JP2004288991A - 基板待機装置およびそれを備えた基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】任意の形状を有する基板支持部に対して基板を受け渡しすることが可能な基板待機装置およびそれを備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】一対の基板待機アーム１１０は、内方へ多段的に進退する。各基板支持部１２０は、ピストンロッド１２２が上昇した状態でピストンロッド１２２、プッシャピン支持部１２３およびプッシャピン１２４が基板待機アーム１１０および搬送ローラ１０３に当たらないように配置されている。ピストンロッド１２２が最も上昇した状態では、各プッシャピン１２４の先端は基板待機アーム１１０よりも上方に位置し、ピストンロッド１２２が最も下降した状態では、各プッシャピン１２４の先端は複数の搬送ローラ１０３よりも下方に位置する。
【選択図】 図２
【解決手段】一対の基板待機アーム１１０は、内方へ多段的に進退する。各基板支持部１２０は、ピストンロッド１２２が上昇した状態でピストンロッド１２２、プッシャピン支持部１２３およびプッシャピン１２４が基板待機アーム１１０および搬送ローラ１０３に当たらないように配置されている。ピストンロッド１２２が最も上昇した状態では、各プッシャピン１２４の先端は基板待機アーム１１０よりも上方に位置し、ピストンロッド１２２が最も下降した状態では、各プッシャピン１２４の先端は複数の搬送ローラ１０３よりも下方に位置する。
【選択図】 図２
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板を一時的に待機させる基板待機装置およびそれを備えた基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板等の基板に種々の処理を行うために基板処理装置が用いられている。例えば、生産効率を高めるために、一連の処理の各々をユニット化し、複数の処理ユニットを統合した基板処理装置が用いられている。
【０００３】
この基板処理装置においては、各処理ユニット間の基板の受け渡しに一時的に基板を待機させる基板待機装置が設けられる（例えば、特許文献１および２参照）。
【０００４】
基板は、基板搬送装置によって基板処理装置内に供給される。この場合、基板処理装置内の基板待機装置は、基板を受け取り一時的に基板を待機させた後、基板を所定の処理工程へと移行させる。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１０−１５４６５２号公報
【特許文献２】
特開平９−１９９４６０号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、近年においては基板が大径化しつつあり、基板を支持する基板搬送装置の搬送アーム（基板支持部）が多種多様な形状を有するようになっている。この場合、基板搬送装置の搬送アームの形状を変更するたびに基板待機装置を設計し直すとコストがかかる。
【０００７】
本発明の目的は、任意の形状を有する基板支持部に対して基板を受け渡しすることが可能な基板待機装置およびそれを備えた基板処理装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
本発明に係る基板待機装置は、基板を支持した状態で待機位置に進退可能な基板搬送手段に対して前記待機位置で基板の受け渡しを行う基板待機装置であって、基板搬送手段の進退経路の側方から進退経路に交差する方向に沿って待機位置に対して進退可能に設けられ、基板の下面を支持する基板待機手段と、待機位置よりも低い位置から待機位置よりも高い位置まで上下動可能に設けられ、基板の下面を支持する基板支持手段と、基板搬送手段と基板待機手段との間での基板の受け渡しおよび基板待機手段と基板支持手段との間での基板の受け渡しが行われるように基板待機手段および基板支持手段を制御する制御手段とを備えるものである。
【０００９】
本発明に係る基板待機装置においては、基板が基板搬送手段により基板待機位置に搬入または基板待機位置から搬出される。基板待機手段は、基板搬送手段の進退経路の側方からその進退経路に交差する方向に沿って進退する。それにより、基板待機手段と基板搬送手段との接触が回避される。その結果、基板待機装置は、任意の形状を有する基板搬送手段に対して基板を受け渡しすることが可能である。
【００１０】
また、基板支持手段は、基板待機位置よりも低い位置から基板待機位置よりも高い位置まで上昇する。それにより、基板待機手段と基板支持手段との間で基板の受け渡しが行われる。
【００１１】
基板支持手段は、基板待機手段が待機位置に前進した状態で基板待機手段に接触しないように上下動可能に配置されてもよい。
【００１２】
この場合、基板支持手段が上下動しても待機位置に前進した基板待機手段に接触することはない。したがって、基板待機手段と基板支持手段との間で基板の受け渡しが行われる。
【００１３】
基板待機手段は、基板搬送手段の進退経路の側方に配置された第１の部材と、第１の部材に対して待機位置に向かう方向に進退可能に設けられた１または複数の第２の部材と、１または複数の第２の部材上に設けられ、基板の下面を支持する支持部とを含んでもよい。
【００１４】
この場合、支持部が基板を支持しつつ、第１の部材から１または複数の第２の部材が待機位置に向かって進退する。したがって、基板待機手段と基板搬送手段との間で基板の受け渡しを行うことができる。
【００１５】
支持部は、基板搬送手段が基板を支持する支点のうち最外方の支点よりも内方を支持してもよい。この場合、基板搬送手段が基板を支持する支点のうち最外方の支点よりも内方の点が支持部により支持される。したがって、支持部が基板を支持する際に基板のたわみを低減することができる。
【００１６】
基板支持手段は、待機位置の基板の下面に当接可能に上下動自在に設けられた複数の当接部材と、複数の当接部材を上下動させる駆動手段とを含んでもよい。この場合、複数の当接部材は駆動手段により上下動する。したがって、基板支持手段は、基板待機手段との間で基板の受け渡しを行うことができる。
【００１７】
基板待機手段よりも低い位置でかつ基板支持手段の最下位置より高い位置に設けられ、基板を搬送する搬送手段をさらに備えてもよい。この場合、基板支持手段は、搬送手段より低い位置から基板待機位置まで上下動する。
【００１８】
したがって、基板支持手段が上下動することにより、基板支持手段と搬送手段との間で基板の受け渡しを行うことができる。
【００１９】
基板に処理を行うための基板処理装置であって、基板を支持した状態で待機位置に進退可能に設けられた基板搬送手段と、基板搬送手段の進退経路の両側方から進退経路に交差する方向に沿って待機位置に進退可能に設けられ、基板の下面を支持する少なくとも１対の基板待機手段と、待機位置よりも低い位置から待機位置よりも高い位置まで上下動可能に設けられ、基板の下面を支持する基板支持手段と、基板搬送手段と基板待機手段との間での基板の受け渡しおよび基板待機手段と基板支持手段との間での基板の受け渡しが行われるように基板待機手段および基板支持手段を制御する制御手段とを備えるものである。
【００２０】
