JP6163255B2 - 荷電粒子線装置及び球面収差補正方法 - Google Patents
荷電粒子線装置及び球面収差補正方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6163255B2 JP6163255B2 JP2016511282A JP2016511282A JP6163255B2 JP 6163255 B2 JP6163255 B2 JP 6163255B2 JP 2016511282 A JP2016511282 A JP 2016511282A JP 2016511282 A JP2016511282 A JP 2016511282A JP 6163255 B2 JP6163255 B2 JP 6163255B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- poles
- aberration correction
- pole
- charged particle
- lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000004075 alteration Effects 0.000 title claims description 127
- 238000012937 correction Methods 0.000 title claims description 59
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 23
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 61
- 230000005405 multipole Effects 0.000 claims description 37
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 32
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 19
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 15
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 7
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 7
- 230000009471 action Effects 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 3
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 3
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/153—Correcting image defects, e.g. stigmators
- H01J2237/1534—Aberrations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/28—Scanning microscopes
- H01J2237/2802—Transmission microscopes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
以下、図面に基づいて、本発明の実施例を詳細に説明する。ただし、後述する実施例は本発明を実現するための一例に過ぎず、本発明の技術的範囲を限定するものではない。なお、各図においては、共通の構成について同一の参照番号が付されている。また、本実施例では、荷電粒子線装置としてSTEMを例示するが、これに限るものではなく、例えばTEMに適用することができる。
前述の実施例では、走査型透過電子顕微鏡に搭載される球面収差補正器について、本発明の手法を適用する場合について説明したが、本発明は、透過型電子顕微鏡にも適用できる。また、本発明は、荷電粒子として電子を用いる場合だけでなく、イオンなど他の荷電粒子を用いる装置にも適用することができる。
2a〜2f…極子(極子1a〜1fとは形状が異なる)
3…コイル
4…電子線源
5…電子線
6、7…照射レンズ
8…調整レンズ
9…収差補正器
10…転写レンズ
11…スキャンコイル
12…対物レンズ
13…試料
14…投影レンズ
15…暗視野像検出器
16…制御部
17…暗視野像観察部
18…計算機
Claims (12)
- 荷電粒子線源と、
前記荷電粒子線源から放出された荷電粒子を荷電粒子線として試料に対して照射する荷電粒子光学系と、
前記荷電粒子線を集束する対物レンズと、
前記対物レンズの励磁電流の変更に応じて、多極子レンズを構成する複数組の極子群を選択的に励磁することにより、複数の収差補正条件について磁気飽和状態を満足する球面収差補正器と、
前記荷電粒子光学系及び前記球面収差補正器を制御する制御部と
を有することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記複数の収差補正条件は、複数の加速電圧に対応する
ことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記複数の収差補正条件は、前記対物レンズの複数のポールピース形状に対応する
ことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記多極子レンズは、12個の極子を有する12極子レンズであり、
前記12個の極子のうち6個の極子で構成される第1の極子群の励起により第1の収差補正条件を満足し、別の6個の極子で構成される第2の極子群の励起により第2の収差補正条件を満足し、12個全ての極子の励磁により第3の収差補正条件を満足する
ことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記多極子レンズは、12個以上の極子を有する多極子レンズであり、
前記12個以上の極子のうち6個の極子で構成される第1の極子群の励起により第1の収差補正条件を満足し、前記6個の極子とは別の極子群又は前記6個の極子を含む他の極子群の選択励磁により、1又は複数の他の収差補正条件を満足する
ことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記多極子レンズは、12個の極子を有する12極子レンズであり、
前記12個の極子のうち6個の極子で構成される第1の極子群の励起により第1の収差補正条件を満足し、別の6個の極子で構成される第2の極子群の励起により第2の収差補正条件を満足する
ことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 荷電粒子線源と、前記荷電粒子線源から放出された荷電粒子を荷電粒子線として試料に対して照射する荷電粒子光学系と、前記荷電粒子線を集束する対物レンズと、前記荷電粒子光学系の球面収差を補正する球面収差補正器と、前記荷電粒子光学系及び前記球面収差補正器を制御する制御部とを有する荷電粒子線装置における球面収差補正方法において、
前記制御部は、
前記対物レンズの励磁電流の変更に応じて、多極子レンズを構成する複数組の極子群を選択的に励磁することにより、複数の収差補正条件について磁気飽和状態を満足させる
