CN100409424C

CN100409424C - 基板处理装置

Info

Publication number: CN100409424C
Application number: CNB2006100736203A
Authority: CN
Inventors: 柿村崇; 山本广
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Skilling Group; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2005-04-26
Filing date: 2006-04-13
Publication date: 2008-08-06
Anticipated expiration: 2026-04-13
Also published as: CN1855416A

Abstract

本发明的目的在于提供一种在处理基板期间使基板适当支撑在支撑台上、同时在将基板装载到支撑台上或者从支撑台举起时也可以适当处理基板的机构。设置与基板(90)的周边部接触的第一支撑销(33)、与基板的中央部接触的第二支撑销(34)。第一支撑销的下端由固定设置在升降板(351)上的滑动接触板(352)支撑，第二支撑销的下端由提高加固构件(354)支撑。以贯通固定设置在升降板上的滑动接触板(353)的方式配置提高加固构件的下部，相对于升降板在规定的范围内升降自由地支撑。以第二支撑销以及提高加固构件的上下方向的尺寸加起来等于从保持面(30)到固定板(350)的上表面的尺寸的方式来设计。

Description

基板处理装置

技术领域

本发明涉及一种在将基板装载到支撑台上进行处理时将基板搬入到支撑台的技术以及从支撑台搬出基板的技术。

背景技术

现有技术中提出了一种由支撑台水平支撑基板并对基板实施各种处理的基板处理装置。在这种基板处理装置中，设置有升降的多个支撑销，搬入的基板装载到上升的多个支撑销上，通过该支撑销下降并埋设在支撑台中，从而装载到支撑台上。另外，处理结束的基板通过支撑销上升并从支撑台向上方突出，从而被从该支撑台举起而搬出。

通过这种结构，在将基板装载到支撑台上时，若基板的背面为水平状态，则基板和支撑台之间的空气没适当地除去，瞬间基板处于浮动的状态，存在产生基板的装载位置偏移的情况。另外，当处于在基板和支撑台之间滞留了空气的状态时，在一张基板中，产生直接与支撑台接触的部分、和在与支撑台之间形成空气层的部分，所以具有例如热传导率变化而产生处理不匀的情况。

另外，在从支撑台上举起基板时，当要将基板以水平状态(将整个基板同时)举起时，由于在基板和支撑台之间(特别是中央部)空气没有适当地流入，所以产生基板破损的情况。

因此，在进行基板的装载动作以及举起动作时，最好是使基板稍微弯曲来进行。即，在进行这些动作时，最好是多个支撑销的上端位置一部分不同。

另一方面，在对基板进行调温处理的加热处理装置和冷却处理装置的情况下、或者在进行容易受到热分布影响的药液处理的装置(例如涂敷处理装置)的情况下，优选支撑台所支撑的基板的热分布均匀。因此，优选如下状态：下降的多个支撑销的上端的高度位置彼此相等，而且这些高度位置和支撑台的保持面的高度位置相等。即，优选的是所处理的基板的背面与支撑销或者保持面接触的状态、或者支撑销和基板形成的间隙的空间容积相等。

为了同时实现上述的条件，需要使多个支撑销独立进行升降。作为用于实现它的一个方法，可以考虑由独立的多个驱动机构来使多个支撑销升降。这种技术例如在专利文献1中记载。

另外，还提出了这样的技术：使升降多个支撑销的升降板在规定的位置从多个支撑销的下端分离，使各支撑销支撑在支撑台上的同时，不下降到保持面的下方(专利文献2)。

专利文献1：JP特开平08-241918号公报；

专利文献2：JP特开2000-237983号公报。

但是，在上述专利文献1所记载的技术中，由于设置多个驱动机构，所以存在装置的成本增大的问题。

另外，在上述专利文献2所记载的技术中，由于支撑销利用弹簧的加载力按压在基板的背面，所以存在将基板支撑在支撑台上的期间，需要以使得基板不浮动的方式进行吸附的问题。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种在处理基板期间使基板适当支撑在支撑台上、同时在将基板装载到支撑台上或者从支撑台举起时也可以适当处理基板的机构。

为解决上述课题，本发明的基板处理装置，是对基板进行处理的基板处理装置，其特征在于，具有：支撑台，其在执行上述处理时将基板支撑为大致水平状态；第一支撑销以及第二支撑销，其从上述支撑台的上表面的背面侧插入到设置在上述支撑台的上表面上的贯通孔中，通过向上述上表面的上方突出而支撑基板；销支撑机构，其相对于上述支撑台升降自由地支撑上述第一支撑销以及上述第二支撑销；一个驱动机构，其经由上述销支撑机构而使上述第一支撑销以及上述第二支撑销分别在上升位置和下降位置之间移动，上述第二支撑销在将基板装载到上述支撑台上时，先于上述第一支撑销到达上述下降位置，另一方面，在使上述支撑台所支撑着的基板上升时，迟于上述第一支撑销突出到上述上表面的上方，上述销支撑机构在上述第一支撑销以及上述第二支撑销都处于上述下降位置的状态下，分别支撑上述第一支撑销的下端以及上述第二支撑销的下端，以使上述第一支撑销的上端的高度位置和上述第二支撑销的上端的高度位置都大致等于上述上表面的高度位置。

另外，本发明的基板处理装置，其特征在于，上述销支撑机构具有：板构件，其将上述一个驱动机构的驱动力传递到上述第一支撑销以及上述第二支撑销；提高加固构件，其支撑上述第二支撑销的下端；固定构件，其在上述第二支撑销处于上述下降位置的状态下，支撑上述提高加固构件，上述提高加固构件在上述第二支撑销未处于上述下降位置的状态下，被上述板构件支撑。

另外，本发明的基板处理装置，其特征在于，上述销支撑机构具有：板构件，其将上述一个驱动机构的驱动力传递到上述第一支撑销以及上述第二支撑销；固定构件，其在上述第二支撑销处于上述下降位置的状态下，贯通上述板构件来支撑上述第二支撑销的下端。

另外，本发明的基板处理装置，其特征在于，上述销支撑机构具有：板构件，其将上述一个驱动机构的驱动力传递到上述第一支撑销以及上述第二支撑销；固定构件，其在上述第二支撑销处于上述下降位置的状态下，支撑上述第二支撑销的下端，上述第二支撑销具有在未处于上述下降位置的状态下被上述板构件支撑的支撑部。

另外，本发明的基板处理装置，其特征在于，上述销支撑机构具有：板构件，其设置有支撑上述第一支撑销的第一支撑面以及支撑上述第二支撑销的第二支撑面；凸轮随动件，其安装在上述板构件上；凸轮，其设置有用于限定上述凸轮随动件的移动方向的凸轮槽，上述第一支撑面以及上述第二支撑面的倾斜形状以如下方式形成：在将基板装载到上述支撑台时，上述第二支撑销先于上述第一支撑销到达上述下降位置，另一方面，在使上述支撑台所支撑着的基板上升时，上述第二支撑销迟于上述第一支撑销突出到上述上表面的上方，在上述第一支撑销以及上述第二支撑销都处于上述下降位置的状态下，上述第一支撑销的上端的高度位置和上述第二支撑销的上端的高度位置都大致等于上述上表面的高度位置。

另外，本发明的基板处理装置，其特征在于，上述销支撑机构具有板构件，该板构件设置有支撑上述第一支撑销的第一支撑面以及支撑上述第二支撑销的第二支撑面，并从上述一个驱动机构传递大致水平方向的驱动力，上述第一支撑面以及上述第二支撑面的倾斜形状以如下方式形成：在将基板装载到上述支撑台时，上述第二支撑销先于上述第一支撑销到达上述下降位置，另一方面，在使上述支撑台所支撑着的基板上升时，上述第二支撑销迟于上述第一支撑销突出到上述上表面的上方，在上述第一支撑销以及上述第二支撑销都处于上述下降位置的状态下，上述第一支撑销的上端的高度位置和上述第二支撑销的上端的高度位置都大致等于上述上表面的高度位置。

另外，本发明的基板处理装置，其特征在于，上述第一支撑面以及上述第二支撑面的倾斜形状以如下方式形成：在上述第一支撑销以及上述第二支撑销都处于上述上升位置的状态下，上述第一支撑销的上端的高度位置和上述第二支撑销的上端的高度位置大致相等。

另外，本发明的基板处理装置，其特征在于，上述第二支撑销在支撑基板时，利用所支撑的上述基板的自重而在长轴方向上收缩。

另外，本发明的基板处理装置，其特征在于，上述第一支撑销以及上述第二支撑销以升降方向为轴旋转自由地被支撑着。

另外，本发明的基板处理装置，其特征在于，在上述下降位置，上述第一支撑销的下端以及上述第二支撑销的下端以滑动接触的方式被支撑着。

另外，本发明的基板处理装置，其特征在于，上述支撑台具有支撑基板的多个固定销。

在本发明中，第二支撑销，在将基板装载到支撑台上时，比第一支撑销先到达下降位置，另一方面，在使支撑台所支撑的基板上升时，比第一支撑销迟一些突出到上表面的上方，销支撑机构分别支撑第一支撑销的下端和第二支撑销的下端，以使在第一支撑销以及第二支撑销都处于下降位置的状态下，第一支撑销的上端的高度位置以及第二支撑销的上端的高度位置都大致等于上表面的高度位置，从而不需要将第一支撑销以及第二支撑销按压在支撑台所支撑的基板上。即，因为抑制作用于基板的作用力，所以可以抑制基板的断裂。

在本发明中，通过从一个驱动机构传递大致水平方向的驱动力，从而装置设计的自由度增加。

在本发明中，第一支撑面以及第二支撑面的倾斜形状以在第一支撑销以及第二支撑销都处于上升位置的状态下，第一支撑销的上端的高度位置和第二支撑销的上端高度位置大致相等的方式形成，从而因为在上升位置水平支撑基板，所以能够抑制施加在基板上的弯曲应力。因此可以防止基板的断裂。

在本发明中，第一支撑销以及第二支撑销通过以升降方向为轴旋转自由地被支撑，从而能够抑制在升降时施加在第一支撑销以及第二支撑销上的应力，因此能够防止第一支撑销以及第二支撑销的变形以及破损。

在本发明中，通过在下降位置中，第一支撑销的下端以及第二支撑销的下端以滑动接触的方式被支撑着，从而处于第一支撑销的下端以及第二支撑销的下端不拘束于水平方向的状态。因此，能够抑制在升降时施加在第一支撑销以及第二支撑销上的应力，所以能够防止第一支撑销以及第二支撑销的变形以及破损。

在本发明中，由于支撑台具有支撑基板的多个固定销，从而能够防止基板被紧紧吸附在支撑台上。

附图说明

图1是表示本发明实施方式涉及的基板处理装置的概略的立体图。

图2是表示第一实施方式中的销支撑机构在上升位置支撑第一支撑销以及第二支撑销的情况的图。

图3是表示销支撑机构在下降位置支撑第一支撑销以及第二支撑销的情况的图。

图4是表示第二实施方式中的基板处理装置的销支撑机构在上升位置支撑第一支撑销以及第二支撑销的情况的图。

图5是表示销支撑机构在下降位置支撑第一支撑销以及第二支撑销的情况的图。

图6是表示第三实施方式中的基板处理装置的销支撑机构在上升位置支撑第一支撑销以及第二支撑销的情况的图。

图7是表示销支撑机构在下降位置支撑第一支撑销以及第二支撑销的情况的图。

图8是表示第四实施方式中的基板处理装置的销支撑机构在上升位置支撑第一支撑销以及第二支撑销的情况的图。

图9是表示在第四实施方式中，第一支撑销以及第二支撑销在上升位置和下降位置之间移动的中间状态的图。

图10是表示第四实施方式中的销支撑机构在下降位置支撑第一支撑销以及第二支撑销的情况的图。

图11是表示第五实施方式中的基板处理装置的图。

图12是表示第五实施方式中的第二支撑销的上部的图。

图13是表示第六实施方式中的基板处理装置的图。

图14是表示变形例中的销支撑机构的图。

图15是表示变形例中的销支撑机构的图。

图16是表示由短销以及长销来使基板升降的现有的加热装置的图。

具体实施方式

以下，对于本发明的最佳实施方式，在参照附图的同时进行详细说明。

1、第一实施方式

图1是表示本发明实施方式涉及的基板处理装置1的概略的立体图。此外，在图1中，为了便于图示以及说明，如下定义：Z轴方向表示垂直方向，XY平面表示水平面，但是这些是为了便于把握位置关系而定义的，并不是限定以下说明的各方向。对以下的附图也是同样。

基板处理装置1大致分为主体2和控制部8，将用于制造液晶显示装置的画面面板的方形玻璃基板作为被处理基板(以下仅称为“基板”)90，在有选择地对形成在基板90的表面上的电极层等进行蚀刻的过程中，构成了对基板90的表面涂敷作为处理液的抗蚀液的涂敷处理装置。因此，在该实施方式中，狭缝喷嘴41喷出抗蚀液。此外，基板处理装置1不仅是对液晶显示装置用的玻璃基板，通常，还可以作为对平板显示器用的各种基板涂敷处理液装置而变形利用。

主体2具有载物台3，该载物台3具有用于装载并保持基板90的支撑台的功能，同时也具有附属的各机构的基台的功能。载物台3是具有长方体形状的例如一体的石制，其上表面(保持面30)以及侧面被加工成平坦面。

载物台3的上表面做成水平面，其为以大致水平状态支撑基板90的保持面30。在保持面30上分布形成有未图示的多个真空吸附口，在将基板90装载到保持面30上时等，吸附基板90并保持在规定的水平位置上。此外，在本实施方式的基板处理装置1中，一旦保持了基板90后就停止吸附，该详细内容在后面叙述。

保持面30中，在隔着基板90的保持区域(保持基板90的区域)的两端部固定设置有在大致水平方向上平行延伸的一对行进轨31。行进轨31是将固定设置在桥架结构4的两端部的最下方的未图示的支撑块一起构成引导桥架结构4的移动(将移动方向限定为规定的方向)并将桥架结构4支撑在保持面30的上方的线性引导件。

在主体2的保持面30中，在保持区域的(-X)方向侧设置有开口32。开口32和狭缝喷嘴41同样在Y轴方向具有长轴方向，并且该长轴方向长度和狭缝喷嘴41的长轴方向长度大致相同。

在图1中省略图示，但是在开口32的下方的主体2的内部设置有用于使狭缝喷嘴41的状态正常化的预备涂敷机构、和用于抑制待机中的狭缝喷嘴41的干燥的待机容器等。待机容器也在从抗蚀液用泵(未图示)排出抗蚀液时使用。

在载物台3的上方设置有从该载物台3的两侧部分大致水平地被架设的桥架结构4。桥架结构4主要由以例如碳纤维增强树脂为骨料的喷嘴支撑部40和支撑其两端的升降机构43、44构成。

在喷嘴支撑部40上安装有狭缝喷嘴41。在图1中，在Y轴方向具有长轴方向的狭缝喷嘴41上连接有向狭缝喷嘴41供给抗蚀液的抗蚀液供给机构(未图示)。

狭缝喷嘴41扫描基板90的表面的同时，将所供给的抗蚀液喷出到基板90表面规定的区域(以下称为“抗蚀液涂敷区域”)，由此对基板90涂敷抗蚀液。此外，所谓抗蚀液涂敷区域是指在基板90的表面上要涂敷抗蚀液的区域，通常是从整个基板90除去了沿着端缘的规定宽度区域的区域。

升降机构43、44分在狭缝喷嘴41的两侧，通过喷嘴支撑部40和狭缝喷嘴41连接。升降机构43、44主要由AC伺服马达43a、44a以及未图示的滚珠螺杆构成，基于来自控制部8的控制信号，生成桥架结构4的升降驱动力(Z轴方向的驱动力)。由此，升降机构43、44使狭缝喷嘴41平移地升降。另外，升降机构43、44也用于调整狭缝喷嘴41在YZ平面内的姿势。

在桥架结构4的两端部，沿着载物台3的两侧的边缘侧分别固定设置有一对AC无铁心线性马达(以下简称为“线性马达”)50、51，其分别具有固定件(定子)50a和移动件50b以及固定件51a和移动件51b。

另外，在桥架结构4的两端部分别固定设置有分别具有换算部和检测件的线性编码器52、53。线性编码器52、53检测出线性马达50、51的位置。这些线性马达50、51和线性编码器52、53主要构成用于使桥架结构4被行进轨31引导并在载物台3上移动的移动机构。

控制部8基于来自线性编码器52、53的检测结果来控制线性马达50、51的动作，控制载物台3上的桥架结构4的移动、也就是由狭缝喷嘴41对基板90进行扫描。

控制部8在内部具有按照程序处理各种数据的运算部80、保存程序和各种数据的存储部81。另外，在前表面具有用于操作人员对基板处理装置1输入必要的指示的操作部82、以及显示各种数据的显示部83。

控制部8通过在图1中未图示的电缆与附属在主体2上的各机构电连接。控制部8的运算部80基于来自操作部82的输入信号和来自未图示的各种传感器等的信号，来控制向狭缝喷嘴41供给抗蚀液的动作、和由升降机构43、44进行的升降动作、由线性马达50、51进行的狭缝喷嘴41的扫描动作。

此外，在控制部8的结构中，作为存储部81的具体的例子，暂时存储数据的RAM、读取专用的ROM、以及磁盘装置等比较符合。但是，存储部81也可以由可携带的光磁盘和存储卡等存储介质以及这些的读取装置取代使用。另外，按钮以及开关类(包含键盘和鼠标等)等对应于操作部82，但是如触摸面板显示器那样的兼备显示部83的功能的也可以。液晶显示器和各种灯等对应于显示部83。

图2是表示第一实施方式中的销支撑机构35在上升位置支撑第一支撑销33以及第二支撑销34的情况的图。另外，图3是表示销支撑机构35在上升位置支撑第一支撑销33以及第二支撑销34的情况的图。此外，在图2以及图3中，用剖面表示载物台3以及升降板351。

如图2所示，第一支撑销33以及第二支撑销34从保持面30的背面侧(-Z方向)插入到设置在载物台3的上表面的贯通孔300中，通过突出到保持面30的上方来支撑基板90。另外，从图2可知，基板处理装置1具有通过第一支撑销33以及第二支撑销34的上端部分别接触到基板90的背面，而从(-Z)方向支撑基板90的功能。

如图3所示，第一支撑销33以及第二支撑销34即使在移动到下降位置(最低位置)的状态，其上端也处于插入到贯通孔300的状态。即，第一支撑销33以及第二支撑销34即使通过销支撑机构35以及驱动机构36进行升降，也不会从贯通孔300中拔出。因此，第一支撑销33以及第二支撑销34的XY平面中的位置由贯通孔300大致限定。由此，在基板处理装置1中，不需要使用其他构件固定第一支撑销33以及第二支撑销34，就能够以与Z轴平行的轴为中心旋转自由地支撑。因此，例如在升降动作中，能够抑制施加在第一支撑销33以及第二支撑销34上的外力。

另外，在本实施方式的基板处理装置1中，第一支撑销33使用比第二支撑销34在上下方向长的尺寸的支撑销。

此外，在图2中，对两个第一支撑销33、一个第二支撑销34进行了图示，当然销的数量并不仅限于此，以相对于保持面30分布适当的数量的方式配置。另外，在本实施方式中，表示了第一支撑销33保持基板90的周边部、第二支撑销保持基板90的中央部的例子，但是第一支撑销33以及第二支撑销34的配置位置并不仅限此。

销支撑机构35具有相对于载物台3而固定的板状的固定板350、和通过驱动机构36在Z轴方向上升降的板状的升降板351，将第一支撑销33以及第二支撑销34相对于载物台3升降自由地支撑着。

升降板351具有滑动接触板352、353以及提高加固构件354，和进给螺母362固定设置在一起。滑动接触板352其与第一支撑销33接触的面大致呈水平面，滑动接触并支撑第一支撑销33的下端。即，通过滑动接触板352的位置，而第一支撑销33的下端被规定在(-Z)方向，但是在X轴以及Y轴方向可滑动。

在滑动接触板353设置有贯通孔，在该贯通孔从(+Z)方向插入提高加固构件354的下部。提高加固构件354的上部的水平方向的剖面面积比滑动接触板353的贯通孔的开口剖面面积宽，以使得提高加固构件354不穿到下方。也就是，滑动接触板353在规定的范围升降自由地支撑提高加固构件354。

如图2所示，提高加固构件354在下端从固定板350离开期间，由滑动接触板353支撑上部。另一方面，如图3所示，当提高加固构件354的下端接触到固定板350时，上部从滑动接触板353离开，提高加固构件354由固定板350滑动接触支撑。即，提高加固构件354通过被支撑在固定板350或升降板351(滑动接触板353)，而确定Z轴方向的位置。

如图2以及图3所示，第二支撑销34的下端总是与提高加固构件354的上部上表面接触。这样，第二支撑销34由提高加固构件354而被规定在(-Z)方向。但是，提高加固构件354和第二支撑销之间在X轴以及Y轴方向可滑动。

另外，在基板处理装置1中，以提高加固构件354在Z轴方向的尺寸和第二支撑销34在Z轴方向的尺寸加在一起时等于从固定板350的上表面到载物台3的保持面30的距离的方式设计。

驱动机构36是由一个旋转马达360生成驱动力的机构，是通过旋转驱动轴361，与驱动轴361螺合的进给螺母362沿着驱动轴361移动的机构。在进给螺母362固定设置有升降板351，与进给螺母362的移动连动，升降板351在Z轴方向进行升降。

即，驱动机构36是使用了一般的滚珠螺杆的平移驱动机构，经由销支撑机构35(升降板351)，使第一支撑销33以及第二支撑销34分别在上升位置(图2)和下降位置(图3)之间移动。此外，作为驱动机构36，也可以使用其他公知的机构。例如，可以是使用了气缸的机构。另外，虽省略图示，但是旋转马达360与控制部8连接，由来自控制部8的控制信号可控制旋转方向以及旋转速度。

使用图2以及图3来说明基板处理装置1将基板90装载到载物台3的保持面30的情况、和举起保持在保持面30的基板90的情况。

在此，将上升位置中的第一支撑销33的上端的高度位置称为“高度位置A”，将上升位置中的第二支撑销34的上端的高度位置称为“高度位置B”。另外，将保持面30的高度位置称为“高度位置C”。如图2所示，高度位置A在高度位置B的(+Z)侧，第二支撑销34的上升位置侧设定得比第一支撑销33的上升位置侧低。

基板处理装置1在使第一支撑销33以及第二支撑销34上升到各自的上升位置的状态(图2的状态)下接受基板90。具体而言，装置以外的搬送装置将基板90交接到处于上升位置的第一支撑销33的上端以及第二支撑销34的上端。

如上所述，在处于上述位置的第一支撑销33以及处于上升位置的第二支撑销中，上端的高度位置不同。因此，如图2所示，基板90在中央部向下弯曲的状态下被支撑在载物台30的上方。此外，在本实施方式中，高度位置A和高度位置B的高低差设定在1mm左右。但是，如果是基板90和保持面30之间的空气的出入顺畅、并且施加在基板的弯曲应力没有过大的程度，则高度位置A和高度位置B的高低差并不仅限于此。

因为将搬入的基板90装载到保持面30，所以控制部8使驱动机构36的旋转马达360开始旋转，从图2所示的状态开始使升降板351下降。由此，由于支撑第一支撑销33的下端的滑动接触板352下降，所以第一支撑销33开始下降。另外，由于支撑第二支撑销34的下端的提高加固构件354也随着滑动接触板353的下降而下降，所以第二支撑销34也开始下降。

即，在提高加固构件354的下端到与固定板350接触期间，第一支撑销33的上端和第二支撑销34的上端的相对位置不变化而继续下降，基板90保持图2所示的姿势不变的下降。另外，在将基板90装载到载物台3的情况下，当升降板351下降时，第二支撑销34比第一支撑销33先到达下降位置(上端为“高度位置C”的位置)。

当升降板351下降且第二支撑销34的上端下降到保持面30的高度位置(高度位置C)时，将第二支撑销34所支撑的基板90的中央部装载到保持面30。此时，由于第一支撑销33的上端处于高于第二支撑销34的上端的位置，所以基板90的周边部还没有装载到保持面30。即，基板90的中央部比周边部先装载到保持面30。

在第二支撑销34的上端下降到了高度位置C的状态下，提高加固构件354的下端与固定板350的上表面接触。由于提高加固构件354在支撑于固定板350的状态不会下降，所以即使从该状态升降板351进一步下降，第二支撑销34也不下降，第二支撑销34的上端高度位置维持在高度位置C。即，比第一支撑销33先到达下降位置的第二支撑销34，即使驱动机构36不停止，也在该位置停止。

由此，基板90和第二支撑销34的上端部处于一直接触的状态，在第二支撑销34和基板90之间不会形成空气层。

进而，当升降板351下降且第一支撑销33的上端下降到保持面30的高度位置时，控制部8停止驱动机构36，停止升降板351的下降。此时，第一支撑销33的上端以及第二支撑销34的上端都处于高度位置C。因此，由于第一支撑销33以及第二支撑销34都不能变为向保持面30的上方突出的状态，所以如图3所示，基板90大致呈水平姿势的被保持面30支撑。即，基板90的周边部迟于中央部而被保持面30支撑。

这样，在基板处理装置1中，基板90从中央部向周边部依次被保持面30支撑，所以基板90和保持面30之间的空气向周边部适当地排出。由此，在基板90的中央部背面不产生空气滞留，所以不会产生基板90的浮动状态。因此，能够定位精度较高地将基板90装载到保持面30。

此外，在本实施方式的基板处理装置1中，在第二支撑销34到达下降位置之前，由在保持面30所设置的吸附口开始吸引。由此，因为能够良好地排出基板90和保持面30之间的空气，所以能够进一步提高基板90的定位精度。

如图3所示，销支撑机构35在第一支撑销33以及第二支撑销34都处于下降位置的状态下，分别支撑第一支撑销33的下端以及第二支撑销34的下端，以使第一支撑销33的上端的高度位置和第二支撑销34的上端的高度位置都大致等于保持面30的高度位置。由此，在基板90被保持面30支撑的状态下，第一支撑销33的上端以及第二支撑销34的上端都与基板90接触，不会在和基板90之间形成空气层。因此，基板处理装置1能够降低处理中的基板90的温度不匀。

另外，销支撑机构35通过支撑第一支撑销33以及第二支撑销34的下端，而使第一支撑销33以及第二支撑销34与保持面30所支撑的基板90的背面接触。通过这种结构，不会在(+Z)方向加载第一支撑销33以及第二支撑销34，不需要使(+Z)方向的外力作用到处理中的基板90。因此，不需要在(-Z)方向吸附基板90。因此，基板处理装置1在将基板90完全装载到保持面30之后，停止由吸引带来的对基板90的吸附，能够抑制施加到基板90的局部上的应力。因此，能够进一步有效防止基板的破损。

另外，为了吸附保持基板90，需要使吸附口的开口尺寸增大到一定程度。此时，由于基板90的背面中处于吸附口位置的部分碰到空气层，所以成为诱发基板90的温度不匀的原因。

但是，基板处理装置1在装载基板90时，由于是仅用于排出基板90和保持面30之间的空气的吸引，所以可以使吸引口的开口尺寸比较小，能够降低基板90的温度不匀。

这样一来，当基板90保持在保持面30的规定位置上时，基板处理装置1从狭缝喷嘴41喷出抗蚀液，同时扫描基板90的表面，将抗蚀液涂敷在基板90的表面。即执行涂敷处理。

接着，针对涂敷处理结束使载物台3所支撑的基板90上升情况(从保持面30举起基板90情况)进行说明。

首先，从第一支撑销33以及第二支撑销34都处于下降位置的状态(图3所示的状态)，驱动机构36使升降板351上升。由此，滑动接触板352、353立即开始上升，滑动接触板352所支撑的第一支撑销33立即开始上升。另一方面，由于滑动接触板353的上表面和提高加固构件354的上部分离，所以提高加固构件354不会立即上升，其间，第二支撑销34不上升。

因此，在上升动作开始时，基板90仅通过第一支撑销33上升。也就是在基板90的举起动作的初期时，仅举起由第一支撑销33支撑的基板90的周边部，由第二支撑销34支撑的中央部处于一直和保持面30接触的状态。

在将基板90从保持面30举起时，在基板90和载物台3之间形成间隙空间。由于该间隙空间直到空气充分流入为止处于低压状态，所以基板90成为从表面侧向(-Z)方向施加由大气压产生的负荷的状态。当在该状态勉强用销顶起基板90时，基板90有可能破损。但是，向间隙空间的空气的流入是从基板90的周边部发生，所以基板90的周边部与中央部相比是空气容易进入到背面的状态。因此，基板90的周边部与中央部相比能够安全地被举起。

升降板351进一步上升，当滑动接触板353的上表面与提高加固构件354接触时，以后提高加固构件354与升降板351就一体上升。由此，第二支撑销34开始上升。即第二支撑销34迟于第一支撑销33在突出到保持面30的上方。

这样，基板处理装置1，通过在第一支撑销33的上升开始和第二支撑销34的上升开始之间设置延时，能够使从在和载物台3之间空气容易流入的部分依次上升。只要足够的空气流入基板90的周边部的背面之后，即使举起中央部负荷也减少。因此，基板处理装置1由于在举起基板90时，能够抑制施加在基板90的力，所以能够抑制基板90的破损。

如上所述，第一实施方式的基板处理装置1在将基板90装载到载物台3的保持面30时，由于从基板90的中央部开始先装载到保持面30，所以能够抑制由基板90浮动引起的位置偏差的发生。

另外，由于第一支撑销33的上端以及第二支撑销34的上端与处理中的基板90的背面接触，所以与在销和基板90的背面之间形成空间的情况相比，能够抑制基板90的温度不匀，因此涂敷处理的精度提高。

另外，通过支撑第一支撑销33的下端以及第二支撑销34的下端，不需要向处理中的基板90加载第一支撑销33以及第二支撑销。即，不会从第一支撑销33以及第二支撑销34对处理中的基板90给予无用的外力。因此不需要吸附基板90，就能够抑制施加在基板90的外力，所以能够防止基板90的破损。

另外，在从保持面30举起涂敷处理结束了的基板90时，通过从基板的周边部开始举起，从而能够抑制基板90的破损。

进而，由于能够用一个驱动机构36(旋转马达360)实现基板90的升降动作，所以能够抑制装置成本的增大。

2、第二实施方式

在第一实施方式中，针对用不同的构件形成第二支撑销34和提高加固构件354的例子进行说明了，但是，第二支撑销34和提高加固构件354也可以是相同的构件。

图4是表示第二实施方式中的基板处理装置1a的销支撑机构35a在上升位置支撑第一支撑销33以及第二支撑销34a的情况的图。另外，图5是表示销支撑机构35a在下降位置支撑第一支撑销33以及第二支撑销34a的情况的图。此外，基板处理装置1a的结构中，对和第一实施方式中的基板处理装置1同样的结构标上相同的符号，适当省略说明。在以下的实施方式中也是同样。

第二实施方式中的第二支撑销34a和第一实施方式的第二支撑销34同样，是支撑基板90的中央部的销，但是在轴部的中间具有连接构件340这一点不同。在该连接构件340的中央部沿着Z轴方向而设置的孔插入第二支撑销34a的轴部。连接构件340从侧面方向通过按压弹簧而固定在第二支撑销34a的规定的位置。

此外，连接构件340也可以作为和第二支撑销34a的轴部一体的构件而形成。另外，在本实施方式中，第一支撑销33以及第二支撑销34a的上端为大致平坦的衬垫状，当然，可以和第一实施方式同样，是稍尖出的形状。

第二实施方式的销支撑机构35a具有由驱动机构36进行升降的升降板351a。升降板351a由上表面直接支撑第一支撑销33的下端的同时，在XY平面上在第二支撑销34a的下端位置设置有贯通孔351b。通过该贯通孔351b，第二支撑销34a的下端部贯通升降板351a，向(-Z)方向突出。

第二支撑销34a通过连接构件340被升降板351a支撑而和升降板351a一体地升降。另一方面，在第二支撑销34a处于下端位置的状态下(上端处于高度位置C的状态)，第二支撑销34a的下端由固定板350直接支撑。并且，第二支撑销34a在被固定板350支撑的状态下不升降。

即，在第二实施方式的基板处理装置1a中，具有和在第一实施方式的第二支撑销34和提高加固构件354相互固定设置的状态大致相同的结构。

在具有上述结构的第二实施方式的基板处理装置1a中，也能够得到和第一实施方式的基板处理装置1大致相同的效果。

3、第三实施方式

在第一实施方式中，对提高加固构件354和固定板350以不同的构件构成，在上升位置提高加固构件354和固定板350分离的例子进行说明了，但是，固定板350也可以具有提高加固构件354的功能。

图6是表示第三实施方式中的基板处理装置1b的销支撑机构35b在上升位置支撑第一支撑销33以及第二支撑销34b的情况的图。另外，图7是表示销支撑机构35b在下降位置支撑第一支撑销33以及第二支撑销34b的情况的图。

第三实施方式的销支撑机构35b具有形成了销状的提高加固构件350b的固定板350a。提高加固构件350b以突出的形状形成在固定板350a的上表面，上端具有稍尖出的形状。

在第二实施方式的升降板351a形成有贯通孔351b，并插入了第二支撑销34a，但是，在第三实施方式的升降板351a的贯通孔351b插入提高加固构件350b。

在第三实施方式的第二支撑销34b的下端设置有滑动接触部341。由于滑动接触部341具有比贯通孔351b的开口面积还宽的剖面面积，所以在第二支撑销34b配置在比下降位置还高的位置的状态(图6)下，通过滑动接触部341被升降板351a支撑而被支撑。

另一方面，在第二支撑销34b处于高度位置C的状态下，提高加固构件350b的前端与滑动接触部341的背面接触，第二支撑销34b由固定板350a支撑。并且，和上述实施方式同样，在第二支撑销34b由固定板350a支撑的状态下，即使升降板351a进行升降，第二支撑销34b也不升降。

如上所述，第三实施方式的基板处理装置1b也能得到和上述实施方式同样的效果。

4、第四实施方式

在上述实施方式中，说明了由固定板350(350a)支撑下端位置的第二支撑销34(34a、34b)的例子，但是并不是仅限于这种结构。

图8是表示第四实施方式中的基板处理装置1c的销支撑机构35c在上升位置支撑第一支撑销33以及第二支撑销34的情况的图。另外，图9是表示在第四实施方式中第一支撑销33以及第二支撑销34在上升位置和下降位置之间移动的中间状态的图。另外，图10是表示销支撑机构35c在下降位置支撑第一支撑销33以及第二支撑销34的情况的图。

基板处理装置1c的销支撑机构35c具有由驱动机构36a驱动的升降板351c，但不具有相当于上述实施方式中的固定板350的结构。

在升降板351c的上表面固定设置有支撑第一支撑销33的下端的滑动接触板352a和支撑第二支撑销34的下端的滑动接触板353a。另外，在升降板351c的(+Y)侧的端部固定有驱动机构36a的连接构件364。

滑动接触板352a和升降板351c一体地移动，上表面为平坦的大致水平面。因此，即使升降板351c在Y轴方向移动，第一支撑销33的上端的位置也不变化。此外，滑动接触板352a也可以是和第一实施方式的滑动接触板352同样的结构。另外，和第二实施方式同样，可以是升降板351c的上表面直接支撑第一支撑销33的结构。

滑动接触板353a和升降板351c一体地移动，其上表面由上层面353b、斜面353c以及下层面353d形成。上层面353b和下层面353d是相互高度位置不同的大致水平面，其高低差以大致等于“高度位置A”和“高度位置B”的高低差的方式形成。另外，斜面353c向着(+Y)方向高度位置缓缓变低，其倾角和后面所述的槽366b的倾角大致相等。另外，斜面353c的(-Y)侧和上层面353b平滑地连接，(+Y)侧和下层面353d平滑地连接。

此外，从图8至图10可知，在本实施方式的基板处理装置1c中，不仅第一支撑销33的下端，第二支撑销34的下端也总是被滑动接触支撑。因此，和第一、第二实施方式相同，能够抑制施加在第一支撑销33以及第二支撑销34的外力。

驱动机构36a除了气缸360a，还具有活塞杆363、连接构件364、凸轮随动件365、沟槽凸轮366。

通过活塞杆363在Z轴方向上伸缩，向连接构件364传递Z轴方向的驱动力。

活塞杆363的上端部与设置在连接构件364的沿Y轴方向延伸的未图示的长孔卡合，所谓长孔安装。由此，就成为这样的结构，根据活塞杆363的升降动作，活塞杆363的上端部和连接构件364在Y轴方向的相对位置变化，但Z轴方向的相对位置不变化。

即，活塞杆363的Z轴方向的升降距离(伸缩距离)一直为连接构件364(升降板351c)的Z轴方向的升降距离。另一方面，活塞杆363的Y轴方向的位置大致固定，即使升降板351c在Y轴方向移动，活塞杆363也不会在Y轴方向与其连动而移动。

连接构件364(-Y)侧的端部固定在升降板351c，在(+Y)侧的端部安装有凸轮随动件365。在沟槽凸轮366设置有沿Z方向形成的槽366a、相对Z轴有和斜面353c相同倾角而形成的槽366b，如图8至图10所示，槽366a以及槽366b连通。在槽366a以及槽366b嵌入有凸轮随动件365。

通过这种结构，凸轮随动件365的移动方向由沟槽凸轮366(由槽366a以及槽366b的形状)规定。另外，凸轮随动件365的移动方向为升降板351c的移动方向。因此，凸轮随动件365在槽366a中移动的期间，升降板351c仅向Z轴方向移动。另一方面，凸轮随动件365在槽366b中移动的期间，升降板351c不仅向Z轴方向，也向Y轴方向移动。

由于第一支撑销33以及第二支撑销34都由贯通孔300规定XY方向上的位置，所以当升降板351c在Y轴方向上移动时，第一支撑销33以及第二支撑销34和升降板351c的相对位置移动。

在本实施方式中的销支撑机构35c中，由于滑动接触板352a的上表面是大致水平面，所以即使升降板351c在Y轴方向移动，第一支撑销33也不受其影响。即，活塞杆363的Z轴方向的移动一直为第一支撑销33的升降动作，所以关于第一支撑销33，不受沟槽凸轮366带来的影响。

根据上述的结构，说明第四实施方式的基板处理装置1c将基板90装载到载物台3时的动作。

如图8所示，活塞杆363移动到最(+Z)方向的状态是处于本实施方式的上升位置。此时，第二支撑销34的下端由滑动接触板353a的下层面353d支撑，第一支撑销33的下端的高度位置和第二支撑销34的下端的高度位置接近相同。

由于第二支撑销34在(+Z)轴方向的尺寸比第一支撑销33短，所以其短的部分在上升位置中，相当于第二支撑销34的上端的高度位置B低于第一支撑销33的上端的高度位置A的量。即使在本实施方式中，由于第一支撑销33配置在周边部、第二支撑销34配置在中央部，所以在上升位置基板90是以中央部较低地弯曲了的状态被支撑着。

从图8所示的状态，通过驱动机构36a使活塞杆363向(-Z)方向移动，从而将由第一支撑销33以及第二支撑销34支撑的基板90装载到保持面30。在活塞杆363从上升位置开始下降时，凸轮随动件365沿着槽366a移动。由于槽366a沿着Z轴设置，所以在此期间(下降动作的初期)，升降板351c仅向(-Z)方向移动。

这样，在升降板351c仅在Z轴方向移动期间，第一支撑销33以及第二支撑销34与销支撑机构35c的相对位置没有变化。因此，基板90以保持图8所示的姿势不变的状态下降。

这样，在第四实施方式的基板处理装置1c中，滑动接触板352a的上表面以及滑动接触板353a的上表面(上层面353b、斜面353c以及下层面353d)的倾斜形状，在将基板90装载到载物台3的情况下，以第二支撑销34比第一支撑销33先到达下降位置的方式形成(图9)。

由此，在本实施方式中，基板90从中央部(被第二支撑销34支撑的部分)开始先装载到保持面30。因此，可以适当地进行基板90的背面的空气的流出。

活塞杆363继续下降，当凸轮随动件365到达槽366a的下端时，以后凸轮随动件365就沿着槽366b移动(图9)。如上所述，槽366b以相对Z轴倾斜的形状形成。因此，通过活塞杆363下降，在凸轮随动件365沿着槽366b移动时，升降板351c不仅在(-Z)方向，按照槽366b的倾角也在(+Y)方向移动。

在凸轮随动件365沿着槽366b移动时的Y轴方向上的移动距离为第一支撑销33以及第二支撑销34与销支撑机构35bY轴方向上的相对的移动距离。

由于滑动接触板352a的上表面是大致水平面，所以即使在该上表面的任一位置支撑第一支撑销33的下端，第一支撑销33的上端的高度位置也不变化。即，只要第一支撑销33由滑动接触板352a的上表面支撑，升降板351c在Y轴方向的移动不对第一支撑销33的上端的高度位置产生影响。因此，凸轮随动件365在槽366b移动期间，第一支撑销33的上端的高度位置仅变化活塞杆363的升降距离。

滑动接触板353a的下层面353d为大致水平面。因此，和第一支撑销33同样，对于第二支撑销34也是在被下层面353d支撑期间，第二支撑销34的上端的高度位置仅变化活塞杆363的升降距离。

为了抑制涂敷处理中的基板90的温度不匀，最好是第二支撑销34的上端与基板90的背面接触，所以一旦第二支撑销34的上端下降到保持面30的高度位置C之后，就需要停止第二支撑销34的下降。

在本实施方式中，在第二支撑销34下降到了下降位置时，以支撑第二支撑销34的位置为下层面353d的斜面353c侧端部的方式来设计槽366b的形状。这反过来说，也可以说根据槽366b的形状(第二支撑销34下降到下降位置时的凸轮随动件365的位置)，设计滑动接触板353a的形状(在这里主要是下层面353d的形状)。

驱动机构36a在第二支撑销34下降到了下降位置之后，为了使第一支撑销33也下降到下降位置，一直使活塞杆363保持原状态下降。由此，凸轮随动件365沿着槽366b进一步继续移动，升降板351c向(-Z)方向移动的同时，也向(+Y)方向移动。

在此期间，支撑第二支撑销34的下端的位置随着升降板351c在(+Y)方向的移动，在斜面353c上沿(-Y)方向移动。即，升降板351c沿(-Z)方向仅移动活塞杆363的下降距离，但是滑动接触板353a的厚度仅增加其下降距离的量，处于第二支撑销34的下端的高度位置不变化的状态。即，通过使槽366b的倾角和斜面353c的倾角大致相同，从而将第二支撑销34的上端位置维持在“高度位置C”。

此外，由于以斜面353c的倾角和槽366b的倾角相等的方式确定这些的形状，所以支撑第二支撑销34的下端的位置在斜面353c上移动时相对斜面353c的移动轨迹与在槽366b移动的凸轮随动件365的移动轨迹平行。因此，能够抑制升降板351c(滑动接触板353a)和第二支撑销34相拧的情况。

在第一支撑销33的上端为高度位置C时，驱动机构36a停止气缸360a，停止升降板351c的下降。由此，如图10所示，在第一支撑销33以及第二支撑销34都处于下降位置的状态下，第一支撑销33的上端的高度位置以及第二支撑销34的上端的高度位置都大致等于保持面30的高度位置C。

在第四实施方式的基板处理装置1c中，由于也以图10所示的状态进行涂敷处理，所以在第一支撑销33的上端以及第二支撑销34的上端和基板90的背面之间不会形成空气层，能够抑制基板90的温度不匀。

另一方面，在使载物台3所支撑的基板90上升时，驱动机构36a驱动气缸360a，使活塞杆363上升。由此，凸轮随动件365沿着槽366b上升，第二支撑销34的下端以在滑动接触板353a的斜面353c下降的方式向(+Y)轴方向移动。因此，在活塞杆363开始上升时，第二支撑销34的下端的高度位置不变化，仅第一支撑销33从保持面30突出。由此，首先仅基板90的周边部被举起。

当处于第二支撑销34的下端由滑动接触板353a的下层面353d支撑的状态时，第二支撑销34的上端与升降板351c的上升一起上升，第二支撑销34的上端从保持面30突出。

这样，在第三实施方式的基板处理装置1b中，在举起基板90时，和上述实施方式相同，第二支撑销34迟于第一支撑销33突出到保持面30的上方(图9)。

当第一支撑销33的上端处于高度位置A，第二支撑销34的上端处于高度位置B时，驱动机构36a停止气缸360a，结束上升动作。

如上所述，第四实施方式的基板处理装置1c即使是不使用固定板350的结构，也能够得到和上述实施方式同样的效果。

此外，如果适当设定滑动接触板352a以及滑动接触板353a在Z轴方向的厚度，也可以使第一支撑销33以及第二支撑销34在Z轴方向的尺寸大致相同。此时，作为第一支撑销33以及第二支撑销34，可以使用共用的部件。

另外，可以取代气缸360a，和其他实施方式相同的，即使使用了马达、滚珠螺杆、进给螺母的结构也能实现。此时，将进给螺母安装到长孔即可。

5、第五实施方式

在上述实施方式中，第二支撑销34(34a、34b)的长度不变，但也可以是例如第二支撑销34(34a、34b)在Z轴方向的尺寸可变。

图11是表示第五实施方式的基板处理装置1d的图。图11表示销支撑机构35d分别在下降位置支撑第一支撑销33以及第二支撑销34c的状态的图。

本实施方式的基板处理装置1d在不由第一支撑销33以及第二支撑销34支撑基板90的状态(基板90的负荷没有施加在这些销上)下，第一支撑销33以及第二支撑销34c在Z轴方向的尺寸大致相同。因此，本实施方式的销支撑结构35d的升降板351d在相同的高度位置支撑第一支撑销33的下端以及第二支撑销34c的下端，从而能够以第一支撑销33的上端以及第二支撑销34c的上端都处于高度位置C的方式支撑(图11)。

图12是表示第二支撑销34c的上部的图。此外，在图12中，针对下轴部344显示剖面。

本实施方式的第二支撑销34c由上部轴342以及下部轴344构成。在上部轴342的下部安装有橡胶体343。在下轴部344的上表面设置有呈大致圆筒状的孔，上轴部342的橡胶体343插入到内部。

通过这种结构，第二支撑销34c在支撑基板90时，利用基板90的负荷而在(-Z)方向缩短仅一定长度，在不支撑基板90的状态下，利用橡胶体343的恢复力向(+Z)方向延伸。

在基板处理装置1d中，为了接受基板90，使第一支撑销33以及第二支撑销34c分别上升到上升位置。此时，第一支撑销33的上端以及第二支撑销34c的上端都处于高度位置A。

在此状态，当交接基板90时，仅第二支撑销34c利用基板90的自重而向(-Z)方向收缩，第二支撑销34c的上端处于高度位置B。即，基板90为中央部弯曲的形状。

为了将由第一支撑销33以及第二支撑销34c支撑的基板90装载到载物台3，当驱动结构36使升降板351d下降时，基板90保持中央部弯曲的形状不变的形状下降。因此，基板90从中央部向周边部依次被保持面30支撑。

第二支撑销34的上端下降到高度位置C之后，由于第二支撑销34c仅延伸升降板351d的下降距离的量，所以维持第二支撑销34c的上端与基板90的背面接触的状态。即，基板90和第二支撑销34c之间没有形成空气层。

当升降板351d下降到下降位置时，由于处于基板90完全被保持面30支撑的状态，所以处于基板90的负荷没有施加在第二支撑销34c的状态。因此，在第一支撑销33下降到了下降位置的状态下，不会从第一支撑销33以及第二支撑销34c使外力(橡胶体343的加载力等)作用于基板90。

当涂敷处理结束、举起基板90时，驱动机构36使升降板351d上升。此时，由于第一支撑销33不伸缩，所以由第一支撑销33支撑的基板90的周边部立即被举起。但是，第二支撑销34c通过橡胶体343收缩来在(-Z)方向仅缩短一定长度，所以基板90的中央部迟一些被举起。由此，在基板90的中央部背面空气充分流入了的状态下，能够举起基板90的中央部。

如上所述，在第五实施方式的基板处理装置1d中，也能够得到和上述实施方式同样的效果。

此外，使第二支撑销34c伸缩的机构也可以设置在第二支撑销34c的较下方。即，可以使上轴部342在Z轴方向的尺寸比较长。由此，可以将伸缩部(可动部)配置在载物台3的背面侧，能够抑制微粒的影响。

另外，使第二支撑销34c伸缩的机构也可以用使用了弹簧的机构来实现。即这种结构可以通过使用弹性体来实现。

6、第六实施方式

在上述实施方式中，驱动机构36(36a)是生成Z轴方向的驱动力的机构，但是也可以是在水平方向驱动的结构。

图13是表示第六实施方式中的基板处理装置1e的图。此外，为了便于图示，在图13中省略载物台3。另外，处于上升位置的第一支撑销33以及第二支撑销34对升降板351e的位置用实线表示，处于下降位置的第一支撑销33以及第二支撑销34对升降板351e的位置用虚线表示。

在本实施方式的驱动机构36b中，驱动轴361沿着Y轴设置，进给螺母362沿着Y轴方向移动。由此，升降板351e只在Y轴方向移动。

支撑第一支撑销33的下端的滑动接触板352b的上表面形成沿着Y轴方向的倾角一定的斜面352c。通过这种结构，第一支撑销33，在升降板351e沿着(-Y)轴方向以一定速度移动时，以一定速度上升，在沿着(+Y)方向以一定速度移动时，以一定速度下降。

另一方面，支撑第二支撑销34的滑动接触板353e的上表面形成沿着Y轴方向的倾角变化的曲面353f。曲面353f的(-Y)侧为大致水平面，成为该大致水平面的部分的高度位置与滑动接触板352b的斜面352c的(-Y)侧端部的高度位置大致为同一高度。另外，曲面353f的(+Y)侧的高度位置和滑动接触板352b的斜面352c的(+Y)侧端部的高度位置大致相同。

首先，如在图13用实线所示，在上升位置，第一支撑销33的下端被斜面352c的(+Y)侧端部支撑，利用该部分中的滑动接触板352b的Z轴方向的厚度，第一支撑销33的上端处于高度位置A。另外，第二支撑销34的下端被曲面353f的(+Y)侧端部支撑，利用该部分中的滑动接触板353e的Z轴方向的厚度，第二支撑销34的上端也处于高度位置A。

因此，当由处于上升位置的第一支撑销33以及第二支撑销34来支撑基板90时，基板90以大致水平状态被支撑着，能够抑制作用于基板90的应力(主要是弯曲应力)。

要将由处于上升位置的第一支撑销33以及第二支撑销34支撑的基板90装载到载物台3的保持面30，旋转马达360旋转，使升降板351e沿(+Y)方向移动。

滑动接触板352b以及滑动接触板353e向着(-Y)方向都是厚度减小，所以第一支撑销33以及第二支撑销34通过升降板351e在(+Y)方向的移动而都下降，但是由于滑动接触板353e的曲面353f侧倾角很陡，所以第二支撑销34侧的下降速度快，先到达下降位置。

由此，第二支撑销34所支撑的基板90的中央部先被载物台3的保持面30支撑。即，在本实施方式中，在基板90装载到保持面30时，也成为中央部弯曲的形状。因此，基板90的背面的空气适当地流出，不会产生基板90浮动的现象。

另外，由于到达了下降位置的第二支撑销34的支撑位置在曲面353f的大致水平面的部分移动，所以这样即使使升降板351e移动，第二支撑销34也不下降。即，由于在第二支撑销34的上端到达高度位置C后，第二支撑销34的上端不下降，所以基板90和第二支撑销34之间没有形成空气层。

在第一支撑销33的下端的支撑位置到达斜面352c的(-Y)侧端部时(在处于用点划线表示的位置关系时)，驱动结构36b停止旋转马达360的旋转，停止升降板351e在Y轴方向的移动。

在从保持面30举起涂敷结束了的基板90时，驱动机构36b使升降板351e沿(-Y)轴方向移动。

此时，由于第一支撑销33的下端通过滑动接触板352b的斜面352c立即开始上升，所以第一支撑销33的上端也立即开始上升。由此，由第一支撑销33支撑的基板90的周边部立即被举起。

另一方面，由于第二支撑销34的下端的支撑位置在上升动作初期，在滑动接触板353e的曲面353f的大致水平面部分移动，所以第二支撑销34的上端不上升。因此，在此期间，由第二支撑销34支撑的基板90的中央部不会被举起，与周边部相比，迟一些被举起。因此，能够在空气充分流入基板90的中央部背面之后被举起。

如上所述，第六实施方式的基板处理装置1也能得到和上述实施方式同样的效果。

另外，由于和上述实施方式的驱动机构36、36a不同，由在水平方向的驱动机构36b也可以实现，所以装置设计的自由度增加。

7、变形例

以上，针对本实施方式进行了说明，但是本发明并不仅限于上述实施方式，可以进行各种变形。

例如，在第一实施方式的基板处理装置1中，提高加固构件354支撑第二支撑销34的位置和提高加固构件354被固定板350支撑的位置在XY平面内相同。但是，支撑的位置并不仅限于这种位置关系。图14以及图15是表示提高加固构件354在错开的位置支撑第二支撑销34的例子的图。图14表示销支撑机构35f在上升位置支撑第一支撑销33以及第二支撑销34的情况。另外，图15表示销支撑机构35f在下降位置支撑第一支撑销33以及第二支撑销34的情况。变形例中的基板处理装置1f和第二实施方式中的基板处理装置1a同样，具备具有贯通孔351b的升降板351a。但是，在基板处理装置1f中，升降板351a的贯通孔351b的位置和第二实施方式的基板处理装置1a不同。这样，即使是支撑提高加固构件354a的位置和支撑第二支撑销34的位置错了位的结构，也可以实现和第一实施方式的基板处理装置1同样的动作，可以得到同样的效果。

另外，在上述实施方式中，说明了支撑基板90的面(保持面30)是平坦面的情况，但是并不仅限于此。在举起基板90时，为了使空气顺畅地流入背面，可以在载物台3的上表面设置有多个接近销。此时，用多个接近销的上端形成的面相当于保持面30。

另外，以通过第一支撑销33以及第二支撑销34(34a、34b、34c)可以说两阶段使基板90升降为例进行了说明，当然也可以设置三个阶段或其以上的阶段。这种结构通过阶段性决定销的长度、提高加固构件的长度或者滑动接触板的形状等来实现。

另外，基板处理装置1作为涂敷装置进行了说明，但是在例如加热装置和冷却装置等其他用途的装置中也可以应用。在应用于加热装置时，在基板处理装置1的载物台3内置加热器，使载物台3具有加热板的功能。在该加热板上装载形成了例如抗蚀膜的基板90，使在该基板90的表面形成的抗蚀膜干燥。另外，在应用于冷却装置时，在基板处理装置1的载物台3内设置用于使冷却水循环的配管，使载物台3具有冷却板的功能。在该冷却板上装载例如用加热装置加热的基板90，将该基板90冷却到例如常温。

图16是表示由短销101以及长销102使基板91升降的现有的加热装置100的图。加热装置100采用在交接基板91时，通过升降板103使使短销101和长销102一体升降的机构。因此，在升降板103下降的状态下，短销101的前端埋在升降板104的内部。即，在基板91装载到加热板104的状态下，在短销101和基板91之间存在空洞部105。

如上所述，在加热装置100中，如图16所示，在短销101上方存在空洞部105，但是在长销102上不存在相当于空洞部105的空间。在这种状态下，因为根据空洞部105的有无热传导率不同，所以产生作用于基板的温度在基板面内变得不均匀的问题。这种温度不匀导致抗蚀膜R的干燥不匀。

但是，在将本发明应用于加热装置时，由于不会形成空洞部105，所以可以抑制干燥不匀。此外，在应用于冷却装置时也是同样，能够抑制温度不匀引起的处理不匀。

Claims

1. 一种基板处理装置，是对基板进行处理的基板处理装置，其特征在于，具有：

支撑台，其在执行上述处理时将基板支撑为大致水平状态；

第一支撑销以及第二支撑销，其从上述支撑台的上表面的背面侧插入到设置在上述支撑台的上表面上的贯通孔中，通过向上述上表面的上方突出而支撑基板；

销支撑机构，其相对于上述支撑台升降自由地支撑上述第一支撑销以及上述第二支撑销；

一个驱动机构，其经由上述销支撑机构而使上述第一支撑销以及上述第二支撑销分别在上升位置和下降位置之间移动，

上述第二支撑销在将基板装载到上述支撑台上时，先于上述第一支撑销到达上述下降位置，另一方面，在使上述支撑台所支撑着的基板上升时，迟于上述第一支撑销突出到上述上表面的上方，

上述销支撑机构在上述第一支撑销以及上述第二支撑销都处于上述下降位置的状态下，分别支撑上述第一支撑销的下端以及上述第二支撑销的下端，以使上述第一支撑销的上端的高度位置和上述第二支撑销的上端的高度位置都大致等于上述上表面的高度位置，

上述销支撑机构具有：

板构件，其将上述一个驱动机构的驱动力传递到上述第一支撑销以及上述第二支撑销；

提高加固构件，其支撑上述第二支撑销的下端；

固定构件，其在上述第二支撑销处于上述下降位置的状态下，支撑上述提高加固构件，

上述提高加固构件在上述第二支撑销未处于上述下降位置的状态下，被上述板构件支撑。

2. 如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述第一支撑销以及上述第二支撑销以升降方向为轴旋转自由地被支撑着。

3. 如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，在上述下降位置，上述第一支撑销的下端以及上述第二支撑销的下端以滑动接触的方式被支撑着。

4. 如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述支撑台具有支撑基板的多个固定销。

5. 一种基板处理装置，是对基板进行处理的基板处理装置，其特征在于，具有：

支撑台，其在执行上述处理时将基板支撑为大致水平状态；

上述销支撑机构具有：

固定构件，其在上述第二支撑销处于上述下降位置的状态下，贯通上述板构件来支撑上述第二支撑销的下端。

6. 如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，上述第一支撑销以及上述第二支撑销以升降方向为轴旋转自由地被支撑着。

7. 如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，在上述下降位置，上述第一支撑销的下端以及上述第二支撑销的下端以滑动接触的方式被支撑着。

8. 如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，上述支撑台具有支撑基板的多个固定销。

9. 一种基板处理装置，是对基板进行处理的基板处理装置，其特征在于，具有：

支撑台，其在执行上述处理时将基板支撑为大致水平状态；

上述销支撑机构具有：

固定构件，其在上述第二支撑销处于上述下降位置的状态下，支撑上述第二支撑销的下端，

上述第二支撑销具有在未处于上述下降位置的状态下被上述板构件支撑的支撑部。

10. 如权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，上述第一支撑销以及上述第二支撑销以升降方向为轴旋转自由地被支撑着。

11. 如权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，在上述下降位置，上述第一支撑销的下端以及上述第二支撑销的下端以滑动接触的方式被支撑着。

12. 如权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，上述支撑台具有支撑基板的多个固定销。

13. 一种基板处理装置，是对基板进行处理的基板处理装置，其特征在于，具有：

支撑台，其在执行上述处理时将基板支撑为大致水平状态；

上述销支撑机构具有：

板构件，其设置有支撑上述第一支撑销的第一支撑面以及支撑上述第二支撑销的第二支撑面；

凸轮随动件，其安装在上述板构件上；

凸轮，其设置有用于限定上述凸轮随动件的移动方向的凸轮槽，

上述第一支撑面以及上述第二支撑面的倾斜形状以如下方式形成：在将基板装载到上述支撑台时，上述第二支撑销先于上述第一支撑销到达上述下降位置，另一方面，在使上述支撑台所支撑着的基板上升时，上述第二支撑销迟于上述第一支撑销突出到上述上表面的上方，在上述第一支撑销以及上述第二支撑销都处于上述下降位置的状态下，上述第一支撑销的上端的高度位置和上述第二支撑销的上端的高度位置都大致等于上述上表面的高度位置。

14. 如权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，上述第一支撑面以及上述第二支撑面的倾斜形状以如下方式形成：在上述第一支撑销以及上述第二支撑销都处于上述上升位置的状态下，上述第一支撑销的上端的高度位置和上述第二支撑销的上端的高度位置大致相等。

15. 如权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，上述第一支撑销以及上述第二支撑销以升降方向为轴旋转自由地被支撑着。

16. 如权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，在上述下降位置，上述第一支撑销的下端以及上述第二支撑销的下端以滑动接触的方式被支撑着。

17. 如权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，上述支撑台具有支撑基板的多个固定销。

18. 一种基板处理装置，是对基板进行处理的基板处理装置，其特征在于，具有：

支撑台，其在执行上述处理时将基板支撑为大致水平状态；

上述销支撑机构具有板构件，该板构件设置有支撑上述第一支撑销的第一支撑面以及支撑上述第二支撑销的第二支撑面，并从上述一个驱动机构传递大致水平方向的驱动力，

19. 如权利要求18所述的基板处理装置，其特征在于，上述第一支撑面以及上述第二支撑面的倾斜形状以如下方式形成：在上述第一支撑销以及上述第二支撑销都处于上述上升位置的状态下，上述第一支撑销的上端的高度位置和上述第二支撑销的上端的高度位置大致相等。

20. 如权利要求18所述的基板处理装置，其特征在于，上述第一支撑销以及上述第二支撑销以升降方向为轴旋转自由地被支撑着。

21. 如权利要求18所述的基板处理装置，其特征在于，在上述下降位置，上述第一支撑销的下端以及上述第二支撑销的下端以滑动接触的方式被支撑着。

22. 如权利要求18所述的基板处理装置，其特征在于，上述支撑台具有支撑基板的多个固定销。