JP6263017B2 - 基板位置合わせ装置及び基板位置合わせ装置の制御方法 - Google Patents
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Description
特許文献1の基板位置合わせ装置にあっては、1台のターンテーブルの周縁から3本の支持ポールを周方向に沿って立設し、各支持ポールには互いに等間隔に上下に離間した5つの支持ピンが設けられている。3本の支持ポールの同じ高さに位置する3つの支持ピンにて、1枚の半導体ウエハの周縁部を支持する。3本の支持ポールの外側には、3本の掬い上げポールが昇降自在且つターンテーブルの回転中心軸に接近離間可能に設けられ、各掬い上げポールには互いに等間隔に上下に離間した5つの掬い上げピンが設けられている。隣接する掬い上げピンの上下間隔は、隣接する支持ピンの上下間隔よりも小さく設定されている。3本の支持ポールの外側には、また支持ピンに支持された5枚の半導体ウエハのノッチを検出するセンサを設けたセンサポールが設けられている。
しかし、実際には複数枚の半導体ウエハのずれ角度にはバラつきがある。従って、特許文献1に係る装置では、複数枚の半導体ウエハについて、位置合わせ動作の開始から終了までに時間がかかる場合があった。
本発明の目的は、任意の順序で基板の回転角度位置の位置合わせを行うことができる基板位置合わせ装置、及び基板位置合わせ装置の制御方法を提供することにある。
前記複数の回転台を同期して回転させる回転駆動装置と、
前記複数の回転台に夫々保持されて回転される複数の基板の目印の回転角度位置を検出する複数の目印位置検出部と、
前記複数の回転台にそれぞれ保持されるべき複数の基板の周縁部を支持するよう構成された複数の支持爪セットと、
前記複数の支持爪セットを、個別に支持し且つ前記基板の外周より内側に位置する内方位置と前記基板の外周より外側に位置する外方位置との間にて個別に移動させるよう構成された複数の支持爪セット駆動構造体と、
前記複数の支持爪セット駆動構造体を所定の高さ範囲における高位置と低位置との間にて一括して昇降させる昇降機構と、を備え、
前記高位置及び低位置は、夫々、前記複数の支持爪セットが夫々に対応する回転台に保持される基板より高い位置及び低い位置であり、且つ
前記複数の目印位置検出部で夫々検出される前記複数の基板の目印位置に基づいて前記回転駆動装置、前記支持爪セット駆動構造体、及び前記昇降機構を動作させることによって、前記複数の基板の目印を基準回転角度位置に位置させるように構成されている。
前記制御部は、前記回転駆動装置によって前記複数の回転台を同期して回転させるとともに前記複数の目印位置検出部によって検出される前記複数の回転台に夫々保持された複数の基板の目印の回転角度位置を前記記憶部に記憶させる目印位置検出動作と、
前記記憶部に記憶された基板の目印の回転角度位置を用いて、ある基板の目印の回転角度位置が前記基準回転角度位置に位置するよう前記回転駆動装置によって前記複数の回転台を同期して回転させる位置合わせと、この位置合わせが済んだ基板に対応する支持爪セットをその対応する支持爪セット駆動構造体によって前記内方位置に位置させるとともに位置合わせが済んでいない全ての基板に対応する支持爪セットを夫々に対応する支持爪セット駆動構造体によって夫々前記外方位置に位置させ、その後、前記昇降機構によって前記複数の支持爪セット駆動構造体を一括して前記高位置に位置させて、位置合わせが済んだ基板のみを前記回転台から持ち上げる基板持ち上げと、を前記複数の基板について順次行う順次基板位置合わせ動作と、を行うよう構成されてもよい。
夫々の前記支持爪セットは、夫々に対応する前記回転台に保持されるべき基板の周方向における複数の周縁部をそれぞれ支持するよう構成された複数の支持爪を含み、
夫々の前記支持爪セット駆動構造体は、夫々に対応する前記支持爪セットを構成する複数の支持爪を、個別に支持し且つ前記内方位置と前記外方位置との間にて互いに同期して夫々移動させるよう構成された前記複数の個別支持爪駆動構造体によって構成されてもよい。
1つの回転駆動源と、
前記基体に設けられ、前記回転駆動源の回転駆動力を前記複数の回転台に当該複数の回転台が互いに同期して回転するよう伝達する回転駆動力伝達機構と、を備えてもよい。
前記制御部は、前記回転駆動装置によって前記複数の回転台を同期して回転させるとともに前記複数の目印位置検出部によって検出される前記複数の回転台に夫々保持された複数の基板の目印の回転角度位置を前記記憶部に記憶させる目印位置検出動作と、
前記記憶部に記憶された基板の目印の回転角度位置を用いて、ある基板の目印の回転角度位置が前記基準回転角度位置に位置するよう前記回転駆動装置によって前記複数の回転台を同期して回転させる位置合わせと、この位置合わせが済んだ基板に対応する支持爪セットをその対応する支持爪セット駆動構造体によって前記内方位置に位置させるとともに位置合わせが済んでいない全ての基板に対応する支持爪セットを夫々に対応する支持爪セット駆動構造体によって夫々前記外方位置に位置させ、その後、前記昇降機構によって前記複数の支持爪セット駆動構造体を一括して前記高位置に位置させて、位置合わせが済んだ基板のみを前記回転台から持ち上げる基板持ち上げと、を前記複数の基板について順次行う順次基板位置合わせ動作と、を行う。
更に、基板として円盤状の半導体ウエハを例示するが、この基板は半導体ウエハに限定されない。例えば、基板は、半導体プロセスによって処理される薄型液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ用のガラス基板であってもよい。また、半導体ウエハは、半導体デバイスの基板材料であり、シリコンウエハ、シリコンカーバイドウエハ、サファイアウエハ等を含む。半導体ウエハには結晶方向があり、半導体プロセスによって処理されるには結晶方向を一定方向に揃える必要がある。半導体ウエハ処理時に基準となる回転角度位置を、基準回転角度位置という。
<基板処理システムの全体構成>
図1は、本発明の第1実施形態に係る基板位置合わせ装置が用いられる基板処理システム100の全体構成を示す平面図である。
図1に示すように、基板処理システム100は、複数枚の半導体ウエハ9を収納する収納部110と、半導体ウエハ9の回転角度位置を基準回転角度位置に合わせる基板位置合わせ装置1と、半導体ウエハ9に熱処理、薄膜形成処理等の所定の処理を施す処理装置120と、収納部110と基板位置合わせ装置1と処理装置120との間で半導体ウエハ9を搬送する搬送ロボット130を備える。搬送ロボット130と基板位置合わせ装置1は、処理装置120と収納部110との間に配置される。収納部110内の半導体ウエハ9は当初回転角度位置が合せられておらず、また所定の処理もされていない。
或いは、半導体ウエハ9を水平面内で1回転させながら、この目印を目印検出器にて検知することにより、当初の半導体ウエハ9の回転角度位置が、基準回転角度位置から、どれだけの角度だけずれているかが判る。このずれ量に基づいて、各半導体ウエハ9のノッチ90又はオリフラ91が、基準回転角度位置に揃うように、半導体ウエハ9を回転させる。以下の記載では、目印としてノッチ90を例示する。なお、基板が半導体ウエハ以外である場合、目印は、基板に特定の処理を施すための回転方向における所定の姿勢(回転角度)を示すものであればよい。