本発明に係る基板処理装置においては、基板が基板搬送手段により基板待機位置に搬入または基板待機位置から搬出される。基板待機手段は、基板搬送手段の進退経路の側方からその進退経路に交差する方向に沿って進退する。それにより、基板待機手段と基板搬送手段との接触が回避される。その結果、基板処理装置は、任意の形状を有する基板搬送手段に対して基板を受け渡しすることが可能である。
【００２１】
また、基板支持手段は、基板待機位置よりも低い位置から基板待機位置よりも高い位置まで上昇する。それにより、基板待機手段と基板支持手段との間で基板の受け渡しが行われる。したがって、基板待機装置は、任意の形状を有する基板搬送手段に対して基板を受け渡しすることが可能である。
【００２２】
【発明の実施の形態】
（第１の実施の形態）
図１は本発明の一実施の形態に係る基板待機装置１００の概略的平面図であり、図２は図１の基板待機装置１００の概略的正面図である。以下、図１および図２を参照して基板待機装置１００の説明を行う。
【００２３】
ここで、互いに直交する３方向を第１の方向Ｘ、第２の方向Ｙおよび第３の方向Ｚとする。第３の方向Ｚは鉛直上向きを指示している。第１の方向Ｘおよび第２の方向Ｙは水平面を形成する。
【００２４】
また、基板とは、液晶表示用ガラス基板、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、半導体ウエハ等をいう。
【００２５】
図１および図２に示すように、基板待機装置１００は、一対のアーム支持板１０１、一対のローラ支持板１０２、複数の搬送ローラ１０３、一対の基板待機アーム１１０、複数の基板支持部１２０および搬送ローラ駆動部１３０（図１０参照）を含む。
【００２６】
一対のアーム支持板１０１は、図２の底面部材１０５の両側に第２の方向Ｙに沿って垂直に取り付けられている。ローラ支持板１０２は、アーム支持板１０１の内側において第２の方向Ｙに沿って底面部材１０５に垂直に取り付けられている。
【００２７】
一対の基板待機アーム１１０は一対のアーム支持板１０１の上端部にそれぞれ取り付けられている。
【００２８】
一対の基板待機アーム１１０は、内方へ多段的に進退する複数の部材から構成される。また、各基板待機アーム１１０の上面には複数の基板支持ピン１１１が設けられている。それにより、複数の基板支持ピン１１１上に基板Ｗを載置することが可能である。基板待機アーム１１０の構造および動作の詳細は後述する。
【００２９】
複数の搬送ローラ１０３は、基板待機アーム１１０よりも下方に第１の方向Ｘからやや傾斜した方向に延びるように設けられており、両端部が一対のローラ支持板１０２のそれぞれに回転自在に取り付けられている。後述する搬送ローラ駆動部１３０の駆動により、各搬送ローラ１０３は一斉に同一方向に回転する。それにより、基板Ｗを搬送ローラ１０３上に支持しつつ第２の方向Ｙに搬送することができる。
【００３０】
各基板支持部１２０は、プッシャピン駆動部１２１、ピストンロッド１２２、プッシャピン支持部１２３および複数のプッシャピン１２４を備える。
【００３１】
ピストンロッド１２２は、プッシャピン駆動部１２１に第３の方向Ｚに伸縮可能に設けられている。プッシャピン支持部１２３は、第１の方向Ｘに延びるようにピストンロッド１２２の上端部に設けられている。各プッシャピン１２４は、プッシャピン支持部１２３上に第３の方向Ｚに延びるように取り付けられている。
【００３２】
各基板支持部１２０は、ピストンロッド１２２が上昇した状態でピストンロッド１２２、プッシャピン支持部１２３およびプッシャピン１２４が基板待機アーム１１０および搬送ローラ１０３に当たらないように配置されている。
【００３３】
ピストンロッド１２２が最も上昇した状態では、各プッシャピン１２４の先端は基板待機アーム１１０よりも上方に位置し、ピストンロッド１２２が最も下降した状態では、各プッシャピン１２４の先端は複数の搬送ローラ１０３よりも下方に位置する。
【００３４】
図１の搬送アーム２００は、基板待機装置１００に進退可能、上下動可能および第３の方向Ｚの周りで回転可能に設けられている。搬送アーム２００により、基板待機装置１００に基板Ｗが搬入される。搬送アーム２００は、保持部２０１および複数の棒状の支持部２０２により構成される。複数の支持部２０２は、互いに平行に保持部２０１に設けられている。搬送アーム２００は、支持部２０２上に基板Ｗを支持した状態で基板待機装置１００に進入し、図２に示す状態から下降することにより基板支持ピン１１１上に基板Ｗを搬入する。
【００３５】
図３は、図１の基板待機アーム１１０の模式的平面図であり、図４は、図３の基板待機アーム１１０の模式的正面図である。以下、図３および図４を参照して基板待機アーム１１０の構造および動作を説明する。
【００３６】
図３および図４に示すように、基板待機アーム１１０は、複数の基板支持ピン１１１、アーム部１１２，１１３，１１４およびアーム用シリンダ１１５，１１６を含む。
【００３７】
アーム用シリンダ１１５は、ピストン部１１５ａおよびシリンダ部１１５ｂを含む。アーム用シリンダ１１６は、ピストン部１１６ａおよびシリンダ部１１６ｂを含む。ピストン部１１５ａは、シリンダ部１１５ｂに第１の方向Ｘに沿って進退自在に設けられている。ピストン部１１６ａは、シリンダ部１１６ｂに第１の方向Ｘに沿って進退自在に設けられている。
【００３８】
アーム部１１４の上面には、アーム用シリンダ１１６が第１の方向Ｘに延びるように取り付けられている。アーム用シリンダ１１６のピストン部１１６ａの先端部は、アーム部１１３の下面に取り付けられている。それにより、ピストン部１１６ａとアーム部１１３とが一体となってアーム部１１４に対して相対的に進退する。
【００３９】
アーム部１１３の上面には、アーム用シリンダ１１５が第１の方向Ｘに延びるように取り付けられている。アーム用シリンダ１１５のピストン部１１５ａの先端部は、アーム部１１４の下面に取り付けられている。それにより、ピストン部１１５ａとアーム部１１２とが一体となってアーム部１１３に対して相対的に進退する。
【００４０】
アーム部１１２は、第２の方向Ｙに延びるフレーム１１７と第１の方向Ｘに延びる複数のアーム１１８とから構成される。アーム部１１２のアーム１１８の両端部の上面には、基板支持ピン１１１が第３の方向Ｚに延びるように設けられている。
【００４１】
次に、基板待機アーム１１０の動作について説明する。
図３（ａ）および図４（ａ）は、基板待機アーム１１０の動作前の状態を示す。
【００４２】
前進動作の場合には、制御部からの信号を受信することにより、図３（ｂ）および図４（ｂ）に示すように、ピストン部１１６ａが前進する。それに伴い、アーム部１１２，１１３がピストン部１１６ａと一体となってアーム部１１４に対して前進する。続いて、図３（ｃ）および図４（ｃ）に示すように、ピストン部１１５ａが前進する。それに伴い、アーム部１１２がピストン部１１５ａと一体となってアーム部１１３に対して前進する。
【００４３】
後退動作の場合には、制御部からの信号を受信することにより、ピストン部１１５ａが後退した後、ピストン部１１６ａが後退する。それにより、基板待機アーム１１０は図３（ａ）および図４（ａ）に示すように動作前の状態に戻る。
【００４４】
なお、本実施の形態においては、前進動作の場合にはピストン部１１６ａが前進してからピストン部１１５ａが前進し、後退動作の場合にはピストン部１１５ａが後退してからピストン部１１６ａが後退しているが、それに限られない。
