KR102180211B1 - 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치 - Google Patents

마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR102180211B1
KR102180211B1 KR1020190001862A KR20190001862A KR102180211B1 KR 102180211 B1 KR102180211 B1 KR 102180211B1 KR 1020190001862 A KR1020190001862 A KR 1020190001862A KR 20190001862 A KR20190001862 A KR 20190001862A KR 102180211 B1 KR102180211 B1 KR 102180211B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
switching
pin plate
support
substrate
variable
Prior art date
Application number
KR1020190001862A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20200085571A (ko
Inventor
정종엽
양승참한
Original Assignee
주식회사 아바코
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 아바코 filed Critical 주식회사 아바코
Priority to KR1020190001862A priority Critical patent/KR102180211B1/ko
Priority to CN201911266183.0A priority patent/CN111411322B/zh
Publication of KR20200085571A publication Critical patent/KR20200085571A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102180211B1 publication Critical patent/KR102180211B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/682—Mask-wafer alignment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50—Substrate holders
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68742—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명은 기판을 지지하기 위한 가변리프트핀; 승하강 가능하도록 설치된 핀플레이트; 상기 핀플레이트를 승하강시키기 위한 승강부; 상기 가변리프트핀이 결합된 가변핀플레이트; 및 상기 가변핀플레이트에 결합된 전환부를 포함하되, 상기 전환부는 상기 핀플레이트가 승하강함에 따라 상기 가변핀플레이트가 함께 승하강하도록 상기 핀플레이트에 지지되는 지지위치 및 상기 핀플레이트가 상기 가변핀플레이트에 대해 독립적으로 승하강하도록 상기 핀플레이트로부터 이격되는 이격위치 간에 회전 가능하도록 전환본체에 결합된 전환기구를 포함하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치에 관한 것이다.

Description

마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치{Apparatus for Lifting Substrate of Mask Aligner}
본 발명은 마스크 정렬장치에 있어서 기판을 승하강시키는데 이용되는 기판 리프트 장치에 관한 것이다.
일반적으로 액정표시장치(LCD, Liquid Crystal Display), 유기발광표시장치(OLED, Organic Light Emitting Diodes), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP, Plasma Display Panel), 전기영동표시장치(EPD, Electrophoretic Display) 등의 디스플레이장치, 및 태양전지 등의 제품은 여러 가지 공정을 거쳐 제조된다.
이러한 제조 공정에는 기판에 박막을 증착하는 증착공정, 기판에 증착된 박막을 식각하는 식각공정 등이 포함된다. 증착공정, 식각공정 등을 통해 기판에 원하는 형태의 박막을 형성함에 있어서, 마스크(Mask)가 이용된다. 이 경우, 기판 및 마스크가 서로 합착된 상태에서 기판에 대한 증착공정, 식각공정 등이 이루어진다.
여기서, 기판 및 마스크 간의 위치를 정렬하여 기판 및 마스크를 합착하는 공정을 수행함에 있어서, 마스크 정렬장치가 이용된다. 마스크 정렬장치는 기판 및 마스크 간의 위치를 정렬하기 위해 기판 리프트 장치를 포함한다. 마스크 정렬장치에 대해 배경이 되는 기술은 대한민국 공개특허공보 제10-2014-0021832호(2014년 2월 21일 공개)에 개시되어 있다.
도 1은 종래 기술에 따른 기판 리프트 장치의 개략적인 평면도이고, 도 2 및 도 3은 일반적인 기판과 마스크를 예시적으로 나타낸 개략적인 저면도이다.
도 1 내지 도 3을 참고하면, 종래 기술에 따른 기판 리프트 장치(100)는 승강유닛(미도시)에 의해 승하강되는 핀플레이트(110), 및 상기 핀플레이트(110)에 결합된 리프트핀(120)을 포함한다.
상기 리프트핀(120)은 상기 기판(200)을 지지하는 것이다. 상기 리프트핀(120)은 상기 기판(200)을 지지한 상태에서 상기 핀플레이트(110)가 승하강함에 따라 함께 승하강하면서, 상기 기판(200)을 승하강시킨다. 상기 핀플레이트(110)에는 상기 리프트핀(120)이 복수개 결합된다. 상기 리프트핀(120)들은 서로 다른 위치에 위치하도록 상기 핀플레이트(110)에 결합되어서 상기 기판(200)의 서로 다른 위치를 지지한다.
여기서, 상기 기판(200)에서 상기 리프트핀(120)들에 의해 지지된 부분은 유효영역으로 사용될 수 없다. 따라서, 상기 기판(200)에서 유효영역의 크기를 증대시키기 위해, 상기 리프트핀(120)들은 상기 기판(200)에서 마스크(300)에 의해 가려진 부분을 지지하도록 배치된다.
그러나, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이 상기 기판(200)에 있어서 유효영역은 제품의 종류, 크기 등에 따라 변경된다. 이에 따라, 상기 기판(200)에 합착되는 마스크(300)의 형태 또한 변경되므로, 상기 리프트핀(120)들은 상기 유효영역 및 상기 마스크(300)의 형태 변경에 대응되도록 위치가 변경되어야 한다.
이를 위해, 종래 기술에 따른 기판 리프트 장치(100)는 상기 리프트핀(120)들이 상기 핀플레이트(110)에 탈부착 가능하도록 구현되었다. 그러나, 종래 기술에 따른 기판 리프트 장치(100)는 작업자가 직접 수동으로 위치 변경이 필요한 리프트핀들(110)에 대한 탈부착 작업을 수행하였다.
예컨대, 도 2에 도시된 바와 같은 기판(200)과 마스크(300) 간의 위치를 정렬하는 경우, 작업자는 직접 수동으로 상기 핀플레이트(110)의 제1영역(111)에 리프트핀(120)들을 결합시켜야 했다. 그리고, 도 3에 도시된 바와 같은 기판(200)과 마스크(300)로 변경되면, 작업자는 직접 수동으로 상기 핀플레이트(110)의 제1영역(111)으로부터 리프트핀(120)들을 분리하고, 상기 핀플레이트(110)의 제2영역(112)에 리프트핀(120)들을 결합시켜야 했다.
따라서, 종래 기술에 따른 기판 리프트 장치(100)는 상기 리프트핀(120)의 위치를 변경하는 변경작업에 어려움이 있을 뿐만 아니라, 상기 리프트핀(120)의 위치를 변경하는 변경작업에 걸리는 시간 증가로 인해 가동률이 저하되는 문제가 있었다.
본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하고자 안출된 것으로, 리프트핀의 위치를 변경하는 변경작업에 대한 어려움을 해소할 수 있는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명은 리프트핀의 위치를 변경하는 작업에 걸리는 시간을 줄여서 가동률이 저하되는 정도를 감소시킬 수 있는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치를 제공하기 위한 것이다.
상기와 같은 과제를 해결하기 위해서, 본 발명은 다음과 같은 구성을 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치는 기판을 지지하기 위한 가변리프트핀; 승하강 가능하도록 설치된 핀플레이트; 상기 핀플레이트를 승하강시키기 위한 승강부; 상기 가변리프트핀이 결합된 가변핀플레이트; 및 상기 가변핀플레이트에 결합된 전환부를 포함할 수 있다. 상기 전환부는 상기 가변핀플레이트에 결합된 전환본체, 및 상기 전환본체에 회전 가능하게 결합된 전환기구를 포함할 수 있다. 상기 전환기구는 상기 핀플레이트가 승하강함에 따라 상기 가변핀플레이트가 함께 승하강하도록 상기 핀플레이트에 지지되는 지지위치 및 상기 핀플레이트가 상기 가변핀플레이트에 대해 독립적으로 승하강하도록 상기 핀플레이트로부터 이격되는 이격위치 간에 회전 가능하도록 상기 전환본체에 결합될 수 있다. 상기 가변리프트핀은 상기 전환기구가 상기 지지위치에 위치한 상태에서 상기 핀플레이트가 상승하면 상기 기판을 지지하는 위치에 배치되고, 상기 전환기구가 상기 이격위치에 위치한 상태에서 상기 핀플레이트가 상승하면 상기 기판으로부터 이격된 위치에 배치될 수 있다.
본 발명에 따르면, 다음과 같은 효과를 도모할 수 있다.
본 발명은 가변리프트핀이 기판을 가변적으로 지지하도록 전환하는 전환작업이 이루어지는 과정에서 끼임, 마찰력 등이 작용하는 것을 방지함으로써, 가변리프트핀이 기판을 가변적으로 지지하도록 전환하는 전환작업의 정확성을 향상시킬 수 있다.
도 1은 종래 기술에 따른 기판 리프트 장치의 개략적인 평면도
도 2 및 도 3은 일반적인 기판과 마스크를 예시적으로 나타낸 개략적인 저면도
도 4는 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치의 개략적인 측면도
도 5는 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치에 있어서 핀플레이트, 리프트핀, 및 가변리프트핀에 대한 개략적인 평면도
도 6은 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치에 있어서 전환부에 대한 개략적인 측면도
도 7은 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치에 있어서 핀플레이트 및 전환부에 대한 개략적인 평면도
도 8 내지 도 14는 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치에 있어서 전환부의 동작을 도 7의 I-I 선을 기준으로 나타낸 개략적인 단면도
도 15는 본 발명의 변형된 실시예에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치의 개략적인 측면도
이하에서는 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 4를 참고하면, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 기판(200) 및 마스크(300) 간의 위치를 정렬하여 상기 기판(200) 및 상기 마스크(300)를 합착하는 마스크 정렬장치에 설치되는 것이다. 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 마스크 정렬장치에서 상기 기판(200)을 지지하여 승하강시키는 기능을 담당한다. 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 핀플레이트(3), 승강부(4), 가변리프트핀(5), 가변핀플레이트(6), 및 전환부(7)를 포함할 수 있다. 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 필요에 따라 리프트핀(2)을 더 포함할 수도 있다.
