CN1532888A - 基板待机装置及具有该装置的基板处理装置 - Google Patents

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Abstract

一种基板待机装置及具有该装置的基板处理装置，一对基板待机支架，向内侧多级进退。在活塞杆上升的状态下，以活塞杆、推进支杆支持部及推进支杆不碰到基板待机支架及输送辊的方式，配置各基板支持部。在活塞杆上升最高的状态下，各推进支杆的顶端位于基板待机支架的上方，在推进支杆下降最大的状态下，各推进支杆的顶端位于多个输送辊的下方。

Description

基板待机装置及具有该装置的基板处理装置
技术领域
本发明涉及一种使玻璃基板暂时待机的基板待机装置及具有该装置的基板处理装置。
背景技术
采用基板处理装置对液晶显示装置用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、光盘用玻璃基板等玻璃基板进行种种处理。例如，为提高生产效率，采用将一系列的处理分别模组化，然后综合多个处理模组的基板处理装置。
在该基板处理装置中，在各处理模组间的玻璃基板的转接中，设置使玻璃基板暂时待机的基板待机装置(例如，参照特开平10-154652号公报及特开平9-199460号公报)。
通过基板输送装置将玻璃基板供给到基板处理装置内。此时，基板处理装置内的基板待机装置，接收玻璃基板，使玻璃基板暂时待机后，将玻璃基板转给规定的处理工序。
但是，近年来，在玻璃基板大径化的同时，支持玻璃基板的基板输送处理装置的输送支架(基板支持部)也可以具有多种多样的形状。此时，每变更基板输送装置的输送支架的形状，就设计修改基板处理装置，会增加成本。
发明内容
本发明的目的是提供一种能够相对于具有任意形状的基板支持部均可转接玻璃基板的基板待机装置及具有该装置的基板处理装置。
本发明的基板输送装置，是一种在支持玻璃基板的状态下，相对于在待机位置可进退的基板输送机构，在上述待机位置进行玻璃基板的转接的基板待机装置，具有：基板待机机构，从上述基板输送机构的进退路径的侧方、沿与上述进退路径交叉的方向、相对于上述待机位置可进退地设置，支持玻璃基板的下面；基板支持机构，从比上述待机位置低的位置到比上述待机位置高的位置可上下移动地设置，支持玻璃基板的下面；控制机构，控制上述基板待机机构和上述基板支持机构，以进行在上述基板输送机构和上述基板待机机构之间的玻璃基板的转接及上述基板待机机构和上述基板支持机构之间的玻璃基板的转接。
在本发明的基板待机装置中，利用基板输送机构，向基板待机位置输入玻璃基板或从基板待机位置输出玻璃基板。基板待机机构，从基板输送机构的进退路径的侧方，沿与进退路径交叉的方向进退。由此，能够避免基板待机机构和基板输送机构的接触。结果，基板待机装置可以相对于具有任意形状的基板输送机构转接玻璃基板。
此外，基板支持机构从低于基板待机位置的位置，上升到高于基板待机位置的位置。由此，能够在基板待机机构和基板支持机构的之间，进行玻璃基板的转接。
也可以：基板支持机构，在基板待机机构向待机位置前进的状态下，以不接触基板待机机构的方式，可上下移动地配置。
此时，基板支持机构即使上下移动，也不与前进到待机位置的基板待机机构接触。因此，能够在基板待机机构和基板支持机构的之间，进行玻璃基板的转接。
也可以：基板待机机构包括：第1部件，配置在基板输送机构的进退路径的侧方；1个或多个第2部件，相对于第1部件，在朝待机位置的方向可进退地设置；支持部，设在1个或多个第2部件上，支持玻璃基板的下面。
此时，支持部支持玻璃基板，同时，1个或多个第2部件从第1部件向待机位置进退。因此，能够在基板待机机构和基板输送机构的之间，进行玻璃基板的转接。
也可以：支持部支持在基板输送机构支持基板的支点中的最外侧的支点的内侧。此时，利用支持部支持在基板输送机构支持基板的支点中的最外侧的支点的内侧。所以，在支持部支持玻璃基板时，能够降低玻璃基板的弯曲。
也可以：基板支持机构包括：多个搭接部件，可搭接在待机位置的玻璃基板的下面，可上下移动地设置；驱动机构，能够上下移动多个搭接部件。此时，利用驱动机构上下移动多个搭接部件。所以，基板支持机构能够在与基板待机机构的之间，进行玻璃基板的转接。