ことを特徴とする球面収差補正方法。 - 請求項7に記載の球面収差補正方法において、
前記制御部は、加速電圧の変更に対応して前記球面収差補正器を制御する
ことを特徴とする球面収差補正方法。 - 請求項7に記載の球面収差補正方法において、
前記制御部は、前記対物レンズのポールピース形状の変更に対応して前記球面収差補正器を制御する
ことを特徴とする球面収差補正方法。 - 請求項7に記載の球面収差補正方法において、
前記多極子レンズは、12個の極子を有する12極子レンズであり、
前記制御部は、前記12個の極子のうち6個の極子で構成される第1の極子群を励起させて第1の収差補正条件を満足させ、別の6個の極子で構成される第2の極子群を励起させて第2の収差補正条件を満足させ、12個全ての極子を励磁させて第3の収差補正条件を満足させる
ことを特徴とする球面収差補正方法。 - 請求項7に記載の球面収差補正方法において、
前記多極子レンズは、12個以上の極子を有する多極子レンズであり、
前記制御部は、前記12個以上の極子のうち6個の極子で構成される第1の極子群を励起させて第1の収差補正条件を満足させ、前記6個の極子とは別の極子群又は前記6個の極子を含む他の極子群を選択励磁させて1又は複数の他の収差補正条件を満足させる
ことを特徴とする球面収差補正方法。 - 請求項7に記載の球面収差補正方法において、
前記多極子レンズは、12個の極子を有する12極子レンズであり、
前記制御部は、前記12個の極子のうち6個の極子で構成される第1の極子群を励起させて第1の収差補正条件を満足させ、別の6個の極子で構成される第2の極子群を励起させて第2の収差補正条件を満足させる
ことを特徴とする球面収差補正方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2014/059944 WO2015151271A1 (ja) | 2014-04-04 | 2014-04-04 | 荷電粒子線装置及び球面収差補正方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2015151271A1 JPWO2015151271A1 (ja) | 2017-04-13 |
JP6163255B2 true JP6163255B2 (ja) | 2017-07-12 |
Family
ID=54239631
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016511282A Expired - Fee Related JP6163255B2 (ja) | 2014-04-04 | 2014-04-04 | 荷電粒子線装置及び球面収差補正方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9715991B2 (ja) |
JP (1) | JP6163255B2 (ja) |
CN (1) | CN106104746B (ja) |
DE (1) | DE112014006444B4 (ja) |
WO (1) | WO2015151271A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6943925B2 (ja) * | 2019-07-29 | 2021-10-06 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置のフォーカス調整方法および荷電粒子線装置 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL9001800A (nl) | 1990-08-10 | 1992-03-02 | Philips Nv | Methode voor het direct verkrijgen van amplitude- en fase-informatie van een object met behulp van beelden van een hoge-resolutie elektronenmicroscoop. |
DE19802409B4 (de) | 1998-01-23 | 2006-09-21 | Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh | Anordnung zur Korrektur des Öffnungsfehlers dritter Ordnung einer Linse, insbesondere der Objektivlinse eines Elektronenmikroskops |
JP4063633B2 (ja) * | 2001-10-26 | 2008-03-19 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子ビーム装置における収差補正装置 |
US6723997B2 (en) * | 2001-10-26 | 2004-04-20 | Jeol Ltd. | Aberration corrector for instrument utilizing charged-particle beam |
JP3950769B2 (ja) * | 2002-09-06 | 2007-08-01 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子ビーム装置における収差補正装置 |
JP2004199912A (ja) * | 2002-12-17 | 2004-07-15 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置における収差補正装置 |
JP4133602B2 (ja) * | 2003-06-06 | 2008-08-13 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子ビーム装置における収差補正方法および荷電粒子ビーム装置 |
EP1717840B1 (en) * | 2005-04-05 | 2011-06-08 | Fei Company | Particle-optical appliance provided with aberration-correcting means |
JP4851148B2 (ja) * | 2005-09-27 | 2012-01-11 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡 |
JP2007173132A (ja) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査透過電子顕微鏡、および走査透過電子顕微鏡の調整方法 |
JP4988216B2 (ja) * | 2006-02-03 | 2012-08-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 収差補正装置を搭載した荷電粒子線装置 |
JP5028181B2 (ja) * | 2007-08-08 | 2012-09-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 収差補正器およびそれを用いた荷電粒子線装置 |
JP2011095685A (ja) | 2009-11-02 | 2011-05-12 | Sony Corp | 顕微鏡システム及び顕微鏡システムの制御方法 |
EP2325862A1 (en) * | 2009-11-18 | 2011-05-25 | Fei Company | Corrector for axial aberrations of a particle-optical lens |
US8089050B2 (en) * | 2009-11-19 | 2012-01-03 | Twin Creeks Technologies, Inc. | Method and apparatus for modifying a ribbon-shaped ion beam |
JP5545869B2 (ja) * | 2010-11-16 | 2014-07-09 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線の軸合わせ方法及び荷電粒子線装置 |
JP5715866B2 (ja) * | 2011-03-30 | 2015-05-13 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 多極子およびそれを用いた収差補正器または荷電粒子線装置 |
JP5758728B2 (ja) | 2011-07-26 | 2015-08-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
EP2674959A1 (en) * | 2012-06-13 | 2013-12-18 | FEI Company | Charged-particle apparatus equipped with improved Wien-type Cc corrector |
JP2015082380A (ja) * | 2013-10-22 | 2015-04-27 | 日本電子株式会社 | 画像取得方法および透過電子顕微鏡 |
-
2014
- 2014-04-04 JP JP2016511282A patent/JP6163255B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2014-04-04 DE DE112014006444.0T patent/DE112014006444B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2014-04-04 CN CN201480077095.5A patent/CN106104746B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2014-04-04 US US15/125,989 patent/US9715991B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2014-04-04 WO PCT/JP2014/059944 patent/WO2015151271A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20170117115A1 (en) | 2017-04-27 |
WO2015151271A1 (ja) | 2015-10-08 |
CN106104746A (zh) | 2016-11-09 |
JPWO2015151271A1 (ja) | 2017-04-13 |
US9715991B2 (en) | 2017-07-25 |
CN106104746B (zh) | 2017-12-05 |
DE112014006444B4 (de) | 2020-03-26 |
DE112014006444T5 (de) | 2016-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6554288B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP3985057B2 (ja) | 粒子光学機器のレンズ収差補正用補正装置 | |
US20090014649A1 (en) | Electron beam apparatus | |
JP6310920B2 (ja) | 高ビーム電流および低ビーム電流の両方を用いた、高解像度イメージングのための二重レンズ銃電子ビーム装置 | |
WO2017002243A1 (ja) | 収差補正方法、収差補正システムおよび荷電粒子線装置 | |
JPH11148905A (ja) | 電子ビーム検査方法及びその装置 | |
JP4685637B2 (ja) | モノクロメータを備えた走査電子顕微鏡 | |
JP2014143096A (ja) | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法 | |
KR101318592B1 (ko) | 주사 전자 현미경 | |
JP2006179504A (ja) | 収差補正器付電子線装置 | |
JP2008059881A (ja) | 収差補正方法および電子線装置 | |
JP6163255B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び球面収差補正方法 | |
JP5952048B2 (ja) | イオンビーム装置 | |
JP4287850B2 (ja) | 荷電粒子ビーム応用装置 | |
JP2005353429A (ja) | 荷電粒子線色収差補正装置 | |
JP5582469B2 (ja) | 電子光学機器 | |
JP2007035386A (ja) | 電子線装置及び該装置を用いたデバイス製造方法 | |
WO2018037474A1 (ja) | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の収差補正方法 | |
JP7051655B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP5934517B2 (ja) | 色収差補正装置及び色収差補正装置の制御方法 | |
JP6339734B2 (ja) | 荷電粒子線応用装置、及び、収差補正器 | |
JP2019075392A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP7515021B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び磁界レンズの消磁方法 | |
JP7381432B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2014041733A (ja) | 荷電粒子線装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170523 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170616 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6163255 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |