JP6260449B2 - 量子ドットアレイの製造装置及び製造方法 - Google Patents
量子ドットアレイの製造装置及び製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6260449B2 JP6260449B2 JP2014100512A JP2014100512A JP6260449B2 JP 6260449 B2 JP6260449 B2 JP 6260449B2 JP 2014100512 A JP2014100512 A JP 2014100512A JP 2014100512 A JP2014100512 A JP 2014100512A JP 6260449 B2 JP6260449 B2 JP 6260449B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- quantum dot
- heat treatment
- silicon compound
- compound film
- diameter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 title claims description 152
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 73
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 52
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 claims description 34
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 11
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 9
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 4
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 50
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 26
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N Nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229960001730 nitrous oxide Drugs 0.000 description 1
- 235000013842 nitrous oxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Recrystallisation Techniques (AREA)
Description
本発明は、量子ドットアレイの製造装置及び製造方法に関する。
量子ドットアレイを含む太陽光発電装置の変換効率は理論的には60%以上にまで高められるとされ、太陽光発電装置の実用化の期待が高まっている。量子ドットに吸収される光の波長は量子ドットの直径に依存する。このため、直径が異なる複数の量子ドットを含ませることにより種々の波長の光を電力に変換することができる。
しかしながら、従来、所望の直径の量子ドットを所望の間隔で安定して形成することは容易でない。このため、量子ドットアレイの特性が安定しない。
L. A. Nesbit, Appl. Phys. Lett. 46, 38 (1985)
本発明の目的は、所望の直径及び間隔の量子ドットを安定して形成することができる量子ドットアレイの製造装置及び製造方法を提供することにある。
量子ドットアレイの製造装置の一態様は、複数の量子ドットが配列した量子ドット層を含む量子ドットアレイを製造する装置であって、この一態様には、シリコン化合物膜に熱処理を施した場合に当該シリコン化合物膜から得られる、直径が当該シリコン化合物膜の厚さと等しい複数の量子ドットの間隔と、当該熱処理の条件を反映するパラメータと、当該シリコン化合物膜の組成と、の関係を示す関係式を記憶した記憶手段と、量子ドット層内での量子ドットの直径及び間隔を取得する取得手段と、前記関係式に基づき、前記取得手段により取得された直径及び間隔からシリコン化合物膜の組成及び熱処理の条件を計算する計算手段と、前記計算手段により計算された前記組成を備えたシリコン化合物膜を、前記取得手段により取得された前記直径と等しい厚さで形成するプラズマ化学気相成長装置と、前記計算手段により計算された前記熱処理の条件で、前記プラズマ化学気相成長装置により形成されたシリコン化合物膜の熱処理を行う熱処理装置と、が含まれている。
量子ドットアレイの製造方法の一態様は、複数の量子ドットが配列した量子ドット層を含む量子ドットアレイを製造する方法であって、シリコン化合物膜に熱処理を施した場合に当該シリコン化合物膜から得られる、直径が当該シリコン化合物膜の厚さと等しい複数の量子ドットの間隔と、当該熱処理の条件を反映するパラメータと、当該シリコン化合物膜の組成と、の関係を示す関係式に基づき、形成しようとする量子ドット層内での量子ドットの直径及び間隔からシリコン化合物膜の組成及び熱処理の条件を計算する。前記組成を備えたシリコン化合物膜を、プラズマ化学気相成長装置を用いて前記直径と等しい厚さで形成し、前記熱処理の条件で、前記プラズマ化学気相成長装置により形成されたシリコン化合物膜の熱処理を行う。
上記の量子ドットアレイの製造装置等によれば、適切な関係式を用いてシリコン化合物膜の組成及び熱処理の条件を得るため、所望の直径及び間隔の量子ドットを安定して形成することができる。
以下、実施形態について添付の図面を参照しながら具体的に説明する。図1は、実施形態に係る量子ドットアレイの製造装置の構成を示すブロック図である。
本実施形態に係る量子ドットアレイの製造装置100には、記憶部101、取得部102、計算部103、プラズマ化学気相成長(プラズマCVD)装置104及び熱処理装置105が含まれる。記憶部101は、シリコン酸化膜に熱処理を施した場合に当該シリコン酸化膜から得られる、直径が当該シリコン酸化膜の厚さと等しい複数の量子ドットの間隔と、当該熱処理の条件を反映するパラメータと、当該シリコン酸化膜の組成と、の関係を示す関係式を記憶している。取得部102は、量子ドット層内での量子ドットの直径及び間隔を取得する。計算部103は、記憶部101に記憶された関係式に基づき、取得部102により取得された直径及び間隔からシリコン酸化膜の組成及び熱処理の条件を計算する。プラズマCVD装置104は、計算部103により計算された組成を備えたシリコン酸化膜を、取得部102により取得された直径と等しい厚さで形成する。熱処理装置105は、取得部102により取得された熱処理の条件で、プラズマCVD装置により形成されたシリコン酸化膜の熱処理を行う。
次に、記憶部101が記憶した関係式について説明する。
SiOx(0<x<2)が熱処理によりSi及びSiO2に分離すると仮定すると、この反応は次の式で表される。
SiOx→(1−x/2)Si+(x/2)SiO2
SiOx→(1−x/2)Si+(x/2)SiO2
従って、SiOx膜からSi量子ドット及びSiO2膜が形成される場合、Si量子ドット及びSiO2膜の総体積VLに占めるSi量子ドットの体積Vの割合(V/VL)は次の式1で表される。ここでは、1molのSiO2の体積VSiO2が1molのSiの体積VSiの2倍であると近似している。
また、図2に示すように、SiOx膜から厚さがdのSiO2膜201及び2次元的に規則的に配列した直径がdのSi量子ドット202が形成されている場合、割合(V/VL)は、Si量子ドット202のピッチaを用いて次の式2で表すことができる。
従って、式1及び式2から下記の式3が導き出される。
従って、例えば、xが0.5の場合のSi量子ドット202の直径d1、xが1.0の場合のSi量子ドット202の直径d2、xが1.5の場合のSi量子ドット202の直径d3は、下記の式4で表される。
従って、直径dは下記の式5の近似式で表すことができる。
また、Si量子ドット202の間隔bは下記の式6で表される。
直径d1は熱処理の条件に依存するため、熱処理の条件が決まっていれば、Si量子ドット202の直径d及び間隔bはSiOxの組成で調整することができる。1100℃で15分間の熱処理を行った場合の直径d1は、熱処理の条件を反映するパラメータの一例である。逆に、SiOxの組成が決まっていれば、Si量子ドット202の直径d及び間隔bは熱処理の条件で調整することができる。つまり、Si量子ドット202の直径d及び間隔bの組み合わせは、SiOxの組成及び熱処理の条件の組み合わせで調整することができる。
本実施形態では、記憶部101が式5の関係式及び式6の関係式を記憶している。
次に、量子ドットアレイの製造装置100の動作、すなわち、量子ドットアレイの製造装置100を用いた量子ドットアレイの製造方法について説明する。図3は、量子ドットアレイの製造方法を示すフローチャートである。
先ず、取得部102が、量子ドット層内での量子ドットの直径及び間隔を取得する(ステップS301)。量子ドットの直径及び間隔は、例えば量子ドットアレイの設計情報に含まれ、この取得は、例えばオペレータによる入力により行われる。
次いで、計算部103が、記憶部101に記憶されている関係式(式5及び式6)に基づき、取得部102により取得された直径及び間隔からSiOx膜(0<x<2)の組成及び熱処理の条件を計算する(ステップS302)。