이하에서는 상기 리프트핀(2), 상기 핀플레이트(3), 상기 승강부(4), 상기 가변리프트핀(5), 상기 가변핀플레이트(6), 및 상기 전환부(7)에 관해 첨부된 도면을 참고하여 구체적으로 설명한다.
도 4 및 도 5를 참고하면, 상기 리프트핀(2)은 상기 기판(200)을 지지하는 것이다. 상기 리프트핀(2)은 상기 핀플레이트(3)에 결합될 수 있다. 이에 따라, 상기 리프트핀(2)은 상기 핀플레이트(3)가 승하강함에 따라 함께 승하강할 수 있다. 상기 리프트핀(2)은 상기 핀플레이트(3)의 상측으로 돌출되도록 상기 핀플레이트(3)에 결합될 수 있다. 상기 리프트핀(2)은 상기 마스크(300)에 형성된 관통공(미도시)에 삽입되어서 상기 마스크(300)의 상측에 위치한 기판(200)을 지지할 수 있다.
상기 리프트핀(2)은 고정적으로 상기 핀플레이트(3)가 승하강함에 따라 함께 승하강하도록 상기 핀플레이트(3)에 결합될 수 있다. 상기 리프트핀(2)은 상기 기판(200)에서 상기 마스크(300)에 의해 가려진 부분(이하, '비유효영역'이라 함)을 지지하도록 배치될 수 있다. 상기 비유효영역은 유효영역으로 사용될 수 없는 부분이다. 예컨대, 상기 비유효영역은 후속공정에서 절단 등에 의해 제거되는 부분, 최종 제품이 갖는 기능에 영향을 미치지 않는 부분 등일 수 있다. 최종 제품이 디스플레이장치인 경우, 상기 유효영역은 영상이 표시되는 부분이고, 상기 비유효영역은 영상이 표시되지 않는 부분일 수 있다. 상기 유효영역 및 상기 비유효영역은 제품의 종류, 크기 등에 따라 위치가 변경될 수 있다.
상기 리프트핀(2)은 고정영역(FA, 도 5에 도시됨)에 위치하도록 상기 핀플레이트(3)에 결합될 수 있다. 상기 고정영역(FA)은 상기 기판(200)에 있어서 고정 비유효영역에 대응되는 위치에 위치할 수 있다. 상기 고정 비유효영역은 제품의 종류, 크기 등이 변경되더라도, 상기 유효영역으로 변경되지 않고 항상 상기 비유효영역으로 유지되는 부분이다. 예컨대, 상기 고정 비유효영역은 상기 기판(200)의 둘레로부터 안쪽으로 소정 거리 이격된 위치까지의 범위로 설정될 수 있다. 이 경우, 상기 고정영역(FA)은 상기 핀플레이트(3)의 상면에서 외측 영역에 해당할 수 있다. 예컨대, 도 5에 도시된 바와 같이 상기 고정영역(FA)은 사각 고리 형태로 형성될 수 있다.
상기 리프트핀(2)은 전체적으로 장방형의 봉 형태로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않으며 상기 기판(200)을 지지할 수 있는 형태이면 다른 형태로 형성될 수도 있다.
본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 리프트핀(2)을 복수개 포함할 수 있다. 상기 리프트핀(2)들은 서로 이격된 위치에 위치하도록 상기 핀플레이트(3)에 결합될 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 리프트 장치(1)는 상기 리프트핀(2)들이 상기 기판(200)의 서로 다른 부분을 지지하도록 구현됨으로써, 상기 기판(200)을 안정적으로 지지할 수 있다. 상기 리프트핀(2)들은 상기 고정영역(FA) 내에서 서로 이격된 위치에 위치하도록 상기 핀플레이트(3)에 결합될 수 있다. 상기 마스크 정렬장치가 제품의 종류, 크기 등에 따라 다양한 형태의 마스크(300)를 사용하는 경우, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 마스크(300)들 모두에서 중복되는 영역에는 상기 리프트핀(2)이 설치되고, 상기 마스크(300)들에 따라 변경되는 영역에는 상기 가변리프트핀(5)이 설치되도록 구현될 수 있다. 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 리프트핀(2) 없이 모두 상기 가변리프트핀(5)만으로 상기 기판(200)을 지지하도록 구현될 수도 있다.
도 4 및 도 5를 참고하면, 상기 핀플레이트(3)는 승하강 가능하게 설치되는 것이다. 상기 리프트핀(2)이 구비되는 경우, 상기 핀플레이트(3)는 상기 리프트핀(2)을 지지할 수 있다. 상기 핀플레이트(3)는 상기 승강부(4)에 결합될 수 있다. 상기 핀플레이트(3)는 상기 승강부(4)에 의해 승하강할 수 있다. 상기 리프트핀(2)이 구비되는 경우, 상기 핀플레이트(3)는 상기 승강부(4)에 의해 승하강함에 따라 상기 리프트핀(2)을 승하강시킬 수 있다. 상기 핀플레이트(3)는 전체적으로 사각판형으로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않으며 상기 리프트핀(2)을 지지할 수 있는 형태이면 다른 형태로 형성될 수도 있다.
도 4 내지 도 6을 참고하면, 상기 승강부(4)는 상기 핀플레이트(3)를 승하강시키는 것이다. 상기 리프트핀(2)이 구비되는 경우, 상기 승강부(4)는 상기 핀플레이트(3)를 승하강시킴으로써, 상기 핀플레이트(3)에 결합된 리프트핀(3)을 승하강시킬 수 있다. 상기 리프트핀(3)이 상기 기판(200)을 지지한 경우, 상기 승강부(4)는 상기 핀플레이트(3)를 승하강시킴으로써 상기 기판(200)을 승하강시킬 수 있다.
상기 승강부(4)는 스테이지(41) 및 구동유닛(42)을 포함할 수 있다.
상기 스테이지(41)에는 상기 핀플레이트(3)가 승하강 가능하게 결합될 수 있다. 상기 스테이지(41)는 상기 핀플레이트(3)의 하측에 위치하도록 설치될 수 있다.
상기 구동유닛(42)은 상기 스테이지(41)에 결합될 수 있다. 상기 구동유닛(42)은 상기 핀플레이트(3)를 승강시킬 수 있다. 이에 따라, 상기 핀플레이트(3)는 상기 스테이지(41)를 기준으로 하여 승하강할 수 있다. 상기 구동유닛(42)은 유압실린더 또는 공압실린더를 이용한 실린더방식, 모터와 볼스크류 등을 이용한 볼스크류방식, 모터와 랙기어와 피니언기어 등을 이용한 기어방식, 모터와 풀리와 벨트 등을 이용한 벨트방식, 코일과 영구자석 등을 이용한 리니어모터방식 등을 이용하여 상기 핀플레이트(3)를 승하강시킬 수 있다.
도 4 내지 도 6을 참고하면, 상기 가변리프트핀(5)은 상기 기판(200)을 지지하는 것이다. 상기 리프트핀(2)이 구비되는 경우, 상기 가변리프트핀(5)은 상기 리프트핀(2)으로부터 이격된 위치에 위치하도록 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 가변리프트핀(5) 및 상기 리프트핀(2)은 상기 기판(200)의 서로 다른 부분을 지지할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 기판(200)을 더 안정적으로 지지할 수 있다. 상기 마스크 정렬장치가 제품의 종류, 크기 등에 따라 다양한 형태의 마스크(300)를 사용하는 경우, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 마스크(300)들 모두에서 중복되는 영역에는 상기 리프트핀(2)이 설치되고, 상기 마스크(300)들에 따라 변경되는 영역에는 상기 가변리프트핀(5)이 설치되도록 구현될 수 있다. 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 리프트핀(2) 없이 모두 상기 가변리프트핀(5)만으로 상기 기판(200)을 지지하도록 구현될 수도 있다.
상기 가변리프트핀(5)은 상기 전환부(7)에 의해 가변적으로 상기 기판(200)을 지지할 수 있다. 상기 가변리프트핀(5)이 상기 전환부(7)에 의해 상기 핀플레이트(3)와 함께 승하강하도록 전환된 경우, 상기 가변리프트핀(5)은 상기 핀플레이트(3)가 승하강함에 따라 함께 승하강하여 상기 기판(200)을 지지할 수 있다. 상기 가변리프트핀(5)이 상기 전환부(7)에 의해 상기 핀플레이트(3)와 함께 승하강하지 않도록 전환된 경우, 상기 가변리프트핀(5)은 상기 핀플레이트(3)가 승하강하더라도 승하강하지 않는다. 이에 따라, 상기 가변리프트핀(5)은 상기 기판(200)으로부터 이격된 위치에 배치되므로, 상기 기판(200)을 지지하지 않게 된다.
상기 가변리프트핀(5)은 가변영역(CA, 도 5에 도시됨)에 위치할 수 있다. 상기 가변영역(CA)은 상기 기판(200)에 있어서 가변 비유효영역에 대응되는 위치에 위치할 수 있다. 상기 가변 비유효영역은 제품의 종류, 크기 등이 변경되면, 상기 유효영역 및 상기 비유효영역 간에 변경되는 부분이다. 상기 가변 비유효영역은 상기 고정 비유효영역의 안쪽에 위치할 수 있다. 이 경우, 상기 가변영역(CA)은 상기 핀플레이트(3)의 상면에서 내측 영역에 해당할 수 있다. 상기 가변영역(CA)은 상기 핀플레이트(3)의 상면에서 상기 고정영역(FA)의 안쪽에 위치하도록 배치될 수 있다. 예컨대, 도 5에 도시된 바와 같이 상기 가변영역(CA)은 직사각형 형태로 형성될 수 있다.
상기 가변리프트핀(5)은 전체적으로 장방형의 봉 형태로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않으며 상기 기판(200)을 지지할 수 있는 형태이면 다른 형태로 형성될 수도 있다.
본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 가변리프트핀(5)을 복수개 포함할 수도 있다. 이 경우, 상기 가변리프트핀(5)들은 서로 이격된 위치에 배치될 수 있다.
도 4 내지 도 6을 참고하면, 상기 가변핀플레이트(6)는 상기 가변리프트핀(5)을 지지하는 것이다. 상기 가변리프트핀(5)은 상기 가변핀플레이트(6)에 결합될 수 있다. 상기 가변핀플레이트(6)는 상기 전환부(7)에 의해 가변적으로 승하강할 수 있다. 상기 전환부(7)에 의해 상기 가변핀플레이트(6)가 상기 핀플레이트(3)와 함께 승하강하도록 전환된 경우, 상기 가변핀플레이트(6)가 승하강함에 따라 상기 가변리프트핀(5)도 승하강할 수 있다. 상기 전환부(7)에 의해 상기 가변핀플레이트(6)가 상기 핀플레이트(3)와 함께 승하강하지 않도록 전환된 경우, 상기 가변핀플레이트(6)가 승하강하지 않음에 따라 상기 가변리프트핀(5)도 승하강하지 않게 된다. 이에 따라, 상기 가변리프트핀(5)은 상기 기판(200)으로부터 이격된 위치에 배치되므로, 상기 기판(200)을 지지하지 않게 된다. 이 경우, 상기 핀플레이트(3)는 상기 가변핀플레이트(6)에 대해 독립적으로 승하강할 수 있다.
상기 가변핀플레이트(6)는 상기 핀플레이트(3)의 하측에 배치될 수 있다. 상기 가변핀플레이트(6)가 상기 전환부(7)에 의해 상기 핀플레이트(3)와 함께 승하강하도록 전환된 경우, 상기 가변핀플레이트(6)는 상기 전환부(7)를 통해 상기 핀플레이트(3)에 지지될 수 있다. 상기 가변핀플레이트(6)가 상기 전환부(7)에 의해 상기 핀플레이트(3)와 함께 승하강하지 않도록 전환된 경우, 상기 가변핀플레이트(6)는 상기 스테이지(41)에 지지될 수 있다. 이 경우, 상기 가변핀플레이트(6)는 상기 스테이지(41)에 결합된 받침부재(43)에 지지될 수 있다. 상기 받침부재(43)는 상기 스테이지(41)로부터 상측으로 돌출될 수 있다. 상기 가변핀플레이트(6)는 복수개의 받침부재(43)에 지지될 수도 있다. 이 경우, 상기 받침부재(43)들은 상기 가변핀플레이트(6)의 서로 다른 부분을 지지하도록 상기 스테이지(41)에 서로 이격되게 결합될 수 있다. 상기 가변핀플레이트(6)는 전체적으로 사각판형으로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않으며 상기 가변리프트핀(5)을 지지할 수 있는 형태이면 다른 형태로 형성될 수도 있다.
도 4 내지 도 6을 참고하면, 상기 전환부(7)는 상기 핀플레이트(3)가 승하강함에 따라 상기 가변핀플레이트(6)가 가변적으로 승하강하도록 전환하는 것이다. 상기 전환부(7)는 상기 가변핀플레이트(6)에 결합될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환부(7)가 상기 핀플레이트(3)가 상기 가변핀플레이트(6)와 함께 승하강하도록 전환하면, 상기 가변리프트핀(6)은 상기 핀플레이트(3)가 상승함에 따라 함께 상승하여 상기 기판(200)을 지지하는 위치에 배치될 수 있다. 상기 전환부(7)가 상기 핀플레이트(3)가 상기 가변핀플레이트(6)에 대해 독립적으로 승하강하도록 전환하면, 상기 가변리프트핀(6)은 상기 핀플레이트(3)가 상승하더라도 상기 기판(200)으로부터 이격된 위치에 배치될 수 있다. 상기 핀플레이트(3)가 상승하더라도, 상기 가변핀플레이트(6)가 상승하지 않기 때문이다. 이 경우, 상기 가변핀플레이트(6)는 상기 스테이지(41)에 지지된 상태로 유지될 수 있다.
이에 따라, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 다음과 같은 작용 효과를 도모할 수 있다.
첫째, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 전환부(7)를 이용하여 상기 가변리프트핀(5)이 상기 기판(200)을 지지하거나 상기 기판(200)을 지지하지 않도록 전환할 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 작업자가 수동으로 상기 가변리프트핀(5)을 분리하거나 설치하는 작업을 수행하지 않고도, 상기 가변리프트(5)이 가변적으로 상기 기판(200)을 지지하도록 구현된다. 따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 가변리프트핀(5)을 이용하여 상기 기판(200)을 지지하는 위치를 변경하는 작업에 대한 용이성을 향상시킬 수 있다.
둘째, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 전환부(7)를 이용하여 상기 가변리프트핀(5)이 가변적으로 상기 기판(200)을 지지하도록 구현되므로, 상기 가변리프트핀(5)을 이용하여 상기 기판(200)을 지지하는 위치를 변경하는데 걸리는 시간을 줄일 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 마스크 정렬장치에 대한 가동률을 증대시킬 수 있으므로, 상기 기판(200) 및 상기 마스크(300)가 합착된 기판조립체에 대한 생산성을 증대시키는데 기여할 수 있다.
도 4 내지 도 11을 참고하면, 상기 전환부(7)는 전환본체(71) 및 전환기구(72)를 포함할 수 있다. 도 7에서 도트(Dot) 해칭은 단면을 표시한 것이 아닌, 구성과 공간의 구별을 위해 표시한 것이다.
상기 전환본체(71)는 상기 가변핀플레이트(6)에 결합된 것이다. 상기 전환본체(71)는 상기 가변핀플레이트(6)로부터 상측으로 돌출될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환본체(71)는 상기 핀플레이트(3) 쪽으로 돌출될 수 있다.
상기 전환기구(72)는 상기 전환본체(71)에 회전 가능하게 결합된 것이다. 상기 전환기구(72)는 지지위치(SP) 및 이격위치(DP) 간에 회전할 수 있다.
도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이 상기 전환기구(72)가 상기 지지위치(SP)에 위치하면, 상기 전환기구(72)는 상기 핀플레이트(3)에 지지될 수 있는 위치에 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환기구(72)는 상기 핀플레이트(3)가 승하강함에 따라 함께 승하강할 수 있다. 따라서, 상기 전환기구(72)가 결합된 전환본체(71) 및 상기 전환본체(71)가 결합된 가변핀플레이트(6)는, 상기 핀플레이트(3)가 승하강함에 따라 함께 승하강할 수 있다. 이에 따라, 가변핀플레이트(6)에 결합된 가변리프트핀(5, 도 4에 도시됨)은 상기 핀플레이트(3)가 승하강함에 따라 함께 승하강할 수 있다. 따라서, 상기 전환기구(72)가 상기 지지위치(SP)에 위치한 상태에서 상기 핀플레이트(3)가 상승한 경우, 도 6에 도시된 바와 같이 상기 가변리프트핀(5)은 상기 기판(200)을 지지하는 위치에 배치될 수 있다.
도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이 상기 전환기구(72)가 상기 이격위치(DP)에 위치하면, 상기 전환기구(72)는 상기 핀플레이트(3)로부터 이격된 위치에 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환기구(72)는 상기 핀플레이트(3)가 승하강하더라도 승하강하지 않는다. 따라서, 상기 전환기구(72)가 결합된 전환본체(71) 및 상기 전환본체(71)가 결합된 가변핀플레이트(6)는, 상기 핀플레이트(3)가 승하강하더라도 승하강하지 않는다. 이에 따라, 상기 가변핀플레이트(6)에 결합된 가변리프트핀(5, 도 4에 도시됨)은 상기 핀플레이트(3)가 승하강하더라도 승하강하지 않는다. 즉, 상기 전환기구(72)가 상기 이격위치(DP)에 위치하면, 상기 핀플레이트(3)는 가변핀플레이트(6)에 대해 독립적으로 승하강할 수 있다. 따라서, 상기 전환기구(72)가 상기 이격위치(DP)에 위치한 상태에서 상기 핀플레이트(3)가 상승한 경우, 도 4에 도시된 바와 같이 상기 가변리프트핀(5)은 상기 기판(200)으로부터 이격된 위치에 배치될 수 있다.
