水の接触角θＷ（°）は、自動接触角計〔協和界面科学(株)のＤＭｏ－５０１〕を用いて、液滴量：２μＬ、着滴後の測定開始時間：１０００ｍｓの条件で測定した。
具体的には、図３を参照して、まずマイクロシリンジに充填した純水を、ローラ本体５の外周面８に２μＬ滴下し、滴下から１０００ｍｓ後の液滴１５の形状から、式(４)：
θＷ＝２ａｒｃｔａｎ（ｈ／ｒ） (４)
によって水の接触角θＷ（°）を求めた。
なお式(４)中の符号は、図３に示すように、ｈがローラ本体５の外周面８に滴下した液滴１５の高さ、ｒが上記液滴１５の半径である。
測定は、同一サンプルのローラ本体５の外周面８の、軸方向の両端からそれぞれ５ｃｍの位置と、軸方向の中央の計３箇所に液滴１５を低下して実施して、その平均値を測定値とした。
測定は、同一サンプルのローラ本体５の外周面８の、軸方向の両端からそれぞれ５ｃｍの位置と、軸方向の中央の計３箇所に液滴１５を低下して実施して、その平均値を測定値とした。
水の接触角θＷ（°）は、５０°未満を不良（×）、５０°以上、６０°未満を良好（△）、６０°以上をとくに良好（○）とした。
《実機試験》
製造した現像ローラ１を、レーザープリンタ〔ブラザー工業(株)製のＨＬ－２２４０Ｄ〕に組み込み、下記の各試験を実施して形成画像の画質を評価した。
《実機試験》
製造した現像ローラ１を、レーザープリンタ〔ブラザー工業(株)製のＨＬ－２２４０Ｄ〕に組み込み、下記の各試験を実施して形成画像の画質を評価した。
なお各試験は、いずれも温度２３．５℃、相対湿度５５％の環境下で実施した。
〈初期黒ベタ濃度の測定〉
普通紙に１％濃度の画像を連続的に３０枚連続して画像形成した直後に、３ｃｍ角の黒ベタ画像を１枚画像形成した。
そして、形成した黒ベタ画像上の任意の５点で、ビデオジェット・エックスライト(株)製の反射濃度計を用いて画像濃度を測定し、その平均値を求めて初期黒ベタ濃度とした。初期黒ベタ濃度は１．３０以上を合格（○）、１．３０未満を不合格（×）とした。
〈初期黒ベタ濃度の測定〉
普通紙に１％濃度の画像を連続的に３０枚連続して画像形成した直後に、３ｃｍ角の黒ベタ画像を１枚画像形成した。
そして、形成した黒ベタ画像上の任意の５点で、ビデオジェット・エックスライト(株)製の反射濃度計を用いて画像濃度を測定し、その平均値を求めて初期黒ベタ濃度とした。初期黒ベタ濃度は１．３０以上を合格（○）、１．３０未満を不合格（×）とした。
〈初期２ｄｏｔ濃度の測定〉
普通紙に１％濃度の画像を３０枚連続して画像形成した直後に、格子長約８０μｍの正方格子上に円が並んだ孤立２ｄｏｔ画像を１枚画像形成した。
そして、形成した孤立２ｄｏｔ画像上の任意の５点で、同じ反射濃度計を用いて画像濃度を測定し、その平均値を求めて初期２ｄｏｔ濃度とした。
普通紙に１％濃度の画像を３０枚連続して画像形成した直後に、格子長約８０μｍの正方格子上に円が並んだ孤立２ｄｏｔ画像を１枚画像形成した。
そして、形成した孤立２ｄｏｔ画像上の任意の５点で、同じ反射濃度計を用いて画像濃度を測定し、その平均値を求めて初期２ｄｏｔ濃度とした。
初期２ｄｏｔ濃度は０．０２を超えるものを合格（○）、０．０２以下を不合格（×）とした。
〈濃度ムラの測定〉
普通紙に１％濃度の画像を３０００枚連続して画像形成した直後に、３ｃｍ幅のハーフトーン部と、当該ハーフトーン部の、用紙の通紙方向と直交する横方向に５ｍｍあけて隣接させて、３ｃｍ角の黒ベタ部を有する画像を１枚画像形成した。
〈濃度ムラの測定〉
普通紙に１％濃度の画像を３０００枚連続して画像形成した直後に、３ｃｍ幅のハーフトーン部と、当該ハーフトーン部の、用紙の通紙方向と直交する横方向に５ｍｍあけて隣接させて、３ｃｍ角の黒ベタ部を有する画像を１枚画像形成した。
そして、形成した画像のハーフトーン部を観察して、ムラが見られなかったものを良好（○）、ムラが見られたものを不良（×）と評価し、評価が不良（×）であったものは、以降の試験を行わなかった。
また、初期黒ベタ濃度が１．１以下であったもの、および／または初期２ｄｏｔ濃度が０．０１以下であったものも、以降の試験を行わなかった。
また、初期黒ベタ濃度が１．１以下であったもの、および／または初期２ｄｏｔ濃度が０．０１以下であったものも、以降の試験を行わなかった。
〈耐久２ｄｏｔ濃度の測定〉
普通紙に１％濃度の画像を３０００枚連続して画像形成した直後に、初期２ｄｏｔ濃度の測定と同じ孤立２ｄｏｔ画像を１枚画像形成した。
そして、形成した孤立２ｄｏｔ画像上の任意の５点で、同じ反射濃度計を用いて画像濃度を測定し、その平均値を求めて耐久２ｄｏｔ濃度とした。
普通紙に１％濃度の画像を３０００枚連続して画像形成した直後に、初期２ｄｏｔ濃度の測定と同じ孤立２ｄｏｔ画像を１枚画像形成した。
そして、形成した孤立２ｄｏｔ画像上の任意の５点で、同じ反射濃度計を用いて画像濃度を測定し、その平均値を求めて耐久２ｄｏｔ濃度とした。
耐久２ｄｏｔ濃度は０．０２を超えるものを合格（○）、０．０２以下を不合格（×）とした。
また、初期２ｄｏｔ濃度と耐久２ｄｏｔ濃度の差を変化量（Δ２ｄｏｔ濃度）として求めて、当該Δ２ｄｏｔ濃度が０．０３以下であったものを合格（○）、０．０３を超えるものを不合格（×）とした。
また、初期２ｄｏｔ濃度と耐久２ｄｏｔ濃度の差を変化量（Δ２ｄｏｔ濃度）として求めて、当該Δ２ｄｏｔ濃度が０．０３以下であったものを合格（○）、０．０３を超えるものを不合格（×）とした。
〈全面黒ベタ濃度の測定〉
普通紙に１％濃度の画像を３０００枚連続して画像形成した直後に、全面黒ベタ画像を１枚画像形成した。
そして、形成した全面黒ベタ画像の、最も濃度が低い部分の濃度を、同じ反射濃度計を用いて測定して、全面黒ベタ濃度とした。
普通紙に１％濃度の画像を３０００枚連続して画像形成した直後に、全面黒ベタ画像を１枚画像形成した。
そして、形成した全面黒ベタ画像の、最も濃度が低い部分の濃度を、同じ反射濃度計を用いて測定して、全面黒ベタ濃度とした。
全面黒ベタ濃度は、１．１３未満を不良（×）、１．１３以上、１．２未満を良好（△）、１．２以上をとくに良好（○）とした。
以上の結果を表５～表８に示す。
以上の結果を表５～表８に示す。
表５～表８の結果より、内層２と外層４の２層構造を有し、内層２は、エピクロルヒドリンゴムの割合をゴムの総量１００質量部中の２１質量部以上とし、かつ外周面８の表面抵抗値ｌｏｇＲ１を７．０～８．５、ローラ本体５の全体でのローラ抵抗値ｌｏｇＲ２を６．３～８．５とすることにより、現状よりも画質に優れた画像を形成できる現像ローラが得られることが判った。
《実施例１０～１９、比較例１１～１４》
内層２用のゴム組成物(Ａ)～(Ｈ)(Ｑ)、および外層用のゴム組成物(vi)～(ix)を、表９～表１１に示す組み合わせで２層押出機に供給して、外径φ１６ｍｍ、内径φ６．５ｍｍの、２層構造の筒状に押出成形し、架橋用の仮のシャフトに装着して加硫缶内で１６０℃×１時間架橋させた。
内層２用のゴム組成物(Ａ)～(Ｈ)(Ｑ)、および外層用のゴム組成物(vi)～(ix)を、表９～表１１に示す組み合わせで２層押出機に供給して、外径φ１６ｍｍ、内径φ６．５ｍｍの、２層構造の筒状に押出成形し、架橋用の仮のシャフトに装着して加硫缶内で１６０℃×１時間架橋させた。
次いで、架橋させた筒状体を、外周面に導電性の熱硬化性接着剤を塗布した外径φ７．５ｍｍの金属製のシャフト７に装着し直して、オーブン中で１６０℃に加熱してシャフト７に接着させた。
次いで、筒状体の両端を整形するとともに、外周面８を、円筒研磨機を用いてトラバース研磨したのち仕上げとして鏡面研磨して外径φ１６ｍｍになるように仕上げて、内層２と外層４の２層構造を有し、シャフト７と一体化されたローラ本体５を形成した。
次いで、筒状体の両端を整形するとともに、外周面８を、円筒研磨機を用いてトラバース研磨したのち仕上げとして鏡面研磨して外径φ１６ｍｍになるように仕上げて、内層２と外層４の２層構造を有し、シャフト７と一体化されたローラ本体５を形成した。
研磨後の外層４の厚みは約０．１～２ｍｍであった。
次いで、形成したローラ本体５の外周面８をアルコール拭きしたのち、当該外周面８からＵＶランプまでの距離が５０ｍｍになるように設定して紫外線照射装置〔セン特殊光源(株)製のＰＬ２１－２００〕にセットした。
そして、シャフトを中心として９０°ずつ回転させながら、波長１８４．９ｎｍと２５３．７ｎｍの紫外線を照射することで上記外周面８を酸化膜９で被覆して、現像ローラ１を製造した。
次いで、形成したローラ本体５の外周面８をアルコール拭きしたのち、当該外周面８からＵＶランプまでの距離が５０ｍｍになるように設定して紫外線照射装置〔セン特殊光源(株)製のＰＬ２１－２００〕にセットした。
そして、シャフトを中心として９０°ずつ回転させながら、波長１８４．９ｎｍと２５３．７ｎｍの紫外線を照射することで上記外周面８を酸化膜９で被覆して、現像ローラ１を製造した。
紫外線の積算光量は、それぞれ表９～表１１に示す値とした。
上記各実施例、比較例で製造した現像ローラ１について、前述した各試験を実施して、その特性を評価した。
結果を表９～表１１に示す。
上記各実施例、比較例で製造した現像ローラ１について、前述した各試験を実施して、その特性を評価した。
結果を表９～表１１に示す。
表９～表１１の結果からも、前述した構成によって、現状よりも画質に優れた画像を形成できる現像ローラが得られることが判った。
また実施例１～１９、比較例１～１４の結果より、さらにローラ本体５の外周面８は、水の接触角θＷ（°）が５０°以上、とくに６０°以上であるのが好ましいことが判った。
また実施例１～１９、比較例１～１４の結果より、さらにローラ本体５の外周面８は、水の接触角θＷ（°）が５０°以上、とくに６０°以上であるのが好ましいことが判った。
１ 現像ローラ
２ 内層
３ 外周面
４ 外層
５ ローラ本体
６ 通孔
７ シャフト
８ 外周面
９ 酸化膜
１０ アルミニウムドラム
１２ 直流電源
１３ 抵抗
１４ 計測回路
１５ 液滴
Ｆ 荷重
Ｖ 検出電圧
ｒ 抵抗値
θＷ 接触角
ｈ 高さ
ｒ 半径
２ 内層
３ 外周面
４ 外層
５ ローラ本体
６ 通孔
７ シャフト
８ 外周面
９ 酸化膜
１０ アルミニウムドラム
１２ 直流電源
１３ 抵抗
１４ 計測回路
１５ 液滴
Ｆ 荷重
Ｖ 検出電圧
ｒ 抵抗値
θＷ 接触角
ｈ 高さ
ｒ 半径
Claims (4)
- ゴムとしてエピクロルヒドリンゴム、およびジエン系ゴムを含むゴム組成物の架橋物からなる筒状の内層、および前記内層の外周を被覆する筒状の外層を含むローラ本体を含み、前記エピクロルヒドリンゴムの割合は、前記ゴムの総量１００質量部中の２１質量部以上であり、前記外層の外周面である前記ローラ本体の外周面の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）は、式(１)：
７．０≦ｌｏｇＲ１≦８．５ (１)
を満足し、かつ前記ローラ本体の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、４００Ｖ印加時）は、式(２)：
６．３≦ｌｏｇＲ２≦８．５ (２)
を満足していて、
前記外層は、ゴムとしてエピクロルヒドリンゴム、およびジエン系ゴムを含むゴム組成物の架橋物からなる現像ローラ。 - 前記内層を形成する前記ゴム組成物は、前記ジエン系ゴムとして、イソプレンゴム、およびブタジエンゴムからなる群より選ばれた少なくとも１種を含む請求項１に記載の現像ローラ。
- 前記ローラ本体の外周面は、酸化膜によって被覆されている請求項１または２に記載の現像ローラ。
- 前記ローラ本体の外周面は、水の接触角θＷ（°）が５０°以上である請求項１ないし３のいずれか１項に記載の現像ローラ。
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