例えば、非特許文献1には、SiO0.72の熱処理を1100℃で15分間行った場合に直径が5nmのSi量子ドットが得られたことが記載されている。この場合、直径d1の値は5.626となる。従って、例えば、熱処理を1100℃で15分間行う場合、間隔bを1.5nmとするためには、xの値を1.16とすればよく、間隔bを2.5nmとするためには、xの値を1.49nmとすればよい。
その後、プラズマCVD装置104が、計算部103により計算された組成を備えたSiOx膜を、取得部102により取得された量子ドットの直径と等しい厚さで形成する(ステップS303)。プラズマCVD装置104は、例えば高周波プラズマ(RFプラズマ)CVD装置である。SiOx膜の形成では、例えば、シラン(SiH4)及び一酸化二窒素(N2O)の混合ガスが原料ガスとして用いられる。プラズマCVD装置104のチャンバ内の圧力は、例えば53Pa〜80Paであり、SiOx膜を形成する基板の温度は、例えば400℃〜500℃である。
SiOx膜のxの値は、例えば、RFプラズマの出力を一定とし、かつ混合ガスの流量比(SiH4の流量/N2Oの流量)を変化させるか、又は、混合ガスの流量比を一定とし、かつRFプラズマの出力を変化させることで調整することができる。
前者の場合、例えば、RFプラズマの出力を10W〜100Wの間のある一定値とする。また、N2Oの流量を例えば200sccmとしつつ、SiH4の流量を、xの値が0.5の場合は50sccm、xの値が1.0の場合は40sccm、xの値が1.5の場合は33sccmとする。
後者の場合、例えば、N2Oの流量を200sccmとし、SiH4の流量を40sccmとする。また、RFプラズマの出力を、xの値が0.5の場合は20W、xの値が1.0の場合は60W、xの値が1.5の場合は100Wとする。
続いて、熱処理装置105が、計算部103により計算された条件で、プラズマCVD装置104により形成されたSiOx膜の熱処理を行う(ステップS304)。例えば、1100℃で15分間の熱処理を行う。
この熱処理の結果、SiOx膜からSiO2膜及び2次元的に規則的に配列したSi量子ドットが形成される。SiOx膜の組成及び熱処理の条件が適切に計算されているため、形成されるSi量子ドットの直径及び間隔は所望のものとなる。
次に、上記の製造装置100を用いて、Si基板上に3つの量子ドット層を含む量子ドットアレイを製造する方法について説明する。ここでは、Si基板に近い量子ドット層ほど、当該量子ドット層に含まれるSi量子ドットの直径が大きいものとする。
先ず、設計情報に基づいて、形成しようとする量子ドット層の各々内での量子ドットの直径及び間隔を取得部102が取得する。
次いで、計算部103が、記憶部101に記憶されている関係式(式5及び式6)に基づき、取得部102により取得された直径及び間隔から、各量子ドット層に共通の熱処理の条件及び量子ドット層毎のSiOx膜(0<x<2)の組成を計算する。ここでは、基板側から順にxの値がx1、x2、x3となっているとする。つまり、最も基板側にSiOx1膜を形成し、その上方にSiOx2膜を形成し、その上方にSiOx3膜を形成するものとする。Si基板に近い量子ドット層ほど、当該量子ドット層に含まれるSi量子ドットの直径が大きいので、x1<x2<x3の関係が成り立つ。
その後、プラズマCVD装置104が、計算部103により計算された組成を備えたSiOx1膜、SiOx2膜及びSiOx3膜を、それぞれ取得部102により取得された量子ドットの直径と等しい厚さで形成する。本実施形態では、更に、隣り合う量子ドット層を離間するSiO2膜も形成する。
図4A乃至図4Bは、量子ドットアレイを製造する方法を工程順に示す断面図である。例えば、図4A(a)に示すように、Si基板401上にSiO2膜402を形成し、図4A(b)に示すように、SiO2膜402上にSiOx1膜403を形成する。更に、図4A(c)〜(g)に示すように、SiOx1膜403上にSiO2膜404を形成し、SiO2膜404上にSiOx2膜405を形成し、SiOx2膜405上にSiO2膜406を形成し、SiO2膜406上にSiOx3膜407を形成し、SiOx3膜407上にSiO2膜408を形成する。
続いて、熱処理装置105が、取得部102により取得された条件で、プラズマCVD装置104により形成されたSiO2膜402、SiOx1膜403、SiO2膜404、SiOx2膜405、SiO2膜406、SiOx3膜407及びSiO2膜408の熱処理を行う。この熱処理の結果、図4B(h)に示すように、SiOx1膜403から2次元的に規則的に配列したSi量子ドット411が形成され、SiOx2膜405から2次元的に規則的に配列したSi量子ドット412が形成され、SiOx3膜407から2次元的に規則的に配列したSi量子ドット413が形成される。SiOx1膜403から形成されたSi量子ドット411が量子ドット層421に含まれ、SiOx2膜405から形成されたSi量子ドット412が量子ドット層422に含まれ、SiOx3膜407から形成されたSi量子ドット413が量子ドット層423に含まれる。また、SiOx1膜403、SiOx2膜405及びSiOx3膜407からSiO2膜も形成され、これらとSiO2膜402、SiO2膜404、SiO2膜406及びSiO2膜408とを含むSiO2膜414が得られる。
SiOx1膜403、SiOx2膜405及びSiOx3膜407の各々の組成及び熱処理の条件が適切に計算されているため、形成されるSi量子ドット411、412及び413の直径及び間隔は所望のものとなる。
非特許文献1の記載を参考に直径d1の値として5.626を用いる場合、xの値とSi量子ドットの直径dとの関係、すなわち式5のグラフは図5に示すものとなる。図5中の直線L1が、直径d1の値が5.626の場合の式5のグラフを示している。Si量子ドットの直径は、熱処理の温度が高くなるほど、また時間が長くなるほど大きくなり、熱処理の温度が低くなるほど、また時間が短くなるほど小さくなる。従って、熱処理の温度を1100℃超としたり、時間を15分間超とする場合には、直線L2で示すようなグラフが得られ、熱処理の温度を1100℃未満としたり、時間を15分間未満とする場合には、直線L3で示すようなグラフが得られる。
本実施形態では、SiO0.5膜から形成されるSi量子ドットの直径d1が、熱処理の条件により定まる定数として用いられているが、他の組成のシリコン酸化膜から形成されるSi量子ドットの直径が熱処理の条件により定まる定数として用いられてもよい。すなわち、SiOa膜(0<a<2)をある特定の条件で熱処理することで形成されるSi量子ドットの直径が明らかになっている場合に、SiOa膜から形成されるSi量子ドットの直径を、熱処理の条件により定まる定数として用いてもよい。また、実験的にSiOb膜(0<b<2)をある特定の条件で熱処理することで形成されるSi量子ドットの直径を求めた上で、SiOb膜から形成されるSi量子ドットの直径を、熱処理の条件により定まる定数として用いてもよい。
また、シリコン酸化膜に代えてシリコン炭化膜を用いてもよい。例えば、SiOx膜(0<x<2)に代えて、SiCy膜(y<1)を用いてSi量子ドットを形成してもよい。Si基板上に複数の量子ドット層を含む量子ドットアレイを製造する場合は、例えば、隣り合う量子ドット層を離間するSiO2膜に代えてSiC膜を形成する。このように、シリコン酸化膜以外のシリコン化合物膜を用いてもよい。
以下、本発明の諸態様を付記としてまとめて記載する。
(付記1)
複数の量子ドットが配列した量子ドット層を含む量子ドットアレイを製造する装置であって、
シリコン化合物膜に熱処理を施した場合に当該シリコン化合物膜から得られる、直径が当該シリコン化合物膜の厚さと等しい複数の量子ドットの間隔と、当該熱処理の条件を反映するパラメータと、当該シリコン化合物膜の組成と、の関係を示す関係式を記憶した記憶手段と、
量子ドット層内での量子ドットの直径及び間隔を取得する取得手段と、
前記関係式に基づき、前記取得手段により取得された直径及び間隔からシリコン化合物膜の組成及び熱処理の条件を計算する計算手段と、
前記計算手段により計算された前記組成を備えたシリコン化合物膜を、前記取得手段により取得された前記直径と等しい厚さで形成するプラズマ化学気相成長装置と、
前記計算手段により計算された前記熱処理の条件で、前記プラズマ化学気相成長装置により形成されたシリコン化合物膜の熱処理を行う熱処理装置と、
を有することを特徴とする量子ドットアレイの製造装置。
複数の量子ドットが配列した量子ドット層を含む量子ドットアレイを製造する装置であって、
シリコン化合物膜に熱処理を施した場合に当該シリコン化合物膜から得られる、直径が当該シリコン化合物膜の厚さと等しい複数の量子ドットの間隔と、当該熱処理の条件を反映するパラメータと、当該シリコン化合物膜の組成と、の関係を示す関係式を記憶した記憶手段と、
量子ドット層内での量子ドットの直径及び間隔を取得する取得手段と、
前記関係式に基づき、前記取得手段により取得された直径及び間隔からシリコン化合物膜の組成及び熱処理の条件を計算する計算手段と、
前記計算手段により計算された前記組成を備えたシリコン化合物膜を、前記取得手段により取得された前記直径と等しい厚さで形成するプラズマ化学気相成長装置と、
前記計算手段により計算された前記熱処理の条件で、前記プラズマ化学気相成長装置により形成されたシリコン化合物膜の熱処理を行う熱処理装置と、
を有することを特徴とする量子ドットアレイの製造装置。
(付記2)
前記関係式は、
前記直径を、前記パラメータ及び前記組成で表した第1の関係式と、
前記間隔を、前記パラメータ及び前記組成で表した第2の関係式と、
を含むことを特徴とする付記1に記載の量子ドットアレイの製造装置。
前記関係式は、
前記直径を、前記パラメータ及び前記組成で表した第1の関係式と、
前記間隔を、前記パラメータ及び前記組成で表した第2の関係式と、
を含むことを特徴とする付記1に記載の量子ドットアレイの製造装置。
(付記3)
前記取得手段は、複数の量子ドット層内での量子ドットの直径及び間隔を取得し、
前記計算手段は、各量子ドット層に共通の熱処理の条件、及び量子ドット層毎の前記シリコン化合物膜の組成を計算することを特徴とする付記1又は2に記載の量子ドットアレイの製造装置。
前記取得手段は、複数の量子ドット層内での量子ドットの直径及び間隔を取得し、
前記計算手段は、各量子ドット層に共通の熱処理の条件、及び量子ドット層毎の前記シリコン化合物膜の組成を計算することを特徴とする付記1又は2に記載の量子ドットアレイの製造装置。
(付記4)
前記シリコン化合物膜として、シリコン酸化膜を形成することを特徴とする付記1乃至3のいずれか1項に記載の量子ドットアレイの製造装置。
前記シリコン化合物膜として、シリコン酸化膜を形成することを特徴とする付記1乃至3のいずれか1項に記載の量子ドットアレイの製造装置。
(付記5)
複数の量子ドットが配列した量子ドット層を含む量子ドットアレイを製造する方法であって、
シリコン化合物膜に熱処理を施した場合に当該シリコン化合物膜から得られる、直径が当該シリコン化合物膜の厚さと等しい複数の量子ドットの間隔と、当該熱処理の条件を反映するパラメータと、当該シリコン化合物膜の組成と、の関係を示す関係式に基づき、形成しようとする量子ドット層内での量子ドットの直径及び間隔からシリコン化合物膜の組成及び熱処理の条件を計算する工程と、
前記組成を備えたシリコン化合物膜を、プラズマ化学気相成長装置を用いて前記直径と等しい厚さで形成する工程と、
前記熱処理の条件で、前記プラズマ化学気相成長装置により形成されたシリコン化合物膜の熱処理を行う工程と、
を有することを特徴とする量子ドットアレイの製造方法。
複数の量子ドットが配列した量子ドット層を含む量子ドットアレイを製造する方法であって、
シリコン化合物膜に熱処理を施した場合に当該シリコン化合物膜から得られる、直径が当該シリコン化合物膜の厚さと等しい複数の量子ドットの間隔と、当該熱処理の条件を反映するパラメータと、当該シリコン化合物膜の組成と、の関係を示す関係式に基づき、形成しようとする量子ドット層内での量子ドットの直径及び間隔からシリコン化合物膜の組成及び熱処理の条件を計算する工程と、
前記組成を備えたシリコン化合物膜を、プラズマ化学気相成長装置を用いて前記直径と等しい厚さで形成する工程と、
前記熱処理の条件で、前記プラズマ化学気相成長装置により形成されたシリコン化合物膜の熱処理を行う工程と、
を有することを特徴とする量子ドットアレイの製造方法。
(付記6)
前記関係式は、
前記直径を、前記パラメータ及び前記組成で表した第1の関係式と、
前記間隔を、前記パラメータ及び前記組成で表した第2の関係式と、
を含むことを特徴とする付記5に記載の量子ドットアレイの製造方法。
前記関係式は、
前記直径を、前記パラメータ及び前記組成で表した第1の関係式と、
前記間隔を、前記パラメータ及び前記組成で表した第2の関係式と、
を含むことを特徴とする付記5に記載の量子ドットアレイの製造方法。
(付記7)
前記量子ドットアレイは複数の量子ドット層を有し、
前記シリコン化合物膜の組成及び熱処理の条件を計算する工程は、各量子ドット層に共通の熱処理の条件、及び量子ドット層毎の前記シリコン化合物膜の組成を計算する工程を有することを特徴とする付記5又は6に記載の量子ドットアレイの製造方法。
前記量子ドットアレイは複数の量子ドット層を有し、
前記シリコン化合物膜の組成及び熱処理の条件を計算する工程は、各量子ドット層に共通の熱処理の条件、及び量子ドット層毎の前記シリコン化合物膜の組成を計算する工程を有することを特徴とする付記5又は6に記載の量子ドットアレイの製造方法。
(付記8)
前記シリコン化合物膜として、シリコン酸化膜を形成することを特徴とする付記5乃至7のいずれか1項に記載の量子ドットアレイの製造方法。
前記シリコン化合物膜として、シリコン酸化膜を形成することを特徴とする付記5乃至7のいずれか1項に記載の量子ドットアレイの製造方法。
100:製造装置
101:記憶部
102:取得部
103:計算部
104:プラズマCVD装置
105:熱処理装置
101:記憶部
102:取得部
103:計算部
104:プラズマCVD装置
105:熱処理装置
