JP6192669B2 - 高純度の一酸化炭素を製造するための装置 - Google Patents
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Description
CH4+H2O−>CO+4H2
又は、
4CH4+O2+2H2O→10H2+4CO
2CO2(カソード)→2CO(カソード)+O2(アノード)
・電解槽の供給原料として高純度のCO2を使用すること。
・たとえ、電解槽スタック中に漏れが存在しているとしても、生成物流に不純物が添加されない、というスキームでSOEC電解槽が運転される。
濃度(CO2)+濃度(CO)
と定義される。
CO2又はCOをガス流から分離するための、従来知られている4つの技術がある。これらは、吸収、吸着、膜ろ過及び凝縮として特徴付けられ、そしてそれらの全ては本発明に使用することができる。
上述の慣用的なガス清浄技術に代わるものとして、本発明は、CO+CO2流から必要量のCO2を除去するのに使用される、専用の電解槽の設計を有する。
この発明の出力段階では、高価なCO2の分離を避けるためには、SOEC電解槽が、ガス流に不純物を追加しないことが重要な意味をもっている。
P0<P1<P2。
2CO+O2→2CO2
触媒は、例えば、アルミナ又はTiO2ベースの担体上で任意にV2O5及びWO3と組み合わされたPt及び/又はPdのような貴金属触媒であることができる。その局所環境に放出されるCOを確実に除去するために、触媒は、100℃超、好ましくは150〜250℃で作用させるべきである。
非常に高価なCO2の供給原料の使用を避けるために、本発明は、CO2の供給ガスが、望ましくない“汚染”ガスをいく分か有することを考慮しなければならない。このことは、2つの望ましくない影響をシステムにもたらす。すなわち、
・汚染ガスは、SOEC又はCO/CO2分離装置の運転に影響を及ぼすか、あるいはそれらを汚染し得る。
・良好に設計されたCO/CO2分離装置に関して、汚染ガスは、一般に、CO2流に分離される。この流れをSOECに再循環させるのが典型的には有利であるため、その汚染ガスがシステム内に蓄積される可能性がある。
・望ましくないガス汚染物質を除去するために、SOECの前に吸収剤又は吸着剤が使用される。特に、硫黄種及びシロキサンは固体酸化物型セルを汚染することが知られている。これらは、例えば、活性炭又はNi−又はCuベースの吸収剤で吸収できる。
・汚染ガスの蓄積を回避するために“パージ”を再循環流中に構築することができる。しかしながら、再循環流は、典型的には、多くの場合、安全に排気できないCOを含む。本発明の実施形態の一つは、空気からか又はSOECの酸素出力からの酸素と組み合わされる再循環流のパージアウトレットを含み、その際、CO及び過剰のO2は、酸化触媒(CatOx)上でCO2を形成する。
高められた温度で稼働する高純度CO製造装置に関連した実用上の問題の一つとは、いわゆるBoudouard反応によって、一酸化炭素から炭素が形成され得ることである。
CO+CO→C+CO2
1.90%超の純度のCO2が供給されると、COを90%超の純度で製造する装置であって、該装置は、アノード側及びカソード側を備えた少なくとも1つの固体酸化物型電解セルを含み、そして、該装置は、出力ガス分離ユニットをさらに含み、その際、該装置は、0℃〜50℃、好ましくは10〜40℃の温度、好ましくは室温で運転される、上記の装置。
・少なくとも1つの固体酸化物型電解セルを含み、かつ、ガス分離ユニットを含む装置に90%超の純度の第一のCO2ガスを供給する工程、
・少なくとも1つの固体酸化物型電解セルに電流を供給し、そして、その固体酸化物型電解セル中で、CO2の電気分解を利用してCOを含む第二のガスを生成する工程、
・前記出力ガス分離ユニットに前記第二のガスを供給する工程、
・前記ガス分離ユニットを、0℃〜50℃の温度で、好ましくは10℃〜40℃、好ましくは室温で運転することよって、90%超の純度のCOを含む第三の出力ガスを製造する工程、
を含む、上記の方法。
・選択された固体酸化物型電解セルにわたって通る電流を個別に制御する工程、
をさらに含む、上記の13の項に記載の方法。
をさらに含む、上記の13又は14の項に記載の方法。
・該コンパートメントによって取り囲まれた空間をフラッシュする工程、
をさらに含む、上記の13〜15の項のいずれか一つに記載の方法。
をさらに含む、上記の16の項に記載の方法。
・ガス分離固体酸化物型電解セルスタックに前記第二のガスを供給する工程、
・前記ガス分離固体酸化物型電解セルスタック中のそれぞれの個別のセルにわたって通る電流を制御する工程、
を含む、上記の13〜16の項のいずれか一つに記載の方法。
図7は、本発明の可能な一実施形態の図式図を示している。
図8は、スタックのネットワーク構築の例を示している。下方のスタックは20個のセルで製造され、上方のスタックは、10個のセルで製造される。この場合、両方のスタックの底部は、中間のマニホールドプレートに面している。
図9は、スタックの漏れによる、SOECシステムの出力流に取り込まれる恐れのある不純物を積極的に取り扱うことの重要性を示している。
Claims (16)
- 90%超の純度のCO2を供給されると、COを90%超の純度で製造する装置であって、該装置は、アノード側及びカソード側を備えた少なくとも1つの固体酸化物型電解セルを含み、そして、該装置は、出力ガス分離ユニットをさらに含み、その際、該装置は、0℃〜50℃の温度で運転され、
その際、前記装置が、少なくとも1つの固体酸化物型電解セルを収容するコンパートメントを含み、そしてその際、該コンパートメントが、そのコンパートメントによって取り囲まれた空間をフラッシュする手段を含み、そして、前記カソード側の圧力が、前記アノード側の圧力よりも高く、該アノード側の圧力が、前記コンパートメントの圧力よりも高く、そして、該コンパートメントの圧力が大気圧よりも低く、そしてその際、該コンパートメントは、CO2でフラッシュされ、そして、該CO2パージは、該コンパートメントから、アルミナ又はTiO2ベースの担体上のPt及び/又はPdの貴金属触媒を含む触媒を利用する接触酸化反応器に向かって方向付けられ、そして該触媒は、100℃超で作用する、上記の装置。 - 前記装置が、スタックに配置された複数の固体酸化物型電解セルを含み、そして、その際、該装置が、選択された固体酸化物型電解セルにわたって通る電流を個別に制御する手段をさらに含む、請求項1に記載の装置。
- 前記電流の個別の制御が、選択された固体酸化物型電解セルにわたる電圧を監視することに基づく、請求項2に記載の装置。
- 前記出力ガス分離ユニットが、前記スタックに統合される、請求項2又は3に記載の装置。
- 前記出力ガス分離ユニットが、ガス分離の固体酸化物型電解セルスタックに配置された
複数のセルを含み、そしてその際、該スタックは、選択されたセルにわたって通る電流を
個別に制御する手段を含む、請求項1〜3のいずれか一つに記載の装置。 - 前記装置が、少なくとも1つの固体酸化物型電解セルのアノード側をCO2でフラッシュ(flush)する手段をさらに含む、請求項1〜5のいずれか一つに記載の装置。
- 前記出力ガス分離ユニットが、水/アミンウォッシュ、圧力スイング吸着装置又は選択膜のうちの一つである、請求項1〜6のいずれか一つに記載の装置。
- 複数のスタックされた酸化物型電解セル及び複数のスタックを含み、その際、該スタックが、ネットワーク通信に接続される、請求項1〜7のいずれか一つに記載の装置。
- メタルダスティングに曝され得る選択された構成要素が、InconelのようなNiリッチ金属で造られているか、又は該構成要素が、Cu又はSn/Ni被膜で被覆される、請求項1〜8のいずれか一つに記載の装置。
- メタルダスティングに曝され得る選択された構成要素が二重管からなり、その際、内側の管は銅管からなり、その銅管がこの銅管よりも高い機械的強度を有する外側の管の内側に配置され、それによって、メタルダスティング保護を達成すると同時に、該外側の管の機械的強度を、該銅管のメタルダスティングに対する耐性と組み合わせることができる、請求項1〜9のいずれか一つに記載の装置。
- 高純度のCOを製造する方法であって、次の、
・少なくとも1つの固体酸化物型電解セルを含み、かつ、ガス分離ユニット、及び前記少なくとも1つの固体酸化物型電解セルを収容するコンパートメントを含む装置に90%超の純度の第一のCO2ガスを供給する工程、
・少なくとも1つの固体酸化物型電解セルに電流を供給し、そして、その固体酸化物型電解セル中で、CO2の電気分解を利用してCOを含む第二のガスを生成する工程、
・前記出力ガス分離ユニットに前記第二のガスを供給する工程、
・前記ガス分離ユニットを、0℃〜50℃の温度で運転することよって、90%超の純度のCOを含む第三の出力ガスを製造する工程、
を含み、
その際、
・該コンパートメントによって取り囲まれた空間をフラッシュする工程、
・前記コンパートメント、前記固体酸化物型電解セルのアノード室、及び前記固体酸化物型電解セルのカソード室における圧力を、該カソード室中への拡散を低減する異なるレベルに制御する工程、
をさらに含む、上記の方法。 - 前記装置が、スタックに配置された複数の固体酸化物型電解セルを含み、そして前記方法が、
・選択された固体酸化物型電解セルにわたって通る電流を個別に制御する工程、
をさらに含む、請求項11に記載の方法。 - ・前記少なくとも1つの固体酸化物型電解セルのアノード側をCO2でフラッシュする工程、
をさらに含む、請求項11又は12に記載の方法。 - 前記ガスの分離が、次の、
・ガス分離固体酸化物型電解セルスタックに前記第二のガスを供給する工程、
・前記ガス分離固体酸化物型電解セルスタック中のそれぞれの個別のセルにわたって通る電流を制御する工程、
を含む、請求項11〜13のいずれか一つに記載の方法。 - 純度が95%超のCOを製造するための、請求項11〜14のいずれか一つに記載の方法。
- 請求項1〜10のいずれか一つに記載の装置によって製造されたCOの、CH3COOHを製造するための使用。
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