JP6192914B2 - 表示装置およびその製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、シールを用いて２枚の基板を接着する表示装置およびその製造方法に関する。
表示装置、例えば液晶表示装置はフラットで軽量、省電力であることから、色々な分野で用途が広がっている。携帯電話やＤＳＣ（Digital Still Camera）等には、小型の液晶表示装置が広く使用されている。シール材を用いて２枚の基板を接着する表示装置、特に液晶表示装置に関し特許文献１や特許文献２に記載されている。
特許文献１には、配向膜を形成し、基板周辺のシール材で２枚の基板を接着する液晶表示装置にいて、シール材の接着強度を保持するために、２枚の基板の端部を揃えた辺では、シール材外側にも配向膜を形成し、一方の基板から他方の基板が外側に向けて延在する端子接続部では、シール材の内側に配向膜の端部を形成すると共に、シール材と配向膜が接する領域に配向膜を排除する構成物を形成して、シール材が下地と接触する面積を広げた液晶表示装置が開示されている。
また、特許文献２には、プラスチック基板を用いたＳＴＮ液晶表示装置など、１６０℃以下の低温製造プロセスが必要な装置において、シールに対する信頼性を向上した液晶表示装置を提供するために、プラスチック製の透明基板にシール材を配置して仮焼成し、プラスチック製の透明基板にシール内柱状スペーサを形成し、シール材を配置した透明基板とシール内柱状スペーサを形成した透明基板とを、シール部でシール材内にシール内柱状スペーサが埋没するように貼り合わせ加熱加圧して焼成し、封着して製造された液晶表示装置が開示されている。
特開２００７−３０４４５２号公報 特開２００７−１４８４４９号公報
液晶表示装置等の表示装置では、液晶表示パネルにおいて、外形寸法に対して表示画面を大きくするために、パネル端部から画素領域（有効表示領域）迄の部分である額縁部を狭くする、所謂狭額縁化が進んでいる。
図６Ａは従来の液晶表示パネル（切断前）の概略平面図を示す。本図に示すように、配向膜３１０は有効表示領域４１０よりも広い領域に形成されている。また、図６Ｂは、図６Ａに示す液晶表示パネルのＡ−Ｂ部分の断面図である。シール３０１は、ブラックマトリクス膜（ＢＭ）２０２やオーバーコート膜（ＯＣ）等が形成されたカラーフィルタ（ＣＦ）側基板２０１と、ゲート絶縁膜を構成する窒化シリコン膜１０２や無機パッシベーション膜（ＰＡＳ）１０３、上層パッシベーション膜（ＵＰＳ）１０４、又は有機パッシベーション膜（ＦＰＳ）１０４、ゲート配線（ＧＡＬ）１１０、ドレイン配線（ＤＣＲ）１１１等が形成されたＴＦＴ側基板（ガラス製）１０１との間に形成される。また、配向膜３１０は、ＣＦ側基板２０１およびＴＦＴ側基板の上に印刷により形成される。なお、符号３０５は基板間ギャップ距離を調整するために有効表示領域内に配置されたＳＯＣ（Space on color filter）を、符号３０６は有効表示領域内サブＳＯＣを示す。また、同一符号は同一構成要素を示す。
製造方法について図８を用いて説明する。ＣＦ側基板においては、オーバーコート膜（ＯＣ）等を形成後、液晶表示パネル毎に配向膜３１０を印刷し、配向膜表面を一定方向に擦る（ラビング）。次に、シール３０１を液晶表示パネル毎に塗布する。なお、シール３０１はＴＦＴ側基板に塗布してもよい。ＴＦＴ基板側においては、ＵＰＳ又はＦＰＳ形成後、液晶表示パネル毎に配向膜を印刷し、ラビングする。その後、シールが塗布されたＣＦ側基板とＴＦＴ側とを、配向膜が形成された面同士が対向するように重ね合わせて接着する。
狭額縁化が進むと、有効シール幅の確保と配向膜印刷寸法公差が厳しくなる。即ち、従来は配向膜の印刷位置の誤差を含め、シール３０１の形成領域と重複することが無いように、又重複するにしてもわずかであり、有効シール領域（シール３０１内の双方向矢印で示す領域）を十分に確保できていた。しかしながら、液晶表示パネル端部（切断面）と有効表示領域４１０端部との距離が狭くなることにより、配向膜３１０の印刷位置の許容誤差（寸法公差）が厳しくなる。
発明者等は、印刷位置の許容誤差について検討し、従来液晶表示パネル毎に印刷していた配向膜を複数の液晶表示パネルに渡って形成すれば許容誤差の問題は解消することに思い至った。そこで、発明者等は、上記独自の構成を有する液晶表示装置を作製した。図７Ａに発明者等が検討した液晶表示パネル（切断前）の概略平面図を示す。本図に示すように、配向膜３１０は各液晶表示パネルに渡って形成されている。また、図７Ｂは、図７Ａに示す液晶表示パネルのＡ−Ｂ部分の断面図である。配向膜３１０を各液晶表示パネルに渡って形成（ベタパターン）することにより、配向膜３１０とシール３０１との重複領域が変動することはない。なお、特許文献１や特許文献２では配向膜が複数の液晶表示パネルに渡って形成されているか不明である。
しかしながら、上記構成とした結果、所謂黒むらが発生し、信頼性が悪化することが判明した。
本発明の目的は、狭額縁であっても、信頼性の高い表示装置およびその製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するための一実施形態として、
第１基板と第２基板とがシールで接着された表示パネルを備えた表示装置において、
前記第１基板と前記第２基板との周辺端部にギャップ距離調整用のメインＳＯＣが壁状に配置され、前記メインＳＯＣよりも内側に前記シールが配置されていることを特徴とする表示装置とする。
また、それぞれ有効表示領域を備えた複数の表示パネル領域を有する第１基板を準備する工程と、
前記第１基板上の複数の前記表示パネル領域に渡って第１有機膜を形成する工程と、
それぞれ有効表示領域を備えた複数の表示パネル領域を有し、前記表示パネル領域の切断面を含む領域にギャップ距離調整用のメインＳＯＣが形成された第２基板を準備する工程と、
前記第２基板上の複数の前記表示パネル領域に渡って第２有機膜を形成する工程と、
前記第２基板の前記メインＳＯＣが形成された領域、及び/又は前記第１基板の前記表示パネル領域の切断面を含む領域にシールを塗布する工程と、
前記第１基板の前記第１有機膜と前記第２基板の前記第２有機膜とが互いに対向するように、前記第１基板と前記第２基板とを重ね合わせ、前記シールにより互いに接着する工程と、
前記メインＳＯＣが分断されるように、前記切断面で前記表示パネル領域を切断する工程と、を有することを特徴とする表示装置の製造方法とする。
本発明によれば、狭額縁であっても、信頼性の高い表示装置およびその製造方法を提供することができる。
本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置の要部（シール部）断面図である。 本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置の概略全体平面図である。 本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置におけるメインＳＯＣやシールの配置位置を説明するための概略全体平面図である。 本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置における配向膜の形成領域を説明するための概略平面図（切断前）である。 本発明の第１の実施例に係る他の液晶表示装置における配向膜の形成領域を説明するための概略平面図（切断前）である。 本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の要部（シール部）断面図である。 従来の液晶表示パネル（切断前）の概略平面図を示す。 図６Ａに示す液晶表示パネルのＡ−Ｂ部分の概略断面図である。 発明者等の検討に係る液晶表示パネル（切断前）の概略平面図である。 図７Ａに示す液晶表示パネルのＡ−Ｂ部分の概略断面図である。 発明者等の検討に係る液晶表示パネル（切断後）の信頼性悪化を説明するための概略断面図である。 液晶表示装置の製造方法を説明するための概略工程フロー図である。
発明者等は、黒むらの原因について検討した。その結果、図７Ｃに示す液晶表示パネルの断面図において、配向膜３１０とシール３０１との密着性が悪化していること、配向膜３１０とオーバーコート膜（ＯＣ）２０３との界面および配向膜３１０とシール３０１との界面から水分が浸入し、有効表示領域に悪影響を及ぼしていることが判明した。そこで、液晶表示パネルの切断面を含む領域にメインＳＯＣ（Space on color filter）を壁状に配置した。これにより、狭額縁化が図れると共に、水分の浸入を低減・防止でき、黒むらを低減・防止できるため長期信頼性を確保することが可能となる。なお、メインＳＯＣは液晶表示パネルの４辺の内の１辺だけにでも形成することにより黒むら低減の効果を得ることができるが、４辺共に設けることが望ましい。また、配向膜印刷寸法管理を省略可能であり、製造コストを低減することができる。なお、特許文献１では配向膜排除の構造物の外側に配向膜が形成されており、十分な狭額縁化を図ることが困難である。また、特許文献２ではシール内スペーサが柱状であるため水分の浸入を十分に防ぐことはできない。
以下、実施例を用いて詳細に説明する。なお、以下、液晶表示装置を例に説明するが、本発明はシールを用いて２枚の基板を接着する表示装置およびその製造方法に適用可能である。
本発明の第１の実施例について、図１〜図４を用いて説明する。図２Ａは、本実施例に係る液晶表示装置の概略全体平面図である。本液晶表示装置は表示領域４００と駆動回路領域４５０で構成される。図２Ｂは、本実施例に係る液晶表示装置におけるメインＳＯＣ ３０２やシールの配置位置を説明するための概略全体平面図である。メインＳＯＣは、液晶表示パネルの周囲を取り巻いて壁状に形成されており、シール３０１はメインＳＯＣに対してそれぞれの液晶表示パネルの有効表示領域側（以下、内側）に配置される。本実施例では、メインＳＯＣ ３０２の内側に、更にサブＳＯＣを配置した。
図１は本実施例に係る液晶表示装置の要部（シール部）断面図である。本実施例では高さ３μｍで、幅０．２ｍｍのメインＳＯＣ ３０２を液晶表示パネルの切断面を含む領域のＣＦ基板側に形成した。これにより、液晶表示パネル毎に切断した後、ＴＦＴ側基板１０１とＣＦ側基板２０１との間の最外周部にはメインＳＯＣ ３０２が配置されるため、有効表示領域４１０への水分浸入を低減・防止することができる。メインＳＯＣ ３０２は有効表示領域内のＳＯＣ ３０５と同一工程で形成することができる。その際、同じ高さとすることもできるが、有効表示領域内のＳＯＣ ３０５の高さをメインＳＯＣ ３０２の高さよりも低くすることにより、シール盛り上がりによる周辺ギャップ不良を低減・防止することができる。メインＳＯＣ ３０２は有効表示領域内のＳＯＣ ３０５と同様にアクリルやエポキシ等の有機材料で形成することができる。
また、本実施例ではメインＳＯＣ ３０２の内側に堰き止め用の複数のサブＳＯＣ ３０３を配置した。これにより、万一水分がメインＳＯＣ ３０２を通過した場合でも、サブＳＯＣ ３０３により水分の浸入経路を増大させることができるため、更に信頼性を向上することができる。なお、サブＳＯＣ ３０３の高さをメインＳＯＣ ３０２よりも低くすることにより、液晶表示パネルの切断面付近に塗布されていたシール３０１が、ＴＦＴ側基板とＣＦ側基板とを重ね合わせたときにメインＳＯＣ ３０２により押し出された際に内側に流れることを可能とする（シールの逃げが可能）。メインＳＯＣ ３０２とＴＦＴ側基板上の配向膜３１０との間のシールは全て内側に押し出すことが望ましいが、多少残存しても実用上は問題ない。本実施例では、サブＳＯＣ ３０３の高さを２．６μｍ、幅を７μｍとした。また、サブＳＯＣ ３０３はメインＳＯＣ ３０２と同一工程、同一材料で形成した。
また、本実施例では、ＴＦＴ側基板の上層パッシベーション膜（ＵＰＳ）１０４、又は有機パッシベーション膜（ＦＰＳ）１０４に複数の溝を形成し、堰き止めとした。ＦＰＳ等の厚さは２μｍとした。これにより、万一水分がメインＳＯＣ ３０２を通過した場合でも、ＵＳＰ １０４、又はＦＰＳ １０４に形成した溝により水分の浸入経路を増大させることができるため、更に信頼性を向上することができる。更に、サブＳＯＣ ３０３とＵＳＰ １０４、又はＦＰＳ １０４に形成した溝とが鉛直上方から見て重なるように配置することにより、配向膜がサブＳＯＣに押されて溝部に入り込もうとするため、その下地膜との密着性を向上することができる。
また、ドレイン配線（ＤＣＲ）１１１やゲート配線（ＧＡＬ）１１０は、サブＳＯＣ ３０３よりも内側（有効表示領域側）に配置することが望ましい。また、鉛直上方から見て、ドレイン配線（ＤＣＲ）１１１やゲート配線（ＧＡＬ）１１０は、サブＳＯＣ ３０３と重ならないように配置することが望ましい。ドレイン配線（ＤＣＲ）１１１やゲート配線（ＧＡＬ）１１０は、切断面から０．２ｍｍ程内側に配置した。
次に、本液晶表示装置の製造方法について、図８を参照しながら説明する。先ず、有効表示領域内のＳＯＣ ３０５とサブＳＯＣ ３０６の形成と同一工程で、メインＳＯＣ ３０２とサブＳＯＣ ３０３を形成したＣＦ側基板を準備する。次に、本実施例においては、ＴＦＴ側基板とＣＦ側基板に、配向膜３１０を液晶表示パネル毎ではなく、それぞれ複数の液晶表示パネルに渡って形成した。配向膜の厚さは１１０ｎｍとした。次に、ＴＦＴ側基板のＵＳＰ １０４、又はＦＰＳ １０４に配向膜３１０を介して溝を形成した。なお、ＴＦＴ側基板への処理とＣＦ側基板への処理は時系列でなくてもよく、同時並行処理としてもよく、逆にＴＦＴ側基板への処理を先行してもよい。次に、ＣＦ側基板の切断面を含む領域にシール３０１を塗布した。シールの幅は０．８ｍｍとした。なお、シールはＴＦＴ側基板に塗布することもできる。また、ＣＦ側基板とＴＦＴ側基板の両者に塗布することもできる。続いて、ＣＦ側基板とＴＦＴ側基板を、互いに配向膜が形成された面が対向するように重ね合わせ、シールで接着した。各基板を重ね合わせた際、液晶表示パネルの切断面付近に塗布されていたシール３０１が、ＴＦＴ側基板とＣＦ側基板とを重ね合わせたときにメインＳＯＣ ３０２により押し出されたシールを内側に流し、各基板間ギャップを調整した。その後、液晶表示パネル毎に切断し、液晶表示装置を完成させた。
なお、液晶表示パネルを切断する前の配置については、図３に示すように駆動回路領域側において、隣接する液晶表示パネルとの間に間隔がある場合（従来の配置）の他、図４に示すように隣接する液晶表示パネルとの間に間隔が無い場合（フルジャスト配置）が考えられる。本実施例によれば、図３に示す配置だけでなく、図４に示すようなフルジャストの配置にも適用することができる。
図４に示す液晶表示パネルの配置で、図１に示す断面構造の液晶表示装置を、上記製造方法を用いて作製した結果、黒むらの発生はなく、信頼性の高い液晶表示装置を得ることができた。
以上、本実施例によれば、液晶表示パネルの切断面を含む領域にメインＳＯＣを設けることにより、狭額縁であっても、信頼性の高い表示装置およびその製造方法を提供することができる。また、メインＳＯＣの内側に複数のサブＳＯＣを配置することにより、より信頼性を向上させることができる。また、メインＳＯＣの内側のＵＰＳやＦＰＳに複数の溝を、配向膜を介して形成することにより、より信頼性を向上させることができる。また、配向膜を複数の液晶表示パネルに渡って印刷することにより、配向膜印刷寸法管理が不要となる。
本発明の第２の実施例について、図５を用いて説明する。なお、実施例１に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情が無い限り本実施例にも適用することができる。図５は本実施例に係る液晶表示装置の要部（シール部）断面図である。本実施例と実施例１との違いは、実施例１ではＴＦＴ側基板１０１に上層パッシベーション膜（ＵＰＳ）１０４、又は有機パッシベーション膜（ＦＰＳ）１０４が形成されていたのに対し、本実施例ではこのＦＰＳ、又はＦＰＳを有さない点にある。これに伴い、ＴＦＴ側基板において、配向膜３１０は無機パッシベーション膜（ＰＡＳ）上に形成されている。他の構成は実施例１と同様のため説明を省略する。
本実施例においては、無機パッシベーション膜（ＰＡＳ）１０３に複数の溝を形成し、堰き止めとした。これにより、万一水分がメインＳＯＣ ３０２を通過した場合でも、ＰＡＳ １０３に形成した溝により水分の浸入経路を増大させることができるため、更に信頼性を向上することができる。更に、サブＳＯＣ ３０３とＰＡＳ １０３に形成した溝とが鉛直上方から見て重なるように配置することにより、配向膜がサブＳＯＣに押されて溝部に入り込もうとするため、その下地膜との密着性を向上することができる。
次に、本液晶表示装置の製造方法について、図８を参照しながら説明する。なお、ＴＦＴ側基板にはＵＰＳ又はＦＰＳは形成されていない。先ず、有効表示領域内のＳＯＣ ３０５とサブＳＯＣ ３０６の形成と同一工程で、メインＳＯＣ ３０２とサブＳＯＣ ３０３を形成したＣＦ側基板を準備する。次に、本実施例においては、ＴＦＴ側基板とＣＦ側基板に、配向膜３１０を液晶表示パネル毎ではなく、それぞれ複数の液晶表示パネルに渡って形成した。配向膜の厚さは１１０ｎｍとした。次に、ＴＦＴ基板側のＰＡＳ １０３に配向膜３１０を介して溝を形成した。なお、ＴＦＴ側基板への処理とＣＦ側基板への処理は時系列でなくてもよく、同時並行処理としてもよく、逆にＴＦＴ側基板への処理を先行してもよい。次に、ＣＦ側基板の切断面を含む領域にシール３０１を塗布した。シールの幅は０．８ｍｍとした。続いて、ＣＦ側基板とＴＦＴ側基板を、互いに配向膜が形成された面が対向するように重ね合わせ、シールで接着した。各基板を重ね合わせた際、液晶表示パネルの切断面付近に塗布されていたシール３０１が、ＴＦＴ側基板とＣＦ側基板とを重ね合わせたときにメインＳＯＣ ３０２により押し出されたシールを内側に流し、各基板間ギャップを調整した。その後、液晶表示パネル毎に切断し、液晶表示装置を完成させた。
図４に示す液晶表示パネルの配置で、図５に示す断面構造の液晶表示装置を、上記製造方法を用いて作製した結果、黒むらの発生はなく、信頼性の高い液晶表示装置を得ることができた。
以上、本実施例によれば、液晶表示パネルの切断面を含む領域にメインＳＯＣを設けることにより、狭額縁であっても、信頼性の高い表示装置およびその製造方法を提供することができる。また、メインＳＯＣの内側に複数のサブＳＯＣを配置することにより、より信頼性を向上させることができる。また、メインＳＯＣの内側のＰＡＳに複数の溝を、配向膜を介して形成することにより、より信頼性を向上させることができる。また、配向膜を複数の液晶表示パネルに渡って印刷することにより、配向膜印刷寸法管理が不要となる。
なお、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることも可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
１０１…ＴＦＴ側ガラス基板、１０２…窒化シリコン膜（ゲート絶縁膜）、１０３…無機パッシベーション膜（ＰＡＳ）、１０４…上層パッシベーション膜（ＵＰＳ）又は有機パッシベーション膜（ＦＰＡＳ）、１１０…ゲート配線（ＧＡＬ）、１１１…ドレイン配線（ＤＣＲ）、２０１…カラーフィルタ（ＣＦ）側基板、２０２…ブラックマトリクス膜（ＢＭ）、２０３…オーバーコート膜（ＯＣ）、３０１…シール、３０２…メインＳＯＣ、３０３…サブＳＯＣ、３０５…有効表示領域内ＳＯＣ、３０６…有効表示領域内サブＳＯＣ、３１０…配向膜、４００…表示領域、４１０…有効表示領域、４５０…駆動回路領域。

Claims (8)

  1. ＴＦＴ側基板及び前記ＴＦＴ側基板の上に形成された第１配向膜を有する第１基板と、カラーフィルタ側基板及び前記カラーフィルタ側基板の上に形成された第２配向膜を有する第２基板と、前記第１配向膜及び前記第２配向膜に接触し前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシールと、を備えた表示装置であって、
    前記第１基板と前記第２基板との端部のギャップには、第１スペーサが壁状に配置され、前記第１スペーサよりも内側に前記シールが配置され、
    前記第１基板は、第１無機パッシベーション膜と、前記第１無機パッシベーション膜上に形成された第２無機パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜とを有し、
    前記第２無機パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜は、前記第１配向膜で覆われており、且つ前記シールが形成されている領域内において複数の除去領域を有し、
    前記第２基板上であって前記シールの内部に、前記第１スペーサよりも高さの低い第２スペーサが複数配置され、
    鉛直上方から見て、前記複数の第２スペーサと前記複数の除去領域とが重なるように配置され、
    前記第１基板は前記シールが形成される領域に複数のドレイン配線を有し、
    鉛直上方から見て、前記シールが形成される領域のドレイン配線は、隣り合う第２スペーサの間、または、隣り合う除去領域の間に形成されていることを特徴とする表示装置。
  2. ＴＦＴ側基板及び前記ＴＦＴ側基板の上に形成された第１配向膜を有する第１基板と、カラーフィルタ側基板及び前記カラーフィルタ側基板の上に形成された第２配向膜を有する第２基板と、前記第１配向膜及び前記第２配向膜に接触し前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシールと、を備えた表示装置であって、
    前記第１基板と前記第２基板との端部のギャップには、第１スペーサが壁状に配置され、前記第１スペーサよりも内側に前記シールが配置され、
    前記第１基板は、前記第１配向膜と前記ＴＦＴ側基板との間に無機パッシベーション膜を有し、
    前記無機パッシベーション膜は、前記シールが形成されている領域内において複数の除去領域を有し、
    前記第２基板上であって前記シールの内部に、前記第１スペーサよりも高さの低い第２スペーサが複数配置され、
    鉛直上方から見て、前記複数の第２スペーサと前記複数の除去領域とが重なるように配置され、
    前記第１基板は前記シールが形成される領域に複数のドレイン配線を有し、
    鉛直上方から見て、前記シールが形成される領域のドレイン配線は、隣り合う第２スペーサの間、または、隣り合う除去領域の間に形成されていることを特徴とする表示装置。
  3. 請求項１または請求項２に記載の表示装置であって、
    前記表示装置は、前記第１基板と前記第２基板とのギャップ距離調整用のスペーサを備えた有効表示領域を有し、
    前記第１スペーサの高さは、前記有効表示領域のスペーサの高さよりも高いことを特徴とする表示装置。
  4. 請求項３記載の表示装置であって、
    前記第１スペーサと前記有効表示領域のスペーサとは同じ材料で形成されていることを特徴とする表示装置。
  5. それぞれ有効表示領域を備えた複数の表示パネル領域を有する第１基板を準備する工程と、
    前記第１基板上の複数の前記表示パネル領域に渡って第１配向膜を形成する工程と、
    それぞれ有効表示領域を備えた複数の表示パネル領域を有し、前記表示パネル領域の切断面を含む領域にギャップ距離調整用の第１スペーサが形成された第２基板を準備する工程と、
    前記第２基板上の複数の前記表示パネル領域に渡って第２配向膜を形成する工程と、
    前記第２基板の前記第１スペーサが形成された領域、及び/又は前記第１基板の前記表示パネル領域の切断面を含む領域の前記第１配向膜若しくは前記第２配向膜にシールを塗布する工程と、
    前記第１基板の前記第１配向膜と前記第２基板の前記第２配向膜とが互いに対向するように、前記第１基板と前記第２基板とを重ね合わせ、前記シールにより互いに接着する工程と、
    前記第１スペーサが分断されるように、前記切断面で前記表示パネル領域を切断する工程と、を有し、
    前記第１基板は、無機パッシベーション膜と、前記無機パッシベーション膜上に形成された上層パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜とを有し、
    前記上層パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜は、前記第１配向膜で覆われており、且つ前記シールが形成される領域内において複数の除去領域を有し、
    前記第２基板上であって前記シールの内部となる位置に、前記第１スペーサよりも高さの低い第２スペーサが複数配置され、
    鉛直上方から見て、前記複数の第２スペーサと前記複数の除去領域とが重なるように前記第１基板と前記第２基板とを重ね合わせるとともに、
    前記第１基板は前記シールが形成される領域に複数のドレイン配線を有し、
    鉛直上方から見て、前記複数のドレイン配線が前記複数の第２スペーサ及び前記複数の除去領域とは重ならないように、前記第１基板と前記第２基板とを重ね合わせることを特徴とする表示装置の製造方法。
  6. それぞれ有効表示領域を備えた複数の表示パネル領域を有する第１基板を準備する工程と、
    前記第１基板上の複数の前記表示パネル領域に渡って第１配向膜を形成する工程と、
    それぞれ有効表示領域を備えた複数の表示パネル領域を有し、前記表示パネル領域の切断面を含む領域にギャップ距離調整用の第１スペーサが形成された第２基板を準備する工程と、
    前記第２基板上の複数の前記表示パネル領域に渡って第２配向膜を形成する工程と、
    前記第２基板の前記第１スペーサが形成された領域、及び/又は前記第１基板の前記表示パネル領域の切断面を含む領域の前記第１配向膜若しくは前記第２配向膜にシールを塗布する工程と、
    前記第１基板の前記第１配向膜と前記第２基板の前記第２配向膜とが互いに対向するように、前記第１基板と前記第２基板とを重ね合わせ、前記シールにより互いに接着する工程と、
    前記第１スペーサが分断されるように、前記切断面で前記表示パネル領域を切断する工程と、を有し、
    前記第１基板は、ＴＦＴ側基板と、前記ＴＦＴ側基板と前記第１配向膜との間に形成された無機パッシベーション膜とを有し、
    前記無機パッシベーション膜は、前記シールが形成される領域内において複数の除去領域を有し、
    前記第２基板上であって前記シールの内部に、前記第１スペーサよりも高さの低い第２スペーサが複数配置され、
    鉛直上方から見て、前記複数の第２スペーサと前記複数の除去領域とが重なるように前記第１基板と前記第２基板とを重ね合わせ、
    前記第１基板は前記シールが形成される領域に複数のドレイン配線を有し、
    鉛直上方から見て、前記複数のドレイン配線が前記複数の第２スペーサ及び前記複数の除去領域とは重ならないように、前記第１基板と前記第２基板とを重ね合わせることを特徴とする表示装置の製造方法。
  7. 請求項５または請求項６に記載の表示装置の製造方法であって、
    前記表示パネルは、前記第１基板と前記第２基板とのギャップ距離調整用のスペーサを備えた有効表示領域を有し、
    前記第１スペーサの高さは、前記有効表示領域のスペーサの高さよりも高いことを特徴とする表示装置の製造方法。
  8. 請求項７記載の表示装置の製造方法であって、
    前記第１スペーサと前記有効表示領域のスペーサとは同じ工程で形成されることを特徴とする表示装置の製造方法。
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