上述基板待机装置还具有输送机构，其设置在低于基板待机机构的位置且比基板支持机构的最下方位置高的位置，用于输送玻璃基板。此时，基板支持机构从低于输送机构的位置到基板待机位置可上下移动。
所以，通过上下移动基板支持机构，能够在基板支持机构和基板输送机构的之间，进行玻璃基板的转接。
一种对玻璃基板进行处理的基板处理装置，具有：基板输送机构，在支持玻璃基板的状态下，在待机位置可进退地设置；至少一对基板待机机构，从上述基板输送机构的进退路径的两侧方、沿与上述进退路径交叉的方向、在上述待机位置可进退地设置；基板支持机构，从比上述待机位置低的位置到比上述待机位置高的位置可上下移动地设置，支持玻璃基板的下面；控制机构，控制上述基板待机机构和上述基板支持机构，以进行在上述基板输送机构和上述基板待机机构之间的玻璃基板的转接及上述基板待机机构和上述基板支持机构之间的玻璃基板的转接。
也可以：输送机构包括：向与进退方向交叉的方向延伸的多个辊；可旋转支持多个辊的辊支持机构；旋转驱动多个辊的辊驱动机构。
此时，通过利用辊支持机构旋转多个辊，能够向进退方向输送基板。
在本发明的基板输送装置中，利用基板输送机构，向基板待机位置输入玻璃基板，或从基板待机位置输出玻璃基板。基板待机机构，从基板输送机构的进退路径的侧方，沿与该进退路径交叉的方向进退。结果，基板处理装置能够相对于具有任意形状的基板输送机构，转接玻璃基板。
此外，基板支持机构可从低于基板待机位置的位置上升到高于基板待机位置的位置。由此，能够在基板待机机构和基板支持机构之间，进行玻璃基板的转接。所以，基板待机装置能够相对于具有任意形状的基板输送机构，转接玻璃基板。
附图说明
图1是本发明的第1实施方式的基板待机装置的概略俯视图。
图2是图1的基板待机装置的概略主视图。
图3是图1的基板待机支架的模式俯视图。
图4是图3的基板待机支架的模式主视图。
图5是表示图1的基板待机装置的控制系统的构成的方块图。
图6是表示基板待机装置的动作的模式图。
图7是表示基板待机装置的动作的模式图。
图8是表示基板待机装置的动作的模式图。
图9是表示基板待机装置的动作的模式图。
图10是表示基板待机装置的动作的模式图。
图11是本发明的第2实施方式的基板待机装置的概略俯视图。
图12是本发明的第2实施方式的基板待机装置的概略俯视图。
图13是本发明的第3实施方式的基板待机装置的概略俯视图。
图14是本发明的第4实施方式的基板待机装置的概略俯视图。
具体实施方式
第1实施方式
图1是本发明的第1实施方式的基板待机装置100的概略俯视图。图2是图1的基板待机装置100的概略主视图。下面，参照图1及图2说明基板待机装置100。
此处，相互垂直的3个方向设为第1方向X、第2方向Y及第3方向Z。第3方向Z表示垂直朝上的方向。第1方向X及第2方向Y形成水平面。
此外，所谓的玻璃基板，指的是液晶显示用玻璃基板、PDP(等离子体显示面板)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板等。以下，将玻璃基板简称为基板。
如图1及图2所示，基板待机装置100包括一对支架支持板101、一对辊支持板102、多个输送辊103、一对基板待机支架110、多个基板支持部120及输送辊驱动部130(参照图10)。
在图2的底面部件105的两侧，沿第2方向Y，垂直安装一对支架支持板101。在支架支持板101的内侧，沿第2方向Y，将辊支持板102垂直安装在底面部件105上。
一对基板待机支架110分别安装在一对支架支持板101的上端部。
一对基板待机支架110由多个向内侧多级进退的部件构成。此外，在各基板待机支架110的上面设置多个基板支持杆111。由此，可以在多个基板支持杆111上放置基板W。基板待机支架110的结构及动作的详细情况见后述。
多个输送辊103，在基板待机支架110的下方，在从第1方向X稍微倾斜的方向延伸设置，两端部旋转自如地分别安装在一对辊支持板102上。通过驱动后述的输送辊驱动部130，各输送辊103一同向同一方向旋转。由此，能够将基板W支持在输送辊103上，同时向第2方向Y输送。
各基板支持部120具有推进支杆驱动部121、活塞杆122、推进支杆支持部123及多个推进支杆124。
活塞杆122，可向第3方向Z伸缩地设置在推进支杆驱动部121。推进支杆支持部123，向第1方向X延伸地设在活塞杆122的上端部。各推进支杆124，向第3方向Z延伸地安装在推进支杆支持部123上。