図3は、基板位置合わせ装置1の全体構成を示す平面図である。図3に示すように、基板位置合わせ装置1は、床面に載置される基体10と、基体10上にて上下に延びた1つの軸線Lを中心とした仮想円上に周方向に間隔を置いて上下に延びるように設けられた3本の支柱3と、上下に亘って半導体ウエハ9のノッチ90を検出する複数のセンサが設けられたセンサポール11と、軸線Lを中心として回転可能に設けられて、上下に互いに間隔を空けて配置された5つの回転台4と、回転台4の外側に位置する支持ポール6と、5つの回転台4を同期して回転させる回転駆動装置2とを備えて構成される。各回転台4の上に、ハンド160によって搬送された半導体ウエハ9が載置され、半導体ウエハ9が正しく回転台4上に載置された状態では、半導体ウエハ9の中心は軸線Lに一致する。支持ポール6は、回転台4上の半導体ウエハ9の外側に位置する。
図4は、回転台4の斜視図である。図4に示すように、回転台4の下方には受け台40が設けられ、回転台4は受け台40に対して回転可能である。回転台4の上面からは、複数の受け突起41が設けられ、半導体ウエハ9は受け突起41の上面に載置される。半導体ウエハ9が受け突起41の上面に載置された状態で、半導体ウエハ9の裏面と回転台4の上面との間に、上下隙間が形成される。
図5に示すように、支持ポール6からは、5つの受け台40の各高さに対応して、ブラケット60が受け台40に向けて突出している。各ブラケット60の先端部に受け台40が取り付けられて、各受け台40及び回転台4は対応するブラケット60に片持ち状態で支持される。ブラケット60は回転台4の下側に位置するから、回転台4に搬送される半導体ウエハ9とは干渉しない。
図3に示すように、タイミングベルト22にて回転動力を回転台4に伝えることによって、モータMを回転台4から離れた空間位置に設けることができる。これにより、モータMを設ける空間に余裕ができる、即ち、モータMを設ける際の設計の自由度が高まる。
図6に示すように、各支柱3は回転台4に夫々保持されるべき半導体ウエハ9の周縁部を受けて支持する支持爪50と、各支持爪50を水平方向に移動させる支持爪駆動構造体70を備えて構成される。支持爪駆動構造体70は、例えばエアシリンダで構成される。即ち、各支柱3は回転台4の高さに対応して上下に5つの支持爪50を備え、各支持爪50は回転台4の高さに対応して設けられた5つの支持爪駆動構造体70によって個別に水平に駆動される。支柱3は前記の如く3つ設けられているから、同じ高さに位置する3つの支持爪50にて1つの支持爪セット5が構成され、同じ高さに位置する3つの支持爪駆動構造体70によって1つの支持爪セット駆動構造体7が構成される。
各支柱3の下端部には、昇降装置30が設けられ、3つの昇降装置30は3本の支柱3、5つの支持爪セット5及び5つの支持爪セット駆動構造体7を同期して昇降させる。昇降装置30は、例えばエアシリンダ又はラック機構を内蔵したモータが挙げられるが、これらに限定されない。3本の支柱3と、支持爪セット駆動構造体7と、昇降装置30とによって本発明の昇降機構300が構成される。なお、昇降機構300は、これには限定されない。例えば、3本の支柱3を固定し、3本の支柱3に、それぞれ、個別に5つの支持爪駆動構造体70を昇降させる昇降装置を設け、これらの昇降装置が夫々に対応する支持爪駆動構造体70を互いに同期して昇降させるよう構成してもよい。
5つの支持爪50は支持爪駆動構造体70によって、個別に水平駆動されるが、支柱3に取り付けられているので、支柱3と一体に昇降する。即ち、支持爪50は個別に水平に移動することはできても、昇降することはできない。
図7(a)、(b)に示すように、支持爪50は上面が水平で半導体ウエハ9の周縁部下面を受ける受け片51と、受け片51の外側の端部から立設されて半導体ウエハ9の水平方向外向きのずれを抑える縦壁52と、支持爪駆動構造体70に水平方向に出没自在に嵌まった爪本体53を一体に備えて構成される。支持爪50は支持爪駆動構造体70によって、図7(a)に示すように、受け片51の先端部が半導体ウエハ9の外周よりも内側に位置する内方位置と、図7(b)に示すように、受け片51の先端部が半導体ウエハ9の外周よりも外側に位置する外方位置との間を個別に駆動される。
図8(a)、(b)に示すように、支持爪50は昇降装置30が支柱3を昇降させる動作によって、受け片51の上面が、各支持爪50に対応する回転台4に保持された半導体ウエハ9の下面よりも下側に位置する低位置(図8(a)参照)と、受け片51の上面が、回転台4に保持された半導体ウエハ9の下面よりも上側に位置する高位置(図8(b)参照)との間を移動する。従って、支持爪駆動構造体70が対応する支持爪50を内方位置に設定した状態で、昇降装置30が支持爪50を高位置に上昇させると、図8(b)に示すように、支持爪50は対応する回転台4上の半導体ウエハ9を回転台4から持ち上げる。これにより、回転台4が回転しても半導体ウエハ9は回転しない。
これに対し、支持爪駆動構造体70が対応する支持爪50を外方位置に設定した状態では、受け片51の先端部が半導体ウエハ9の外周よりも外側に位置しているので、昇降装置30が支持爪50を高位置に上昇させても、支持爪50は対応する半導体ウエハ9を回転台4から持ち上げない。半導体ウエハ9は回転台4に載置されたままである。
即ち、支持爪駆動構造体70と昇降装置30を同期させて駆動することにより、支柱3が上昇する時に、任意の支持爪50が半導体ウエハ9を対応する回転台4から、持ち上げる状態と持ち上げない状態とを切り換えることができる。
即ち、当初に半導体ウエハ9が回転台4に載置された状態から、センサ13がノッチ90を検出するまでの回転台4の回転角度を検出することにより、当初の半導体ウエハが、基準回転角度位置から、どれだけの角度だけずれているかが判る。センサ13は、本発明の「目印位置検出部」を構成し、発光素子14と受光素子15の上下位置は図9に示す位置と逆であってもよい。また、センサ13は一方に発光部と受光部を備え、他方に反射板を設けて構成された反射型センサとして構成されてもよい。また、凹み12の上下長さは、半導体ウエハ9が低位置と高位置との間を昇降しても、受光素子14又は発光素子15に接触しない長さに設定されている。
制御部8には、センサ13、昇降装置30、支持爪駆動構造体70、モータMの他に、半導体ウエハ9の回転角度位置を記憶するメモリである記憶部80、動作プログラムが格納されたROM81、一時的に情報を記録するワークメモリとして働くRAM82が接続されている。5つの回転台4には夫々識別番号が付され、この識別番号は、例えばRAM82に格納されている。制御部8は、モータMを作動させて、全ての回転台4を一旦回転させ、全ての半導体ウエハ9について、当初に回転台4に載置された状態から、センサ13がノッチ90を検出する基準回転角度位置までの回転台4の回転角度を検出する。回転角度は、例えば、モータMの主軸に取り付けられたロータリエンコーダ等の回転角度センサによって検出され、この検出値が制御部8に入力される。次に、制御部8は当初回転台4に載置された半導体ウエハ9が、基準回転角度位置から、どれだけの角度だけずれているかの値を回転台4ごとに記憶部80に記憶させる。この値は、後記の位置合わせ動作時に用いる。
最初に、図6及び図8(a)、(b)を参照して、基板受け取り動作を説明する。図8(b)に示すように、制御部8は、昇降装置30を作動させて全ての支持爪セット駆動構造体7を一括して高位置に位置させるとともに全ての支持爪セット5を夫々に対応する支持爪セット駆動構造体7によって内方位置に位置させる(図8(b)参照)。以下、この動作を基板受け取り動作という。この基板受け取り動作が終了した状態において、搬送ロボット130がハンド160を位置合わせ装置1に進入させて、複数(ここでは5つ)の支持爪セット5に複数の半導体ウエハ9(ここでは5枚)を夫々搬送して載置する。
その後、図6に示すように、制御部8は昇降装置30を作動させて全ての支持爪セット駆動構造体7を一括して低位置に位置させて複数(ここでは5台)の回転台4に複数の基板をそれぞれ保持させる。以下、この動作を基板保持動作といいう。
次に、図6及び図11乃至図13を参照して位置合わせを説明する。上述のようにして、全ての回転台4に半導体ウエハ9が載置された図6に示す初期状態では、半導体ウエハ9の回転角度位置はバラ付いている、即ち、半導体ウエハ9は基準回転角度位置に揃えられていない。本実施形態に係る基板位置合わせ装置1にあっては、任意の識別番号の回転台4上の半導体ウエハ9の回転角度位置を基準回転角度位置に合わせることができる。この半導体ウエハ9の回転角度位置を基準回転角度位置に合わせることを「位置合わせ」するという。以下の説明では、図6に示す最上位の半導体ウエハ9から順に回転角度位置を基準回転角度位置に合わせる位置合わせ動作を説明する。
図6に示す状態から、制御部8はモータMを作動させて全ての回転台4を1回転させて、全てのセンサ13にて全ての半導体ウエハ9のノッチ90を検出する。そして、ノッチ90を検出した時点において回転角度センサによって検出されるモータMの回転角度に基づいて、ノッチ90の回転角度位置を検出する。その後、制御部8は全ての回転台4を停止させて、全ての半導体ウエハ9について、基準回転角度位置とノッチ90が検出された回転角度位置とのずれを演算し、この角度ずれ量を各半導体ウエハ9に対応した回転台4の識別番号ごとに記憶部80に記憶させる。これを「目印位置検出動作」という。次に、制御部8は最上位の半導体ウエハ9の当初の回転角度位置と基準回転角度位置との角度ずれ量を記憶部80から読み出し、全ての回転台4をこの角度ずれ量だけ回転させる。これにより、最上位の半導体ウエハ9の回転角度位置だけが、基準回転角度位置に合わせられる。即ち、最上位の半導体ウエハ9が「位置合わせ」される。
この全ての回転台4が停止している状態にて、制御部8は昇降機構30を作動させて、図12に示すように、3本の支柱3を下降させて、全ての支持爪セット5を低位置に設定し、最上位の半導体ウエハ9を一旦最上位の回転台4上に載置する。これを「基板一時保持動作」という。
次に制御部8は昇降機構30を作動させて、図13に示すように、3本の支柱3を上昇させて、全ての支持爪セット5を高位置に設定し、回転角度位置が基準回転角度位置に合わせられた最上位の半導体ウエハ9及び上から2段目の半導体ウエハ9が高位置に持ち上げられる。換言すれば、再度「基板持ち上げ動作」を行う。
以下、同様の手順を繰り返し、全ての半導体ウエハ9の回転角度位置を基準回転角度位置に合わせる。即ち、1の半導体ウエハの「位置合わせ」、半導体ウエハの「基板持ち上げ動作」、次の半導体ウエハの「位置合わせ」、1の半導体ウエハの「基板一時保持動作」、1の半導体ウエハと次の半導体ウエハの「基板持ち上げ動作」を最後の半導体ウエハの回転角度位置合わせ動作が終了するまで繰り返す。この後に、搬送ロボット130が、ハンド160によって全ての半導体ウエハ9を基板位置合わせ装置1から取り出す。
なお、上記の実施形態では、上下に保持された複数枚の半導体ウエハ9を上から順に「位置合わせ」する手順を示したが、任意の順序で半導体ウエハ9を位置合わせすることもできる。この任意の順番は、作業者が手入力しても、制御部8が識別番号に関する乱数を発生させて決定してもよい。
本発明の第2実施形態の基板位置合わせ装置1にあっては、基準回転角度位置からの角度ずれ量が小さい半導体ウエハ9から順に、基準回転角度位置に合わせることができる。これにより、全ての半導体ウエハ9の位置合わせ動作に要する時間を最短にすることができる。以下にこの動作を、図14のフローチャートを用いて説明する。
制御部8はモータMを作動させて、全ての回転台4を一旦回転させ、全ての半導体ウエハ9について、当初の回転角度位置が基準回転角度位置から、どれだけの角度だけずれているかの値を回転台4の識別番号ごとに記憶部80に記憶させる(ステップS1)。即ち、「目印位置検出動作」を行う。次に、制御部8は記憶部80に記憶された回転角度位置のずれ量から、最も回転角度位置の角度ずれ量が小さい半導体ウエハ9が載置された識別番号の回転台4を検出し、以下、回転角度位置の角度ずれ量が大きくなる順に回転台4の識別番号を並び替える(ステップS2)。
次に、制御部8は支持爪セット駆動構造体7を駆動して、最も回転角度位置の角度ずれ量が小さい半導体ウエハ9に対応した支持爪セット5のみを内方位置に位置させるとともに、他の支持爪セット5を外方位置に位置させる。この状態で昇降機構30を作動させて、全ての支持爪セット5を高位置に設定する。即ち、最も回転角度位置の角度ずれ量が小さい半導体ウエハ9について「基板持ち上げ動作」を行う(ステップS4)。
制御部8は、次に小さい角度ずれ量の半導体ウエハ9を基準回転角度位置に合わせた後に、全ての回転台4を停止させる。
この全ての回転台4が停止している状態にて、制御部8は昇降装置30を駆動して、全ての支持爪セット5を低位置に設定し、最初に位置合わせがされた半導体ウエハ9を一旦対応する回転台4上に載置する。即ち、「基板一時保持動作」を行う(ステップS6)。
次に制御部8は昇降機構30を駆動して、全ての支持爪セット5を高位置に設定し、回転角度位置が基準回転角度位置に合わせられた最初の半導体ウエハ9及び2番目に位置合わせされた半導体ウエハ9を高位置に持ち上げる。換言すれば、再度「基板持ち上げ動作」を行う(ステップS7)。
上記の動作を、全ての半導体ウエハ9について行う(ステップS8)。全ての半導体ウエハ9が位置合わせされた後に、ハンド160によって全ての半導体ウエハ9が基板位置合わせ装置1から取り出される。
尚、センサ13を基準回転角度位置に設定し、センサ13がノッチ90を検出した時点で半導体ウエハ9の回転を停止させれば、半導体ウエハ9は基準回転角度位置に合わせられる。この場合、記憶部80に半導体ウエハ9の角度ずれの量を記憶させる必要はない。
また、ハンド160が複数枚の半導体ウエハ9を搬送した際に、高位置且つ内方位置にある支持爪セット5に半導体ウエハ9を載置するのではなく、支持爪セット5を外方位置に位置させて、回転台4上に載置してもよい。
上記記載では、図7(a)に示すように、半導体ウエハ9は支持爪50の受け片51にて周縁部下面が支持されるとした。しかし、これに代えて、図15に示すように、受け片51を内面が第1斜面58と第1斜面58よりも勾配の緩やかな第2斜面59とが連続するように形成し、両斜面58、59の境目SMにて半導体ウエハ9の周縁を支持してもよい。
図15に示す構成であれば、半導体ウエハ9は受け片51に保持される際には、受け片51の第1斜面58を滑って境目SMに載置される。これにより、半導体ウエハ9の水平位置及び水平姿勢が矯正されて安定に保持される。また、受け片51と半導体ウエハ9は線接触するから、受け片51と半導体ウエハ9との接触面積が小さい。これにより、半導体ウエハ9への異物付着が減少する。
2 回転駆動装置
3 支柱
4 回転台
5 支持爪セット
7 支持爪セット駆動構造体
8 制御部
9 半導体ウエハ
30 昇降装置
50 支持爪
70 支持爪駆動構造体
80 記憶部
Claims (8)
- 複数の基板を夫々水平に且つ上下方向に互いに離間して並ぶように保持するよう上下方向に互いに離間して配置され、且つ上下方向に延びた1つの軸線の周りを回転可能に設けられた複数の回転台と、
前記複数の回転台を同期して回転させる回転駆動装置と、
前記複数の回転台に夫々保持されて回転される複数の基板の目印の回転角度位置を検出する複数の目印位置検出部と、
前記複数の回転台にそれぞれ保持されるべき複数の基板の周縁部を支持するよう構成された複数の支持爪セットと、
前記複数の支持爪セットを、個別に支持し且つ前記基板の外周より内側に位置する内方位置と前記基板の外周より外側に位置する外方位置との間にて個別に移動させるよう構成された複数の支持爪セット駆動構造体と、
前記複数の支持爪セット駆動構造体を所定の高さ範囲における高位置と低位置との間にて一括して昇降させる昇降機構と、を備え、
前記高位置及び低位置は、夫々、前記複数の支持爪セットが夫々に対応する回転台に保持される基板より高い位置及び低い位置であり、且つ
前記複数の目印位置検出部で夫々検出される前記複数の基板の目印位置に基づいて前記回転駆動装置、前記支持爪セット駆動構造体、及び前記昇降機構を動作させることによって、前記複数の基板の目印を基準回転角度位置に位置させるように構成されている、基板位置合わせ装置。 - 前記目印位置検出部で検出される基板の目印の回転角度位置が入力され、前記回転駆動装置と前記支持爪セット駆動構造体と前記昇降機構とを制御する制御部と記憶部とをさらに備え、
前記制御部は、前記回転駆動装置によって前記複数の回転台を同期して回転させるとともに前記複数の目印位置検出部によって検出される前記複数の回転台に夫々保持された複数の基板の目印の回転角度位置を前記記憶部に記憶させる目印位置検出動作と、
前記記憶部に記憶された基板の目印の回転角度位置を用いて、ある基板の目印の回転角度位置が前記基準回転角度位置に位置するよう前記回転駆動装置によって前記複数の回転台を同期して回転させる位置合わせと、この位置合わせが済んだ基板に対応する支持爪セットをその対応する支持爪セット駆動構造体によって前記内方位置に位置させるとともに位置合わせが済んでいない全ての基板に対応する支持爪セットを夫々に対応する支持爪セット駆動構造体によって夫々前記外方位置に位置させ、その後、前記昇降機構によって前記複数の支持爪セット駆動構造体を一括して前記高位置に位置させて、位置合わせが済んだ基板のみを前記回転台から持ち上げる基板持ち上げと、を前記複数の基板について順次行う順次基板位置合わせ動作と、を行うよう構成されている、請求項1に記載の基板位置合わせ装置。 - 前記制御部は、前回の基板持ち上げの後、前記昇降機構によって前記複数の支持爪セット駆動構造体を一括して前記低位置に位置させ、その後、前記支持爪セット駆動構造体及び前記昇降機構によって、位置合わせが済んだ基板のみを前記回転台から持ち上げるようにして2回目以降の前記基板持ち上げを行うよう構成されている、請求項2に記載の基板位置合わせ装置。
- 前記制御部は、前記昇降機構によって前記複数の支持爪セット駆動構造体を前記高位置に位置させるとともに前記複数の支持爪セットを夫々に対応する前記支持爪セット駆動構造体によって前記内方位置に位置させる基板受け取り動作と、当該基板受け取り動作が終了した状態における前記複数の支持爪セットに複数の基板が夫々搬送されて載置された後、前記昇降機構によって前記複数の支持爪セット駆動構造体を前記低位置に位置させて前記複数の回転台に前記複数の基板をそれぞれ保持させる基板保持動作とを行い、当該基板保持動作の後、前記目印位置検出動作と前記順次基板位置合わせ動作とを行うよう構成されている、請求項2又は3に記載の基板位置合わせ装置。
- 前記制御部は、前記記憶部に記憶された複数の基板の目印の回転角度位置に基づいて全ての基板の前記位置合わせを行うのに必要な前記回転台の回転量が最小となる前記複数の基板における位置合わせの順序を演算し、前記順次基板位置合わせ動作において、この演算した順序で前記複数の基板に対して前記位置合わせを行う、請求項2乃至4の何れかに記載の基板位置合わせ装置。
- 前記昇降機構は、前記1つの軸線を中心とした仮想円上に周方向に間隔を置いて上下方向に延びるように設けられた複数の支柱と、夫々の前記支柱に前記複数の回転台に対応する高さ位置にそれぞれ設けられた複数の個別支持爪駆動構造体と、前記複数の支柱を同期して前記昇降させる昇降装置と、を備え、
夫々の前記支持爪セットは、夫々に対応する前記回転台に保持されるべき基板の周方向における複数の周縁部をそれぞれ支持するよう構成された複数の支持爪を含み、
夫々の前記支持爪セット駆動構造体は、夫々に対応する前記支持爪セットを構成する複数の支持爪を、個別に支持し且つ前記内方位置と前記外方位置との間にて互いに同期して夫々移動させるよう構成された前記複数の個別支持爪駆動構造体によって構成されている、請求項1乃至5の何れかに記載の基板位置合わせ装置。 - 前記複数の基板を夫々水平に且つ上下方向に互いに離間して並ぶように保持するよう上下方向に互いに離間し、且つ上下方向に延びた1つの軸線の周りを回転可能に前記複数の回転台を支持する基体と、
1つの回転駆動源と、
前記基体に設けられ、前記回転駆動源の回転駆動力を前記複数の回転台に当該複数の回転台が互いに同期して回転するよう伝達する回転駆動力伝達機構と、を備える、請求項1乃至6の何れかに記載の基板位置合わせ装置。 - 複数の基板を夫々水平に且つ上下方向に互いに離間して並ぶように保持するよう上下方向に互いに離間して配置され、且つ上下方向に延びた1つの軸線の周りを回転可能に設けられた複数の回転台と、前記複数の回転台を同期して回転させる回転駆動装置と、前記複数の回転台に夫々保持されて回転される複数の基板の目印の回転角度位置を検出する複数の目印位置検出部と、前記複数の回転台にそれぞれ保持されるべき複数の基板の周縁部を支持するよう構成された複数の支持爪セットと、前記複数の支持爪セットを、個別に支持し且つ前記基板の外周より内側に位置する内方位置と前記基板の外周より外側に位置する外方位置との間にて個別に移動させるよう構成された複数の支持爪セット駆動構造体と、前記複数の支持爪セット駆動構造体を所定の高さ範囲における高位置と低位置との間にて一括して昇降させる昇降機構と、前記目印位置検出部で検出される基板の目印の回転角度位置が入力され、前記回転駆動装置と前記支持爪セット駆動構造体と前記昇降機構とを制御する制御部と、記憶部と、を備え、前記高位置及び低位置は、夫々、前記複数の支持爪セットが夫々に対応する回転台に保持される基板より高い位置及び低い位置である、基板位置合わせ装置の制御方法であって、
前記制御部は、前記回転駆動装置によって前記複数の回転台を同期して回転させるとともに前記複数の目印位置検出部によって検出される前記複数の回転台に夫々保持された複数の基板の目印の回転角度位置を前記記憶部に記憶させる目印位置検出動作と、
前記記憶部に記憶された基板の目印の回転角度位置を用いて、ある基板の目印の回転角度位置が基準回転角度位置に位置するよう前記回転駆動装置によって前記複数の回転台を同期して回転させる位置合わせと、この位置合わせが済んだ基板に対応する支持爪セットをその対応する支持爪セット駆動構造体によって前記内方位置に位置させるとともに位置合わせが済んでいない全ての基板に対応する支持爪セットを夫々に対応する支持爪セット駆動構造体によって夫々前記外方位置に位置させ、その後、前記昇降機構によって前記複数の支持爪セット駆動構造体を一括して前記高位置に位置させて、位置合わせが済んだ基板のみを前記回転台から持ち上げる基板持ち上げと、を前記複数の基板について順次行う順次基板位置合わせ動作と、を行う、基板位置合わせ装置の制御方法。
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