【００４５】
例えば、前進動作の場合にはピストン部１１５ａが前進してからピストン部１１６ａが前進し、後退動作の場合にはピストン部１１６ａが後退してからピストン部１１５ａが後退してもよい。また、ピストン部１１５ａ，１１６ａが同時に前進退してもよい。
【００４６】
図５は、図１の基板待機装置１００の制御系の構成を示すブロック図である。制御部３００は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）、半導体メモリ等からなる。図５に示すように、制御部３００は、アーム用シリンダ１１５，１１６、プッシャピン駆動部１２１、搬送ローラ駆動部１３０および搬送アーム駆動部２０３を制御する。搬送ローラ駆動部１３０は図１および図２の搬送ローラ１０３を回転駆動する。また、搬送アーム駆動部２０３は図１および図２の搬送アーム２００を駆動する。制御部３００は、以下に示す搬送アーム２００による基板Ｗの搬入から搬送ローラ１０３による基板Ｗの搬出までの動作を制御する。
【００４７】
図６〜図１０は、基板待機装置１００の動作を示す模式図である。以下、図１および図６〜図１０を参照して基板待機装置１００の基板受け入れ動作を説明する。
【００４８】
なお、図６〜図１０においては、図１の搬送ローラ１０３および基板支持部１２０は図示を省略している。
【００４９】
まず、図１に示すように、基板待機アーム１１０が前進する（図３（ｃ）および図４（ｃ）の状態）。次に、図６に示すように、基板Ｗを支持する搬送アーム２００が第２の方向Ｙに移動して基板待機装置１００に進入して停止する。
【００５０】
次いで、搬送アーム２００が、下降する。基板支持ピン１１１の高さは、支持部２０２の厚みよりも大きい。それにより、図７に示すように、複数の基板支持ピン１１１によって基板Ｗが支持されれば、基板Ｗは支持部２０２から離れる。このとき、複数の基板支持ピン１１１は、支持部２０２が基板を支える支点のうち最外方の支点の外方および内方を支持する。それにより、基板Ｗのたわみを防止することができる。
【００５１】
基板支持ピン１１１に基板Ｗが支持されると、搬送アーム２００の下降動作が停止する。その後、搬送アーム２００は、第２の方向Ｙと逆向きに後退する。この状態で基板Ｗは基板支持ピン１１１上で待機する。
【００５２】
その後、図８に示すように、ピストンロッド１２２が上昇し、基板Ｗが複数のプッシャピン１２４により支持される。それにより、基板Ｗは、基板支持ピン１１１から離れる。
【００５３】
次いで、図９に示すように、基板待機アーム１１０が後退する（図３（ａ）および図４（ａ）の状態）。この状態では、ピストンロッド１２２が下降しても基板Ｗと基板待機アーム１１０とが接触することはない。
【００５４】
次に、図１０に示すように、ピストンロッド１２２が下降し、基板Ｗが複数の搬送ローラ１０３によって支持される。それにより、基板Ｗは、ピストンロッド１２２から離れる。その後、基板Ｗは、搬送ローラ１０３により搬送される。
【００５５】
なお、複数の基板Ｗが順々に搬送アーム２００から基板待機装置１００に供給される場合には、一の基板Ｗが搬送ローラ１０３に渡された後に次の基板Ｗが搬送アーム２００から供給され、図６〜図１０の動作が繰り返される。
【００５６】
以上、図６〜図１０で説明したように、本実施の形態に係る基板待機装置１００は、搬送アーム２００により供給された基板を所定の処理工程に移行させることができる。
【００５７】
また、本実施の形態に係る基板待機装置１００は、基板待機アーム１１０が搬送アーム２００の進退経路の側方に進退可能に設けられているので、任意の形状の支持部２０２を有する搬送アーム２００に対して基板の受け渡しが可能である。
【００５８】
なお、本実施の形態においては、基板待機装置１００は、搬送アーム２００により供給された基板を所定の処理工程に移行させたが、それに限られない。例えば、搬送ローラ１０３により搬送された基板を基板支持部１２０が受け取り、基板支持部１２０の上昇後に基板待機アーム１１０が基板を受け取り、搬送アーム２００がその基板を受け取ってもよい。
【００５９】
本実施の形態においては、基板待機アーム１１０が基板待機手段に相当し、基板支持部１２０が基板支持手段に相当し、制御部３００が制御手段に相当し、アーム部１１４が第１の部材に相当し、アーム部１１２，１１３が第２の部材に相当し、基板支持ピン１１１が支持部に相当し、プッシャピン１２４が当接部材に相当し、プッシャピン駆動部１２１が駆動手段に相当し、搬送ローラ１０３が搬送手段に相当する。
【００６０】
（第２の実施の形態）
図１１および図１２は、本発明の第２の実施の形態に係る基板待機装置１００ａの概略的平面図である。以下、図１１および図１２を参照して基板待機装置１００ａの説明を行う。
【００６１】
なお、図１１および図１２においては、図１の搬送ローラ１０３および基板支持部１２０の図示を省略している。
【００６２】
図１１および図１２の基板待機装置１００ａが図１の基板待機装置１００と異なる点は、基板待機アーム１１０ａのアーム部１１２ａの形状である。図１１および図１２に示すように、アーム部１１２ａは、第２の方向Ｙに延びるフレーム１１７ａと第１の方向Ｘに延びる２本のアーム１１８ａとから構成される。各アーム１１８ａは、フレーム１１７ａの両端部から第１の方向Ｘに延びるように設けられている。各アーム１１８ａの両端部の上面には、基板支持ピン１１１が第３の方向Ｚに延びるように設けられている。
【００６３】
ここで、搬送アーム２００ａの支持部２０２ａの形状が第２の方向Ｙに一対角線を有する略菱形である場合を考える。この場合、まず搬送アーム２００ａが第２の方向Ｙに移動して基板待機装置１００ａに進入して停止する。その後、図１２に示すように、基板待機アーム１１０ａが前進する。
【００６４】
続いて、搬送アーム２００ａが下降すると、基板Ｗは基板支持ピン１１１に支持され、支持部２０２ａから基板Ｗが離れる。基板支持ピン１１１と支持部２０２ａとが同一水平面内に位置するときには搬送アーム２００ａが進退すると支持部２０２ａの一部と基板支持ピン１１１とが接触するため、搬送アーム２００ａは基板待機アーム１００ａよりも下方に下降する。その後、搬送アーム２００ａは第２の方向Ｙと逆向きに後退する。それにより、搬送アーム２００ａから基板待機装置１００ａへの基板Ｗの受け渡しが完了する。
【００６５】
このとき、基板支持ピン１１１は、支持部２０２ａが基板を支える支点のうち最外方の支点の外方および内方を支持する。それにより、基板Ｗのたわみを防止することができる。
【００６６】
以上、図１１および図１２で説明したように、本実施の形態に係る基板待機装置１００ａは、基板待機アーム１１０ａが搬送アーム２００ａの進退経路の側方に進退可能に設けられているので、任意の形状の支持部２０２ａを有する搬送アーム２００ａに対して基板の受け渡しが可能である。
【００６７】
本実施の形態においては、基板待機アーム１１０ａが基板待機手段に相当し、アーム部１１２ａ，１１３が第２の部材に相当する。
【００６８】
（第３の実施の形態）
図１３および図１４は、本発明の第３の実施の形態に係る基板待機装置１００ｂの概略的平面図である。以下、図１３および図１４を参照して基板待機装置１００ｂの説明を行う。
【００６９】
なお、図１３および図１４においては、図１の搬送ローラ１０３および基板支持部１２０の図示を省略いる。
【００７０】
図１３および図１４の基板待機装置１００ｂが図１の基板待機装置１００と異なる点は、基板待機アーム１１０ｂのアーム部１１２ｂの形状である。図１３および図１４に示すように、アーム部１１２ｂは、第２の方向Ｙに延びるフレーム１１７ｂと第１の方向Ｘに延びる３本のアーム１１８ｂとから構成される。各アーム１１８ｂは、フレーム１１７ｂの両端部および中央部から第１の方向Ｘに延びるように設けられている。各アーム１１８ｂの両端部の上面には、基板支持ピン１１１が第３の方向Ｚに延びるように設けられている。
【００７１】
ここで、搬送アーム２００ｂの支持部２０２ｂの形状が略８字状である場合を考える。この場合、まず搬送アーム２００ｂが第２の方向Ｙに移動して基板待機装置１００ｂに進入する。その後、図１４に示すように、基板待機アーム１１０ｂが前進する。
【００７２】
続いて、搬送アーム２００ｂが下降すると、基板Ｗは基板支持ピン１１１に支持され、支持部２０２ｂから基板Ｗが離れる。基板支持ピン１１１と支持部２０２ｂとが同一水平面内に位置するときには搬送アーム２００ｂが進退すると支持部２０２ｂの一部と基板支持ピン１１１とが接触するため、搬送アーム２００ｂは基板待機アーム１００ｂよりも下方に下降する。その後、搬送アーム２００ｂは第２の方向Ｙと逆向きに後退する。それにより、搬送アーム２００ｂから基板待機装置１００ｂへの基板Ｗの受け渡しが完了する。
【００７３】
このとき、基板支持ピン１１１は、支持部２０２ａが基板を支える支点のうち最外方の支点の外方および内方を支持する。それにより、基板Ｗのたわみを防止することができる。
【００７４】
以上、図１３および図１４で説明したように、本実施の形態に係る基板待機装置１００ｂは、基板待機アーム１１０ｂが搬送アーム２００ｂの進退経路の側方に進退可能に設けられているので、任意の形状の支持部２０２ｂを有する搬送アーム２００ｂに対して基板の受け渡しが可能である。
【００７５】
本実施の形態においては、基板待機アーム１１０ｂが基板待機手段に相当し、アーム部１１２ｂ，１１３が第２の部材に相当する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係る基板待機装置の概略的平面図である。
【図２】図１の基板待機装置の概略的正面図である。
【図３】図１の基板待機アームの模式的平面図である。
【図４】図３の基板待機アームの模式的正面図である。
【図５】図１の基板待機装置の制御系の構成を示すブロック図である。
【図６】基板待機装置の動作を示す模式図である。
【図７】基板待機装置の動作を示す模式図である。
【図８】基板待機装置の動作を示す模式図である。
【図９】基板待機装置の動作を示す模式図である。
【図１０】基板待機装置の動作を示す模式図である。
【図１１】本発明の第２の実施の形態に係る基板待機装置の概略的平面図である。
【図１２】本発明の第２の実施の形態に係る基板待機装置の概略的平面図である。
【図１３】本発明の第３の実施の形態に係る基板待機装置の概略的平面図である。
【図１４】本発明の第３の実施の形態に係る基板待機装置の概略的平面図である。
【符号の説明】
１００ 基板待機装置
１０１ アーム支持板
１０２ ローラ支持板
１０３ 搬送ローラ
１１０ 基板待機アーム
１１１ 基板支持ピン
１１２，１１３，１１４ アーム部
１１５，１１６ アーム用シリンダ
１２０ 基板支持部
１２１ プッシャピン駆動部
１２２ ピストンロッド
１２３ プッシャピン支持部
１２４ プッシャピン
１３０ 搬送ローラ駆動部
２００ 搬送アーム
２０１ 保持部
２０２ 支持部
２０３ 搬送アーム駆動部
３００ 制御部
Ｗ 基板
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板を一時的に待機させる基板待機装置およびそれを備えた基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板等の基板に種々の処理を行うために基板処理装置が用いられている。例えば、生産効率を高めるために、一連の処理の各々をユニット化し、複数の処理ユニットを統合した基板処理装置が用いられている。
【０００３】
この基板処理装置においては、各処理ユニット間の基板の受け渡しに一時的に基板を待機させる基板待機装置が設けられる（例えば、特許文献１および２参照）。
【０００４】
基板は、基板搬送装置によって基板処理装置内に供給される。この場合、基板処理装置内の基板待機装置は、基板を受け取り一時的に基板を待機させた後、基板を所定の処理工程へと移行させる。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１０−１５４６５２号公報
【特許文献２】
特開平９−１９９４６０号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、近年においては基板が大径化しつつあり、基板を支持する基板搬送装置の搬送アーム（基板支持部）が多種多様な形状を有するようになっている。この場合、基板搬送装置の搬送アームの形状を変更するたびに基板待機装置を設計し直すとコストがかかる。
【０００７】
本発明の目的は、任意の形状を有する基板支持部に対して基板を受け渡しすることが可能な基板待機装置およびそれを備えた基板処理装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
本発明に係る基板待機装置は、基板を支持した状態で待機位置に進退可能な基板搬送手段に対して前記待機位置で基板の受け渡しを行う基板待機装置であって、基板搬送手段の進退経路の側方から進退経路に交差する方向に沿って待機位置に対して進退可能に設けられ、基板の下面を支持する基板待機手段と、待機位置よりも低い位置から待機位置よりも高い位置まで上下動可能に設けられ、基板の下面を支持する基板支持手段と、基板搬送手段と基板待機手段との間での基板の受け渡しおよび基板待機手段と基板支持手段との間での基板の受け渡しが行われるように基板待機手段および基板支持手段を制御する制御手段とを備えるものである。
【０００９】
本発明に係る基板待機装置においては、基板が基板搬送手段により基板待機位置に搬入または基板待機位置から搬出される。基板待機手段は、基板搬送手段の進退経路の側方からその進退経路に交差する方向に沿って進退する。それにより、基板待機手段と基板搬送手段との接触が回避される。その結果、基板待機装置は、任意の形状を有する基板搬送手段に対して基板を受け渡しすることが可能である。
【００１０】
また、基板支持手段は、基板待機位置よりも低い位置から基板待機位置よりも高い位置まで上昇する。それにより、基板待機手段と基板支持手段との間で基板の受け渡しが行われる。
【００１１】
基板支持手段は、基板待機手段が待機位置に前進した状態で基板待機手段に接触しないように上下動可能に配置されてもよい。
【００１２】
この場合、基板支持手段が上下動しても待機位置に前進した基板待機手段に接触することはない。したがって、基板待機手段と基板支持手段との間で基板の受け渡しが行われる。
【００１３】
基板待機手段は、基板搬送手段の進退経路の側方に配置された第１の部材と、第１の部材に対して待機位置に向かう方向に進退可能に設けられた１または複数の第２の部材と、１または複数の第２の部材上に設けられ、基板の下面を支持する支持部とを含んでもよい。
【００１４】
この場合、支持部が基板を支持しつつ、第１の部材から１または複数の第２の部材が待機位置に向かって進退する。したがって、基板待機手段と基板搬送手段との間で基板の受け渡しを行うことができる。
【００１５】
支持部は、基板搬送手段が基板を支持する支点のうち最外方の支点よりも内方を支持してもよい。この場合、基板搬送手段が基板を支持する支点のうち最外方の支点よりも内方の点が支持部により支持される。したがって、支持部が基板を支持する際に基板のたわみを低減することができる。
【００１６】
基板支持手段は、待機位置の基板の下面に当接可能に上下動自在に設けられた複数の当接部材と、複数の当接部材を上下動させる駆動手段とを含んでもよい。この場合、複数の当接部材は駆動手段により上下動する。したがって、基板支持手段は、基板待機手段との間で基板の受け渡しを行うことができる。
【００１７】
基板待機手段よりも低い位置でかつ基板支持手段の最下位置より高い位置に設けられ、基板を搬送する搬送手段をさらに備えてもよい。この場合、基板支持手段は、搬送手段より低い位置から基板待機位置まで上下動する。
【００１８】
したがって、基板支持手段が上下動することにより、基板支持手段と搬送手段との間で基板の受け渡しを行うことができる。
【００１９】
基板に処理を行うための基板処理装置であって、基板を支持した状態で待機位置に進退可能に設けられた基板搬送手段と、基板搬送手段の進退経路の両側方から進退経路に交差する方向に沿って待機位置に進退可能に設けられ、基板の下面を支持する少なくとも１対の基板待機手段と、待機位置よりも低い位置から待機位置よりも高い位置まで上下動可能に設けられ、基板の下面を支持する基板支持手段と、基板搬送手段と基板待機手段との間での基板の受け渡しおよび基板待機手段と基板支持手段との間での基板の受け渡しが行われるように基板待機手段および基板支持手段を制御する制御手段とを備えるものである。
【００２０】
本発明に係る基板処理装置においては、基板が基板搬送手段により基板待機位置に搬入または基板待機位置から搬出される。基板待機手段は、基板搬送手段の進退経路の側方からその進退経路に交差する方向に沿って進退する。それにより、基板待機手段と基板搬送手段との接触が回避される。その結果、基板処理装置は、任意の形状を有する基板搬送手段に対して基板を受け渡しすることが可能である。
【００２１】
また、基板支持手段は、基板待機位置よりも低い位置から基板待機位置よりも高い位置まで上昇する。それにより、基板待機手段と基板支持手段との間で基板の受け渡しが行われる。したがって、基板待機装置は、任意の形状を有する基板搬送手段に対して基板を受け渡しすることが可能である。
【００２２】
【発明の実施の形態】
（第１の実施の形態）
図１は本発明の一実施の形態に係る基板待機装置１００の概略的平面図であり、図２は図１の基板待機装置１００の概略的正面図である。以下、図１および図２を参照して基板待機装置１００の説明を行う。
【００２３】
ここで、互いに直交する３方向を第１の方向Ｘ、第２の方向Ｙおよび第３の方向Ｚとする。第３の方向Ｚは鉛直上向きを指示している。第１の方向Ｘおよび第２の方向Ｙは水平面を形成する。
【００２４】
また、基板とは、液晶表示用ガラス基板、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、半導体ウエハ等をいう。
【００２５】
図１および図２に示すように、基板待機装置１００は、一対のアーム支持板１０１、一対のローラ支持板１０２、複数の搬送ローラ１０３、一対の基板待機アーム１１０、複数の基板支持部１２０および搬送ローラ駆動部１３０（図１０参照）を含む。
【００２６】
一対のアーム支持板１０１は、図２の底面部材１０５の両側に第２の方向Ｙに沿って垂直に取り付けられている。ローラ支持板１０２は、アーム支持板１０１の内側において第２の方向Ｙに沿って底面部材１０５に垂直に取り付けられている。
【００２７】
一対の基板待機アーム１１０は一対のアーム支持板１０１の上端部にそれぞれ取り付けられている。
【００２８】
一対の基板待機アーム１１０は、内方へ多段的に進退する複数の部材から構成される。また、各基板待機アーム１１０の上面には複数の基板支持ピン１１１が設けられている。それにより、複数の基板支持ピン１１１上に基板Ｗを載置することが可能である。基板待機アーム１１０の構造および動作の詳細は後述する。
【００２９】
複数の搬送ローラ１０３は、基板待機アーム１１０よりも下方に第１の方向Ｘからやや傾斜した方向に延びるように設けられており、両端部が一対のローラ支持板１０２のそれぞれに回転自在に取り付けられている。後述する搬送ローラ駆動部１３０の駆動により、各搬送ローラ１０３は一斉に同一方向に回転する。それにより、基板Ｗを搬送ローラ１０３上に支持しつつ第２の方向Ｙに搬送することができる。
【００３０】
各基板支持部１２０は、プッシャピン駆動部１２１、ピストンロッド１２２、プッシャピン支持部１２３および複数のプッシャピン１２４を備える。
【００３１】
ピストンロッド１２２は、プッシャピン駆動部１２１に第３の方向Ｚに伸縮可能に設けられている。プッシャピン支持部１２３は、第１の方向Ｘに延びるようにピストンロッド１２２の上端部に設けられている。各プッシャピン１２４は、プッシャピン支持部１２３上に第３の方向Ｚに延びるように取り付けられている。
【００３２】
各基板支持部１２０は、ピストンロッド１２２が上昇した状態でピストンロッド１２２、プッシャピン支持部１２３およびプッシャピン１２４が基板待機アーム１１０および搬送ローラ１０３に当たらないように配置されている。
【００３３】
ピストンロッド１２２が最も上昇した状態では、各プッシャピン１２４の先端は基板待機アーム１１０よりも上方に位置し、ピストンロッド１２２が最も下降した状態では、各プッシャピン１２４の先端は複数の搬送ローラ１０３よりも下方に位置する。
【００３４】
図１の搬送アーム２００は、基板待機装置１００に進退可能、上下動可能および第３の方向Ｚの周りで回転可能に設けられている。搬送アーム２００により、基板待機装置１００に基板Ｗが搬入される。搬送アーム２００は、保持部２０１および複数の棒状の支持部２０２により構成される。複数の支持部２０２は、互いに平行に保持部２０１に設けられている。搬送アーム２００は、支持部２０２上に基板Ｗを支持した状態で基板待機装置１００に進入し、図２に示す状態から下降することにより基板支持ピン１１１上に基板Ｗを搬入する。
【００３５】
図３は、図１の基板待機アーム１１０の模式的平面図であり、図４は、図３の基板待機アーム１１０の模式的正面図である。以下、図３および図４を参照して基板待機アーム１１０の構造および動作を説明する。
【００３６】
図３および図４に示すように、基板待機アーム１１０は、複数の基板支持ピン１１１、アーム部１１２，１１３，１１４およびアーム用シリンダ１１５，１１６を含む。
【００３７】
アーム用シリンダ１１５は、ピストン部１１５ａおよびシリンダ部１１５ｂを含む。アーム用シリンダ１１６は、ピストン部１１６ａおよびシリンダ部１１６ｂを含む。ピストン部１１５ａは、シリンダ部１１５ｂに第１の方向Ｘに沿って進退自在に設けられている。ピストン部１１６ａは、シリンダ部１１６ｂに第１の方向Ｘに沿って進退自在に設けられている。
【００３８】
アーム部１１４の上面には、アーム用シリンダ１１６が第１の方向Ｘに延びるように取り付けられている。アーム用シリンダ１１６のピストン部１１６ａの先端部は、アーム部１１３の下面に取り付けられている。それにより、ピストン部１１６ａとアーム部１１３とが一体となってアーム部１１４に対して相対的に進退する。
【００３９】
アーム部１１３の上面には、アーム用シリンダ１１５が第１の方向Ｘに延びるように取り付けられている。アーム用シリンダ１１５のピストン部１１５ａの先端部は、アーム部１１４の下面に取り付けられている。それにより、ピストン部１１５ａとアーム部１１２とが一体となってアーム部１１３に対して相対的に進退する。
【００４０】
アーム部１１２は、第２の方向Ｙに延びるフレーム１１７と第１の方向Ｘに延びる複数のアーム１１８とから構成される。アーム部１１２のアーム１１８の両端部の上面には、基板支持ピン１１１が第３の方向Ｚに延びるように設けられている。
【００４１】
次に、基板待機アーム１１０の動作について説明する。
図３（ａ）および図４（ａ）は、基板待機アーム１１０の動作前の状態を示す。
【００４２】
前進動作の場合には、制御部からの信号を受信することにより、図３（ｂ）および図４（ｂ）に示すように、ピストン部１１６ａが前進する。それに伴い、アーム部１１２，１１３がピストン部１１６ａと一体となってアーム部１１４に対して前進する。続いて、図３（ｃ）および図４（ｃ）に示すように、ピストン部１１５ａが前進する。それに伴い、アーム部１１２がピストン部１１５ａと一体となってアーム部１１３に対して前進する。
【００４３】
後退動作の場合には、制御部からの信号を受信することにより、ピストン部１１５ａが後退した後、ピストン部１１６ａが後退する。それにより、基板待機アーム１１０は図３（ａ）および図４（ａ）に示すように動作前の状態に戻る。
【００４４】
なお、本実施の形態においては、前進動作の場合にはピストン部１１６ａが前進してからピストン部１１５ａが前進し、後退動作の場合にはピストン部１１５ａが後退してからピストン部１１６ａが後退しているが、それに限られない。
【００４５】
例えば、前進動作の場合にはピストン部１１５ａが前進してからピストン部１１６ａが前進し、後退動作の場合にはピストン部１１６ａが後退してからピストン部１１５ａが後退してもよい。また、ピストン部１１５ａ，１１６ａが同時に前進退してもよい。
【００４６】
図５は、図１の基板待機装置１００の制御系の構成を示すブロック図である。制御部３００は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）、半導体メモリ等からなる。図５に示すように、制御部３００は、アーム用シリンダ１１５，１１６、プッシャピン駆動部１２１、搬送ローラ駆動部１３０および搬送アーム駆動部２０３を制御する。搬送ローラ駆動部１３０は図１および図２の搬送ローラ１０３を回転駆動する。また、搬送アーム駆動部２０３は図１および図２の搬送アーム２００を駆動する。制御部３００は、以下に示す搬送アーム２００による基板Ｗの搬入から搬送ローラ１０３による基板Ｗの搬出までの動作を制御する。
【００４７】
図６〜図１０は、基板待機装置１００の動作を示す模式図である。以下、図１および図６〜図１０を参照して基板待機装置１００の基板受け入れ動作を説明する。
【００４８】
なお、図６〜図１０においては、図１の搬送ローラ１０３および基板支持部１２０は図示を省略している。
【００４９】
まず、図１に示すように、基板待機アーム１１０が前進する（図３（ｃ）および図４（ｃ）の状態）。次に、図６に示すように、基板Ｗを支持する搬送アーム２００が第２の方向Ｙに移動して基板待機装置１００に進入して停止する。
【００５０】
次いで、搬送アーム２００が、下降する。基板支持ピン１１１の高さは、支持部２０２の厚みよりも大きい。それにより、図７に示すように、複数の基板支持ピン１１１によって基板Ｗが支持されれば、基板Ｗは支持部２０２から離れる。このとき、複数の基板支持ピン１１１は、支持部２０２が基板を支える支点のうち最外方の支点の外方および内方を支持する。それにより、基板Ｗのたわみを防止することができる。
【００５１】
基板支持ピン１１１に基板Ｗが支持されると、搬送アーム２００の下降動作が停止する。その後、搬送アーム２００は、第２の方向Ｙと逆向きに後退する。この状態で基板Ｗは基板支持ピン１１１上で待機する。
【００５２】
その後、図８に示すように、ピストンロッド１２２が上昇し、基板Ｗが複数のプッシャピン１２４により支持される。それにより、基板Ｗは、基板支持ピン１１１から離れる。
【００５３】
次いで、図９に示すように、基板待機アーム１１０が後退する（図３（ａ）および図４（ａ）の状態）。この状態では、ピストンロッド１２２が下降しても基板Ｗと基板待機アーム１１０とが接触することはない。
【００５４】
次に、図１０に示すように、ピストンロッド１２２が下降し、基板Ｗが複数の搬送ローラ１０３によって支持される。それにより、基板Ｗは、ピストンロッド１２２から離れる。その後、基板Ｗは、搬送ローラ１０３により搬送される。
【００５５】
なお、複数の基板Ｗが順々に搬送アーム２００から基板待機装置１００に供給される場合には、一の基板Ｗが搬送ローラ１０３に渡された後に次の基板Ｗが搬送アーム２００から供給され、図６〜図１０の動作が繰り返される。
【００５６】
以上、図６〜図１０で説明したように、本実施の形態に係る基板待機装置１００は、搬送アーム２００により供給された基板を所定の処理工程に移行させることができる。
【００５７】
また、本実施の形態に係る基板待機装置１００は、基板待機アーム１１０が搬送アーム２００の進退経路の側方に進退可能に設けられているので、任意の形状の支持部２０２を有する搬送アーム２００に対して基板の受け渡しが可能である。
【００５８】
なお、本実施の形態においては、基板待機装置１００は、搬送アーム２００により供給された基板を所定の処理工程に移行させたが、それに限られない。例えば、搬送ローラ１０３により搬送された基板を基板支持部１２０が受け取り、基板支持部１２０の上昇後に基板待機アーム１１０が基板を受け取り、搬送アーム２００がその基板を受け取ってもよい。
【００５９】
本実施の形態においては、基板待機アーム１１０が基板待機手段に相当し、基板支持部１２０が基板支持手段に相当し、制御部３００が制御手段に相当し、アーム部１１４が第１の部材に相当し、アーム部１１２，１１３が第２の部材に相当し、基板支持ピン１１１が支持部に相当し、プッシャピン１２４が当接部材に相当し、プッシャピン駆動部１２１が駆動手段に相当し、搬送ローラ１０３が搬送手段に相当する。
【００６０】
（第２の実施の形態）
図１１および図１２は、本発明の第２の実施の形態に係る基板待機装置１００ａの概略的平面図である。以下、図１１および図１２を参照して基板待機装置１００ａの説明を行う。
【００６１】
なお、図１１および図１２においては、図１の搬送ローラ１０３および基板支持部１２０の図示を省略している。
【００６２】
図１１および図１２の基板待機装置１００ａが図１の基板待機装置１００と異なる点は、基板待機アーム１１０ａのアーム部１１２ａの形状である。図１１および図１２に示すように、アーム部１１２ａは、第２の方向Ｙに延びるフレーム１１７ａと第１の方向Ｘに延びる２本のアーム１１８ａとから構成される。各アーム１１８ａは、フレーム１１７ａの両端部から第１の方向Ｘに延びるように設けられている。各アーム１１８ａの両端部の上面には、基板支持ピン１１１が第３の方向Ｚに延びるように設けられている。
【００６３】
ここで、搬送アーム２００ａの支持部２０２ａの形状が第２の方向Ｙに一対角線を有する略菱形である場合を考える。この場合、まず搬送アーム２００ａが第２の方向Ｙに移動して基板待機装置１００ａに進入して停止する。その後、図１２に示すように、基板待機アーム１１０ａが前進する。
【００６４】
続いて、搬送アーム２００ａが下降すると、基板Ｗは基板支持ピン１１１に支持され、支持部２０２ａから基板Ｗが離れる。基板支持ピン１１１と支持部２０２ａとが同一水平面内に位置するときには搬送アーム２００ａが進退すると支持部２０２ａの一部と基板支持ピン１１１とが接触するため、搬送アーム２００ａは基板待機アーム１００ａよりも下方に下降する。その後、搬送アーム２００ａは第２の方向Ｙと逆向きに後退する。それにより、搬送アーム２００ａから基板待機装置１００ａへの基板Ｗの受け渡しが完了する。
【００６５】
このとき、基板支持ピン１１１は、支持部２０２ａが基板を支える支点のうち最外方の支点の外方および内方を支持する。それにより、基板Ｗのたわみを防止することができる。
【００６６】
以上、図１１および図１２で説明したように、本実施の形態に係る基板待機装置１００ａは、基板待機アーム１１０ａが搬送アーム２００ａの進退経路の側方に進退可能に設けられているので、任意の形状の支持部２０２ａを有する搬送アーム２００ａに対して基板の受け渡しが可能である。
【００６７】
本実施の形態においては、基板待機アーム１１０ａが基板待機手段に相当し、アーム部１１２ａ，１１３が第２の部材に相当する。
【００６８】
（第３の実施の形態）
図１３および図１４は、本発明の第３の実施の形態に係る基板待機装置１００ｂの概略的平面図である。以下、図１３および図１４を参照して基板待機装置１００ｂの説明を行う。
【００６９】
なお、図１３および図１４においては、図１の搬送ローラ１０３および基板支持部１２０の図示を省略いる。
【００７０】
図１３および図１４の基板待機装置１００ｂが図１の基板待機装置１００と異なる点は、基板待機アーム１１０ｂのアーム部１１２ｂの形状である。図１３および図１４に示すように、アーム部１１２ｂは、第２の方向Ｙに延びるフレーム１１７ｂと第１の方向Ｘに延びる３本のアーム１１８ｂとから構成される。各アーム１１８ｂは、フレーム１１７ｂの両端部および中央部から第１の方向Ｘに延びるように設けられている。各アーム１１８ｂの両端部の上面には、基板支持ピン１１１が第３の方向Ｚに延びるように設けられている。
【００７１】
ここで、搬送アーム２００ｂの支持部２０２ｂの形状が略８字状である場合を考える。この場合、まず搬送アーム２００ｂが第２の方向Ｙに移動して基板待機装置１００ｂに進入する。その後、図１４に示すように、基板待機アーム１１０ｂが前進する。
【００７２】
続いて、搬送アーム２００ｂが下降すると、基板Ｗは基板支持ピン１１１に支持され、支持部２０２ｂから基板Ｗが離れる。基板支持ピン１１１と支持部２０２ｂとが同一水平面内に位置するときには搬送アーム２００ｂが進退すると支持部２０２ｂの一部と基板支持ピン１１１とが接触するため、搬送アーム２００ｂは基板待機アーム１００ｂよりも下方に下降する。その後、搬送アーム２００ｂは第２の方向Ｙと逆向きに後退する。それにより、搬送アーム２００ｂから基板待機装置１００ｂへの基板Ｗの受け渡しが完了する。
【００７３】
このとき、基板支持ピン１１１は、支持部２０２ａが基板を支える支点のうち最外方の支点の外方および内方を支持する。それにより、基板Ｗのたわみを防止することができる。
【００７４】
以上、図１３および図１４で説明したように、本実施の形態に係る基板待機装置１００ｂは、基板待機アーム１１０ｂが搬送アーム２００ｂの進退経路の側方に進退可能に設けられているので、任意の形状の支持部２０２ｂを有する搬送アーム２００ｂに対して基板の受け渡しが可能である。
【００７５】
本実施の形態においては、基板待機アーム１１０ｂが基板待機手段に相当し、アーム部１１２ｂ，１１３が第２の部材に相当する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係る基板待機装置の概略的平面図である。
【図２】図１の基板待機装置の概略的正面図である。
【図３】図１の基板待機アームの模式的平面図である。
【図４】図３の基板待機アームの模式的正面図である。
【図５】図１の基板待機装置の制御系の構成を示すブロック図である。
【図６】基板待機装置の動作を示す模式図である。
【図７】基板待機装置の動作を示す模式図である。
【図８】基板待機装置の動作を示す模式図である。
【図９】基板待機装置の動作を示す模式図である。
【図１０】基板待機装置の動作を示す模式図である。
【図１１】本発明の第２の実施の形態に係る基板待機装置の概略的平面図である。
【図１２】本発明の第２の実施の形態に係る基板待機装置の概略的平面図である。
【図１３】本発明の第３の実施の形態に係る基板待機装置の概略的平面図である。
【図１４】本発明の第３の実施の形態に係る基板待機装置の概略的平面図である。
【符号の説明】
１００ 基板待機装置
１０１ アーム支持板
１０２ ローラ支持板
１０３ 搬送ローラ
１１０ 基板待機アーム
１１１ 基板支持ピン
１１２，１１３，１１４ アーム部
１１５，１１６ アーム用シリンダ
１２０ 基板支持部
１２１ プッシャピン駆動部
１２２ ピストンロッド
１２３ プッシャピン支持部
１２４ プッシャピン
１３０ 搬送ローラ駆動部
２００ 搬送アーム
２０１ 保持部
２０２ 支持部
２０３ 搬送アーム駆動部
３００ 制御部
Ｗ 基板
Claims (7)
- 基板を支持した状態で待機位置に進退可能な基板搬送手段に対して前記待機位置で基板の受け渡しを行う基板待機装置であって、
前記基板搬送手段の進退経路の側方から前記進退経路に交差する方向に沿って前記待機位置に対して進退可能に設けられ、基板の下面を支持する基板待機手段と、
前記待機位置よりも低い位置から前記待機位置よりも高い位置まで上下動可能に設けられ、基板の下面を支持する基板支持手段と、
前記基板搬送手段と前記基板待機手段との間での基板の受け渡しおよび前記基板待機手段と前記基板支持手段との間での基板の受け渡しが行われるように前記基板待機手段および前記基板支持手段を制御する制御手段とを備えたことを特徴する基板待機装置。 - 前記基板支持手段は、前記基板待機手段が前記待機位置に前進した状態で前記基板待機手段に接触しないように上下動可能に配置されたことを特徴とする請求項１記載の基板待機装置。
- 前記基板待機手段は、
前記基板搬送手段の進退経路の側方に配置された第１の部材と、
前記第１の部材に対して前記待機位置に向かう方向に進退可能に設けられた１または複数の第２の部材と、
前記１または複数の第２の部材上に設けられ、基板の下面を支持する支持部とを含むことを特徴とする請求項１または２記載の基板待機装置。 - 前記支持部は、前記基板搬送手段が前記基板を支持する支点のうち最外方の支点よりも内方を支持することを特徴とする請求項３に記載の基板待機装置。
- 前記基板支持手段は、
前記待機位置の基板の下面に当接可能に上下動自在に設けられた複数の当接部材と、
前記複数の当接部材を上下動させる駆動手段とを含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の基板待機装置。 - 前記基板待機手段よりも低い位置でかつ前記基板支持手段の最下位置より高い位置に設けられ、基板を搬送する搬送手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の基板待機装置。
- 基板に処理を行うための基板処理装置であって、
基板を支持した状態で待機位置に進退可能に設けられた基板搬送手段と、
前記基板搬送手段の進退経路の両側方から前記進退経路に交差する方向に沿って前記待機位置に進退可能に設けられ、基板の下面を支持する少なくとも１対の基板待機手段と、
前記待機位置よりも低い位置から前記待機位置よりも高い位置まで上下動可能に設けられ、基板の下面を支持する基板支持手段と、
前記基板搬送手段と前記基板待機手段との間での基板の受け渡しおよび前記基板待機手段と前記基板支持手段との間での基板の受け渡しが行われるように前記基板待機手段および前記基板支持手段を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003081032A JP4133489B2 (ja) | 2003-03-24 | 2003-03-24 | 基板待機装置およびそれを備えた基板処理装置 |
| CNB2004100082046A CN1285099C (zh) | 2003-03-24 | 2004-03-01 | 基板待机装置及具有该装置的基板处理装置 |
| TW093106960A TWI245738B (en) | 2003-03-24 | 2004-03-16 | Substrate waiting apparatus and substrate processing apparatus using the same |
| KR1020040018646A KR100591567B1 (ko) | 2003-03-24 | 2004-03-19 | 기판 대기장치 및 그것을 구비한 기판 처리장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003081032A JP4133489B2 (ja) | 2003-03-24 | 2003-03-24 | 基板待機装置およびそれを備えた基板処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004288991A true JP2004288991A (ja) | 2004-10-14 |
| JP4133489B2 JP4133489B2 (ja) | 2008-08-13 |
Family
ID=33294716
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003081032A Expired - Fee Related JP4133489B2 (ja) | 2003-03-24 | 2003-03-24 | 基板待機装置およびそれを備えた基板処理装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4133489B2 (ja) |
| KR (1) | KR100591567B1 (ja) |
| CN (1) | CN1285099C (ja) |
| TW (1) | TWI245738B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010027893A (ja) * | 2008-07-22 | 2010-02-04 | Ｓｕｍｃｏ Ｔｅｃｈｘｉｖ株式会社 | 半導体ウェーハの支持具 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100409424C (zh) * | 2005-04-26 | 2008-08-06 | 大日本网目版制造株式会社 | 基板处理装置 |
| CN101339316B (zh) * | 2007-07-02 | 2010-07-28 | 显示器生产服务株式会社 | 基板输送装置 |
| JP5218000B2 (ja) | 2008-12-12 | 2013-06-19 | 株式会社Ｉｈｉ | 基板保管供給システム |
| CN102136407B (zh) * | 2009-12-31 | 2013-11-06 | 丽佳达普株式会社 | 基板处理装置的导引架 |
-
2003
- 2003-03-24 JP JP2003081032A patent/JP4133489B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-03-01 CN CNB2004100082046A patent/CN1285099C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-03-16 TW TW093106960A patent/TWI245738B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-03-19 KR KR1020040018646A patent/KR100591567B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010027893A (ja) * | 2008-07-22 | 2010-02-04 | Ｓｕｍｃｏ Ｔｅｃｈｘｉｖ株式会社 | 半導体ウェーハの支持具 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1532888A (zh) | 2004-09-29 |
| JP4133489B2 (ja) | 2008-08-13 |
| KR100591567B1 (ko) | 2006-06-19 |
| TW200422243A (en) | 2004-11-01 |
| CN1285099C (zh) | 2006-11-15 |
| TWI245738B (en) | 2005-12-21 |
| KR20040084661A (ko) | 2004-10-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080602 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110606 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120606 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| S533 | Written request for registration of change of name |
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