各基板支持部120，在活塞杆122上升的状态下，以活塞杆122、推进支杆支持部123及推进支杆124不碰到基板待机支架110及输送辊103的方式进行配置。
在活塞杆122上升最高的状态下，各推进支杆124的顶端位于基板待机支架110的上方，在活塞杆122下降最大的状态下，各推进支杆124的顶端位于多个输送辊103的下方。
图1的输送支架200，以在基板待机装置100可进退、可上下移动及在第3方向Z的周围可旋转的方式进行设置。通过输送支架200，向基板待机装置100输入基板W。输送支架200由保持部201及多个棒状的支持部202构成。多个支持部202相互平行地设在保持部201上。输送支架200，在将基板W支持在支持部202上的状态下，进入基板待机装置100，通过从图2所示状态下降，将基板W输入到基板支持杆111上。
图3是图1的基板待机支架110的模式俯视图。图4是图3的基板待机支架110的模式主视图。下面，参照图3及图4，说明基板待机支架110的结构和动作。
如图3及图4所示，基板待机支架110包括多个基板支持杆111、支架部112、113、114及支架用气缸115、116。
支架用气缸115包括活塞部115a及气缸部115b。支架用气缸116包括活塞部116a及气缸部116b。活塞部115a沿第1方向X，进退自如地设在气缸部115b上。活塞部116a沿第1方向X，进退自如地设在气缸部116b上。
在支架部114的上面，向第1方向X延伸地安装支架用气缸116。支架用气缸116的活塞部116a的顶端部安装在支架部113的下面。由此，活塞部116a和支架部113形成一体并相对于支架部114可相对进退。
在支架部113的上面，向第1方向X延伸地安装支架用气缸115。支架用气缸115的活塞部115a的顶端部安装在支架部114的下面。由此，活塞部115a和支架部112形成一体，相对于支架部113可相对进退。
支架部112，由向第2方向Y延伸的框架117和向延伸的多个支架118构成。在支架部112的支架118的两端部的上面，向第3方向Z延伸地设置基板支持杆111。
下面，说明基板待机支架110的动作。
图3(a)及图4(a)表示基板待机支架110的动作前的状态。
在前进动作时，通过接收控制部的信号，如图3(b)及图4(b)所示，使活塞部116a前进。随后，支架部112、113与活塞部116a形成一体，相对于支架部114前进。然后，如图3(c)及图4(c)所示，活塞部115a前进。随后，支架部112与活塞部115a形成一体，相对于支架部113前进。
在后退动作时，通过接收控制部的信号，使活塞部115a后退，然后，使活塞部116a后退。由此，基板待机支架110，如图3(a)及图4(a)所示，返回到动作前的状态。
另外，在本实施方式中，在前进动作时，在活塞部116a前进后，活塞部115a前进，在后退动作时，在活塞部115a后退后，活塞部116a退后，但也不局限于此。
例如，也可以：在前进动作时，在活塞部115a前进后，活塞部116a前进，在后退动作时，在活塞部116a后退后，活塞部115a退后。此外，也可以同时使活塞部115a、116a前进、后退。
图5是表示图1的基板待机装置100的控制系统的构成的方块图。控制部300由CPU(中央运算处理装置)、半导体存储器等构成。如图5所示，控制部300控制支架用气缸115、116、推进支杆驱动部121、输送辊驱动部130及输送支架驱动部203。输送辊驱动部130旋转驱动图1及图2的输送支架200。控制部300控制从利用以下所示的输送支架200输入基板W到利用输送辊103输出基板W的动作。
图6～图10是表示基板待机装置100的动作的模式图。以下，参照图1及图6～图10，说明基板待机装置100的基板接收动作。
另外，在图6～图10中，省略图1的输送辊103及基板支持部120的图示。
首先，如图1所示，基板待机支架110前进(图3(c)及图4(c)的状态)。然后，如图6所示，向第2方向Y移动支持基板W的输送支架200，进入基板待机装置100后停止。
下面，输送支架200下降。基板支持杆111的高度大于支持部202的厚度。由此，如图7所示，如果用多个基板支持杆111支持基板W，则基板W可脱离支持部202。此时，基板支持杆111支持由支持部202支持基板的支点中的最外侧的支点的外侧及内侧。由此，能够防止璃基板的弯曲。
如果将基板W支持在基板支持杆111上，则停止输送支架200的下降动作。然后，输送支架200向与第2方向Y相反的方向后退。在此状态下，基板W在输送支架200上待机。
之后，如图8所示，活塞杆122上升，利用多个推进支杆124支持基板W。由此，基板W可脱离基板支持杆111。
下面，如图9所示，基板待机支架110后退(图3(a)及图4(a)的状态)。在此状态下，即使活塞杆122下降，基板W和基板待机支架110也不相接触。
下面，如图10所示，活塞杆122下降，由多个输送辊103支持基板W。由此，基板W可脱离活塞杆122。之后，由输送辊103输送基板W。
另外，在从输送支架200向基板待机装置100依次供应多个基板W时，在使一块基板W通过输送辊103后，从输送辊200供给下一块基板W，重复图6～图10的动作。
以上，如图6～图10中的说明，本实施方式的基板待机装置100，能够将由输送支架200供给的基板移交给规定的处理工序。
此外，本实施方式的基板待机装置100，由于基板待机支架110可进退地设在输送支架200的进退路径的侧方，所以，能够相对于具有任意形状的支持部202的输送支架200，转接基板。
另外，在本实施方式中，基板待机装置100，能够将由输送支架200供应的基板移交给规定的处理工序，但不局限于此。例如，也可以由基板支持部120接收由输送辊103输送的基板，在基板支持部120上升后，由基板待机支架110接收基板，然后由输送支架200接收该基板。
在本实施方式中，输送支架200相当于基板输送机构，基板待机支架110相当于基板待机机构，基板支持部120相当于基板支持机构，控制部300相当于控制机构，支架部114相当于第1部件，支架部112、113相当于第2部件，基板支持杆111相当于支持部，推进支杆124相当于搭接部件，推进支杆驱动部121相当于驱动机构，输送辊103及辊支持板102相当于输送机构。输送辊103相当于辊，辊支持板102相当于辊支持机构，输送辊驱动部130相当于辊驱动机构。
第2实施方式
图11及图12是本发明的第2实施方式的基板待机装置100a的概略俯视图。下面，参照图11及图12，说明基板待机装置100a。
另外，在图11及图12中，省略图1的输送辊103及基板支持部120的图示。
图11及图12的基板待机装置100a与图1的基板待机装置100的不同之处在于基板待机支架110a的支架部112a的形状。如图11及图12所示，支架部112a由向第2方向Y延伸的框架117a和向第1方向X延伸的2根支架118a构成。从框架117a的两端部向第1方向X延伸地设置各支架118a。在各支架118a的两端部的上面，向第3方向Z延伸地设置基板支持杆111。
此处，输送支架200a的支持部202a的形状为在第2方向Y具有一对角线的大致菱形。此时，首先，向第2方向Y移动输送支架200a，进入基板待机装置100a后，停止。然后，如图12所示，前进基板待机支架110a。
之后，如果输送支架200a下降，则基板W被支持在基板支持杆111上，基板W脱离支持部202a。在基板支持杆111和支持部202a位于同一水平面内时，如果输送支架200a后退则由于支持部202a的一部分和基板支持杆111接触，故输送支架200a下降到基板待机支架110a的下方。然后，输送支架200a向与第2方向Y相反的方向后退。由此，结束从输送支架200a向基板待机装置100a的基板W的转接。
此时，基板支持杆111支持由支持部202a支持基板的支点中的最外侧的支点的外侧及内侧。由此，能够防止基板W的弯曲。
以上，如图11及图12中的说明，本实施方式的基板待机装置100a，由于基板待机支架110a能够可进退地设在输送支架200a的进退路径的侧方，所以，能够相对于具有任意形状的支持部202a的输送支架200a，转接基板。
在本实施方式中，基板待机支架110a相当于基板待机机构，支架部112a、113相当于第2部件。
第3实施方式
图13及图14是本发明的第3实施方式的基板待机装置100b的概略俯视图。下面，参照图13及图14，说明基板待机装置100b。
另外，在图13及图14中，省略图1的输送辊103及基板支持部120的图示。