상술한 바와 같이 상기 전환부(7)는 상기 전환기구(72)의 회전을 이용하여 상기 전환기구(72)가 상기 핀플레이트(3)에 가변적으로 지지되도록 전환함으로써, 상기 가변리프트핀(5)이 상기 기판(200)을 가변적으로 지지하도록 전환할 수 있다. 이와 관련하여, 비교예는 경사면과 자중(自重)을 이용하여 상기 가변리프트핀(5)이 상기 기판(200)을 가변적으로 지지하도록 전환하는 구조로 구현된다. 이러한 비교예와 대비할 때, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 다음과 같은 작용효과를 도모할 수 있다.
우선, 비교예의 경우 전환기구가 자중(自重)을 이용하여 경사면을 따라 하강하게 되는 원리를 이용하여 상기 가변리프트핀(5)이 상기 기판(200)을 가변적으로 지지하도록 전환하는데, 전환기구가 끼임, 마찰력 등이 작용함으로 인해 자중(自重)만으로는 경사면을 따라 하강하지 못하는 경우가 발생할 수 있다. 이에 따라, 비교예는 상기 가변리프트핀(5)이 상기 기판(200)을 가변적으로 지지하도록 전환하는 전환작업의 정확성이 저하되는 문제가 있다.
다음, 실시예의 경우 상기 전환기구(72)가 상기 지지위치(SP)와 상기 이격위치(DP) 간에 회전함에 따라 상기 가변리프트핀(5)이 상기 기판(200)을 가변적으로 지지하도록 전환하므로, 상기 전환기구(72)에 끼임, 마찰력 등이 작용하지 않도록 구현된다. 따라서, 실시예는 비교예와 대비할 때, 상기 가변리프트핀(5)이 상기 기판(200)을 가변적으로 지지하도록 전환하는 전환작업의 정확성을 향상시킬 수 있다.
도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이, 상기 전환기구(72)는 상기 지지위치(SP)에서 통과공(31)의 외측으로 돌출될 수 있다. 상기 통과공(31)은 상기 핀플레이트(3)를 관통하여 형성된 것이다. 상기 통과공(31)은 상기 전환본체(71)가 통과할 수 있는 크기로 형성될 수 있다. 이 경우, 수평단면을 기준으로 하여 상기 통과공(31)의 단면적은 상기 전환본체(71)의 단면적에 비해 더 크게 형성될 수 있다. 수평단면은 상기 핀플레이트(3)가 승하강하는 상하방향에 대해 수직한 수평방향을 기준으로 하는 단면이다.
상기 전환기구(72)가 상기 지지위치(SP)에서 상기 통과공(31)의 외측으로 돌출되면, 상기 전환기구(72)는 상기 핀플레이트(3)의 상측에 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환기구(72)가 상기 지지위치(SP)에 위치한 상태에서 상기 승강부(4, 도 4에 도시됨)가 상기 핀플레이트(3)를 승하강시키면, 상기 핀플레이트(3)는 상기 통과공(31)의 외측으로 돌출된 전환기구(72)를 지지하여 상기 전환기구(72)와 함께 승하강할 수 있다. 상기 전환기구(72)가 상기 지지위치(SP)에서 상기 통과공(31)의 외측으로 돌출된 경우, 상기 전환기구(72)는 상기 전환본체(71)의 외측으로 돌출될 수 있다.
상기 전환기구(72)는 회전축(721)을 중심으로 지지방향(SR 화살표 방향, 도 8에 도시됨)으로 회전함으로써 상기 지지위치(SP)에 위치할 수 있다. 상기 전환기구(72)는 상기 회전축(721)을 중심으로 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 회전함에 따라 눕혀져서 상기 통과공(31)의 외측으로 돌출될 수 있다. 상기 회전축(721)은 상기 수평방향에 대해 평행하게 배치될 수 있다.
도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이, 상기 전환기구(72)는 상기 이격위치(DP)에서 상기 통과공(31)의 내측에만 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환기구(72)는 상기 이격위치(DP)에서 상기 핀플레이트(3)의 상측에 배치되지 않으므로, 상기 핀플레이트(3)에 대해 간섭되지 않는 위치에 배치될 수 있다. 따라서, 상기 전환기구(72)가 상기 이격위치(DP)에 위치한 상태에서 상기 승강부(4, 도 4에 도시됨)가 상기 핀플레이트(3)를 승하강시키면, 상기 핀플레이트(3)는 상기 통과공(31)의 내측에만 배치된 전환기구(72)를 통과하여 상기 전환기구(72)에 대해 독립적으로 승하강할 수 있다. 상기 전환기구(72)가 상기 이격위치(DP)에서 상기 통과공(31)의 내측에만 배치된 경우, 상기 전환기구(72)는 상기 전환본체(71)의 외측으로 돌출되지 않는다.
상기 전환기구(72)는 상기 회전축(721)을 중심으로 이격방향(DR 화살표 방향, 도 10에 도시됨)으로 회전함으로써 상기 이격위치(DP)에 위치할 수 있다. 상기 전환기구(72)는 상기 회전축(721)을 중심으로 상기 이격방향(DR 화살표 방향)으로 회전함에 따라 세워져서 상기 통과공(31)의 내측에만 배치될 수 있다.
도 4 내지 도 12를 참고하면, 상기 전환기구(72)는 전환부재(722)를 포함할 수 있다. 상기 전환부재(722)는 상기 회전축(721)을 기준으로 일측으로 돌출되도록 배치된 것이다. 도 12에 실선으로 도시된 바와 같이 상기 전환기구(72)가 상기 회전축(721)을 중심으로 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 회전하면, 상기 전환부재(722)는 상기 통과공(31)의 외측으로 돌출될 수 있다. 도 12에 점선으로 도시된 바와 같이 상기 전환기구(72)가 상기 회전축(721)을 중심으로 상기 이격방향(DR 화살표 방향)으로 회전하면, 상기 전환부재(722)는 상기 통과공(31)의 내측에만 배치될 수 있다.
이 경우, 상기 핀플레이트(3)에는 지지기구(32)가 결합될 수 있다. 상기 지지기구(32)는 상기 지지위치(SP)에 위치한 전환기구(72)를 지지하기 위한 것이다. 상기 지지기구(32)는 상기 핀플레이트(3)의 상측으로 돌출될 수 있다. 상기 지지기구(32)는 상기 통과공(31)의 외측에 배치될 수 있다.
상기 지지기구(32)는 제1지지부재(321)를 포함할 수 있다. 상기 제1지지부재(321)는 상기 전환기구(72)가 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 회전 가능한 각도가 제한되도록 상기 전환부재(722)를 지지할 수 있다. 이 경우, 상기 제1지지부재(321)는 상기 전환기구(72)가 상기 지지위치(SP)에 위치한 상태에서 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 더 회전하지 못하도록 상기 전환기구(72)를 지지할 수 있다. 이에 따라, 상기 전환기구(72)는 상기 핀플레이트(3)가 승하강함에 따라 함께 승하강하는 경우에도 상기 제1지지부재(321)에 의해 지지됨으로써, 상기 지지위치(SP)에 위치한 상태로 안정적으로 유지될 수 있다. 상기 전환기구(72)가 상기 지지위치(SP)에 위치할 때, 상기 제1지지부재(321)는 상기 전환부재(722)의 외측에 위치하도록 배치될 수 있다. 이 경우, 상기 제1지지부재(321)는 상기 전환부재(722)에 대해 상기 지지방향(SR 화살표 방향) 쪽에 배치될 수 있다. 도 12를 기준으로 할 때 상기 이격방향(DR 화살표 방향)이 상기 회전축(721)을 기준으로 반시계방향이므로, 상기 제1지지부재(321)는 상기 회전축(721)을 기준으로 상기 전환부재(722)에 대해 시계방향 쪽에 배치될 수 있다.
상기 지지기구(32)는 제2지지부재(322)를 포함할 수 있다. 상기 제2지지부재(322)는 상기 제1지지부재(321)에 지지된 전환부재(722)의 하측에 배치된 것이다. 상기 제2지지부재(322)는 상기 제1지지부재(321)에 비해 더 낮은 높이로 상기 핀플레이트(3)로부터 돌출될 수 있다. 이에 따라, 상기 지지기구(32)는 상기 통과공(31)을 향하는 내측이 개방되게 형성될 수 있다. 상기 전환부재(722)는 상기 지지위치(SP)에서 상기 제1지지부재(321)에 지지됨과 아울러 상기 제2지지부재(322)로부터 이격될 수 있다. 이에 따라, 상기 지지위치(SP)에 위치한 전환부재(722)와 상기 제2지지부재(322)의 사이에는, 상기 전환부재(722)가 상기 이격위치(DP)로 회전하기 위해 통과할 수 있는 공간이 확보될 수 있다. 따라서, 상기 전환부재(722)는 상기 지지기구(32)의 개방된 내측을 통해 상기 지지위치(SP)에서 상기 이격위치(DP)로 회전할 수 있다. 이 경우, 상기 전환부재(722)는 상기 제2지지부재(322)로부터 상측으로 이격될 수 있다.
도 8에 도시된 바와 같이 상기 전환기구(72)가 상기 지지위치(SP)에 위치하면, 상기 전환부재(722)는 상기 제1지지부재(321)에 지지됨과 아울러 상기 제2지지부재(322)로부터 상측으로 이격되도록 배치될 수 있다. 이 상태에서 상기 핀플레이트(3)가 상승하면, 도 9에 도시된 바와 같이 상기 제2지지부재(322)는 상승하면서 상기 전환부재(722)에 접촉된다. 그 후 상기 핀플레이트(3)가 계속하여 상승하면, 상기 제2지지부재(322)는 상승하면서 상기 전환부재(722)를 밀어서 상승시킴으로써, 상기 전환기구(72), 상기 전환본체(71) 및 상기 가변핀플레이트(6)를 상승시킬 수 있다. 이와 같이 상기 제2지지부재(322)가 상승하여 상기 전환부재(722)에 접촉되는 과정 및 상기 제2지지부재(322)가 상기 전환부재(722)를 밀어서 상승시키는 과정에서, 상기 제1지지부재(71)는 상기 전환기구(72)가 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 더 회전하지 못하도록 상기 전환부재(722)를 지지할 수 있다.
상기 지지기구(32)가 상기 제2지지부재(322)를 포함하는 경우, 상기 제1지지부재(321)는 상기 제2지지부재(322)로부터 상측으로 돌출되도록 상기 제2지지부재(322)에 결합될 수 있다. 상기 제1지지부재(321)는 상기 핀플레이트(3)로부터 상측으로 돌출되도록 상기 핀플레이트(3)에 직접 결합될 수도 있다. 즉, 상기 지지기구(32)는 상기 제2지지부재(322)를 포함하지 않을 수도 있다. 이 경우, 상기 전환기구(72)가 상기 지지위치(SP)에 위치하면, 상기 전환부재(722)는 상기 제1지지부재(321)에 지지됨과 아울러 상기 핀플레이트(3)로부터 상측으로 이격되도록 배치될 수 있다.
상기 지지기구(32)는 부착부재(323, 도 12에 도시됨)를 포함할 수 있다. 상기 부착부재(323)는 상기 제1지지부재(321)에 결합된 것이다. 상기 부착부재(323)는 자성(磁性)을 이용하여 상기 통과공(31)의 외측으로 돌출된 전환부재(722)를 상기 제1지지부재(321)에 부착시킬 수 있다. 이 경우, 상기 전환기구(72)가 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 회전하는 과정에서 상기 부착부재(323)와 상기 전환부재(722) 간에 인력(引力)이 작용함으로써, 상기 전환기구(72)는 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 원활하게 회전하여 상기 지지위치(SP)에 위치할 수 있다. 또한, 상기 전환기구(72)가 상기 제1지지부재(321)에 부착됨과 아울러 상기 제2지지부재(322)로부터 이격된 상태에서, 상기 부착부재(323)는 상기 전환부재(722)를 상기 제1지지부재(321)에 부착된 상태로 유지시킬 수 있다. 이에 따라, 상기 부착부재(323)는 진동, 흔들림 등으로 인해 상기 전환부재(722)가 상기 제1지지부재(321)에 대해 접촉과 이격을 반복하게 되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 상기 부착부재(322)는 상기 전환부재(722)와 상기 제1지지부재(321)에서 소음이 발생하는 방지할 수 있고, 상기 전환부재(722)와 상기 제1지지부재(321)에 발생하는 마모를 감소시킬 수 있다. 상기 부착부재(322)는 자성을 갖는 재질로 형성될 수 있다. 예컨대, 상기 부착부재(322)는 자석(Magnet)으로 형성될 수 있다. 이 경우, 상기 전환부재(722)는 자성에 의해 부착될 수 있는 재질로 형성될 수 있다. 예컨대, 상기 전환부재(722)는 금속으로 형성될 수 있다.
여기서, 상기 전환부재(722)는 전환롤러(722a, 도 12에 도시됨)를 포함할 수 있다. 상기 전환롤러(722a)는 상기 지지기구(32)에 접촉되기 위한 것이다. 상기 전환기구(72)가 상기 지지위치(SP)와 상기 이격위치(DP) 간에 회전하는 과정에서, 상기 전환롤러(722a)는 상기 지지기구(32)와의 마찰에 의해 회전할 수 있다. 이에 따라, 상기 전환롤러(722a)는 상기 전환기구(72)가 상기 지지위치(SP)와 상기 이격위치(DP) 간에 회전하는 과정에서 상기 지지기구(32)와의 마찰에 의해 발생하는 오작동, 파티클(Paricle), 마모, 소음 등을 감소시킬 수 있다. 또한, 상기 전환기구(72)가 상기 제1지지부재(321)에 지지됨과 아울러 상기 제2지지부재(322)로부터 이격된 상태에서 상기 핀플레이트(3)가 상승함에 따라 상기 제2지지부재(322)가 상기 전환부재(722)에 접촉되는 과정에서, 상기 전환롤러(722a)는 상기 제1지지부재(321)와의 마찰에 의해 회전함으로써 오작동, 파티클, 마모, 소음 등을 감소시킬 수 있다. 상기 전환롤러(722a)는 상기 전환기구(72)에 회전 가능하게 결합될 수 있다.
도 4 내지 도 14를 참고하면, 상기 전환부(7)는 승강기구(73)를 포함할 수 있다.
상기 승강기구(73)는 상기 전환본체(71)에 승하강 가능하게 결합된 것이다. 상기 승강기구(73)는 상기 전환본체(71)에 결합된 상태로 승하강하면서 상기 전환기구(72)를 상기 지지위치(SP)와 상기 이격위치(DP) 간에 회전시킬 수 있다.
도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이 상기 전환기구(72)가 상기 지지위치(SP)에 위치한 상태에서, 상기 승강기구(73)는 상기 전환기구(72)의 하측에서 상기 전환기구(72)를 지지할 수 있다. 이에 따라, 상기 승강기구(73)는 상기 전환기구(72)가 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 회전 가능한 각도를 제한할 수 있다. 따라서, 상기 승강기구(73)는 상기 전환기구(72)가 상기 지지위치(SP)에 위치한 상태로 안정적으로 유지되도록 할 수 있다. 이에 따라, 상기 핀플레이트(3)는 상기 전환기구(72)를 지지하여 함께 상승함으로써, 도 6에 도시된 바와 같이 상기 가변핀플레이트(6)와 상기 가변핀플레이트(6)에 결합된 가변리프트핀(5)을 상승시킬 수 있다.
도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이 상기 승강기구(73)는 상승하여 상기 전환기구(72)를 가압할 수 있다. 상기 전환기구(72)는 상기 승강기구(73)에 의해 가압됨에 따라 상기 회전축(721)을 중심으로 상기 이격방향(DR 화살표 방향)으로 회전하여 상기 이격위치(DP)에 위치할 수 있다. 따라서, 상기 핀플레이트(3)는 상기 전환기구(72)에 대해 간섭되지 않고, 상기 전환기구(72)에 대해 독립적으로 상승할 수 있다. 이에 따라, 도 4에 도시된 바와 같이 상기 전환부(7), 상기 가변핀플레이트(6), 및 상기 가변리프트핀(5)은 상기 핀플레이트(3)가 상승하더라도 상승하지 않는다.
상기 승강기구(73)는 승강유닛(8)에 의해 승하강할 수 있다. 상기 승강유닛(8)은 상기 승강기구(73)의 하측에 배치될 수 있다. 상기 승강유닛(8)은 상기 스테이지(41)에 결합될 수 있다.
도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이 상기 승강유닛(8)이 상기 승강기구(73)를 상승시키면, 상기 승강기구(73)는 상승하면서 상기 전환기구(72)를 가압하여 상기 이격방향(DR 화살표 방향)으로 회전시킬 수 있다. 이 경우, 상기 승강유닛(8)은 로드(8a)가 상기 승강기구(73)를 가압하여 상승시키도록 상기 로드(8a)를 상승시킬 수 있다. 상기 승강유닛(8)은 상기 승강기구(73)를 상승시킨 후에 상기 전환기구(72)가 상기 이격위치(DP)에 위치한 상태로 유지되도록 상기 승강기구(73)를 지지할 수 있다. 이 상태에서 상기 핀플레이트(4)는 상기 전환부(7)와 상기 가변핀플레이트(6)에 대해 독립적으로 승하강할 수 있다.
도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이 상기 승강유닛(8)이 상기 승강기구(73)로부터 이격되면, 상기 승강기구(73)는 하강할 수 있다. 이 경우, 상기 승강유닛(8)은 상기 로드(8a)가 상기 승강기구(73)를 지지하는 지지력이 제거되도록 상기 로드(8a)를 하강시킬 수 있다. 상기 승강기구(73)가 하강함에 따라, 상기 전환기구(72)는 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 회전하여 상기 지지위치(SP)에 위치할 수 있다. 이 상태에서 상기 승강기구(73)는 상기 핀플레이트(73)가 상승함에 따라 함께 상승하여 상기 승강유닛(8)으로부터 이격될 수 있다. 이에 따라, 도 6에 도시된 바와 같이 상기 가변리프트핀(5)을 상승시킬 때, 상기 승강유닛(8)은 상기 전환부(7)와 함께 상승하지 않도록 구현될 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 가변리프트핀(5)을 상승시킬 때 상기 승강부(4)에 가해지는 부하를 감소시킬 수 있다.
상기 승강유닛(8)은 유압을 이용하여 상기 로드(8a)를 승하강시키는 유압실린더로 구현될 수 있다 상기 승강유닛(8)은 공압을 이용하여 상기 로드(8a)를 승하강시키는 공압실린더로 구현될 수도 있다. 도시되지 않았지만, 상기 승강유닛(8)은 모터와 볼스크류 등을 이용한 볼스크류방식, 모터와 랙기어와 피니언기어 등을 이용한 기어방식, 모터와 풀리와 벨트 등을 이용한 벨트방식, 코일과 영구자석 등을 이용한 리니어모터방식 등을 이용하여 상기 로드(8a)를 승하강시킬 수도 있다.
상기 승강기구(73)는 가이드부재(731)를 포함할 수 있다. 상기 가이드부재(731)는 상기 전환기구(72)에 접촉되는 것이다. 상기 승강기구(73)는 상기 가이드부재(731)가 상기 전환본체(71)의 상측에 배치되도록 상기 전환본체(71)에 승하강 가능하게 결합될 수 있다. 상기 전환본체(71)는 상기 가이드부재(731)를 지지함으로써, 상기 승강기구(73)가 하강 가능한 거리를 제한할 수 있다. 상기 전환기구(72)는 상기 가이드부재(731)에 접촉된 상태에서 상기 승강기구(73)가 승하강함에 따라 상기 회전축(721)을 중심으로 회전할 수 있다.
상기 가이드부재(731)는 상측방향으로 연장될수록 직경이 감소되도록 형성될 수 있다. 상기 상측방향은 상기 승강기구(73)가 상승하는 방향을 의미한다. 이에 따라, 상기 전환기구(72)가 상기 지지위치(SP)에 위치한 상태에서 상기 승강기구(73)가 상승하면, 상기 전환기구(72)는 상기 가이드부재(731)에서 직경이 작은 부분에서부터 직경이 큰 부분으로 접촉된 위치가 변경될 수 있다. 따라서, 상기 전환기구(72)는 상기 가이드부재(731)가 갖는 경사면(731a, 도 14에 도시됨)을 따라 상기 이격방향(DR 화살표 방향)으로 원활하게 회전하여 상기 이격위치(DP)에 위치할 수 있다. 상기 전환기구(72)가 상기 이격위치(DP)에 위치한 상태에서 상기 승강기구(73)가 하강하면, 상기 전환기구(72)는 상기 가이드부재(731)에서 직경이 큰 부분에서부터 직경이 작은 부분으로 접촉된 위치가 변경될 수 있다. 따라서, 상기 전환기구(72)는 상기 가이드부재(731)가 갖는 경사면(731a)을 따라 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 원활하게 회전하여 상기 지지위치(SP)에 위치할 수 있다.
상기 가이드부재(731)는 상기 상측방향으로 연장될수록 직경이 감소되는 제1부분 및 직경에 변화가 없는 제2부분이 조합된 형태로 구현될 수도 있다. 상기 제2부분은 원통 형태로 형성될 수 있다. 상기 제1부분은 절두원추 형태로 형성될 수 있다. 상기 제1부분은 상기 제2부분의 상측에 배치될 수 있다. 상기 제1부분과 상기 제2부분은 일체로 형성될 수 있다.
상기 승강기구(73)는 돌출부재(732)를 포함할 수 있다. 상기 돌출부재(732)는 상기 가이드부재(731)로부터 하측방향으로 돌출될 수 있다. 상기 하측방향은 상기 상측방향에 대해 반대되는 방향이다. 상기 돌출부재(732)는 상기 전환본체(71)에 형성된 관통공에 삽입될 수 있다. 이에 따라, 상기 승강기구(73)가 승하강하는 경우, 상기 전환본체(71)는 상기 관통공이 형성된 내벽이 상기 돌출부재(732)가 직선으로 승하강하도록 가이드할 수 있다. 따라서, 상기 승강기구(73)는 직선으로 승하강할 수 있다. 상기 승강유닛(8)은 상기 돌출부재(732)를 가압하여 상승시킴으로써, 상기 승강기구(73)를 상승시킬 수 있다.
여기서, 상기 전환기구(72)는 상기 승강기구(73)에 의해 가압되기 위한 가압부재(723)를 포함할 수 있다.
상기 가압부재(723)는 상기 회전축(721)을 기준으로 타측으로 돌출되도록 배치된 것이다. 상기 가압부재(723)와 상기 전환부재(722)는 상기 회전축(721)을 기준으로 서로 반대편에 배치될 수 있다. 도 13에 도시된 바와 같이 상기 가압부재(723)가 상기 승강기구(73)의 상측에 위치한 상태에서 상기 승강기구(73)가 상기 가압부재(723) 쪽으로 상승하면, 도 14에 도시된 바와 같이 상기 승강기구(73)는 상기 가압부재(723)를 가압함으로써 상기 전환기구(72)를 상기 이격방향(DR 화살표 방향)으로 회전시킬 수 있다. 이에 따라, 상기 전환기구(72)는 상기 이격위치(DP)에 위치할 수 있다. 이 상태에서 상기 승강기구(73)가 하강함에 따라 상기 전환기구(72)는 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 회전함으로써 상기 지지위치(SP)에 위치할 수 있다. 이 경우, 상기 승강기구(73)는 상기 가압부재(723)의 하측에 위치하는 높이까지 하강할 수 있다.
상기 가압부재(723) 및 상기 전환부재(722)는 상기 회전축(721)을 기준으로 끼인각(Included Angle)이 둔각(Obtuse Angle)을 이루도록 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환기구(72)는 상기 회전축(721)을 기준으로 상기 전환부재(722)가 상기 승강기구(73) 쪽으로 꺾인 형태로 형성될 수 있다. 따라서, 상기 전환기구(72)가 직선 형태로 형성된 것과 대비할 때, 상기 전환부재(722)를 상기 이격위치(DP)에 위치시키기 위해 상기 승강기구(73)가 승하강해야 하는 승하강거리가 감소될 수 있다.
상기 가압부재(723)는 가압롤러(723a, 도 13에 도시됨)를 포함할 수 있다. 상기 가압롤러(723a)는 상기 승강기구(73)에 접촉되기 위한 것이다. 상기 승강기구(73)가 승하강하는 과정에서, 상기 가압롤러(723a)는 상기 승강기구(73)와의 마찰에 의해 회전할 수 있다. 이에 따라, 상기 가압롤러(723a)는 상기 전환기구(72)가 상기 지지위치(SP)와 상기 이격위치(DP) 간에 회전하는 과정에서 상기 승강기구(73)와의 마찰에 의해 발생하는 오작동, 파티클, 마모, 소음 등을 감소시킬 수 있다. 상기 가압롤러(723a)는 상기 전환기구(72)에 회전 가능하게 결합될 수 있다.
도 4 내지 도 14를 참고하면, 상기 전환부(7)는 탄성부재(74, 도 13에 도시됨)를 포함할 수 있다.
상기 탄성부재(74)는 상기 전환기구(72)가 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 회전하도록 상기 전환기구(72)를 탄성적으로 가압하는 것이다. 상기 탄성부재(74)는 상기 이격방향(DR 화살표 방향)으로 회전하는 전환기구(72)에 의해 가압됨에 따라 변형되면서 복원력을 갖게 되고, 해당 복원력으로 상기 전환기구(72)가 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 회전하도록 상기 전환기구(72)를 탄성적으로 가압할 수 있다.
예컨대, 도 13에 도시된 바와 같이 상기 탄성부재(74)는 상기 전환본체(71)로부터 상측으로 돌출되도록 상기 전환본체(71)에 결합될 수 있다. 이 경우, 상기 탄성부재(74)는 상기 전환부재(722)와 상기 승강기구(73)의 사이에 배치될 수 있다. 이 상태에서 상기 승강기구(73)가 상승하면서 상기 가압부재(723)를 가압하면, 도 14에 도시된 바와 같이 상기 전환부재(722)가 상기 이격방향(DR 화살표 방향)으로 회전하면서 상기 탄성부재(74)를 가압하여 변형시킬 수 있다. 이 경우, 상기 탄성부재(74)에서 상기 전환본체(71)의 상측으로 돌출된 부분이 휘어질 수 있다. 이 상태에서 상기 승강기구(73)가 하강하면서 상기 가압부재(723)에 대한 가압력을 제거하면, 상기 탄성부재(74)는 복원력을 이용하여 상기 전환부재(722)를 탄성적으로 가압함으로써 상기 전환부재(722)를 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 회전시킬 수 있다. 따라서, 상기 전환기구(72)는 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 회전하여 상기 지지위치(SP)에 위치할 수 있다. 이 경우, 상기 탄성부재(74)는 판스프링(Leaf Spring)으로 구현될 수 있다.
도시되지 않았지만, 상기 탄성부재(74)는 토션스프링(Torsion Spring)으로 구현될 수도 있다. 이 경우, 상기 탄성부재(74)는 상기 전환기구(72)의 회전축(721)에 결합될 수 있다. 상기 승강기구(73)가 상승하면서 상기 가압부재(723)를 가압하면, 상기 탄성부재(74)는 비틀림 변형이 발생함에 따라 복원력을 갖게 된다. 이 상태에서 상기 승강기구(73)가 하강하면서 상기 가압부재(723)에 대한 가압력을 제거하면, 상기 탄성부재(74)는 복원력을 이용하여 상기 전환기구(72)를 탄성적으로 가압함으로써 상기 전환기구(72)를 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 회전시킬 수 있다.
상기 전환기구(72)는 상기 가압부재(723)와 상기 전환부재(722)의 무게 차이를 이용하여 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 회전하도록 구현될 수도 있다. 이 경우, 상기 가압부재(723)는 상기 전환부재(722)에 비해 더 무거운 무게를 갖도록 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환기구(72)가 상기 이격위치(DP)에 위치한 상태에서 상기 승강기구(73)가 하강하면, 상기 가압부재(723)는 상기 전환부재(722)에 비해 더 무거운 무게를 이용하여 하강하게 된다. 따라서, 전환기구(72)는 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 회전하여 상기 지지위치(SP)에 위치할 수 있다. 상기 가압부재(723)는 상기 회전축(721)을 기준으로 하여 상기 전환부재(722)에 비해 더 긴 길이로 형성됨으로써, 상기 전환부재(722)에 비해 더 무겁게 형성될 수 있다. 상기 가압부재(723)에는 무게추(미도시)가 결합될 수도 있다. 상기 전환부(7)는 상기 탄성부재(74) 없이 상기 가압부재(723)와 상기 전환부재(722)의 무게 차이만을 이용하도록 구현될 수도 있고, 상기 탄성부재(74)의 복원력 및 상기 가압부재(723)와 상기 전환부재(722)의 무게 차이 모두를 이용하도록 구현될 수도 있다.
도 4 내지 도 14를 참고하면, 상기 전환부(7)는 탄성기구(75, 도 8에 도시됨)를 포함할 수 있다.
상기 탄성기구(75)는 상기 승강기구(73)를 탄성적으로 가압하는 것이다. 상기 탄성기구(75)는 상기 승강기구(73)를 하강시키는 방향으로 상기 승강기구(73)를 탄성적으로 가압할 수 있다. 이에 따라, 상기 승강기구(73)와 상기 승강유닛(8)이 이격되면, 상기 승강기구(73)는 상기 탄성기구(75)에 의해 원활하게 하강될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환기구(72)는 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 원활하게 회전하여 상기 지지위치(SP)에 위치할 수 있다.
도 10에 도시된 바와 같이 상기 승강유닛(8)이 상기 로드(8a)를 상승시켜서 상기 승강기구(73)를 가압하여 상승시키면, 상기 탄성기구(75)는 탄성적으로 압축되면서 복원력을 갖게 된다. 이 상태에서 상기 승강유닛(8)이 상기 로드(8a)를 하강시키면, 도 8에 도시된 바와 같이 상기 탄성기구(75)는 탄성적으로 인장(引張)되면서 상기 승강기구(73)를 가압하여 하강시킬 수 있다. 이에 따라, 상기 전환기구(72)는 상기 지지방향(SR 화살표 방향)으로 회전하여 상기 지지위치(SP)에 위치할 수 있다.
상기 탄성기구(75)는 일측이 상기 전환본체(71)에 지지되고, 타측이 상기 승강기구(73)에 지지될 수 있다. 상기 탄성기구(75)의 일측은 상기 돌출부재(732)에 형성된 돌기에 지지될 수 있다. 상기 탄성기구(75)는 상기 상하방향을 기준으로 상기 전환본체(71)의 하면(下面) 및 상기 돌기의 상면(上面) 사이에 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 승강유닛(8)이 상기 로드(8a)를 상승시켜서 상기 돌출부재(732)를 가압하여 상승시키면, 상기 탄성기구(75)는 일측이 상기 전환본체(71)에 지지된 상태에서 타측이 상기 돌기에 밀림에 따라 압축될 수 있다. 상기 승강유닛(8)이 상기 로드(8a)를 하강시키면, 상기 탄성기구(75)는 일측이 상기 전환본체(71)에 지지된 상태에서 타측이 상기 돌기를 밀면서 인장될 수 있다. 상기 탄성기구(75)는 코일 스프링(Coil Spring)으로 구현될 수 있다.
상기 탄성기구(75)는 삽입공(751, 도 9에 도시됨)을 포함할 수 있다. 상기 승강기구(73)는 상기 삽입공(751)에 삽입되어서 배치될 수 있다. 즉, 상기 승강기구(73)는 상기 탄성기구(75)의 내측에 배치된다. 이에 따라, 상기 탄성기구(75)는 상기 삽입공(751)에 삽입된 상기 승강기구(73)가 직선으로 승하강하도록 가이드할 수 있다. 따라서, 상기 탄성기구(75)는 상기 가변리프트핀(5)이 상기 기판(200)을 가변적으로 지지하도록 전환하는 전환작업의 정확성을 향상시키는데 기여할 수 있다.
도 7을 참고하면, 상기 전환부(7)는 상기 전환기구(72)를 복수개 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 전환본체(71)에는 상기 전환기구(72)가 복수개 결합될 수 있다. 상기 전환기구들(72, 72', 72'', 72''')은 상기 지지위치(SP, 도 8에 도시됨)에서 상기 핀플레이트(3)의 서로 다른 부분에 지지되도록 서로 이격된 위치에서 상기 전환본체(72)에 결합될 수 있다. 이에 따라, 상기 핀플레이트(3)가 상승함에 따라 상기 가변핀플레이트(6, 도 8에 도시됨)가 함께 상승하는 과정에서, 상기 전환부(7)는 상기 가변핀플레이트(6, 도 8에 도시됨)에 발생하는 기울어짐을 감소시킬 수 있다. 도 7에는 상기 전환부(7)가 4개의 전환기구(72)를 포함하는 것으로 도시되어 있으나, 이에 한정되지 않으며 상기 전환부(7)는 2개, 3개, 또는 5개 이상의 전환기구(72)를 포함할 수도 있다. 이 경우, 상기 핀플레이트(3)에는 상기 전환기구(72)의 개수와 동일한 개수의 지지기구(32)가 결합될 수 있다.
도 15를 참고하면, 본 발명의 변형된 실시예에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 가변핀플레이트(6)에 하나의 전환부(7)가 결합되도록 구현될 수 있다. 이 경우, 본 발명의 변형된 실시예에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 가변핀플레이트(6), 상기 전환부(7), 상기 가변리프트핀(5), 상기 승강유닛(8)을 각각 복수개씩 포함하도록 구현될 수 있다. 상기 가변핀플레이트들(6, 6')은 서로 이격된 위치에 배치될 수 있다. 상기 가변핀플레이트들(6, 6')에는 상기 가변리프트핀들(5, 5') 및 상기 전환부들(7, 7')이 결합될 수 있다. 상기 전환부들(7, 7')은 상기 승강유닛들(8, 8')에 의해 개별적으로 작동할 수 있다. 상기 핀플레이트(3)에는 상기 전환부들(7, 7')에 대응되는 위치에 지지기구들(32, 32')이 결합될 수 있다. 이에 따라, 상기 가변핀플레이트들(6, 6') 중에서 일부가 상기 핀플레이트(3)와 함께 상승하고, 나머지 일부가 상기 핀플레이트(3)와 함께 상승하지 않을 수 있다. 도 4 및 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 가변핀플레이트(6)에 복수개의 전환부(7)가 결합되도록 구현될 수도 있다.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
1 : 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치 2 : 리프트핀
3 : 핀플레이트 4 : 승강부
5 : 가변리프트핀 6 : 가변핀플레이트
7 : 전환부 8 : 승강유닛
31 : 통과공 32 : 지지기구
41 : 스테이지 42 : 구동유닛
43 : 받침부재 71 : 전환본체
72 : 전환기구 73 : 승강기구
74 : 탄성부재 75 : 탄성기구

Claims (20)

  1. 기판을 지지하기 위한 가변리프트핀;
    승하강 가능하도록 설치된 핀플레이트;
    상기 핀플레이트를 승하강시키기 위한 승강부;
    상기 가변리프트핀이 결합된 가변핀플레이트; 및
    상기 가변핀플레이트에 결합된 전환부를 포함하고,
    상기 전환부는 상기 가변핀플레이트에 결합된 전환본체, 상기 전환본체에 회전 가능하게 결합된 전환기구, 및 상기 전환본체에 승하강 가능하게 결합된 승강기구를 포함하며,
    상기 전환기구는 상기 핀플레이트가 승하강함에 따라 상기 가변핀플레이트가 함께 승하강하도록 상기 핀플레이트에 지지되는 지지위치 및 상기 핀플레이트가 상기 가변핀플레이트에 대해 독립적으로 승하강하도록 상기 핀플레이트로부터 이격되는 이격위치 간에 회전 가능하도록 상기 전환본체에 결합되고,
    상기 가변리프트핀은 상기 전환기구가 상기 지지위치에 위치한 상태에서 상기 핀플레이트가 상승하면 상기 기판을 지지하는 위치에 배치되고, 상기 전환기구가 상기 이격위치에 위치한 상태에서 상기 핀플레이트가 상승하면 상기 기판으로부터 이격된 위치에 배치되며,
    상기 전환기구는 상기 지지위치에 위치한 상태에서 상기 승강기구에 의해 가압됨에 따라 회전축을 중심으로 이격방향으로 회전하여 상기 이격위치에 위치하되, 상기 승강기구에 의해 가압되기 위한 가압부재 및 상기 지지위치에서 상기 핀플레이트에 지지되는 전환부재를 포함하고,
    상기 가압부재와 상기 전환부재는 상기 회전축을 기준으로 서로 반대편에 배치되며,
    상기 승강기구는 상기 지지위치에 위치한 전환기구 쪽으로 상승하여 상기 전환기구를 가압하되, 상기 전환기구가 상기 회전축을 중심으로 상기 이격방향으로 회전하도록 상기 가압부재 쪽으로 상승하여 상기 가압부재를 가압하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 핀플레이트에는 통과공이 형성되고,
    상기 전환기구는 상기 지지위치에서 상기 통과공의 외측으로 돌출됨과 아울러 상기 이격위치에서 상기 통과공의 내측에만 배치되도록 상기 전환본체에 회전 가능하게 결합되며,
    상기 승강부는 상기 핀플레이트가 상기 통과공의 외측으로 돌출된 전환기구를 지지하여 상기 전환기구와 함께 승하강하도록 상기 전환기구가 상기 지지위치에 위치한 상태에서 상기 핀플레이트를 승하강시키고, 상기 핀플레이트가 상기 통과공의 내측에만 배치된 전환기구를 통과하여 상기 전환기구에 대해 독립적으로 승하강하도록 상기 전환기구가 상기 이격위치에 위치한 상태에서 상기 핀플레이트를 승하강시키는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 전환기구는 상기 통과공의 외측으로 돌출되도록 눕혀져서 상기 지지위치에 위치하고, 상기 통과공의 내측에만 배치되도록 세워져서 상기 이격위치에 위치하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 핀플레이트에는 상기 지지위치에 위치한 전환기구를 지지하기 위한 지지기구가 결합되고,
    상기 전환부재는 상기 지지위치에서 상기 통과공의 외측으로 돌출됨과 아울러 상기 이격위치에서 상기 통과공의 내측에만 배치되며,
    상기 전환기구는 상기 전환부재가 상기 통과공의 외측으로 돌출되도록 회전축을 중심으로 지지방향으로 회전하고,
    상기 지지기구는 상기 전환기구가 상기 지지방향으로 회전 가능한 각도가 제한되도록 상기 전환부재를 지지하는 제1지지부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 지지기구는 상기 제1지지부재에 지지된 전환부재의 하측에 배치된 제2지지부재를 포함하되, 상기 통과공 쪽을 향하는 내측이 개방되게 형성되고,
    상기 전환부재는 상기 지지위치에서 상기 제1지지부재에 지지됨과 아울러 상기 제2지지부재로부터 이격되고, 상기 지지기구의 개방된 내측을 통해 상기 이격위치로 회전하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 지지기구는 상기 제1지지부재에 결합된 부착부재를 포함하고,
    상기 부착부재는 자성(磁性)을 이용하여 상기 통과공의 외측으로 돌출된 전환부재를 상기 제1지지부재에 부착시키는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  7. 제4항에 있어서,
    상기 전환부재는 상기 지지기구에 접촉되기 위한 전환롤러를 포함하고,
    상기 전환롤러는 상기 지지기구와의 마찰에 의해 회전하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 제1항에 있어서,
    상기 전환부는 상기 전환기구가 상기 회전축을 중심으로 상기 이격방향에 대해 반대되는 지지방향으로 회전하도록 상기 전환기구를 탄성적으로 가압하는 탄성부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 탄성부재는 상기 전환본체로부터 상측으로 돌출되도록 상기 전환본체에 결합되고,
    상기 전환기구는 상기 승강기구가 상승하면서 상기 가압부재를 가압함에 따라 상기 전환부재가 상기 탄성부재를 가압하여 변형시키도록 상기 회전축을 중심으로 상기 이격방향으로 회전하고, 상기 승강기구가 하강하면 상기 탄성부재가 복원되면서 상기 전환부재를 가압함에 따라 상기 회전축을 중심으로 상기 지지방향으로 회전하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트장치.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 가압부재는 상기 전환부재에 비해 더 무거운 무게를 갖도록 형성되고,
    상기 전환기구는 상기 승강기구가 상승하면서 상기 가압부재를 가압함에 따라 상기 회전축을 중심으로 상기 이격방향으로 회전하고, 상기 승강기구가 하강하면 상기 가압부재의 무게를 이용하여 상기 회전축을 중심으로 상기 이격방향에 대해 반대되는 지지방향으로 회전하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트장치.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 가압부재는 상기 승강기구에 접촉되기 위한 가압롤러를 포함하고,
    상기 가압롤러는 상기 승강기구가 승하강하는 과정에서 상기 승강기구와의 마찰에 의해 회전하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 승강기구는 상승하는 방향으로 연장될수록 직경이 감소되는 가이드부재를 포함하고,
    상기 전환기구는 상기 가이드부재에 접촉된 상태에서 상기 승강기구가 승하강함에 따라 상기 회전축을 중심으로 회전하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  15. 제1항에 있어서,
    상기 승강기구의 하측에 배치된 승강유닛을 포함하고,
    상기 승강유닛은 상기 전환기구가 상기 이격위치로 회전하도록 상기 승강기구를 상승시킨 후에 상기 전환기구가 상기 이격위치에 위치한 상태로 유지되도록 상기 승강기구를 지지하며,
    상기 승강기구는 상기 전환기구가 상기 지지위치에 위치한 상태에서 상기 핀플레이트가 상승함에 따라 함께 상승하여 상기 승강유닛으로부터 이격되는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 전환부는 상기 승강기구와 상기 승강유닛이 이격되면, 상기 승강기구를 하강시키는 방향으로 상기 승강기구를 탄성적으로 가압하는 탄성기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 탄성기구는 상기 승강기구가 삽입되는 삽입공을 포함하되, 상기 삽입공에 삽입된 상기 승강기구가 직선으로 승하강하도록 가이드하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  18. 제16항에 있어서,
    상기 가변핀플레이트에는 상기 전환부가 복수개 결합되고,
    상기 전환부들은 서로 이격된 위치에 위치하도록 상기 가변핀플레이트에 결합된 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  19. 제1항에 있어서,
    상기 전환본체에는 상기 전환기구가 복수개 결합되고,
    상기 전환기구들은 상기 지지위치에서 상기 핀플레이트의 서로 다른 부분에 지지되도록 서로 이격된 위치에서 상기 전환본체에 결합된 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  20. 제1항에 있어서,
    기판을 지지하기 위한 리프트핀을 포함하고,
    상기 리프트핀은 상기 핀플레이트에 결합되며,
    상기 가변리프트핀은 상기 리프트핀으로부터 이격된 위치에 위치하도록 배치된 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
KR1020190001862A 2019-01-07 2019-01-07 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치 KR102180211B1 (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190001862A KR102180211B1 (ko) 2019-01-07 2019-01-07 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치
CN201911266183.0A CN111411322B (zh) 2019-01-07 2019-12-11 掩模对准机用的基板升降装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190001862A KR102180211B1 (ko) 2019-01-07 2019-01-07 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200085571A KR20200085571A (ko) 2020-07-15
KR102180211B1 true KR102180211B1 (ko) 2020-11-18

Family

ID=71487430

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190001862A KR102180211B1 (ko) 2019-01-07 2019-01-07 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR102180211B1 (ko)
CN (1) CN111411322B (ko)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004241702A (ja) 2003-02-07 2004-08-26 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及び基板処理方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4624236B2 (ja) * 2005-10-25 2011-02-02 日立造船株式会社 真空蒸着用アライメント装置
JP5506921B2 (ja) * 2010-04-28 2014-05-28 株式会社アルバック 真空処理装置並びに基板とアラインメントマスクの移動方法及び位置合わせ方法並びに成膜方法
KR101898065B1 (ko) * 2012-08-10 2018-09-12 주식회사 원익아이피에스 기판이송모듈
KR101926693B1 (ko) * 2012-09-20 2018-12-07 주식회사 원익아이피에스 기판처리장치
KR101963400B1 (ko) * 2012-09-24 2019-03-28 주식회사 원익아이피에스 기판 처리장치
JP5370949B1 (ja) * 2013-03-11 2013-12-18 アキム株式会社 ワーク搬送方法および装置
JP6263017B2 (ja) * 2013-12-16 2018-01-17 川崎重工業株式会社 基板位置合わせ装置及び基板位置合わせ装置の制御方法
KR101949367B1 (ko) * 2016-12-09 2019-02-18 주식회사 아바코 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004241702A (ja) 2003-02-07 2004-08-26 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及び基板処理方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200085571A (ko) 2020-07-15
CN111411322A (zh) 2020-07-14
CN111411322B (zh) 2022-05-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4616748B2 (ja) ダイピックアップ装置
WO2004096679A1 (ja) 基板浮上装置
KR102180211B1 (ko) 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치
CN209778979U (zh) 一种基片样品架及镀膜设备
CN108231644B (zh) 掩膜对准装置用基板升降装置
JP2009206315A (ja) テーブルへの基板搭載装置
US9594269B2 (en) Lift device and lift system for substrate loading platform
KR101003725B1 (ko) 진공처리장치
KR101328574B1 (ko) 기판이송장치
KR20150080749A (ko) 기판 이송장치용 승강장치 및 이를 포함하는 기판 이송장치
KR101281664B1 (ko) 리프트 핀을 구비하는 기판 처리장치
KR101362458B1 (ko) 리프트 핀 모듈 및 이것을 포함하는 평판표시소자 제조장치
KR101034041B1 (ko) 기판 정렬장치
KR101979075B1 (ko) 클린룸용 스택커
KR100994489B1 (ko) 플라즈마 처리장치, 기판 처리장치
KR20070119379A (ko) 평판 디스플레이 장치 제조용 리프트 장치
CN218918832U (zh) 承载装置及检测设备
KR20050086268A (ko) 평판표시소자 제조장치
KR100553102B1 (ko) 리프트 핀 모듈 및 그것을 구비하는 평판표시소자 제조장치
KR101488518B1 (ko) 기판 처리 장치
KR20100043309A (ko) 클램프스테이지
KR101571014B1 (ko) 크레이트의 구름장치
KR20160028632A (ko) 로딩 장치, 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR100864794B1 (ko) 기판지지장치
KR101544901B1 (ko) 진공처리장치 및 그 샤워헤드 교체방법

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant