KR101003725B1 - 진공처리장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (24)
- 상측에 개구부가 형성된 챔버본체와, 상기 챔버본체에 착탈가능하도록 결합되어 상기 챔버본체의 개구부를 개폐하는 상부리드를 포함하는 챔버와; 상기 상부리드를 회전시켜 상기 챔버본체로부터 분리시키는 탈착기구를 포함하며,상기 상부리드는 상기 챔버본체에 구속되지 않은 상태로 상기 탈착기구와 결합된 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 청구항 1에 있어서,상기 탈착기구는,상기 상부리드를 지지하도록 상기 상부리드와 결합되는 지지부와;상기 지지부를 회전시켜 상기 지지부가 지지하고 있는 상기 상부리드를 상기 챔버본체로부터 분리시키는 회동구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 청구항 2에 있어서,상기 회동구동부는,상기 지지부의 회전중심을 기준으로 상기 상부리드와 결합되는 부분을 일정한 회전반경으로 회전시키는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 청구항 3에 있어서,상기 탈착기구는, 상기 지지부에 대한 상기 상부리드의 상대이동없이, 상기 상부리드를 상기 챔버본체로부터 분리하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 청구항 3에 있어서,상기 탈착기구는, 상기 상부리드를 상기 챔버본체에 대하여 수평상태를 유지하면서 상기 상부리드를 상기 챔버본체로부터 분리하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 상측에 개구부가 형성된 챔버본체와, 상기 챔버본체에 착탈가능하도록 결합되어 상기 챔버본체의 개구부를 개폐하는 상부리드를 포함하는 챔버와; 상기 상부리드를 회전시켜 상기 챔버본체로부터 분리시키는 탈착기구를 포함하며,상기 탈착기구는, 상기 상부리드를 지지하도록 상기 상부리드와 결합되는 지지부와; 상기 지지부를 회전시켜 상기 지지부가 지지하고 있는 상기 상부리드를 상기 챔버본체로부터 분리시키는 회동구동부를 포함하며,상기 탈착기구는, 상기 지지부에 대한 상기 상부리드의 상대이동없이, 상기 상부리드를 상기 챔버본체로부터 분리하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 상측에 개구부가 형성된 챔버본체와, 상기 챔버본체에 착탈가능하도록 결합되어 상기 챔버본체의 개구부를 개폐하는 상부리드를 포함하는 챔버와; 상기 상부리드를 회전시켜 상기 챔버본체로부터 분리시키는 탈착기구를 포함하며,상기 탈착기구는, 상기 상부리드를 지지하도록 상기 상부리드와 결합되는 지지부와; 상기 지지부를 회전시켜 상기 지지부가 지지하고 있는 상기 상부리드를 상기 챔버본체로부터 분리시키는 회동구동부를 포함하며,상기 탈착기구는, 상기 상부리드를 상기 챔버본체에 대하여 수평상태를 유지하면서 상기 상부리드를 상기 챔버본체로부터 분리하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치
- 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 탈착기구는 상기 상부리드가 상기 챔버본체로부터 분리된 후 상기 챔버본체와 간섭받지 않고 회전될 수 있는 위치로, 상기 상부리드를 분리시키는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 청구항 2 내지 청구항 7 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 지지부는상기 상부리드를 지지하도록 상기 상부리드와 결합되는 제1지지부와;상기 제1지지부와 결합되고, 상기 회동구동부에 의해 회전되도록 설치되는 제2지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 청구항 9에 있어서,상기 제1지지부는, 상기 상부리드의 양쪽에 각각 배치되어 상기 상부리드와 결합되는 한 쌍의 결합부를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 청구항 2 내지 청구항 7 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 회동구동부는,상기 지지부를 밀거나 당겨서 회전시키는 스크류 잭과,상기 스크류 잭을 구동시키는 회전구동장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 상부리드를 상기 챔버본체로부터 승강시키는 승강기구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 청구항 12에 있어서,상기 챔버본체와 상기 상부리드 사이에 개재되는 밀봉부재를 더 포함하고,상기 승강기구는 상기 상부리드를 상기 밀봉부재보다 높게 상승시키는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 청구항 12에 있어서,상기 상부리드는 결합부재에 의하여 상기 탈착기구와 회전가능하게 결합되고;상기 승강기구는 상기 결합부재의 외측에 편심되게 결합된 캠부재와, 상기 캠부재의 회전에 의해 상기 상부리드가 승강될 수 있도록 상기 캠부재를 회전시키는 캠 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 청구항 12에 있어서,상기 상부리드는 상기 탈착기구와 결합부재에 의해 결합되고;상기 승강기구는 상기 결합부재와 결합되어 상기 상부리드를 승강시키는 실린더부를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 청구항 12에 있어서,상기 상부리드는 상기 탈착기구와 회전가능하게 결합되고,상기 상부리드를 상기 탈착기구에 대하여 회전시키는 회전기구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 상부리드는 상기 탈착기구와 회전가능하게 결합되고;상기 상부리드를 상기 탈착기구에 대하여 회전시키는 회전기구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 청구항 17에 있어서,상기 회전기구는,상기 결합부재와 연결되어 상기 상부리드를 밀거나 당기면서 회전시키는 실린더부를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 청구항 8에 있어서,상기 챔버본체와 간섭받지 않고 회전될 수 있는 위치로, 상기 상부리드가 분리된 후에,상기 탈착기구는 상기 상부리드를 상기 챔버본체에 대하여 수직 또는 경사를 이루도록 더 회전시키는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 상측에 개구부가 형성된 챔버본체와, 상기 챔버본체에 착탈가능하도록 결합되어 상기 챔버본체의 개구부를 개폐하는 상부리드를 포함하는 챔버와; 상기 상부리드를 회전시켜 상기 챔버본체로부터 분리시키는 탈착기구를 포함하는 진공처리장치의 상부리드 분리방법으로서,상기 탈착기구는, 상기 상부리드를 지지하도록 상기 상부리드와 결합되는 지지부와; 상기 지지부를 회전시켜 상기 지지부가 지지하고 있는 상기 상부리드를 상기 챔버본체로부터 분리시키는 회동구동부를 포함하며,상기 탈착기구는, 상기 지지부에 대한 상기 상부리드의 상대이동없이, 상기 지지부를 회전시켜 상기 상부리드를 상기 챔버본체로부터 분리하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치의 상부리드 분리방법.
- 상측에 개구부가 형성된 챔버본체와, 상기 챔버본체에 착탈가능하도록 결합되어 상기 챔버본체의 개구부를 개폐하는 상부리드를 포함하는 챔버와; 상기 상부리드를 회전시켜 상기 챔버본체로부터 분리시키는 탈착기구를 포함하는 진공처리장치의 상부리드 분리방법으로서,상기 탈착기구는, 상기 상부리드를 지지하도록 상기 상부리드와 결합되는 지지부와; 상기 지지부를 회전시켜 상기 지지부가 지지하고 있는 상기 상부리드를 상기 챔버본체로부터 분리시키는 회동구동부를 포함하며,상기 탈착기구는, 상기 상부리드를 상기 챔버본체에 대하여 수평상태를 유지하면서 상기 지지부를 회전시켜 상기 상부리드를 상기 챔버본체로부터 분리하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치의 상부리드 분리방법.
- 청구항 20 또는 청구항 21에 있어서,상기 탈착기구에 의하여 상기 상부리드를 회전시키기 전에 상기 챔버본체에 대하여 상기 상부리드를 상승시키는 것을 특징으로 하는 진공처리장치의 상부리드 분리방법.
- 청구항 22에 있어서,상기 상부리드는 상기 챔버본체와 상기 상부리드 사이에 개재되는 밀봉부재보다 높게 상승시키는 것을 특징으로 하는 진공처리장치의 상부리드 분리방법.
- 청구항 21에 있어서,상기 탈착기구에 의하여 상기 상부리드가 회전되어 상기 챔버본체로부터 분리된 후,상기 챔버본체에 대하여 수직 또는 경사를 이루도록 추가로 회전시키는 것을 특징으로 하는 진공처리장치의 상부리드 분리방법.
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US20030054668A1 (en) | 2001-09-19 | 2003-03-20 | Tokyo Electron Limited | Reduced-pressure drying unit and coating film forming method |
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