图13及图14的基板待机装置100b与图1的基板待机装置100的不同之处在于基板待机支架110b的支架部112b的形状。如图13及图14所示，支架部112b由向第2方向Y延伸的框架117b和向第1方向X延伸的3根支架118b构成。从框架117b的两端部及中央部向第1方向X延伸地设置各支架118b。在各支架118b的两端部的上面，向第3方向Z延伸地设置基板支持杆111。
这里，考虑输送支架200b的支持部202b的形状为大致8字形的情况。此时，首先，向第2方向Y移动输送支架200b，进入基板待机装置100b。然后，如图14所示，使基板待机支架110b前进。
然后，如果输送支架200b下降，基板W被支持在基板支持杆111上，基板W脱离支持部202b。在基板支持杆111和支持部202b位于同一水平面内时，如果输送支架200b进退，则由于支持部202b的一部分和基板支持杆111接触，输送支架200b下降到基板待机支架110b的下方。然后，输送支架200b向与第2方向Y相反的方向后退。由此，结束从输送支架200b向基板待机装置100b的基板W的转接。
此时，基板支持杆111支持由支持部202a支持基板的支点中的最外侧的支点的外侧及内侧。由此，能够防止基板W的弯曲。
以上，如图13及图14中的说明，本实施方式的基板待机装置100b，由于基板待机支架110b能够可进退地设在输送支架200b的进退路径的侧方，所以，能够相对于具有任意形状的支持部202b的输送支架200b，转接基板。
在本实施方式中，基板待机支架110b相当于基板待机机构，支架部112b、113相当于第2部件。

Claims (8)

1.一种基板待机装置，在支持玻璃基板的状态下，相对于在待机位置可进退的基板输送机构，在上述待机位置进行玻璃基板的转接，其特征在于，具有：
基板待机机构，从上述基板输送机构的进退路径的侧方、沿与上述进退路径交叉的方向、相对于上述待机位置可进退地设置，支持玻璃基板的下面；
基板支持机构，从比上述待机位置低的位置到比上述待机位置高的位置可上下移动地设置，支持玻璃基板的下面；
控制机构，控制上述基板待机机构和上述基板支持机构，以进行在上述基板输送机构和上述基板待机机构之间的玻璃基板的转接及上述基板待机机构和上述基板支持机构之间的玻璃基板的转接。
2.如权利要求1所述的基板待机装置，其特征在于：上述基板支持机构，在上述基板待机机构前进到上述待机位置的状态下，以不与上述基板待机机构接触的方式，可上下移动地配置。
3.如权利要求1所述的基板待机装置，其特征在于：上述基板待机机构包括：
第1部件，配置在上述基板输送机构的进退路径的侧方；
1个或多个第2部件，相对于上述第1部件，在向上述待机位置的方向可进退地设置；
支持部，设在上述1个或多个第2部件上，支持玻璃基板的下面。
4.如权利要求3所述的基板待机装置，其特征在于：上述支持部支持上述基板输送机构支持上述基板的支点中的最外侧的支点的内侧。
5.如权利要求1所述的基板待机装置，其特征在于，上述基板支撑机构
包括：
多个搭接部件，可搭接在上述待机位置的玻璃基板的下面地上下移动自如设置；
驱动机构，能够上下移动上述多个搭接部件。
6.如权利要求1所述的基板待机装置，其特征在于：还具有输送机构，其设置在低于上述基板待机机构的位置且比上述基板支持机构的最下位置高的位置，用于输送玻璃基板。
7.如权利要求6所述的基板待机装置，其特征在于，上述输送机构包括：
沿与上述进退方向交叉的方向延伸的多个辊；
可旋转地支持上述多个辊的辊支持机构；
旋转驱动上述多个辊的辊驱动机构。
8.一种基板处理装置，对玻璃基板进行处理，其特征在于，具有：
基板输送机构，在支持玻璃基板的状态下，在待机位置可进退地设置；
至少一对基板待机机构，从上述基板输送机构的进退路径的两侧方、沿与上述进退路径交叉的方向、在上述待机位置可进退地设置；
基板支持机构，从比上述待机位置低的位置到比上述待机位置高的位置可上下移动地设置，支持玻璃基板的下面；
控制机构，控制上述基板待机机构和上述基板支持机构，以进行在上述基板输送机构和上述基板待机机构之间的玻璃基板的转接及上述基板待机机构和上述基板支持机构之间的玻璃基板的转接。
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