Claims (6)
- 複数の量子ドットが配列した量子ドット層を含む量子ドットアレイを製造する装置であって、
シリコン化合物膜に熱処理を施した場合に当該シリコン化合物膜から得られる、直径が当該シリコン化合物膜の厚さと等しい複数の量子ドットの間隔と、当該熱処理の条件を反映するパラメータと、当該シリコン化合物膜の組成と、の関係を示す関係式を記憶した記憶手段と、
量子ドット層内での量子ドットの直径及び間隔を取得する取得手段と、
前記関係式に基づき、前記取得手段により取得された直径及び間隔からシリコン化合物膜の組成及び熱処理の条件を計算する計算手段と、
前記計算手段により計算された前記組成を備えたシリコン化合物膜を、前記取得手段により取得された前記直径と等しい厚さで形成するプラズマ化学気相成長装置と、
前記計算手段により計算された前記熱処理の条件で、前記プラズマ化学気相成長装置により形成されたシリコン化合物膜の熱処理を行う熱処理装置と、
を有することを特徴とする量子ドットアレイの製造装置。 - 前記関係式は、
前記直径を、前記パラメータ及び前記組成で表した第1の関係式と、
前記間隔を、前記パラメータ及び前記組成で表した第2の関係式と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の量子ドットアレイの製造装置。 - 前記取得手段は、複数の量子ドット層内での量子ドットの直径及び間隔を取得し、
前記計算手段は、各量子ドット層に共通の熱処理の条件、及び量子ドット層毎の前記シリコン化合物膜の組成を計算することを特徴とする請求項1又は2に記載の量子ドットアレイの製造装置。 - 複数の量子ドットが配列した量子ドット層を含む量子ドットアレイを製造する方法であって、
シリコン化合物膜に熱処理を施した場合に当該シリコン化合物膜から得られる、直径が当該シリコン化合物膜の厚さと等しい複数の量子ドットの間隔と、当該熱処理の条件を反映するパラメータと、当該シリコン化合物膜の組成と、の関係を示す関係式に基づき、形成しようとする量子ドット層内での量子ドットの直径及び間隔からシリコン化合物膜の組成及び熱処理の条件を計算する工程と、
前記組成を備えたシリコン化合物膜を、プラズマ化学気相成長装置を用いて前記直径と等しい厚さで形成する工程と、
前記熱処理の条件で、前記プラズマ化学気相成長装置により形成されたシリコン化合物膜の熱処理を行う工程と、
を有することを特徴とする量子ドットアレイの製造方法。 - 前記関係式は、
前記直径を、前記パラメータ及び前記組成で表した第1の関係式と、
前記間隔を、前記パラメータ及び前記組成で表した第2の関係式と、
を含むことを特徴とする請求項4に記載の量子ドットアレイの製造方法。 - 前記量子ドットアレイは複数の量子ドット層を有し、
前記シリコン化合物膜の組成及び熱処理の条件を計算する工程は、各量子ドット層に共通の熱処理の条件、及び量子ドット層毎の前記シリコン化合物膜の組成を計算する工程を有することを特徴とする請求項4又は5に記載の量子ドットアレイの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014100512A JP6260449B2 (ja) | 2014-05-14 | 2014-05-14 | 量子ドットアレイの製造装置及び製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014100512A JP6260449B2 (ja) | 2014-05-14 | 2014-05-14 | 量子ドットアレイの製造装置及び製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015220249A JP2015220249A (ja) | 2015-12-07 |
JP6260449B2 true JP6260449B2 (ja) | 2018-01-17 |
Family
ID=54779429
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014100512A Expired - Fee Related JP6260449B2 (ja) | 2014-05-14 | 2014-05-14 | 量子ドットアレイの製造装置及び製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6260449B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10104193A1 (de) * | 2001-01-31 | 2002-08-01 | Max Planck Gesellschaft | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterstruktur mit Siliziumclustern und/oder -nanokristallen und eine Halbleiterstruktur dieser Art |
WO2009122458A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 国立大学法人広島大学 | 量子ドットの製造方法 |
JP5664416B2 (ja) * | 2011-03-31 | 2015-02-04 | 富士通株式会社 | シリコン量子ドット装置とその製造方法 |
JP6127626B2 (ja) * | 2013-03-21 | 2017-05-17 | 富士通株式会社 | 量子ドットアレイデバイスの製造方法 |
JP6085805B2 (ja) * | 2013-06-11 | 2017-03-01 | 富士通株式会社 | 光半導体装置の製造方法 |
-
2014
- 2014-05-14 JP JP2014100512A patent/JP6260449B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015220249A (ja) | 2015-12-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5889187B2 (ja) | エッチング方法 | |
US9401273B2 (en) | Atomic layer deposition of silicon carbon nitride based materials | |
CN101593686B (zh) | 金属栅极形成方法 | |
JP5864360B2 (ja) | シリコン膜の形成方法およびその形成装置 | |
JP6269854B2 (ja) | 炭化珪素エピタキシャル膜の成長方法 | |
Stewart et al. | Quantum emitter localization in layer-engineered hexagonal boron nitride | |
JP2012089854A5 (ja) | ||
JP2006013503A (ja) | ドープ窒化膜、ドープ酸化膜、およびその他のドープ膜 | |
JP5692763B2 (ja) | シリコン膜の形成方法およびその形成装置 | |
JP2012204652A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
US12068156B2 (en) | Selective deposition of SiOC thin films | |
TW202021099A (zh) | 磊晶層和三維反及記憶體的形成方法、退火設備 | |
JP2015032712A (ja) | シリコン膜の形成方法およびその形成装置 | |
JP5997258B2 (ja) | オフ角を備えているシリコン単結晶とiii族窒化物単結晶の積層基板と、その製造方法 | |
JP6013313B2 (ja) | 積層型半導体素子の製造方法、積層型半導体素子、及び、その製造装置 | |
JP6260449B2 (ja) | 量子ドットアレイの製造装置及び製造方法 | |
JP2008300678A (ja) | 半導体素子の製造方法、及び半導体素子 | |
KR101967529B1 (ko) | 실리콘 질화막의 제조 방법 | |
JP5802632B2 (ja) | 炭化珪素半導体装置の製造方法 | |
JP2014047090A (ja) | 炭化珪素半導体装置の製造方法 | |
JP2003192328A (ja) | 二酸化シリコン膜の生成方法 | |
JP2008098200A (ja) | 成膜体およびその製造方法 | |
JP7012304B2 (ja) | 熱フィラメントcvd装置 | |
JP5024886B2 (ja) | 平坦化処理方法および結晶成長法 | |
JP4916479B2 (ja) | 炭化珪素エピタキシャル用基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170206 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171114 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171127 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6260449 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |