KR101949367B1 - 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치 - Google Patents

마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 기판을 지지하기 위한 가변리프트핀; 승하강 가능하도록 설치된 핀플레이트; 상기 핀플레이트를 승하강시키기 위한 승강부; 및 상기 핀플레이트가 승하강함에 따라 상기 가변리프트핀이 승하강하여 상기 기판을 지지하도록 상기 핀플레이트에 지지되는 지지모드 및 상기 핀플레이트가 상기 가변리프트핀에 대해 독립적으로 승하강하도록 상기 핀플레이트에 대해 지지 해제되는 해제모드 간에 전환되는 전환부를 포함하는 기판 리프트 장치에 관한 것이다.

Description

마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치{Apparatus for Lifting Substrate of Mask Aligner}
본 발명은 마스크 정렬장치에 있어서 기판을 승하강시키는데 이용되는 기판 리프트 장치에 관한 것이다.
일반적으로 액정표시장치(LCD, Liquid Crystal Display), 유기발광표시장치(OLED, Organic Light Emitting Diodes), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP, Plasma Display Panel), 전기영동표시장치(EPD, Electrophoretic Display) 등의 디스플레이장치, 및 태양전지 등의 제품은 여러 가지 공정을 거쳐 제조된다.
이러한 제조 공정에는 기판에 박막을 증착하는 증착공정, 기판에 증착된 박막을 식각하는 식각공정 등이 포함된다. 증착공정, 식각공정 등을 통해 기판에 원하는 형태의 박막을 형성함에 있어서, 마스크(Mask)가 이용된다. 이 경우, 기판 및 마스크가 서로 합착된 상태에서 기판에 대한 증착공정, 식각공정 등이 이루어진다.
여기서, 기판 및 마스크 간의 위치를 정렬하여 기판 및 마스크를 합착하는 공정을 수행함에 있어서, 마스크 정렬장치가 이용된다. 마스크 정렬장치는 기판 및 마스크 간의 위치를 정렬하기 위해 기판 리프트 장치를 포함한다. 마스크 정렬장치에 대해 배경이 되는 기술은 대한민국 공개특허공보 제10-2014-0021832호(2014년 2월 21일 공개)에 개시되어 있다.
도 1은 종래 기술에 따른 기판 리프트 장치의 개략적인 평면도이고, 도 2 및 도 3은 일반적인 기판과 마스크를 예시적으로 나타낸 개략적인 저면도이다.
도 1 내지 도 3을 참고하면, 종래 기술에 따른 기판 리프트 장치(100)는 승강유닛(미도시)에 의해 승하강되는 핀플레이트(110), 및 상기 핀플레이트(110)에 결합된 리프트핀(120)을 포함한다.
상기 리프트핀(120)은 상기 기판(200)을 지지하는 것이다. 상기 리프트핀(120)은 상기 기판(200)을 지지한 상태에서 상기 핀플레이트(110)가 승하강함에 따라 함께 승하강하면서, 상기 기판(200)을 승하강시킨다. 상기 핀플레이트(110)에는 상기 리프트핀(120)이 복수개 결합된다. 상기 리프트핀(120)들은 서로 다른 위치에 위치하도록 상기 핀플레이트(110)에 결합되어서 상기 기판(200)의 서로 다른 위치를 지지한다.
여기서, 상기 기판(200)에서 상기 리프트핀(120)들에 의해 지지된 부분은 유효영역으로 사용될 수 없다. 따라서, 상기 기판(200)에서 유효영역의 크기를 증대시키기 위해, 상기 리프트핀(120)들은 상기 기판(200)에서 마스크(300)에 의해 가려진 부분을 지지하도록 배치된다.
그러나, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이 상기 기판(200)에 있어서 유효영역은 제품의 종류, 크기 등에 따라 변경된다. 이에 따라, 상기 기판(200)에 합착되는 마스크(300)의 형태 또한 변경되므로, 상기 리프트핀(120)들은 상기 유효영역 및 상기 마스크(300)의 형태 변경에 대응되도록 위치가 변경되어야 한다.
이를 위해, 종래 기술에 따른 기판 리프트 장치(100)는 상기 리프트핀(120)들이 상기 핀플레이트(110)에 탈부착 가능하도록 구현되었다. 그러나, 종래 기술에 따른 기판 리스트 장치(100)는 작업자가 직접 수동으로 위치 변경이 필요한 리프트핀들(110)에 대한 탈부착 작업을 수행하였다.
예컨대, 도 2에 도시된 바와 같은 기판(200)과 마스크(300) 간의 위치를 정렬하는 경우, 작업자는 직접 수동으로 상기 핀플레이트(110)의 제1영역(111)에 리프트핀(120)들을 결합시켜야 했다. 그리고, 도 3에 도시된 바와 같은 기판(200)과 마스크(300)로 변경되면, 작업자는 직접 수동으로 상기 핀플레이트(110)의 제1영역(111)으로부터 리프트핀(120)들을 분리하고, 상기 핀플레이트(110)의 제2영역(112)에 리프트핀(120)들을 결합시켜야 했다.
따라서, 종래 기술에 따른 기판 리프트 장치(100)는 상기 리프트핀(120)의 위치를 변경하는 변경작업에 어려움이 있을 뿐만 아니라, 상기 리프트핀(120)의 위치를 변경하는 변경작업에 걸리는 시간 증가로 인해 가동률이 저하되는 문제가 있었다.
본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하고자 안출된 것으로, 기판을 지지하는 위치를 변경하는 변경작업에 대한 어려움을 해소할 수 있는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명은 기판을 지지하는 위치를 변경하는 작업에 걸리는 시간을 줄여서 가동률이 저하되는 정도를 감소시킬 수 있는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치를 제공하기 위한 것이다.
상기와 같은 과제를 해결하기 위해서, 본 발명은 다음과 같은 구성을 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치는 기판을 지지하기 위한 가변리프트핀; 승하강 가능하도록 설치된 핀플레이트; 상기 핀플레이트를 승하강시키기 위한 승강부; 및 상기 가변리프트핀이 결합된 전환부를 포함할 수 있다. 상기 전환부는 상기 핀플레이트가 승하강함에 따라 상기 가변리프트핀이 승하강하여 상기 기판을 지지하도록 상기 핀플레이트에 지지되는 지지모드 및 상기 핀플레이트가 상기 가변리프트핀에 대해 독립적으로 승하강하도록 상기 핀플레이트에 대해 지지 해제되는 해제모드 간에 전환되는 전환부재를 포함할 수 있다.
본 발명에 따르면, 다음과 같은 효과를 도모할 수 있다.
본 발명은 가변리프트핀이 기판을 가변적으로 지지하도록 구현됨으로써, 기판을 지지하는 위치를 변경하는 작업에 대한 용이성을 향상시킬 수 있다.
본 발명은 기판을 지지하는 위치를 변경하는데 걸리는 시간을 줄일 수 있으므로, 가동률 증대를 통해 기판 및 마스크가 합착된 기판조립체에 대한 생산성을 증대시키는데 기여할 수 있다.
도 1은 종래 기술에 따른 기판 리프트 장치의 개략적인 평면도
도 2 및 도 3은 일반적인 기판과 마스크를 예시적으로 나타낸 개략적인 저면도
도 4는 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치의 개략적인 측면도
도 5는 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치에 있어서 핀플레이트, 리프트핀, 및 가변리프트핀에 대한 개략적인 평면도
도 6은 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치에 있어서 전환부에 대한 개략적인 측면도
도 7은 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치에 있어서 전환부 및 핀플레이트에 대한 개략적인 측면도
도 8은 본 발명에 따른 마스트 정렬장치용 기판 리프트 장치에 있어서 해제모드로 전환된 전환부재에 대한 개략적인 평면도
도 9는 본 발명에 따른 마스트 정렬장치용 기판 리프트 장치에 있어서 지지모드로 전환된 전환부재에 대한 개략적인 평면도
도 10은 본 발명에 따른 마스트 정렬장치용 기판 리프트 장치에 있어서 전환돌기가 제1유도면을 따라 회전하여 지지홈에 삽입되는 작동관계를 나타낸 개념도
도 11은 본 발명에 따른 마스트 정렬장치용 기판 리프트 장치에 있어서 전환돌기가 제2유도면을 따라 회전하여 통과공에 삽입되는 작동관계를 나타낸 개념도
도 12는 본 발명에 따른 마스트 정렬장치용 기판 리프트 장치에 있어서 전환부재 및 변경부재를 나타낸 개략적인 측면도
도 13 및 도 14는 본 발명에 따른 마스트 정렬장치용 기판 리프트 장치에 있어서 승강돌기가 회전면을 따라 회전하는 작동관계를 나타낸 개념도
도 15 내지 도 28은 본 발명에 따른 마스트 정렬장치용 기판 리프트 장치의 작동관계를 설명하기 위한 개념도
이하에서는 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 4를 참고하면, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 기판(200) 및 마스크(300) 간의 위치를 정렬하여 상기 기판(200) 및 상기 마스크(300)를 합착하는 마스크 정렬장치에 설치되는 것이다. 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 마스크 정렬장치에서 상기 기판(200)을 지지하여 승하강시키는 기능을 담당한다. 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 핀플레이트(3), 승강부(4), 가변리프트핀(5), 및 전환부(6)를 포함할 수 있다. 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 필요에 따라 리프트핀(2)을 더 포함할 수도 있다.
이하에서는 상기 리프트핀(2), 상기 핀플레이트(3), 상기 승강부(4), 상기 가변리프트핀(5), 및 상기 전환부(6)에 관해 첨부된 도면을 참고하여 구체적으로 설명한다.
도 4 및 도 5를 참고하면, 상기 리프트핀(2)은 상기 기판(200)을 지지하는 것이다. 상기 리프트핀(2)은 상기 핀플레이트(3)에 결합될 수 있다. 이에 따라, 상기 리프트핀(2)은 상기 핀플레이트(3)가 승하강함에 따라 함께 승하강할 수 있다. 상기 리프트핀(2)은 상기 핀플레이트(3)의 상측으로 돌출되도록 상기 핀플레이트(3)에 결합될 수 있다. 상기 리프트핀(2)은 상기 마스크(300)에 형성된 관통공(미도시)에 삽입되어서 상기 마스크(300)의 상측에 위치한 기판(200)을 지지할 수 있다.
상기 리프트핀(2)은 고정적으로 상기 핀플레이트(3)가 승하강함에 따라 함께 승하강하도록 상기 핀플레이트(3)에 결합될 수 있다. 상기 리프트핀(2)은 상기 기판(200)에서 상기 마스크(300)에 의해 가려진 부분(이하, '비유효영역'이라 함)을 지지하도록 배치될 수 있다. 상기 비유효영역은 유효영역으로 사용될 수 없는 부분이다. 예컨대, 상기 비유효영역은 후속공정에서 절단 등에 의해 제거되는 부분, 최종 제품이 갖는 기능에 영향을 미치지 않는 부분 등일 수 있다. 최종 제품이 디스플레이장치인 경우, 상기 유효영역은 영상이 표시되는 부분이고, 상기 비유효영역은 영상이 표시되지 않는 부분일 수 있다. 상기 유효영역 및 상기 비유효영역은 제품의 종류, 크기 등에 따라 위치가 변경될 수 있다.
상기 리프트핀(2)은 고정영역(FA, 도 5에 도시됨)에 위치하도록 상기 핀플레이트(3)에 결합될 수 있다. 상기 고정영역(FA)은 상기 기판(200)에 있어서 고정 비유효영역에 대응되는 위치에 위치할 수 있다. 상기 고정 비유효영역은 제품의 종류, 크기 등이 변경되더라도, 상기 유효영역으로 변경되지 않고 항상 상기 비유효영역으로 유지되는 부분이다. 예컨대, 상기 고정 비유효영역은 상기 기판(200)의 둘레로부터 안쪽으로 소정 거리 이격된 위치까지의 범위로 설정될 수 있다. 이 경우, 상기 고정영역(FA)은 상기 핀플레이트(3)의 상면에서 외측 영역에 해당할 수 있다. 예컨대, 도 5에 도시된 바와 같이 상기 고정영역(FA)은 사각 고리 형태로 형성될 수 있다.
상기 리프트핀(2)은 전체적으로 장방형의 봉 형태로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않으며 상기 기판(200)을 지지할 수 있는 형태이면 다른 형태로 형성될 수도 있다.
본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 리프트핀(2)을 복수개 포함할 수 있다. 상기 리프트핀(2)들은 서로 이격된 위치에 위치하도록 상기 핀플레이트(3)에 결합될 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 리프트 장치(1)는 상기 리프트핀(2)들이 상기 기판(200)의 서로 다른 부분을 지지하도록 구현됨으로써, 상기 기판(200)을 안정적으로 지지할 수 있다. 상기 리프트핀(2)들은 상기 고정영역(FA) 내에서 서로 이격된 위치에 위치하도록 상기 핀플레이트(3)에 결합될 수 있다. 상기 마스크 정렬장치가 제품의 종류, 크기 등에 따라 다양한 형태의 마스크(300)를 사용하는 경우, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 마스크(300)들 모두에서 중복되는 영역에는 상기 리프트핀(2)이 설치되고, 상기 마스크(300)들에 따라 변경되는 영역에는 상기 가변리프트핀(5)이 설치되도록 구현될 수 있다. 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 리프트핀(2) 없이 모두 상기 가변리프트핀(5)만으로 상기 기판(200)을 지지하도록 구현될 수도 있다.
도 4 및 도 5를 참고하면, 상기 핀플레이트(3)는 승하강 가능하게 설치되는 것이다. 상기 리프트핀(2)이 구비되는 경우, 상기 핀플레이트(3)는 상기 리프트핀(2)을 지지할 수 있다. 상기 핀플레이트(3)는 상기 승강부(4)에 결합될 수 있다. 상기 핀플레이트(3)는 상기 승강부(4)에 의해 승하강할 수 있다. 상기 리프트핀(2)이 구비되는 경우, 상기 핀플레이트(3)는 상기 승강부(4)에 의해 승하강함에 따라 상기 리프트핀(2)을 승하강시킬 수 있다. 상기 핀플레이트(3)는 전체적으로 사각판형으로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않으며 상기 리프트핀(2)을 지지할 수 있는 형태이면 다른 형태로 형성될 수 있다.
도 4 및 도 5를 참고하면, 상기 승강부(4)는 상기 핀플레이트(3)를 승하강시키는 것이다. 상기 리프트핀(2)이 구비되는 경우, 상기 승강부(4)는 상기 핀플레이트(3)를 승하강시킴으로써, 상기 핀플레이트(3)에 결합된 리프트핀(3)을 승하강시킬 수 있다. 상기 리프트핀(3)이 상기 기판(200)을 지지한 경우, 상기 승강부(4)는 상기 핀플레이트(3)를 승하강시킴으로써 상기 기판(200)을 승하강시킬 수 있다.
상기 승강부(4)는 스테이지(41) 및 승강유닛(42)을 포함할 수 있다.
상기 스테이지(41)에는 상기 핀플레이트(3)가 승강 가능하게 결합될 수 있다. 상기 스테이지(41)는 상기 핀플레이트(3)의 하측에 위치하도록 설치될 수 있다.
상기 승강유닛(42)은 상기 스테이지(41)에 결합될 수 있다. 상기 승강유닛(42)은 상기 핀플레이트(3)를 승강시킬 수 있다. 이에 따라, 상기 핀플레이트(3)는 상기 스테이지(41)를 기준으로 하여 승하강할 수 있다. 상기 승강유닛(42)은 유압실린더 또는 공압실린더를 이용한 실린더방식, 모터와 볼스크류 등을 이용한 볼스크류방식, 모터와 랙기어와 피니언기어 등을 이용한 기어방식, 모터와 풀리와 벨트 등을 이용한 벨트방식, 코일과 영구자석 등을 이용한 리니어모터방식 등을 이용하여 상기 핀플레이트(3)를 승하강시킬 수 있다.
도 4 및 도 5를 참고하면, 상기 가변리프트핀(5)은 상기 기판(200)을 지지하는 것이다. 상기 리프트핀(2)이 구비되는 경우, 상기 가변리프트핀(5)은 상기 리프트핀(2)으로부터 이격된 위치에 위치하도록 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 가변리프트핀(5) 및 상기 리프트핀(2)은 상기 기판(200)의 서로 다른 부분을 지지할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 기판(200)을 더 안정적으로 지지할 수 있다. 상기 마스크 정렬장치가 제품의 종류, 크기 등에 따라 다양한 형태의 마스크(300)를 사용하는 경우, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 마스크(300)들 모두에서 중복되는 영역에는 상기 리프트핀(2)이 설치되고, 상기 마스크(300)들에 따라 변경되는 영역에는 상기 가변리프트핀(5)이 설치되도록 구현될 수 있다. 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 리프트핀(2) 없이 모두 상기 가변리프트핀(5)만으로 상기 기판(200)을 지지하도록 구현될 수도 있다.
상기 가변리프트핀(5)은 상기 전환부(6)에 의해 가변적으로 상기 기판(200)을 지지하도록 상기 전환부(6)에 결합될 수 있다. 상기 가변리프트핀(5)이 상기 전환부(6)에 의해 상기 핀플레이트(3)와 함께 승하강하도록 전환된 경우, 상기 가변리프트핀(5)은 상기 핀플레이트(3)가 승하강함에 따라 함께 승하강하여 상기 기판(200)을 지지할 수 있다. 상기 가변리프트핀(5)이 상기 전환부(6)에 의해 상기 핀플레이트(3)와 함께 승하강하지 않도록 전환된 경우, 상기 가변리프트핀(5)은 상기 핀플레이트(3)가 승하강하더라도 승하강하지 않으므로 상기 기판(200)을 지지하지 않게 된다.
상기 가변리프트핀(5)은 가변영역(CA, 도 5에 도시됨)에 위치하도록 상기 전환부(6)에 결합될 수 있다. 상기 가변영역(CA)은 상기 기판(200)에 있어서 가변 비유효영역에 대응되는 위치에 위치할 수 있다. 상기 가변 비유효영역은 제품의 종류, 크기 등이 변경되면, 상기 유효영역 및 상기 비유효영역 간에 변경되는 부분이다. 상기 가변 비유효영역은 상기 고정 비유효영역의 안쪽에 위치할 수 있다. 이 경우, 상기 가변영역(CA)은 상기 핀플레이트(3)의 상면에서 내측 영역에 해당할 수 있다. 상기 가변영역(CA)은 상기 핀플레이트(3)의 상면에서 상기 고정영역(FA)의 안쪽에 위치하도록 배치될 수 있다. 예컨대, 도 5에 도시된 바와 같이 상기 가변영역(CA)은 직사각형 형태로 형성될 수 있다.
상기 가변리프트핀(5)은 전체적으로 장방형의 봉 형태로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않으며 상기 기판(200)을 지지할 수 있는 형태이면 다른 형태로 형성될 수도 있다.
본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 가변리프트핀(5)을 복수개 포함할 수 있다. 상기 가변리프트핀(5)들은 서로 이격된 위치에 위치하도록 상기 전환부(6)에 결합될 수 있다.
도 4 내지 도 6을 참고하면, 상기 전환부(6)는 상기 가변리프트핀(5)을 지지하는 것이다. 상기 전환부(6)는 상기 가변리프트핀(5)이 상기 기판(200)을 가변적으로 지지하도록 지지모드 및 해제모드 간에 전환될 수 있다.
상기 지지모드로 전환되면, 상기 전환부(6)는 상기 핀플레이트(3)에 지지될 수 있다. 이에 따라, 상기 가변리프트핀(5)은 상기 핀플레이트(3)가 승하강함에 따라 함께 승하강하여 상기 기판(200)을 지지할 수 있다.
상기 해제모드로 전환되면, 상기 전환부(6)는 상기 핀플레이트(3)에 대해 지지 해제될 수 있다. 이에 따라, 상기 핀플레이트(3)는 상기 가변리프트핀(5)에 대해 독립적으로 승하강할 수 있다. 따라서, 상기 가변리프트핀(5)은 상기 핀플레이트(3)가 승하강하더라도 승하강하지 않으므로, 상기 기판(200)을 지지하지 않게 된다.
이에 따라, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 다음과 같은 작용 효과를 도모할 수 있다.
첫째, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 전환부(6)를 이용하여 상기 가변리프트핀(5)이 상기 기판(200)을 지지하거나 상기 기판(200)을 지지하지 않도록 전환할 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 작업자가 수동으로 상기 가변리프트핀(5)을 분리하거나 설치하는 작업을 수행하지 않고도, 상기 가변리프트(5)이 가변적으로 상기 기판(200)을 지지하도록 구현된다. 따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 가변리프트핀(5)을 이용하여 상기 기판(200)을 지지하는 위치를 변경하는 작업에 대한 용이성을 향상시킬 수 있다.
둘째, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 전환부(6)를 이용하여 상기 가변리프트핀(5)이 가변적으로 상기 기판(200)을 지지하도록 구현되므로, 상기 가변리프트핀(5)을 이용하여 상기 기판(200)을 지지하는 위치를 변경하는데 걸리는 시간을 줄일 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 마스크 정렬장치에 대한 가동률을 증대시킬 수 있으므로, 상기 기판(200) 및 상기 마스크(300)가 합착된 기판조립체에 대한 생산성을 증대시키는데 기여할 수 있다.
상기 전환부(6)는 상기 핀플레이트(3)의 하측에 위치하도록 설치될 수 있다. 상기 전환부(6)는 상기 핀플레이트(3) 및 상기 승강부(4)의 스테이지(41) 사이에 위치하도록 상기 스테이지(41)에 결합될 수 있다. 이 경우, 상기 승강유닛(42)은 상기 스테이지(41)에 결합되어서 상기 스테이지(41)를 기준으로 상기 핀플레이트(3)를 승강시킬 수 있다. 상기 가변리프트핀(5)은 상기 전환부(6)의 상측으로 돌출되도록 상기 전환부(6)에 결합될 수 있다.
본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 전환부(6) 및 상기 가변리프트핀(5)을 각각 복수개씩 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 전환부(6)들 및 상기 가변리프트핀(5)들은 복수개의 가변영역(CA)에 위치하도록 배치될 수 있다. 상기 가변영역(CA)들은 각각 상기 가변 비유효영역에 대응되는 위치에 위치할 수 있다. 예컨대, 상기 전환부(6)들 및 상기 가변리프트핀(5)들은 각각 제1가변영역(CA1, 도 5에 도시됨) 및 제2가변영역(CA2, 도 5에 도시됨)에 위치하도록 배치될 수 있다. 이 경우, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 다음과 같이 동작할 수 있다.
우선, 도 2에 도시된 바와 같은 기판(200)과 마스크(300)가 상기 마스크 정렬장치로 로딩(Loading)되는 경우, 상기 제1가변영역(CA1)에 위치한 전환부(6)는 상기 지지모드로 전환될 수 있다. 이에 따라, 상기 제1가변영역(CA1)에 위치한 가변리프트핀(5)은 상기 핀플레이트(3)가 승하강함에 따라 함께 승하강할 수 있다. 따라서, 상기 제1가변영역(CA1)에 위치한 가변리프트핀(5)은 상기 마스크(300)에 형성된 관통공에 삽입되어서 상기 기판(200)의 비유효영역에 해당하는 부분을 지지할 수 있다. 이 경우, 상기 제2가변영역(CA2)에 위치한 전환부(6)는 상기 해제모드로 전환될 수 있다. 이에 따라, 상기 제2가변영역(CA2)에 위치한 가변리프트핀(5)은 상기 핀플레이트(3)가 승하강하더라도 승하강하지 않는다. 따라서, 상기 제2가변영역(CA2)에 위치한 가변리프트핀(5)은 상기 기판(200)의 유효영역에 해당하는 부분을 지지하지 않게 된다.
다음, 도 3에 도시된 바와 같은 기판(200)과 마스크(300)가 상기 마스크 정렬장치로 로딩되는 경우, 상기 제2가변영역(CA2)에 위치한 전환부(6)는 상기 지지모드로 전환될 수 있다. 이에 따라, 상기 제2가변영역(CA2)에 위치한 가변리프트핀(5)은 상기 핀플레이트(3)가 승하강함에 따라 함께 승하강할 수 있다. 따라서, 상기 제2가변영역(CA2)에 위치한 가변리프트핀(5)은 상기 마스크(300)에 형성된 관통공에 삽입되어서 상기 기판(200)의 비유효영역에 해당하는 부분을 지지할 수 있다. 이 경우, 상기 제1가변영역(CA1)에 위치한 전환부(6)는 상기 해제모드로 전환될 수 있다. 이에 따라, 상기 제1가변영역(CA1)에 위치한 가변리프트핀(5)은 상기 핀플레이트(3)가 승하강하더라도 승하강하지 않는다. 따라서, 상기 제1가변영역(CA1)에 위치한 가변리프트핀(5)은 상기 기판(200)의 유효영역에 해당하는 부분을 지지하지 않게 된다.
이와 같이 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 전환부(6)들을 이용하여 상기 기판(200) 및 상기 마스크(300)에 따라 상기 기판(200)의 유효영역에 대응되는 가변리프트핀(5)이 상기 기판(200)을 지지하지 않음과 동시에 상기 기판(200)의 비유효영역에 대응되는 가변리프트핀(5)이 상기 기판(200)을 지지하도록 전환할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 기판(200)과 상기 마스크(300)의 변경에 따른 대응력을 향상시킴으로써, 다양한 기판(200)과 마스크(300)에 적용할 수 있는 범용성을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 기판(200)에서 상기 가변 비유효영역에 해당하는 부분이 상기 가변리프트핀(5)에 의해 가변적으로 지지되는 것과 달리, 상기 기판(200)에서 상기 고정 비유효영역에 대응되는 부분이 상기 리프트핀(2)에 의해 고정적으로 지지되도록 구현될 수 있다. 즉, 상기 가변리프트핀(5) 및 상기 리프트핀(2)이 상기 가변 비유효영역 및 상기 고정 비유효영역에 따라 구분되어 배치될 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 가변리프트핀(5) 및 상기 리프트핀(2) 모두에 상기 전환부(6)를 적용한 비교예와 대비할 때, 상기 전환부(6)의 개수를 줄임으로써 구축비용 및 운영비용을 절감할 수 있다.
도 4 내지 도 7을 참고하면, 상기 전환부(6)는 전환부재(61)를 포함할 수 있다.
상기 전환부재(61)는 상기 지지모드 및 상기 해제모드 간에 전환되는 것이다. 상기 전환부재(61)는 상기 핀플레이트(3)에 지지됨으로써, 상기 지지모드로 전환될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환부재(61)는 상기 핀플레이트(3)가 승하강함에 따라 함께 승하강함으로써, 상기 가변리프트핀(5)을 승하강시킬 수 있다. 상기 전환부재(61)는 상기 핀플레이트(3)에 대해 지지 해제됨으로써, 상기 해제모드로 전환될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환부재(61)는 상기 핀플레이트(3)가 승하강하더라도 승하강하지 않음으로써, 상기 가변리프트핀(5)을 승하강시키지 않는다.
상기 전환부재(61)는 전체적으로 장방형의 원통 형태로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않으며 상기 핀플레이트(3)에 선택적으로 지지될 수 있는 형태이면 다른 형태로 형성될 수도 있다.
도 4 내지 도 7을 참고하면, 상기 전환부(6)는 결합부재(62)를 포함할 수 있다.
상기 결합부재(62)는 상기 전환부재(61)를 지지하는 것이다. 상기 결합부재(62)에는 상기 전환부재(61)가 회전 가능하게 결합될 수 있다. 상기 전환부재(61)는 상기 결합부재(62)에 결합된 상태에서 자전(自轉)할 수 있다. 상기 전환부재(61)는 회전 각도에 따라 상기 핀플레이트(3)에 선택적으로 지지될 수 있다. 상기 결합부재(62) 및 상기 전환부재(61)의 사이에는 베어링(미도시)이 배치될 수 있다. 이 경우, 상기 전환부재(61)는 상기 베어링을 매개로 하여 상기 결합부재(62)에 회전 가능하게 결합될 수 있다.
상기 결합부재(62)는 상기 전환부재(61)가 승하강함에 따라 함께 승하강할 수 있다. 이 경우, 상기 전환부재(61)는 회전운동이 구속되지 않으면서 승하강운동이 구속되도록 상기 결합부재(62)에 결합될 수 있다. 이에 따라, 상기 지지모드로 전환되면, 상기 전환부재(61)는 상기 핀플레이트(3)가 승하강함에 따라 함께 승하강하면서 상기 결합부재(62)를 승하강시키도록 상기 핀플레이트(3)에 지지될 수 있다. 이 경우, 상기 가변리프트핀(5)은 상기 결합부재(62)가 승하강함에 따라 함께 승하강하도록 상기 결합부재(62)에 결합될 수 있다. 한편, 상기 해제모드로 전환되면, 상기 전환부재(61)는 상기 핀플레이트(3)가 승하강하더라도 승하강하지 않게 된다. 이에 따라, 상기 결합부재(62) 및 상기 가변리프트핀(5) 또한 승하강하지 않게 된다.
상기 결합부재(62)는 상기 핀플레이트(3)의 하측에 위치하도록 설치될 수 있다. 상기 가변리프트핀(5)은 상기 결합부재(62)의 상측으로 돌출되도록 상기 결합부재(62)에 결합될 수 있다. 상기 결합부재(62)에는 상기 가변리프트핀(5)이 복수개 결합될 수 있다. 상기 가변리프트핀(5)들은 서로 이격된 위치에 위치하도록 상기 결합부재(62)에 결합될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환부재(61)가 상기 지지모드로 전환된 경우, 상기 결합부재(62)에 결합된 가변리프트핀(5)들은 상기 기판(200)의 서로 다른 부분을 지지함으로써 상기 기판(100)을 더 안정적으로 지지할 수 있다.
여기서, 상기 전환부(6)는 상기 전환부재(61)의 회전 각도에 따라 상기 전환부재(61)가 상기 핀플레이트(3)에 선택적으로 지지되도록 구현될 수 있다. 이를 위해, 상기 전환부(6) 및 상기 핀플레이트(3)는 다음과 같이 구현될 수 있다.
도 4 내지 도 9를 참고하면, 상기 전환부(6)는 전환돌기(611)를 포함할 수 있다.
상기 전환돌기(611)는 상기 전환부재(61)로부터 돌출되도록 형성될 수 있다. 상기 전환돌기(611)는 상기 전환부재(61)로부터 외측 방향으로 돌출되도록 형성될 수 있다. 상기 전환부재(61)는 상기 전환돌기(611)가 향하는 방향이 변경되도록 회전할 수 있다. 상기 전환돌기(611)가 향하는 방향이 변경됨에 따라, 상기 전환돌기(611)는 상기 핀플레이트(3)에 선택적으로 지지될 수 있다.
상기 전환돌기(611)는 전체적으로 직방체 형태로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않으며 상기 전환부재(61)의 회전 각도에 따라 상기 핀플레이트(3)에 선택적으로 지지될 수 있는 형태이면 다른 형태로 형성될 수도 있다.
상기 전환부(6)는 상기 전환돌기(611)를 복수개 포함할 수 있다. 상기 전환돌기(611)들은 서로 다른 위치에 위치하도록 상기 전환부재(61)에 결합될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환돌기(611)들은 상기 전환부재(61)의 회전축(61a, 도 7에 도시됨)을 중심으로 하여 서로 다른 방향으로 돌출되도록 형성될 수 있다. 상기 전환돌기(611)들은 상기 전환부재(61)의 회전축(61a)을 중심으로 하여 서로 동일한 각도로 이격되도록 형성될 수 있다.
도 4 내지 도 9를 참고하면, 상기 핀플레이트(3)는 통과공(31, 도 9에 도시됨) 및 지지부재(32)를 포함할 수 있다.
상기 통과공(31)은 상기 전환돌기(611)를 통과시키는 것이다. 상기 전환부재(61)의 회전 각도에 따라 상기 전환돌기(611)가 상기 통과공(31)에 위치하면, 상기 전환돌기(611)는 상기 핀플레이트(3)에 지지되지 않게 된다. 이에 따라, 상기 핀플레이트(3)가 승하강하는 과정에서 상기 전환돌기(611)가 상기 통과공(31)을 통과하게 되므로, 상기 핀플레이트(3)는 승하강하면서 상기 전환돌기(611)를 승하강시키지 않게 된다. 즉, 상기 핀플레이트(3)는 상기 전환돌기(611) 및 상기 전환부재(61)에 대해 독립적으로 승하강할 수 있다. 따라서, 상기 전환부재(61)는 상기 해제모드로 전환될 수 있다.
상기 통과공(31)은 상기 핀플레이트(3)를 관통하여 형성될 수 있다. 상기 통과공(31)은 상기 핀플레이트(3)가 승하강하는 승강방향(Z축 방향)을 따라 상기 핀플레이트(3)를 관통하여 형성될 수 있다. 상기 통과공(31)은 상기 지지부재(32)를 관통하여 형성될 수도 있다.
상기 핀플레이트(3)는 상기 통과공(31)을 복수개 포함할 수 있다. 상기 통과공(31)들은 서로 다른 위치에 위치하도록 상기 핀플레이트(3)에 형성될 수 있다. 상기 핀플레이트(3)는 상기 전환돌기(611)의 개수와 동일한 개수의 통과공(31)들을 포함할 수 있다. 상기 통과공(31)들은 상기 전환돌기(611)들이 서로 이격된 각도와 동일한 각도로 서로 이격되도록 형성될 수 있다. 상기 핀플레이트(3)는 상기 전환돌기(611)의 개수에 비해 더 많은 개수의 통과공(31)들을 포함할 수도 있다. 이 경우, 상기 핀플레이트(3)는 상기 전환돌기(611)의 개수에 대해 배수(倍數)에 해당하는 개수의 통과공(31)들을 포함할 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 전환돌기(611)가 상기 통과공(31)에 삽입되도록 상기 전환부재(61)를 회전시키는 각도를 줄일 수 있으므로, 상기 전환부재(61)를 상기 해제모드로 전환하는데 걸리는 시간을 단축할 수 있다.
상기 지지부재(32)는 상기 전환돌기(611)를 지지하는 것이다. 상기 전환부재(61)의 회전 각도에 따라 상기 전환돌기(611)가 상기 지지부재(32)에 위치하면, 상기 전환돌기(611)는 상기 핀플레이트(3)에 지지되게 된다. 이에 따라, 상기 핀플레이트(3)가 승하강하는 과정에서 상기 전환돌기(611)가 상기 지지부재(32)에 지지되므로, 상기 핀플레이트(3)는 승하강하면서 상기 전환돌기(611)를 승하강시키게 된다. 즉, 상기 핀플레이트(3)는 상기 전환돌기(611)를 통해 상기 가변리프트핀(5)을 승하강시킬 수 있다. 따라서, 상기 전환부재(61)는 상기 지지모드로 전환될 수 있다.
상기 지지부재(32)는 상기 핀플레이트(3)의 상측으로 돌출되도록 형성될 수 있다. 상기 지지모드로 전환된 경우, 상기 전환부재(61)는 상부(上部)가 상기 핀플레이트(3)의 상측에 위치하고, 하부(下部)가 상기 핀플레이트(3)의 하측에 위치하도록 상기 지지부재(32)에 지지될 수 있다. 이에 따라, 상기 핀플레이트(3)가 상승하면, 상기 전환부재(61)는 상기 지지부재(32)에 지지되어서 상승할 수 있다. 상기 핀플레이트(3)가 하강하면, 상기 전환부재(61)는 자중(自重)에 의해 하강할 수 있다. 상기 지지부재(32) 및 상기 핀플레이트(3)에는, 상기 전환부재(61)가 삽입되기 위한 관통공이 형성될 수 있다. 상기 지지모드로 전환된 경우, 상기 전환부재(61)는 상기 관통공에 삽입됨으로써 상부(上部)가 상기 핀플레이트(3)의 상측에 위치함과 아울러 하부(下部)가 상기 핀플레이트(3)의 하측에 위치할 수 있다. 상기 지지부재(32)는 전체적으로 내측이 비어 있는 원반 형태로 형성될 수 있다. 이 경우, 상기 지지부재(32)는 상기 전환돌기(611)의 회전경로에 대응되는 곡률을 갖는 원반 형태로 형성될 수 있다.
상기 핀플레이트(3)는 상기 지지부재(32)를 복수개 포함할 수 있다. 상기 지지부재(32)들은 서로 다른 위치에 위치하도록 상기 핀플레이트(3)에 형성될 수 있다. 상기 핀플레이트(3)는 상기 전환돌기(611)의 개수와 동일한 개수의 지지부재(32)들을 포함할 수 있다. 상기 지지부재(32)들은 상기 전환돌기(611)들이 서로 이격된 각도와 동일한 각도로 서로 이격되도록 형성될 수 있다. 상기 핀플레이트(3)는 상기 전환돌기(611)의 개수에 비해 더 많은 개수의 지지부재(32)들을 포함할 수도 있다. 이 경우, 상기 핀플레이트(3)는 상기 전환돌기(611)의 개수에 대해 배수(倍數)에 해당하는 개수의 지지부재(32)들을 포함할 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 전환돌기(611)가 상기 지지부재(32)에 지지되도록 상기 전환부재(61)를 회전시키는 각도를 줄일 수 있으므로, 상기 전환부재(61)를 상기 지지모드로 전환하는데 걸리는 시간을 단축할 수 있다.
상기 핀플레이트(3)는 상기 지지부재(32) 및 상기 통과공(31)을 각각 복수개씩 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 지지부재(32) 및 상기 통과공(31)은 상기 전환부재(61)의 회전축(61a)을 중심으로 하여 교번하여 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환부재(61)의 회전축(61a)을 중심으로 하여 회전방향으로, 상기 지지부재(32), 상기 통과공(31), 상기 지지부재(32), 및 상기 통과공(31)과 같이 배치될 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 지지모드 및 상기 해제모드 간에 전환되도록 상기 전환부재(61)가 회전하여야 하는 회전 각도를 줄일 수 있으므로, 상기 전환부재(61)를 상기 지지모드 및 상기 해제모드 간에 전환하는데 걸리는 시간을 단축할 수 있다. 상기 지지부재(32)들 및 상기 통과공(31)들은 상기 전환돌기(611)의 회전경로를 따라 배치될 수 있다. 상기 지지부재(32)들 및 상기 통과공(31)들은 상기 전환돌기(611)의 회전경로에 대응되는 곡률을 갖는 가상의 곡선 상에 위치하도록 배치될 수 있다.
도 4 내지 도 10을 참고하면, 상기 지지부재(32)는 상기 전환부재(61)의 자중(自重)을 이용하여 상기 전환부재(61)를 회전시킬 수 있도록 구현될 수 있다. 이를 위해, 상기 지지부재(32)는 지지홈(321) 및 제1유도부재(322)를 포함할 수 있다.
상기 지지홈(321)은 상기 전환돌기(611)가 삽입되는 것이다. 상기 지지홈(321)은 상기 지지부재(32)에 형성될 수 있다. 상기 전환돌기(611)는 상기 지지홈(321)에 삽입됨으로써 상기 지지부재(32)에 지지될 수 있다. 상기 지지홈(321)은 상기 제1유도부재(322)에 대해 상기 전환부재(61)의 회전방향 쪽에 위치하도록 배치될 수 있다. 예컨대, 상기 전환부재(61)가 반시계방향으로 회전하는 경우, 상기 지지홈(321)은 상기 제1유도부재(322)에 대해 반시계방향 쪽에 위치하도록 배치될 수 있다. 상기 지지홈(321)은 상기 지지부재(32)의 상면으로부터 일정 깊이 함몰되어 형성될 수 있다.
상기 제1유도부재(322)는 상기 지지모드로 전환되도록 유도하는 것이다. 상기 제1유도부재(322)는 상기 전환돌기(611)가 상기 지지홈(321)에 삽입되도록 유도할 수 있다. 상기 제1유도부재(322)는 상기 전환돌기(611)의 회전경로에 대응되도록 곡면을 이루며 형성될 수 있다. 상기 제1유도부재(322)는 제1유도면(323)을 포함할 수 있다. 상기 제1유도면(323)은 상기 지지홈(321) 쪽으로 연장될수록 높이가 낮아지도록 경사지게 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환돌기(611)는 상기 제1유도면(323)에 안착되면, 상기 제1유도면(323)을 따라 하강하면서 회전하여 상기 지지홈(321)에 삽입될 수 있다. 이 경우, 상기 전환돌기(611)는 상기 전환부재(61)의 자중(自重)을 이용하여 상기 제1유도면(323)을 따라 하강하면서 회전할 수 있다. 즉, 상기 전환부재(61)는 상기 지지부재(32)가 갖는 경사면을 따라 회전함으로써 상기 지지홈(321)에 삽입될 수 있다.
따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 제1유도면(323)을 통해 상기 전환돌기(611)가 상기 지지홈(321)에 정확하게 삽입될 수 있도록 구현됨으로써, 상기 전환부재(61)를 상기 지지모드로 전환하는 작업에 대한 정확성을 향상시킬 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 전기 등을 이용하여 회전력을 발생시키는 구동원 등을 구비하지 않고도 상기 전환돌기(611)가 상기 지지홈(321)에 삽입되도록 상기 전환부재(61)를 회전시킬 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 전환돌기(611)가 상기 지지홈(321)에 삽입되도록 상기 전환부재(61)를 회전시킴에 있어서 구축비용 및 운영비용을 절감할 수 있다.
상기 제1유도면(323)은 상기 제1유도부재(322)에서 상측을 향하는 면(面)일 수 있다. 상기 제1유도면(323)은 평면(平面)을 이루며 경사지게 형성될 수 있다. 상기 제1유도면(323)은 곡면을 이루며 경사지게 형성될 수도 있다.
여기서, 상기 지지부재(32)는 상기 전환부재(61)의 자중(自重)을 이용하여 상기 전환부재(61)를 회전시키기 위해 상기 제1유도부재(322)만을 포함할 수도 있다. 이 경우, 상기 제1유도부재(322)가 갖는 제1유도면(323)이 경사지게 형성됨에 따라 상기 제1유도면(323)의 상측에 상기 전환돌기(611)가 위치할 수 있다. 이에 따라, 상기 지지부재(32)는 상기 지지홈(321) 없이 상기 제1유도부재(322)만으로 상기 전환부재(61)를 회전시킬 수 있다. 상기 전환돌기(611)는 상기 제1유도부재(322)에 지지됨으로써, 상기 지지부재(32)에 지지될 수 있다.
도 4 내지 도 11을 참고하면, 상기 지지부재(32)는 상기 전환부재(61)의 자중(自重)을 이용하여 상기 전환부재(61)를 회전시킴으로써, 상기 전환돌기(611)가 상기 통과공(31)에 삽입되도록 구현될 수 있다. 이를 위해, 상기 지지부재(32)는 제2유도부재(324)를 포함할 수 있다.
상기 제2유도부재(324)는 상기 해제모드로 전환되도록 유도하는 것이다. 상기 제2유도부재(324)는 상기 전환돌기(611)가 상기 통과공(31)에 삽입되도록 유도할 수 있다. 상기 제2유도부재(324)는 상기 전환돌기(611)의 회전경로에 대응되도록 곡면을 이루며 형성될 수 있다. 상기 제2유도부재(324)는 제2유도면(325)을 포함할 수 있다. 상기 제2유도면(325)은 상기 통과공(31) 쪽으로 연장될수록 높이가 낮아지도록 경사지게 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환돌기(611)는 상기 제2유도면(325)에 안착되면, 상기 제2유도면(325)을 따라 하강하면서 회전하여 상기 통과공(31)에 삽입될 수 있다. 이 경우, 상기 전환돌기(611)는 상기 전환부재(61)의 자중(自重)을 이용하여 상기 제2유도면(325)을 따라 하강하면서 회전할 수 있다. 즉, 상기 전환부재(61)는 상기 지지부재(32)가 갖는 경사면을 따라 회전함으로써 상기 통과공(31)에 삽입될 수 있다.
따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 제2유도면(325)을 통해 상기 전환돌기(611)가 상기 통과공(31)에 정확하게 삽입될 수 있도록 구현됨으로써, 상기 전환부재(61)를 상기 해제모드로 전환하는 작업에 대한 정확성을 향상시킬 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 전기 등을 이용하여 회전력을 발생시키는 구동원 등을 구비하지 않고도 상기 전환돌기(611)가 상기 통과공(31)에 삽입되도록 상기 전환부재(61)를 회전시킬 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 전환돌기(611)가 상기 통과공(31)에 삽입되도록 상기 전환부재(61)를 회전시킴에 있어서 구축비용 및 운영비용을 절감할 수 있다.
상기 제2유도면(325)은 상기 제2유도부재(324)에서 상측을 향하는 면일 수 있다. 상기 제2유도면(325)은 평면을 이루며 경사지게 형성될 수 있다. 상기 제2유도면(325)은 곡면을 이루며 경사지게 형성될 수도 있다.
여기서, 상기 핀플레이트(3)는 상기 전환부재(61)의 회전방향을 따라 상기 제1유도부재(322), 상기 지지홈(321), 상기 제2유도부재(324), 상기 통과공(31)이 교번하여 복수개가 배치될 수 있다. 이 경우, 상기 전환부재(61)의 회전방향을 따라 상기 제1유도부재(322), 상기 지지홈(321), 상기 제2유도부재(324), 상기 통과공(31) 순서로, 상기 제1유도부재(322)들, 상기 지지홈(321)들, 상기 제2유도부재(324)들, 상기 통과공(31)들이 원형 고리 형태를 이루도록 배치될 수 있다. 상기 전환부재(61)는 상기 전환돌기(611)가 상기 제1유도부재(322), 상기 지지홈(321), 상기 제2유도부재(324), 상기 통과공(31)을 순차적으로 통과하도록 회전할 수 있다.
여기서, 상기 지지부재(32)는 상기 지지홈(321) 없이 상기 제1유도부재(322), 상기 제2유도부재(324), 및 상기 통과공(31)을 포함하도록 구현될 수도 있다. 이를 구체적으로 살펴보면, 다음과 같다.
우선, 상기 전환돌기(611)가 상기 제1유도면(323)에 안착된 후에 상기 제1유도면(323)을 따라 하강하면서 회전하여 상기 제2유도부재(324)에 지지됨으로써, 상기 전환부재(61)는 상기 지지모드로 전환될 수 있다. 상기 전환부재(61)는 상기 전환돌기(611)가 상기 제2유도부재(324)에 지지됨에 따라 회전이 정지될 수 있다.
다음, 상기 전환돌기(611)가 상기 제2유도면(325)에 안착된 후에 상기 제2유도면(325)을 따라 하강하면서 회전하여 상기 통과공(31)에 삽입됨으로써, 상기 전환부재(61)는 상기 해제모드로 전환될 수 있다. 상기 전환부재(61)는 상기 전환돌기(611)가 상기 제1유도부재(322)에 지지됨에 따라 회전이 정지될 수 있다.
다음, 상기 전환부재(61)의 회전방향을 따라 상기 제1유도부재(322), 상기 제2유도부재(324), 상기 통과공(31)이 교번하여 복수개가 배치될 수 있다. 상기 전환부재(61)의 회전방향을 따라 상기 제1유도부재(322), 상기 제2유도부재(324), 상기 통과공(31) 순서로, 상기 제1유도부재(322)들, 상기 제2유도부재(324)들, 상기 통과공(31)들이 원형 고리 형태를 이루도록 배치될 수 있다. 상기 전환부재(61)는 상기 전환돌기(611)가 상기 제1유도부재(322), 상기 제2유도부재(324), 상기 통과공(31)을 순차적으로 통과하도록 회전할 수 있다.
도 4 내지 도 12를 참고하면, 상기 전환부(6)는 변경부재(63)를 포함할 수 있다.
상기 변경부재(63)는 상기 전환돌기(611)가 향하는 방향이 변경되도록 상기 전환부재(61)를 회전시키는 것이다. 상기 변경부재(63)는 상기 전환돌기(611)가 상기 지지부재(32)에 지지되도록 상기 전환부재(61)를 회전시켜서 상기 지지모드로 전환할 수 있다. 이 경우, 상기 전환돌기(611)는 상기 지지홈(321)에 삽입될 수 있다. 상기 변경부재(63)는 상기 전환돌기(611)가 상기 통과공(31)에 삽입되도록 상기 전환부재(61)를 회전시켜서 상기 해제모드로 전환할 수 있다.
따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 작업자가 수동으로 상기 가변리프트핀(5)을 분리하거나 설치하는 작업을 수행하지 않고도, 상기 가변리프트(5)이 가변적으로 상기 기판(200)을 지지하도록 구현된다. 이에 따라, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 리프트핀(2) 및 상기 가변리프트핀(5)을 이용하여 상기 기판(200)을 지지하는 위치를 변경하는 작업에 대한 용이성을 향상시킬 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 리프트핀(2) 및 상기 가변리프트핀(5)을 이용하여 상기 기판(200)을 지지하는 위치를 변경하는데 걸리는 시간을 줄일 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 마스크 정렬장치에 대한 가동률을 증대시킬 수 있으므로, 상기 기판(200) 및 상기 마스크(300)가 합착된 기판조립체에 대한 생산성을 증대시킬 수 있다.
상기 변경부재(63)는 상기 전환돌기(611)가 상기 제1유도면(323)에 안착되도록 상기 전환부재(61)를 회전시킬 수 있다. 이에 따라, 상기 전환돌기(611)는 상기 제1유도면(323)을 따라 하강하면서 회전하여 상기 지지홈(321)에 삽입될 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 전환돌기(611)가 상기 지지홈(321)에 정확하게 삽입되도록 구현될 수 있을 뿐만 아니라, 상기 전환돌기(611)가 상기 지지홈(321)에 삽입되도록 상기 전환부재(61)를 회전시킴에 있어서 구축비용 및 운영비용을 절감할 수 있다.
상기 변경부재(63)는 상기 전환돌기(611)가 상기 제2유도면(325)에 안착되도도록 상기 전환부재(61)를 회전시킬 수 있다. 이에 따라, 상기 전환돌기(611)는 상기 제2유도면(325)을 따라 하강하면서 회전하여 상기 통과공(31)에 삽입될 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 전환돌기(611)가 상기 통과공(31)에 정확하게 삽입되도록 구현될 수 있을 뿐만 아니라, 상기 전환돌기(611)가 상기 통과공(31)에 삽입되도록 상기 전환부재(61)를 회전시킴에 있어서 구축비용 및 운영비용을 절감할 수 있다.
도 4 내지 도 14를 참고하면, 상기 전환부(6)는 승강기구(64)를 포함할 수 있다.
상기 승강기구(64)는 상기 변경부재(63)를 승하강시키는 것이다. 상기 승강기구(64)는 상기 변경부재(63)를 승하강시킴으로써, 상기 지지모드 및 상기 해제모드 간에 전환할 수 있다. 이 경우, 상기 승강기구(64)는 상기 변경부재(63)가 상기 전환부재(61)에 접촉되도록 상기 변경부재(63)를 상승시키고, 상기 변경부재(63)가 상기 전환부재(61)로부터 이격되도록 상기 변경부재(63)를 하강시킬 수 있다. 이에 따라, 상기 변경부재(63)는 상기 승강기구(64)에 의해 승하강되면서 상기 전환부재(61)에 접촉 및 이격됨에 따라 상기 전환돌기(611)가 향하는 방향이 변경되도록 상기 전환부재(61)를 회전시킬 수 있다.
따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 변경부재(63)가 상기 전환부재(61)를 회전시켜서 상기 지지모드로 전환되면, 상기 핀플레이트(3)가 상승함에 따라 상기 전환부재(61)가 상승하면서 상기 변경부재(63)로부터 이격될 수 있다. 즉, 상기 변경부재(63) 및 상기 승강기구(64)는 상기 핀플레이트(3)가 상승하더라도 상승하지 않도록 구현된다. 이에 따라, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 전환부재(61)를 상기 지지모드 및 상기 해제모드 간에 전환하기 위한 구조를 간결하게 구현할 수 있으므로, 구축비용 및 운영비용을 절감할 수 있다.
상기 승강기구(64)는 유압실린더 또는 공압실린더를 이용한 실린더방식, 모터와 볼스크류 등을 이용한 볼스크류방식, 모터와 랙기어와 피니언기어 등을 이용한 기어방식, 모터와 풀리와 벨트 등을 이용한 벨트방식, 코일과 영구자석 등을 이용한 리니어모터방식 등을 이용하여 상기 변경부재(63)를 승하강시킬 수 있다. 상기 변경부재(63)는 상기 승강기구(64)에 결합될 수 있다.
상기 승강기구(64)는 승강부재(641) 및 가이드부재(642)를 포함할 수 있다.
상기 승강부재(641)는 상기 변경부재(63)를 지지하는 것이다. 상기 변경부재(63)는 상기 전환부재(61)의 하측에 위치하도록 상기 승강부재(641)에 결합될 수 있다. 상기 변경부재(63)는 상기 승강부재(641)가 승하강함에 따라 함께 승하강할 수 있다. 상기 승강부재(641)에는 상기 변경부재(63)가 복수개 결합될 수 있다. 이 경우, 상기 변경부재(63)들은 서로 이격된 위치에 위치하도록 상기 승강부재(641)에 결합될 수 있다. 상기 승강부재(641)에 상기 변경부재(63)가 복수개 결합되는 경우, 상기 전환부(6)는 상기 전환부재(61)를 복수개 포함할 수 있다. 상기 전환부재(61)들은 상기 변경부재(63)들 각각의 상측에 위치하도록 상기 결합부재(62)에 결합될 수 있다. 상기 전환부(6)가 상기 전환부재(61)를 복수개 포함하는 경우, 상기 핀플레이트(3)는 상기 전환부재(61)들 각각에 대응되도록 상기 통과공(31) 및 상기 지지부재(32)를 각각 복수개씩 포함할 수 있다. 상기 변경부재(63)들은 상기 승강부재(641)에 결합되어서 동시에 승강하므로, 상기 전환부재(61)들을 동시에 동일한 각도로 회전시킬 수 있다.
상기 가이드부재(642)는 상기 결합부재(62)의 이동을 가이드하는 것이다. 상기 가이드부재(642)는 상기 결합부재(62)의 하측에 위치하도록 상기 승강부재(641)에 결합될 수 있다. 상기 가이드부재(642)는 상기 결합부재(62)에 형성된 가이드홈(미도시)에 삽입될 수 있다. 이에 따라, 상기 해제모드 및 상기 지지모드 간에 전환되는 과정에서, 상기 가이드부재(642)는 상기 결합부재(62)의 승하강을 가이드할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)는 상기 해제모드 및 상기 지지모드 간에 전환되는 작업에 대한 정확성을 향상시킬 수 있다.
상기 승강기구(64)는 상기 가이드부재(642)를 복수개 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 가이드부재(642)들은 서로 이격된 위치에 위치하도록 상기 승강부재(641)에 결합될 수 있다. 이에 따라, 상기 가이드부재(642)들은 상기 결합부재(62)의 서로 다른 부분을 가이드함으로써, 상기 해제모드 및 상기 지지모드 간에 전환되는 작업에 대한 정확성을 더 향상시킬 수 있다.
상기 승강기구(64)는 받침부재(미도시)를 포함할 수 있다. 상기 받침부재는 상기 결합부재(62)를 지지하는 것이다. 상기 받침부재는 상기 결합부재(62)의 하측에 위치하도록 배치될 수 있다. 상기 받침부재는 상기 승강부재(641)가 승하강하는 과정에서 함께 승하강하지 않도록 설치될 수 있다. 즉, 상기 승강부재(641)는 상기 받침부재에 대해 독립적으로 승하강하도록 설치될 수 있다. 상기 해제모드 및 상기 지지모드 간에 전환되는 과정에서, 상기 받침부재는 상기 결합부재(62)가 승하강함에 따라 상기 결합부재(62)로부터 이격될 수 있다. 상기 해제모드로 전환된 경우, 상기 받침부재는 상기 결합부재(62)를 지지할 수 있다. 이 경우, 상기 받침부재는 상기 전환부재(61) 및 상기 변경부재(63)가 서로 이격된 위치에 위치하도록 상기 결합부재(62)를 지지할 수 있다. 상기 받침부재는 상기 전환부재(61)의 자중(自重)이 상기 변경부재(63)에 가해지지 않는 범위 내에서 상기 전환부재(61) 및 상기 변경부재(63)가 서로 접촉된 위치에 위치하도록 상기 결합부재(62)를 지지할 수도 있다.
상기 승강기구(64)는 상기 받침부재를 복수개 포함할 수도 있다. 이 경우, 상기 받침부재들은 서로 이격된 위치에 위치하도록 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 받침부재들은 상기 결합부재(62)의 서로 다른 부분을 지지함으로써, 상기 결합부재(62)에 기울어짐이 발생하지 않도록 상기 결합부재(62)를 지지할 수 있다.
도 2 내지 도 14를 참고하면, 상기 승강기구(64)는 상기 변경부재(63)를 상승시킴으로써, 상기 전환부재(61)를 회전시킬 수 있도록 구현된다. 이 경우, 상기 전환부재(61) 및 상기 변경부재(63)는 다음과 같이 구현될 수 있다.
상기 전환부재(61)는 복수개의 승강돌기(612, 도 13에 도시됨)를 포함할 수 있다.
상기 승강돌기(612)들은 상기 전환부재(61)에서 상기 변경부재(63) 쪽으로 돌출되도록 형성될 수 있다. 상기 승강돌기(612)들은 상기 전환부재(61)의 하부(下部)에서 하측으로 돌출되도록 형성될 수 있다. 상기 승강돌기(612)들은 하측으로 돌출될수록 크기가 감소되도록 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환부재(61)의 회전방향을 따라 상기 승강돌기(612)의 양측면은, 각각 경사면으로 형성될 수 있다. 예컨대, 상기 승강돌기(612)들은 하측으로 돌출될수록 크기가 감소되는 삼각형 형태로 형성될 수 있다. 상기 승강돌기(612)들의 사이에는 승강홈(613)이 위치할 수 있다. 이 경우, 상기 전환부재(61)의 하부(下部)에는, 상기 전환부재(61)의 회전방향을 따라 상기 승강돌기(612) 및 상기 승강홈(613)이 교번하여 복수개가 배치될 수 있다. 상기 승강돌기(612)들 및 상기 승강홈(613)들은 상기 전환부재(61)의 회전방향을 따라 원형 고리 형태를 이루도록 배치될 수 있다.
상기 변경부재(63)는 복수개의 변경돌기(631, 도 13에 도시됨)를 포함할 수 있다.
상기 변경돌기(631)들은 상기 변경부재(63)에서 상기 전환부재(61) 쪽으로 돌출되도록 형성될 수 있다. 상기 변경돌기(631)들은 상기 변경부재(63)의 상부(上部)에서 상측으로 돌출되도록 형성될 수 있다. 상기 변경돌기(631)들은 상측으로 돌출될수록 크기가 감소되도록 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환부재(61)의 회전방향을 따라 상기 변경돌기(631)들의 양측면은, 각각 경사면으로 형성될 수 있다. 예컨대, 상기 변경돌기(631)들은 상측으로 돌출될수록 크기가 감소되는 삼각형 형태로 형성될 수 있다. 상기 변경돌기(631)들의 사이에는 변경홈(632)이 위치할 수 있다. 이 경우, 상기 변경부재(63)의 상부(上部)에는, 상기 전환부재(61)의 회전방향을 따라 상기 변경돌기(631) 및 상기 변경홈(632)이 교번하여 복수개가 배치될 수 있다. 상기 변경돌기(631)들 및 상기 변경홈(632)들은 상기 전환부재(61)의 회전방향을 따라 원형 고리 형태를 이루도록 배치될 수 있다.
상기 변경돌기(631)들은 각각 상기 변경홈(632) 쪽으로 연장될수록 높이가 낮아지도록 경사지게 형성된 회전면(633)을 포함할 수 있다. 이에 따라, 상기 승강돌기(612)들이 상기 회전면(633)들에 안착된 상태에서 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 상승시키면, 상기 승강돌기(612)들은 상기 회전면(633)들을 따라 회전하여 상기 변경홈(632)들에 삽입될 수 있다. 이에 따라, 상기 전환부재(61)는 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 상승시킴에 따라 상기 전환돌기(611)가 향하는 방향이 변경되도록 회전할 수 있다. 상기 승강돌기(612)들이 상기 변경홈(632)들에 삽입되면, 상기 전환부재(61)는 상기 승강기구(63)가 상기 변경부재(63)를 더 상승시키더라도 더 이상 회전하지 않게 된다.
상기 회전면(633)들은 상기 변경돌기(631)들이 갖는 양측면 중에서 상기 전환부재(61)의 회전방향 쪽에 위치하도록 배치될 수 있다. 예컨대, 상기 전환부재(61)가 반시계방향으로 회전하는 경우, 상기 회전면(633)들은 상기 변경돌기(631)들이 갖는 양측면 중에서 반시계방향 쪽에 위치하도록 배치될 수 있다. 상기 회전면(633)들은 각각 평면을 이루며 경사지게 형성될 수 있다. 상기 회전면(633)들은 곡면을 이루며 경사지게 형성될 수도 있다.
도 4 내지 도 28을 참고하면, 상기 승강기구(64)는 상기 전환부재(61)가 상기 변경부재(63)가 갖는 경사면을 따라 1차로 회전하도록 상기 변경부재(63)를 상승시킨 후에, 상기 전환부재(61)가 상기 지지부재(32)가 갖는 경사면을 따라 2차로 회전하여 상기 지지홈(321) 또는 상기 통과공(31)에 삽입되도록 상기 변경부재(63)를 하강시킬 수 있다. 상기 변경부재(63)가 갖는 경사면은, 상기 변경돌기(631)가 갖는 회전면(633)에 해당할 수 있다. 상기 지지부재(32)가 갖는 경사면은, 상기 제1유도부재(322)가 갖는 제1유도면(323) 및 상기 제2유도부재(324)가 갖는 제2유도면(325)일 수 있다.
상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 상승시킴에 따라 상기 전환부재(61)가 1차로 회전한 후에 상기 승강기구(64)가 변경부재(63)를 하강시킴에 따라 상기 전환부재(61)가 자중(自重)에 의하여 2차로 회전하여 상기 지지홈(321) 또는 상기 통과공(31)에 삽입되도록, 상기 지지부재(32)는 제1제한면(326) 및 제2제한면(327)을 포함할 수 있다.
상기 제1제한면(326)은 상기 전환돌기(611)를 지지하는 것이다. 상기 제1제한면(326)은 상기 통과공(31)에 대해 상기 전환부재(61)의 회전방향(R 화살표 방향, 도 15에 도시됨) 쪽에 위치할 수 있다. 예컨대, 상기 전환부재(61)가 반시계방향으로 회전하는 경우, 상기 제1제한면(326)은 상기 통과공(31)에 대해 반시계방향 쪽에 위치할 수 있다. 상기 제1제한면(326)은 상기 제1유도부재(322)에서 상기 통과공(31) 쪽을 향하는 면일 수 있다. 상기 제1제한면(326)은 상기 승강방향(Z축 방향)에 대해 평행하도록 형성될 수 있다.
상기 제1제한면(326)은 상기 전환돌기(611)를 지지함으로써, 상기 전환부재(61)의 회전을 제한할 수 있다. 이에 따라, 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 상승시키는 경우, 상기 전환부재(61)는 상기 전환돌기(611)가 상기 제1제한면(326)에 비해 더 높은 위치에 위치할 때까지 상기 전환돌기(611)를 지지한 제1제한면(326)에 의해 회전이 제한되면서 상승할 수 있다. 상기 전환돌기(611)가 상기 제1제한면(326)에 비해 더 높은 위치에 위치한다는 것은, 상기 전환돌기(611)의 하부(下部) 끝단이 상기 제1제한면(326)의 상부(上部) 끝단에 비해 더 높은 위치에 위치하는 것을 의미한다. 상기 전환돌기(611)가 상기 제1제한면(326)에 비해 더 높은 위치에 위치한 후에 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 더 상승시키면, 상기 변경부재(63)는 상기 전환돌기(611)가 상기 제1유도면(323)에 안착되도록 상기 전환부재(61)를 회전시킬 수 있다. 이 경우, 상기 변경부재(63)가 상승하면서 상기 승강돌기(612)들이 상기 변경부재(63)의 회전면(633)들을 따라 회전함으로써, 상기 전환부재(61)는 상기 제1유도면(323)에 안착되도록 회전할 수 있다.
상기 제2제한면(327)은 상기 전환돌기(611)를 지지하는 것이다. 상기 제2제한면(327)은 상기 지지홈(321)에 대해 상기 전환부재(61)의 회전방향(R 화살표 방향) 쪽에 위치할 수 있다. 예컨대, 상기 전환부재(61)가 반시계방향으로 회전하는 경우, 상기 제2제한면(327)은 상기 지지홈(321)에 대해 반시계방향 쪽에 위치할 수 있다. 상기 제2제한면(327)은 상기 제2유도부재(324)에서 상기 지지홈(321) 쪽을 향하는 면일 수 있다. 상기 제2제한면(327)은 상기 승강방향(Z축 방향)에 대해 평행하도록 형성될 수 있다.
상기 제2제한면(327)은 상기 전환돌기(611)를 지지함으로써, 상기 전환부재(61)의 회전을 제한할 수 있다. 이에 따라, 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 상승시키는 경우, 상기 전환부재(61)는 상기 전환돌기(611)가 상기 제2제한면(327)에 비해 더 높은 위치에 위치할 때까지 상기 전환돌기(611)를 지지한 제2제한면(327)에 의해 회전이 제한되면서 상승할 수 있다. 상기 전환돌기(611)가 상기 제2제한면(327)에 비해 더 높은 위치에 위치한다는 것은, 상기 전환돌기(611)의 하부(下部) 끝단이 상기 제2제한면(327)의 상부(上部) 끝단에 비해 더 높은 위치에 위치하는 것을 의미한다. 상기 전환돌기(611)가 상기 제2제한면(327)에 비해 더 높은 위치에 위치한 후에 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 더 상승시키면, 상기 변경부재(63)는 상기 전환돌기(611)가 상기 제2유도면(325)에 안착되도록 상기 전환부재(61)를 회전시킬 수 있다. 이 경우, 상기 변경부재(63)가 상승하면서 상기 승강돌기(612)들이 상기 변경부재(63)의 회전면(633)들을 따라 회전함으로써, 상기 전환부재(61)는 상기 제2유도면(325)에 안착되도록 회전할 수 있다.
이하에서는 본 발명에 따른 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치(1)의 작동관계에 대해 첨부된 도면을 참고하여 구체적으로 설명한다.
도 15 내지 도 21을 참고하여 상기 전환부재(61)가 상기 변경부재(63)가 갖는 경사면을 따라 1차로 회전한 후에 상기 지지부재(32)가 갖는 경사면을 따라 2차로 회전하여 상기 지지홈(321)에 삽입되는 작동관계를 구체적으로 살펴보면, 다음과 같다. 도 15 내지 도 21은 상기 전환부재(61)의 회전방향(R1 화살표 방향)을 따라 상기 통과공(31), 상기 지지부재(32), 상기 전환부재(61), 및 상기 변경부재(63)를 펼쳐서 나타낸 개념도이다.
우선, 도 15에 점선으로 도시된 바와 같이 상기 전환돌기(611)는 상기 통과공(31)에 삽입된 상태이다. 이 경우, 상기 전환부재(61)의 승강돌기(612)들 및 상기 변경부재(63)의 변경돌기(631)들은 서로 어긋난 위치에 위치한 상태이다. 상기 승강돌기(612)들은 상기 회전면(633)들로부터 이격된 상태일 수 있다. 상기 승강돌기(612)들은 상기 회전면(633)들에 접촉된 상태일 수도 있다. 상기 전환돌기(611)가 상기 통과공(31)에 삽입된 상태이므로, 상기 해제모드에 해당하는 상태이다.
다음, 이 상태에서 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 상승시키면, 도 16에 도시된 바와 같이 상기 전환부재(61)의 승강돌기(612)들은 상기 변경부재(63)의 회전면(633)들에 안착될 수 있다.
다음, 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 더 상승시키면, 도 15에 도시된 바와 같이 상기 전환돌기(611)는 상기 제1제한면(326)에 지지된 상태로 상승한다. 이에 따라, 상기 전환부재(61)는 상기 전환돌기(611)를 지지한 제1제한면(326)에 의해 회전이 제한되면서 상승한다. 따라서, 도 16에 도시된 바와 같이 상기 승강돌기(612)들이 상기 회전면(633)들에 안착된 상태이더라도, 상기 승강돌기(612)들은 상기 회전면(633)들을 따라 회전하지 않는다. 상기 승강돌기(612)들 및 상기 전환돌기(611)가 상기 전환부재(61)로 일체화되어 있으므로, 상기 제1제한면(326)은 상기 전환돌기(611)의 회전을 제한함으로써 상기 승강돌기(612)들의 회전 또한 제한할 수 있기 때문이다. 즉, 상기 제1제한면(326)은 상기 전환돌기(611) 및 상기 승강돌기(612)의 회전을 제한한다. 이에 따라, 상기 승강돌기(612)들 및 변경돌기(631)들은 서로 어긋난 위치에 위치한 상태로 상승한다.
다음, 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 더 상승시키면, 도 15에 실선으로 도시된 바와 같이 상기 전환돌기(611)가 상기 제1제한면(326)에 비해 더 높은 위치에 위치한다. 이에 따라, 상기 제1제한면(326)은 상기 전환돌기(611)를 지지하지 않으므로, 상기 전환돌기(611) 및 상기 승강돌기(612)의 회전을 제한하지 않는다.
다음, 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 더 상승시키면, 도 17에 도시된 바와 같이 상기 승강돌기(612)들은 상기 전환부재(61)의 자중(自重)에 의하여 상기 회전면(633)들을 따라 회전함으로써 상기 변경홈(632, 도 16에 도시됨)들에 삽입된다. 상기 승강돌기(612)들이 상기 변경홈(632, 도 16에 도시됨)에 삽입되면, 상기 승강돌기(612)들은 상기 변경돌기(631)들의 사이에 위치하므로, 상기 변경돌기(631)들에 지지됨으로써 회전이 정지된다. 이 경우, 상기 승강돌기(612)들이 회전함에 따라, 도 18에 도시된 바와 같이 상기 전환돌기(611)가 회전하여 상기 제1유도면(323)에 안착된다. 이와 같이 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 상승시키는 동작을 통해, 상기 전환부재(61)는 상기 변경부재(63)가 갖는 경사면을 따라 1차로 회전할 수 있다.
다음, 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 하강시키면, 도 19에 도시된 바와 같이 상기 변경돌기(631)들은 상기 승강돌기(612)들로부터 이격된다. 이에 따라, 상기 변경돌기(631)들은 상기 승강돌기(612)들을 지지하지 않으므로, 상기 승강돌기(612)들 및 상기 전환돌기(611)의 회전을 제한하지 않는다.
다음, 상기 변경돌기(631)이 상기 승강돌기(612)들로부터 이격되면, 도 20에 도시된 바와 같이 상기 전환돌기(611)는 자중(自重)을 이용하여 상기 제1유도면(323)을 따라 하강하면서 회전함으로써 상기 지지홈(321)에 삽입된다. 이에 따라, 상기 전환부재(61)는 상기 지지부재(32)에 지지됨으로써, 상기 지지모드로 전환된다. 상기 전환돌기(611)가 상기 지지홈(321)에 삽입되면, 상기 전환돌기(611)는 상기 제2제한면(327)에 지지됨으로써 회전이 정지된다. 이에 따라, 도 21에 도시된 바와 같이 상기 전환부재(61)는 상기 승강돌기(612)들 및 상기 변경돌기(631)들이 서로 어긋난 위치에 위치하도록 회전이 정지한다. 이 경우, 상기 승강돌기(612)들은 상기 회전면(633)들의 상측에 위치할 수 있다. 도 21에는 상기 승강돌기(612)들 및 상기 회전면(633)들이 서로 이격된 위치에 위치한 것으로 도시되어 있으나, 이에 한정되지 않으며 상기 승강돌기(612)들이 상기 회전면(633)들에 안착된 위치에 위치할 수도 있다. 이와 같이 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 하강시키는 동작을 통해, 상기 전환부재(61)는 상기 지지부재(32)가 갖는 경사면을 따라 2차로 회전하여 상기 지지홈(321)에 삽입될 수 있다.
상술한 바와 같은 과정을 거쳐, 상기 전환부재(61)는 상기 변경부재(63)가 갖는 경사면을 따라 1차로 회전한 후에 상기 지지부재(32)가 갖는 경사면을 따라 2차로 회전하여 상기 지지홈(321)에 삽입됨으로써, 상기 지지모드로 전환될 수 있다. 따라서, 상기 핀플레이트(3)가 상승하면, 상기 전환부(6)는 상기 핀플레이트(3)에 지지되어 상승함으로써 상기 가변리프트핀(5)을 상승시킬 수 있다. 이 경우, 상기 핀플레이트(3)가 하강하면, 상기 전환부(6)는 자중(自重)을 이용하여 하강함으로써 상기 가변리프트핀(5)을 하강시킬 수 있다.
도시되지 않았지만, 상기 지지부재(32)가 상기 지지홈(321) 없이 구현된 경우, 상기 전환부재(61)는 상기 변경부재(63)가 갖는 경사면을 따라 1차로 회전한 후에 상기 지지부재(32)가 갖는 경사면을 따라 2차로 회전함으로써, 상기 지지모드로 전환될 수 있다. 이 경우, 상기 전환부재(61)는 상기 제1유도부재(322)가 갖는 경사면을 따라 2차로 회전하다가 상기 제2유도부재(324)의 제2제한면(327)에 접촉되어서 정지됨으로써, 상기 지지모드로 전환될 수 있다. 따라서, 상기 핀플레이트(3)가 상승하면, 상기 전환부(6)는 상기 핀플레이트(3)에 지지되어 상승함으로써 상기 가변리프트핀(5)을 상승시킬 수 있다. 이 경우, 상기 핀플레이트(3)가 하강하면, 상기 전환부(6)는 자중(自重)을 이용하여 하강함으로써 상기 가변리프트핀(5)을 하강시킬 수 있다.
도 22 내지 도 28을 참고하여 상기 전환부재(61)가 상기 변경부재(63)가 갖는 경사면을 따라 1차로 회전한 후에 상기 지지부재(32)가 갖는 경사면을 따라 2차로 회전하여 상기 통과공(31)에 삽입되는 작동관계를 구체적으로 살펴보면, 다음과 같다. 도 22 내지 도 28은 상기 전환부재(61)의 회전방향(R1 화살표 방향)을 따라 상기 통과공(31), 상기 지지부재(32), 상기 전환부재(61), 및 상기 변경부재(63)를 펼쳐서 나타낸 개념도이다.
우선, 도 22에 점선으로 도시된 바와 같이 상기 전환돌기(611)는 상기 지지홈(321)에 삽입된 상태이다. 이 경우, 상기 전환부재(61)의 승강돌기(612)들 및 상기 변경부재(63)의 변경돌기(631)들은 서로 어긋난 위치에 위치한 상태이다. 상기 승강돌기(612)들은 상기 회전면(633)들로부터 이격된 상태일 수 있다. 상기 승강돌기(612)들은 상기 회전면(633)들에 접촉된 상태일 수도 있다. 상기 전환돌기(611)가 상기 지지홈(321)에 삽입된 상태이므로, 상기 지지모드에 해당하는 상태이다.
다음, 이 상태에서 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 상승시키면, 도 23에 도시된 바와 같이 상기 승강돌기(612)들은 상기 회전면(633)들에 안착될 수 있다.
다음, 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 더 상승시키면, 도 22에 도시된 바와 같이 상기 전환돌기(611)는 상기 제2제한면(327)에 지지된 상태로 상승한다. 이에 따라, 상기 전환부재(61)는 상기 전환돌기(611)를 지지한 제2제한면(327)에 의해 회전이 제한되면서 상승한다. 따라서, 도 23에 도시된 바와 같이 상기 승강돌기(612)들이 상기 회전면(633)들에 안착된 상태이더라도, 상기 승강돌기(612)들은 상기 회전면(633)들을 따라 회전하지 않는다. 상기 승강돌기(612)들 및 상기 전환돌기(611)가 상기 전환부재(61)로 일체화되어 있으므로, 상기 제2제한면(327)은 상기 전환돌기(611)의 회전을 제한함으로써 상기 승강돌기(612)들의 회전 또한 제한할 수 있기 때문이다. 즉, 상기 제2제한면(327)은 상기 전환돌기(611) 및 상기 승강돌기(612)의 회전을 제한한다. 이에 따라, 상기 승강돌기(612)들 및 변경돌기(631)들은 서로 어긋난 위치에 위치한 상태로 상승한다.
다음, 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 더 상승시키면, 도 22에 실선으로 도시된 바와 같이 상기 전환돌기(611)가 상기 제2제한면(327)에 비해 더 높은 위치에 위치한다. 이에 따라, 상기 제2제한면(327)은 상기 전환돌기(611)를 지지하지 않으므로, 상기 전환돌기(611) 및 상기 승강돌기(612)의 회전을 제한하지 않는다.
다음, 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 더 상승시키면, 도 24에 도시된 바와 같이 상기 승강돌기(612)들은 상기 전환부재(61)의 자중(自重)에 의하여 상기 회전면(633)들을 따라 회전함으로써 상기 변경홈(632, 도 23에 도시됨)들에 삽입된다. 상기 승강돌기(612)들이 상기 변경홈(632, 도 23에 도시됨)에 삽입되면, 상기 승강돌기(612)들은 상기 변경돌기(631)들의 사이에 위치하므로, 상기 변경돌기(631)들에 지지됨으로써 회전이 정지된다. 이 경우, 상기 승강돌기(612)들이 회전함에 따라, 도 25에 도시된 바와 같이 상기 전환돌기(611)가 회전하여 상기 제2유도면(325)에 안착된다. 이와 같이 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 상승시키는 동작을 통해, 상기 전환부재(61)는 상기 변경부재(63)가 갖는 경사면을 따라 1차로 회전할 수 있다.
다음, 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 하강시키면, 도 26에 도시된 바와 같이 상기 변경돌기(631)들은 상기 승강돌기(612)들로부터 이격된다. 이에 따라, 상기 변경돌기(631)들은 상기 승강돌기(612)들을 지지하지 않으므로, 상기 승강돌기(612)들 및 상기 전환돌기(611)의 회전을 제한하지 않는다.
다음, 상기 변경돌기(631)이 상기 승강돌기(612)들로부터 이격되면, 도 27에 도시된 바와 같이 상기 전환돌기(611)는 자중(自重)을 이용하여 상기 제2유도면(325)을 따라 하강하면서 회전함으로써 상기 통과공(31)에 삽입된다. 이에 따라, 상기 전환부재(61)는 상기 해제모드로 전환된다. 상기 전환돌기(611)가 상기 통과공(31)에 삽입되면, 상기 전환돌기(611)는 상기 제1제한면(326)에 지지됨으로써 회전이 정지된다. 이에 따라, 도 28에 도시된 바와 같이 상기 전환부재(61)는 상기 승강돌기(612)들 및 상기 변경돌기(631)들이 서로 어긋난 위치에 위치하도록 회전이 정지한다. 이 경우, 상기 승강돌기(612)들은 상기 회전면(633)들의 상측에 위치할 수 있다. 도 28에는 상기 승강돌기(612)들 및 상기 회전면(633)들이 서로 이격된 위치에 위치한 것으로 도시되어 있으나, 이에 한정되지 않으며 상기 승강돌기(612)들이 상기 회전면(633)들에 안착된 위치에 위치할 수도 있다. 이와 같이 상기 승강기구(64)가 상기 변경부재(63)를 하강시키는 동작을 통해, 상기 전환부재(61)는 상기 지지부재(32)가 갖는 경사면을 따라 2차로 회전하여 상기 통과공(31)에 삽입될 수 있다.
상술한 바와 같은 과정을 거쳐, 상기 전환부재(61)는 상기 변경부재(63)가 갖는 경사면을 따라 1차로 회전한 후에 상기 지지부재(32)가 갖는 경사면을 따라 2차로 회전하여 상기 통과공(31)에 삽입됨으로써, 상기 해제모드로 전환될 수 있다. 따라서, 상기 핀플레이트(3)가 상승하면, 상기 전환부(6)는 상승하지 않음으로써 상기 가변리프트핀(5)을 상승시키지 않는다. 상기 핀플레이트(3)가 하강하면, 상기 전환부재(61)는 상부(上部)가 상기 핀플레이트(3)의 상측에 위치하고, 하부(下部)가 상기 핀플레이트(3)의 하측에 위치할 수 있다. 이 경우, 상기 전환돌기(611)는 상기 통과공(61)에 삽입될 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
1 : 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치 2 : 리프트핀
3 : 핀플레이트 4 : 승강부
5 : 가변리프트핀 6 : 전환부
31 : 통과공 32 : 지지부재
41 : 스테이지 42 : 승강유닛
61 : 전환부재 62 : 결합부재
63 : 변경부재 64 : 승강기구
321 : 지지홈 322 : 제1유도부재
323 : 제1유도면 324 : 제2유도부재
325 : 제2유도면 326 : 제1제한면
327 : 제2제한면 611 : 전환돌기
612 : 승강돌기 613 : 승강홈
631 : 변경돌기 632 : 변경홈
633 : 회전면 641 : 승강부재
642 : 가이드부재

Claims (18)

  1. 기판을 지지하기 위한 가변리프트핀;
    승하강 가능하도록 설치된 핀플레이트;
    상기 핀플레이트를 승하강시키기 위한 승강부; 및
    상기 가변리프트핀이 결합된 전환부를 포함하고,
    상기 전환부는 상기 핀플레이트가 승하강함에 따라 상기 가변리프트핀이 승하강하여 상기 기판을 지지하도록 상기 핀플레이트에 지지되는 지지모드 및 상기 핀플레이트가 상기 가변리프트핀에 대해 독립적으로 승하강하도록 상기 핀플레이트에 대해 지지 해제되는 해제모드 간에 전환되는 전환부재, 및 상기 전환부재가 회전 가능하게 결합된 결합부재를 포함하며,
    상기 전환부재는 상기 지지모드로 전환되면, 상기 핀플레이트가 승하강함에 따라 함께 승하강하면서 상기 결합부재를 승하강시키도록 상기 핀플레이트에 지지되고,
    상기 가변리프트핀은 상기 결합부재가 승하강함에 따라 함께 승하강하도록 상기 결합부재에 결합된 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    기판을 지지하기 위한 리프트핀을 포함하고,
    상기 리프트핀은 상기 핀플레이트에 결합되며,
    상기 가변리프트핀은 상기 리프트핀으로부터 이격된 위치에 위치하도록 배치된 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  3. 삭제
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 전환부는 상기 전환부재로부터 돌출되도록 형성된 전환돌기, 및 상기 전환돌기가 향하는 방향이 변경되도록 상기 전환부재를 회전시키는 변경부재를 포함하고,
    상기 핀플레이트는 상기 전환돌기를 지지하기 위한 지지부재, 및 상기 전환돌기를 통과시키기 위한 통과공을 포함하며,
    상기 변경부재는 상기 전환돌기가 상기 지지부재에 지지되도록 상기 전환부재를 회전시켜서 상기 지지모드로 전환하고, 상기 전환돌기가 상기 통과공에 삽입되도록 상기 전환부재를 회전시켜서 상기 해제모드로 전환하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 핀플레이트는 상기 지지부재 및 상기 통과공을 각각 복수개씩 포함하되, 상기 전환부재의 회전축을 중심으로 하여 상기 지지부재 및 상기 통과공이 교번하여 배치된 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 지지부재는 상기 전환돌기가 삽입되는 지지홈 및 상기 전환돌기가 상기 지지홈에 삽입되도록 유도하는 제1유도부재를 포함하되, 상기 지지홈에 삽입된 전환돌기를 지지하고,
    상기 제1유도부재는 상기 지지홈 쪽으로 연장될수록 높이가 낮아지도록 경사지게 형성된 제1유도면을 포함하며,
    상기 변경부재는 상기 전환돌기가 상기 제1유도면에 안착되도록 상기 전환부재를 회전시키고,
    상기 전환돌기는 상기 제1유도면에 안착되면, 상기 제1유도면을 따라 하강하면서 회전하여 상기 지지홈에 삽입되는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제1유도부재는 상기 전환돌기를 지지하기 위한 제1제한면을 포함하고,
    상기 전환부재는 상기 전환돌기가 상기 제1제한면에 비해 더 높은 위치에 위치할 때까지 상기 전환돌기를 지지한 제1제한면에 의해 회전이 제한되면서 상승하며,
    상기 변경부재는 상기 전환돌기가 상기 제1제한면에 비해 더 높은 위치에 위치할 때까지 상기 전환부재를 상승시킨 후에 상기 전환돌기가 상기 제1유도면에 안착되도록 상기 전환부재를 회전시키는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  8. 제4항에 있어서,
    상기 지지부재는 상기 전환돌기가 상기 통과공에 삽입되도록 유도하는 제2유도부재를 포함하고,
    상기 제2유도부재는 상기 통과공 쪽으로 연장될수록 높이가 낮아지도록 경사지게 형성된 제2유도면을 포함하며,
    상기 변경부재는 상기 전환돌기가 상기 제2유도면에 안착되도록 상기 전환부재를 회전시키고,
    상기 전환돌기는 상기 제2유도면에 안착되면, 상기 제2유도면을 따라 하강하면서 회전하여 상기 통과공에 삽입되는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 제2유도부재는 상기 전환돌기를 지지하기 위한 제2제한면을 포함하고,
    상기 전환부재는 상기 전환돌기가 상기 제2제한면에 비해 더 높은 위치에 위치할 때까지 상기 전환돌기를 지지한 제2제한면에 의해 회전이 제한되면서 상승하며,
    상기 변경부재는 상기 전환돌기가 상기 제2제한면에 비해 더 높은 위치에 위치할 때까지 상기 전환부재를 상승시킨 후에 상기 전환돌기가 상기 제2유도면에 안착되도록 상기 전환부재를 회전시키는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  10. 제4항에 있어서,
    상기 지지부재는 상기 지지모드로 전환되도록 유도하는 제1유도부재, 및 상기 해제모드로 전환되도록 유도하는 제2유도부재를 포함하고,
    상기 제1유도부재는 상기 제2유도부재 쪽으로 연장될수록 높이가 낮아지도록 경사지게 형성된 제1유도면을 포함하며,
    상기 변경부재는 상기 전환돌기가 상기 제1유도면에 안착되도록 상기 전환부재를 회전시키고,
    상기 전환돌기는 상기 제1유도면에 안착되면, 상기 제1유도면을 따라 하강하면서 회전하여 상기 제2유도부재에 지지되는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 제2유도부재는 상기 전환돌기를 지지하기 위한 제2제한면을 포함하고,
    상기 전환돌기는 상기 지지모드로 전환되도록 상기 제1유도면을 따라 하강하면서 회전하여 상기 제2제한면에 지지되는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 전환부는 상기 전환부재를 회전시키는 변경부재, 및 상기 변경부재를 승하강시키는 승강기구를 포함하고,
    상기 승강기구는 상기 변경부재가 상기 전환부재에 접촉되도록 상기 변경부재를 상승시키고, 상기 변경부재가 상기 전환부재로부터 이격되도록 상기 변경부재를 하강시키며,
    상기 변경부재는 상기 승강기구에 의해 승하강되면서 상기 전환부재에 접촉 및 이격됨에 따라 상기 전환부재를 회전시키는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  13. 제4항에 있어서,
    상기 전환부는 상기 변경부재를 승하강시키는 승강기구를 포함하고,
    상기 승강기구는 상기 지지모드 및 상기 해제모드 간에 전환되도록 상기 변경부재를 승강시키며,
    상기 변경부재는 상기 승강기구에 의해 승하강되면서 상기 전환돌기가 향하는 방향이 변경되도록 상기 전환부재를 회전시키는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 변경부재는 상기 전환부재 쪽으로 돌출되도록 형성된 복수개의 변경돌기 및 상기 변경돌기들의 사이에 위치한 복수개의 변경홈을 포함하며,
    상기 전환부재는 상기 변경부재 쪽으로 돌출되도록 형성된 복수개의 승강돌기를 포함하며,
    상기 변경돌기들은 각각 상기 변경홈 쪽으로 연장될수록 높이가 낮아지도록 경사지게 형성된 회전면을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 지지부재는 상기 전환돌기의 회전을 제한하는 제1제한면, 상기 전환돌기가 삽입되는 지지홈, 및 상기 지지홈 쪽으로 연장될수록 높이가 낮아지도록 경사지게 형성된 제1유도면을 포함하고,
    상기 전환돌기는 상기 승강돌기들이 상기 회전면들에 지지된 상태에서 상기 변경돌기들이 상승함에 따라 상승하되, 상기 제1제한면에 의해 지지되어 회전이 제한되면서 상승하며,
    상기 승강돌기들은 상기 전환돌기가 상기 제1제한면에 비해 더 높은 위치로 상승하면 상기 회전면들을 따라 회전하여 상기 변경홈들에 삽입되되, 상기 변경홈들에 삽입됨에 따라 상기 전환돌기를 상기 제1유도면에 안착시키고,
    상기 승강기구는 상기 전환돌기가 상기 제1유도면에 안착되면, 상기 전환돌기가 상기 제1유도면을 따라 하강하면서 회전하여 상기 지지홈에 삽입되도록 상기 변경부재를 하강시키며,
    상기 전환부재는 상기 전환돌기가 상기 지지홈에 삽입되면, 상기 승강돌기들 및 상기 변경돌기들이 서로 어긋난 위치에 위치하도록 회전이 정지하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  16. 제14항에 있어서,
    상기 지지부재는 상기 전환돌기의 회전을 제한하는 제2제한면, 및 상기 통과공 쪽으로 연장될수록 높이가 낮아지도록 경사지게 형성된 제2유도면을 포함하고,
    상기 전환돌기는 상기 승강돌기들이 상기 회전면들에 지지된 상태에서 상기 변경돌기들이 상승함에 따라 상승하되, 상기 제2제한면에 의해 지지되어 회전이 제한되면서 상승하며,
    상기 승강돌기들은 상기 전환돌기가 상기 제2제한면에 비해 더 높은 위치로 상승하면 상기 회전면들을 따라 회전하여 상기 변경홈들에 삽입되되, 상기 변경홈들에 삽입됨에 따라 상기 전환돌기를 상기 제2유도면에 안착시키고,
    상기 승강기구는 상기 전환돌기가 상기 제2유도면에 안착되면, 상기 전환돌기가 상기 제2유도면을 따라 하강하면서 회전하여 상기 통과공에 삽입되도록 상기 변경부재를 하강시키며,
    상기 전환부재는 상기 전환돌기가 상기 통과공에 삽입되면, 상기 승강돌기들 및 상기 변경돌기들이 서로 어긋난 위치에 위치하도록 회전이 정지하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  17. 제14항에 있어서,
    상기 지지부재는 상기 전환돌기의 회전을 제한하는 제1제한면, 상기 전환돌기를 지지하는 제1유도부재, 상기 전환돌기의 회전을 제한하는 제2제한면, 및 상기 전환돌기를 지지하는 제2유도부재를 포함하고,
    상기 전환돌기는 상기 승강돌기들이 상기 회전면들에 지지된 상태에서 상기 변경돌기들이 상승함에 따라 상승하되, 상기 제1제한면에 의해 지지되어 회전이 제한되면서 상승하며,
    상기 승강돌기들은 상기 전환돌기가 상기 제1제한면에 비해 더 높은 위치로 상승하면 상기 회전면들을 따라 회전하여 상기 변경홈들에 삽입되되, 상기 변경홈들에 삽입됨에 따라 상기 전환돌기를 상기 제1유도부재에 안착시키고,
    상기 승강기구는 상기 전환돌기가 상기 제1유도부재에 안착되면, 상기 전환돌기가 상기 제1유도부재를 따라 하강하면서 회전하여 상기 제2제한면에 지지되도록 상기 변경부재를 하강시키며,
    상기 전환부재는 상기 전환돌기가 상기 제2제한면에 삽입되면, 상기 승강돌기들 및 상기 변경돌기들이 서로 어긋난 위치에 위치하도록 회전이 정지하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
  18. 제1항에 있어서,
    상기 전환부는 상기 전환부재로부터 돌출되도록 형성된 전환돌기, 상기 전환부재의 하측에 위치하도록 배치된 변경부재, 및 상기 변경부재를 승하강시키는 승강기구를 포함하고,
    상기 핀플레이트는 상기 전환돌기를 지지하기 위한 지지부재 및 상기 전환돌기를 통과시키기 위한 통과공을 포함하되, 상기 지지부재에는 상기 전환돌기가 삽입되는 지지홈이 형성되며,
    상기 승강기구는 상기 전환부재가 상기 변경부재가 갖는 경사면을 따라 1차로 회전하도록 상기 변경부재를 상승시킨 후에, 상기 전환부재가 상기 지지부재가 갖는 경사면을 따라 2차로 회전하여 상기 지지홈 또는 상기 통과공에 삽입되도록 상기 변경부재를 하강시키는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102180211B1 (ko) * 2019-01-07 2020-11-18 주식회사 아바코 마스크 정렬장치용 기판 리프트 장치

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004241702A (ja) * 2003-02-07 2004-08-26 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及び基板処理方法
JP2005310989A (ja) 2004-04-20 2005-11-04 Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co Ltd 基板及びフォトマスクの受け渡し方法、並びに基板及びフォトマスクの受け渡し装置
JP2009016851A (ja) 2008-08-01 2009-01-22 Tokyo Electron Ltd 被処理体の支持機構及びロードロック室
JP2016181665A (ja) 2015-03-25 2016-10-13 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 熱処理装置および熱処理方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7256132B2 (en) * 2002-07-31 2007-08-14 Applied Materials, Inc. Substrate centering apparatus and method
CN100409424C (zh) * 2005-04-26 2008-08-06 大日本网目版制造株式会社 基板处理装置
CN102257437B (zh) * 2009-11-25 2014-05-28 恩斯克科技有限公司 预对准装置以及预对准方法
CN202307990U (zh) * 2011-09-14 2012-07-04 苏州日和科技有限公司 一种顶升机构
KR101963400B1 (ko) * 2012-09-24 2019-03-28 주식회사 원익아이피에스 기판 처리장치
KR102017744B1 (ko) * 2012-12-12 2019-10-15 삼성디스플레이 주식회사 증착 장치, 이를 이용한 박막 형성 방법 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법
JP6080647B2 (ja) * 2013-03-28 2017-02-15 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 剥離装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004241702A (ja) * 2003-02-07 2004-08-26 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及び基板処理方法
JP2005310989A (ja) 2004-04-20 2005-11-04 Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co Ltd 基板及びフォトマスクの受け渡し方法、並びに基板及びフォトマスクの受け渡し装置
JP2009016851A (ja) 2008-08-01 2009-01-22 Tokyo Electron Ltd 被処理体の支持機構及びロードロック室
JP2016181665A (ja) 2015-03-25 2016-10-13 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 熱処理装置および熱処理方法

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