JP6239286B2 - 蒸着装置およびこれを用いた有機発光表示装置の製造方法 - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims description 117
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 106
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 60
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 59
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 58
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 58
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 42
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 48
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B1/00—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means
- B05B1/14—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means with multiple outlet openings; with strainers in or outside the outlet opening
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/164—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
本発明にかかる有機発光表示装置の製造方法において、第1噴射ノズルの終端面の傾斜角は、25〜35度の範囲に属するように形成されることが好ましい。
本発明にかかる有機発光表示装置の製造方法において、第1噴射ノズルは、蒸着源の中心を基準として第1方向に対称をなすことが好ましい。
図4は、本発明の一実施形態にかかる蒸着装置において、基板に入射する蒸着物質の入射角度と噴射ノズルの位置との相関関係を示す概念図である。
数式1
数式2
数式3
数式4
110:噴射ノズル
200:基板固定部
210:基板
220:マスク
Claims (11)
- 蒸着物質を収容する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に第1方向に配列され、対向する基板に前記蒸着物質を噴射する複数の噴射ノズルとを含み、
前記蒸着源は、前記第1方向を基準として中心領域および前記中心領域の両端の外郭領域に区分され、
前記各外郭領域に配列される第1噴射ノズルは、
その終端をなす面が前記基板の表面と前記第1方向に第1傾斜角をなしつつ、前記蒸着源の外側方向に向かうように形成され、
前記基板における前記第1方向への中心と、前記蒸着源における第1方向への中心とが一致するように、前記基板と前記蒸着源が整列され、
前記蒸着源の前記中心領域は、前記第1方向に下記の条件、
を満足する長さを有することを特徴とする蒸着装置。 - 前記第1傾斜角は、43〜53度の範囲に属するように形成されることを特徴とする請求項1記載の蒸着装置。
- 前記第1傾斜角は、25〜35度の範囲に属するように形成されることを特徴とする請求項1記載の蒸着装置。
- 前記中心領域に配列される第2噴射ノズルは、
その終端をなす面が前記基板の表面に対して前記第1方向に第2傾斜角を有し、前記蒸着源の外側方向に向かうものの、前記第2傾斜角は前記第1傾斜角より小さいことを特徴とする請求項1記載の蒸着装置。 - 前記各外郭領域に配列される第1噴射ノズルは、前記蒸着源の中心を基準として前記第1方向に対称をなして配列されることを特徴とする請求項1記載の蒸着装置。
- 蒸着物質を収容する蒸着源と、前記蒸着源の一側に第1方向に配列され、前記蒸着物質を基板に噴射する複数の噴射ノズルとを含む蒸着装置を用意するステップと、
前記噴射ノズルに対向するように基板を配置するステップと、
前記第1方向と直交する第2方向に前記蒸着源を移動させながら、前記噴射ノズルを介して前記蒸着物質を噴射するステップとを含み、
前記蒸着源は、前記第1方向を基準として中心領域および前記中心領域の両端の外郭領域に区分され、前記各外郭領域に配列される第1噴射ノズルは、前記基板の表面に対して前記第1方向に第1傾斜角を有し、前記蒸着源の外側方向に前記蒸着物質を噴射し、
前記基板における前記第1方向への中心と、前記中心領域における前記第1方向への中心とが一致するように、前記基板と前記蒸着源が整列され、
前記中心領域は、前記第1方向に下記の条件、
を満足する長さを有することを特徴とする有機発光表示装置の製造方法。 - 前記第1噴射ノズルは、
その終端をなす面が前記基板の表面に対して前記第1方向に前記第1傾斜角を有し、外側に傾斜するように形成されることを特徴とする請求項6記載の有機発光表示装置の製造方法。 - 前記第1噴射ノズルの終端面の傾斜角は、43〜53度の範囲に属するように形成されることを特徴とする請求項7記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記第1噴射ノズルの終端面の傾斜角は、25〜35度の範囲に属するように形成されることを特徴とする請求項7記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記外郭領域に配列される第1噴射ノズルは、前記蒸着源の中心を基準として前記第1方向に対称をなして配列されることを特徴とする請求項6記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記中心領域に配列される第2噴射ノズルは、
その終端をなす面が前記基板の表面に対して前記第1方向に第2傾斜角を有し、前記蒸着源の外側方向に傾斜するものの、前記第2傾斜角は前記第1傾斜角より小さいことを特徴とする請求項6記載の有機発光表示装置の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120112027A KR102046440B1 (ko) | 2012-10-09 | 2012-10-09 | 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조방법 |
KR10-2012-0112027 | 2012-10-09 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014077193A JP2014077193A (ja) | 2014-05-01 |
JP6239286B2 true JP6239286B2 (ja) | 2017-11-29 |
Family
ID=49230622
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013143344A Active JP6239286B2 (ja) | 2012-10-09 | 2013-07-09 | 蒸着装置およびこれを用いた有機発光表示装置の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9227203B2 (ja) |
EP (1) | EP2719792B1 (ja) |
JP (1) | JP6239286B2 (ja) |
KR (1) | KR102046440B1 (ja) |
CN (1) | CN103710682B (ja) |
TW (1) | TWI593816B (ja) |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104099571A (zh) * | 2013-04-01 | 2014-10-15 | 上海和辉光电有限公司 | 蒸发源组件和薄膜沉积装置和薄膜沉积方法 |
JP6529257B2 (ja) * | 2014-12-26 | 2019-06-12 | キヤノントッキ株式会社 | 真空蒸着装置 |
KR102318264B1 (ko) * | 2015-01-14 | 2021-10-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착장치 |
KR102480457B1 (ko) * | 2015-07-27 | 2022-12-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 |
CN105401125B (zh) * | 2015-12-15 | 2018-09-04 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 用于有机电激光显示的基板的蒸镀方法和蒸镀装置 |
JP6765237B2 (ja) * | 2016-07-05 | 2020-10-07 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸着装置及び蒸発源 |
JP2018003120A (ja) * | 2016-07-05 | 2018-01-11 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸着装置及び蒸発源 |
JP6641242B2 (ja) * | 2016-07-05 | 2020-02-05 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸着装置及び蒸発源 |
CN109328244B (zh) * | 2016-08-02 | 2021-06-22 | 株式会社爱发科 | 真空蒸镀装置 |
JP6288399B1 (ja) * | 2016-08-05 | 2018-03-07 | 凸版印刷株式会社 | 蒸着用メタルマスク、蒸着用メタルマスクの製造方法、および、表示装置の製造方法 |
KR102716685B1 (ko) | 2016-12-09 | 2024-10-14 | 주식회사 선익시스템 | 증발원용 도가니 |
KR101992999B1 (ko) * | 2017-04-22 | 2019-06-27 | 주식회사 야스 | 증발원이 선형 배열된 증발원 |
WO2019014826A1 (en) * | 2017-07-18 | 2019-01-24 | Boe Technology Group Co., Ltd. | EVAPORATION CUP AND EVAPORATION APPARATUS |
CN107815647B (zh) * | 2017-09-21 | 2020-01-17 | 上海升翕光电科技有限公司 | 一种用于oled蒸镀的蒸发源装置 |
JPWO2019064426A1 (ja) * | 2017-09-28 | 2020-07-27 | シャープ株式会社 | 蒸着源および蒸着装置並びに蒸着膜製造方法 |
JP6941547B2 (ja) | 2017-12-06 | 2021-09-29 | 長州産業株式会社 | 蒸着装置、蒸着方法及び制御板 |
JP6931599B2 (ja) * | 2017-12-06 | 2021-09-08 | 長州産業株式会社 | 蒸着装置及び蒸着方法 |
JP6983096B2 (ja) * | 2018-03-30 | 2021-12-17 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置用の蒸着源 |
CN112135921A (zh) * | 2018-06-08 | 2020-12-25 | 应用材料公司 | 静态蒸发源、真空处理腔室以及在基板上沉积材料的方法 |
KR102131933B1 (ko) * | 2018-08-17 | 2020-07-09 | 주식회사 넥서스비 | 원자층 증착 장치 및 이를 이용한 원자층 증착 방법 |
JP7297449B2 (ja) * | 2019-01-10 | 2023-06-26 | 株式会社アルバック | 蒸着装置及びノズル用アダプタ |
CN112368413B (zh) | 2019-03-12 | 2022-04-29 | 株式会社爱发科 | 真空蒸镀装置 |
DE112019006510T5 (de) | 2019-03-12 | 2021-09-23 | Ulvac, Inc. | Vakuumabscheidungsvorrichtung |
WO2020213228A1 (ja) * | 2019-04-19 | 2020-10-22 | 株式会社アルバック | 蒸着源及び蒸着装置 |
SG11202111356VA (en) | 2019-05-13 | 2021-12-30 | Ulvac Inc | Vapor deposition unit and vacuum vapor deposition apparatus provided with vapor deposition unit |
KR20210028314A (ko) | 2019-09-03 | 2021-03-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 |
CN110592538B (zh) * | 2019-09-26 | 2021-12-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀装置、蒸发源及喷嘴 |
TWI839613B (zh) * | 2020-06-04 | 2024-04-21 | 美商應用材料股份有限公司 | 用於蒸發源的溫度控制屏蔽、用於在基板上沉積材料的材料沉積設備及方法 |
JP7507183B2 (ja) * | 2022-02-02 | 2024-06-27 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸発源、成膜装置及び成膜方法 |
CN115233160A (zh) * | 2022-06-23 | 2022-10-25 | 合肥维信诺科技有限公司 | 蒸发源装置以及蒸镀设备 |
CN115216737B (zh) * | 2022-07-19 | 2024-03-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀装置及蒸镀方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3627569A (en) * | 1968-12-27 | 1971-12-14 | Bell Telephone Labor Inc | Deposition of thin films with controlled thickness and planar area profile |
JP4560394B2 (ja) | 2004-12-13 | 2010-10-13 | 長州産業株式会社 | 薄膜形成用分子供給装置 |
KR100687007B1 (ko) * | 2005-03-22 | 2007-02-26 | 세메스 주식회사 | 유기전계 발광 소자 제조에 사용되는 유기 박박 증착 장치 |
KR100980729B1 (ko) * | 2006-07-03 | 2010-09-07 | 주식회사 야스 | 증착 공정용 다중 노즐 증발원 |
KR20100108086A (ko) | 2009-03-27 | 2010-10-06 | 주식회사 선익시스템 | 증발 장치 및 이를 구비하는 진공 증착 장치 |
KR101182265B1 (ko) | 2009-12-22 | 2012-09-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증발원 및 이를 포함하는 증착 장치 |
KR20110081552A (ko) * | 2010-01-08 | 2011-07-14 | 주식회사 선익시스템 | 증착장치의 증발원 및 이의 배열구조 |
KR101156441B1 (ko) | 2010-03-11 | 2012-06-18 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 |
KR101558519B1 (ko) | 2010-09-15 | 2015-10-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기물 증착 장치 및 증착 방법 |
KR20120061394A (ko) * | 2010-12-03 | 2012-06-13 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 증발원 및 유기물 증착 방법 |
-
2012
- 2012-10-09 KR KR1020120112027A patent/KR102046440B1/ko active IP Right Grant
-
2013
- 2013-07-09 JP JP2013143344A patent/JP6239286B2/ja active Active
- 2013-07-31 US US13/955,322 patent/US9227203B2/en active Active
- 2013-08-06 TW TW102128018A patent/TWI593816B/zh active
- 2013-08-19 CN CN201310362008.8A patent/CN103710682B/zh active Active
- 2013-09-24 EP EP13185809.4A patent/EP2719792B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI593816B (zh) | 2017-08-01 |
JP2014077193A (ja) | 2014-05-01 |
US9227203B2 (en) | 2016-01-05 |
EP2719792B1 (en) | 2017-12-27 |
KR20140045809A (ko) | 2014-04-17 |
EP2719792A1 (en) | 2014-04-16 |
KR102046440B1 (ko) | 2019-11-20 |
TW201414862A (zh) | 2014-04-16 |
CN103710682B (zh) | 2017-12-29 |
CN103710682A (zh) | 2014-04-09 |
US20140099740A1 (en) | 2014-04-10 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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