JP2014071410A5 - - Google Patents

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Claims (20)

  1. 第1基板と第2基板とがシールで接着された表示パネルを備えた表示装置であって
    前記第1基板と前記第2基板との端部のギャップには、第1スペーサが壁状に配置され、前記第1スペーサよりも内側に前記シールが配置されていることを特徴とする表示装置。
  2. 請求項1記載の表示装置であって
    前記第2基板上であって前記シールの内部に、前記第1スペーサよりも高さの低い第2スペーサが複数配置されていることを特徴とする表示装置。
  3. 請求項1記載の表示装置であって
    前記第1基板は、第1無機パッシベーション膜と、前記第1無機パッシベーション膜よりも前記第2基板側に設けられた第2無機パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜とを有し、
    前記第2無機パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜は、前記シールが形成されている領域内において複数の除去領域を有することを特徴とする表示装置。
  4. 請求項1記載の表示装置であって
    前記第1基板は、第1無機パッシベーション膜と、前記第1無機パッシベーション膜上に形成された第2無機パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜とを有し、
    前記第2無機パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜は、前記シールが形成されている領域内において複数の除去領域を有し、
    前記第2基板上であって前記シールの内部に、前記第1スペーサよりも高さの低い第2スペーサが複数配置され、
    鉛直上方から見て、前記第2スペーサと前記除去領域とが重なるように配置されていることを特徴とする表示装置。
  5. 請求項4記載の表示装置であって
    前記第1基板はゲート配線とドレイン配線とを有し、
    鉛直上方から見て、前記ゲート配線と前記ドレイン配線とは共に、前記第2スペーサと前記除去領域とは重ならないように配置されていることを特徴とする表示装置。
  6. 請求項1記載の表示装置であって
    前記第1基板は、無機パッシベーション膜を有し、
    前記無機パッシベーション膜は、前記シールが形成されている領域内において複数の除去領域を有することを特徴とする表示装置。
  7. 請求項1記載の表示装置であって
    前記第1基板は、無機パッシベーション膜を有し、
    前記無機パッシベーション膜は、前記シールが形成されている領域内において複数の除去領域を有し、
    前記第2基板上であって前記シールの内部に、前記第1スペーサよりも高さの低い第2スペーサが複数配置され、
    鉛直上方から見て、前記第2スペーサと前記除去領域とが重なるように配置されていることを特徴とする表示装置。
  8. 請求項7記載の表示装置であって
    前記第1基板はゲート配線とドレイン配線とを有し、
    鉛直上方から見て、前記ゲート配線と前記ドレイン配線とは共に、前記第2スペーサと前記除去領域とは重ならないように配置されていることを特徴とする表示装置。
  9. 請求項1記載の表示装置であって
    前記表示パネルは、前記第1基板と前記第2基板とのギャップ距離調整用のスペーサを備えた有効表示領域を有し、
    前記第1スペーサの高さは、前記有効表示領域のスペーサの高さよりも高いことを特徴とする表示装置。
  10. 請求項9記載の表示装置であって
    前記第1スペーサと前記有効表示領域のスペーサとは同じ材料で形成されていることを特徴とする表示装置。
  11. それぞれ有効表示領域を備えた複数の表示パネル領域を有する第1基板を準備する工程と、
    前記第1基板上の複数の前記表示パネル領域に渡って第1有機膜を形成する工程と、
    それぞれ有効表示領域を備えた複数の表示パネル領域を有し、前記表示パネル領域の切断面を含む領域にギャップ距離調整用の第1スペーサが形成された第2基板を準備する工程と、
    前記第2基板上の複数の前記表示パネル領域に渡って第2有機膜を形成する工程と、
    前記第2基板の前記第1スペーサが形成された領域、及び/又は前記第1基板の前記表示パネル領域の切断面を含む領域にシールを塗布する工程と、
    前記第1基板の前記第1有機膜と前記第2基板の前記第2有機膜とが互いに対向するように、前記第1基板と前記第2基板とを重ね合わせ、前記シールにより互いに接着する工程と、
    前記第1スペーサが分断されるように、前記切断面で前記表示パネル領域を切断する工程と、を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
  12. 請求項11記載の表示装置の製造方法であって
    前記第2基板上であって前記シールの内部となる位置に、前記第1スペーサよりも高さの低い第2スペーサが複数配置されていることを特徴とする表示装置の製造方法。
  13. 請求項11記載の表示装置の製造方法であって
    前記第1基板は、無機パッシベーション膜と、前記無機パッシベーション膜上に形成された上層パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜とを有し、
    前記上層パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜は、前記シールが形成される領域内において複数の除去領域を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
  14. 請求項11記載の表示装置の製造方法であって
    前記第1基板は、無機パッシベーション膜と、前記無機パッシベーション膜上に形成された上層パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜とを有し、
    前記上層パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜は、前記シールが形成される領域内において複数の除去領域を有し、
    前記第2基板上であって前記シールの内部となる位置に、前記第1スペーサよりも高さの低い第2スペーサが複数配置され、
    鉛直上方から見て、前記第2スペーサと前記除去領域とが重なるように前記第1基板と前記第2基板とを重ね合わせることを特徴とする表示装置の製造方法。
  15. 請求項14記載の表示装置の製造方法であって
    前記第1基板はゲート配線とドレイン配線とを有し、
    鉛直上方から見て、前記ゲート配線と前記ドレイン配線とは共に、前記第2スペーサとは重ならないように前記第1基板と前記第2基板とを重ね合わせることを特徴とする表示装置の製造方法。
  16. 請求項11記載の表示装置の製造方法であって
    前記第1基板は、無機パッシベーション膜を有し、
    前記無機パッシベーション膜は、前記シールが形成される領域内において複数の除去領域を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
  17. 請求項11記載の表示装置の製造方法であって
    前記第1基板は、無機パッシベーション膜を有し、
    前記無機パッシベーション膜は、前記シールが形成される領域内において複数の除去領域を有し、
    前記第2基板上であって前記シールの内部に、前記第1スペーサよりも高さの低い第2スペーサが複数配置され、
    鉛直上方から見て、前記第2スペーサと前記除去領域とが重なるように前記第1基板と前記第2基板とを重ね合わせることを特徴とする表示装置の製造方法。
  18. 請求項17記載の表示装置の製造方法であって
    前記第1基板はゲート配線とドレイン配線とを有し、
    鉛直上方から見て、前記ゲート配線と前記ドレイン配線とは共に、前記第2スペーサとは重ならないように前記第1基板と前記第2基板とを重ね合わせることを特徴とする表示装置の製造方法。
  19. 請求項11記載の表示装置の製造方法であって
    前記表示パネルは、前記第1基板と前記第2基板とのギャップ距離調整用のスペーサを備えた有効表示領域を有し、
    前記第1スペーサの高さは、前記有効表示領域のスペーサの高さよりも高いことを特徴とする表示装置の製造方法。
  20. 請求項19記載の表示装置の製造方法であって
    前記第1スペーサと前記有効表示領域のスペーサとは同じ工程で形成されることを特徴とする表示装置の製造方法。
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