KR101318592B1 - 주사 전자 현미경 - Google Patents

주사 전자 현미경 Download PDF

Info

Publication number
KR101318592B1
KR101318592B1 KR1020127013397A KR20127013397A KR101318592B1 KR 101318592 B1 KR101318592 B1 KR 101318592B1 KR 1020127013397 A KR1020127013397 A KR 1020127013397A KR 20127013397 A KR20127013397 A KR 20127013397A KR 101318592 B1 KR101318592 B1 KR 101318592B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
focusing lens
permanent magnet
scanning electron
electron microscope
sample
Prior art date
Application number
KR1020127013397A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20120085303A (ko
Inventor
도루 이와야
사까에 고보리
도모히사 오따끼
하루히꼬 하따노
Original Assignee
가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 filed Critical 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
Publication of KR20120085303A publication Critical patent/KR20120085303A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101318592B1 publication Critical patent/KR101318592B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/10—Lenses
    • H01J37/14—Lenses magnetic
    • H01J37/143—Permanent magnetic lenses
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/10—Lenses
    • H01J37/14—Lenses magnetic
    • H01J37/141—Electromagnetic lenses
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

칼럼의 온도 상승을 억제하고, 또한 분해능 등의 성능을 유지하면서, 장치의 소형화를 달성할 수 있는 주사 전자 현미경을 제공한다. 전자원으로부터 방출된 전자선을 집속 렌즈에 의해 집속시켜서 시료상에 조사하고, 시료로부터의 2차 전자를 검출함으로써, 시료를 관찰하는 주사 전자 현미경에 있어서, 상기 집속 렌즈는 전자기 코일형 및 영구 자석형의 양방을 갖는 것을 특징으로 한다.

Description

주사 전자 현미경{SCANNING ELECTRON MICROSCOPE}
본 발명은 전자원으로부터 방출된 전자선을 시료상에 조사하고, 시료로부터의 2차 전자 등을 검출함으로써, 시료를 관찰하는 주사 전자 현미경에 관한 것이다.
최근, 취급성 중시나 환경의 배려의 관점으로부터, 소형화에 특화된 주사 전자 현미경의 개발이 행해지고 있다. 그로 인해, 칼럼에 구비된 집속 렌즈의 소형화가 요구된다. 일반적으로, 전자기 코일형의 집속 렌즈의 소형화를 시험해 보기 위해서는, 코일선의 권수를 줄이던지, 또는 코일선 직경을 작게 할 필요가 있다.
코일선 직경은 그대로 권수를 줄이면, 당연히 전자기 코일의 소형화는 도모할 수 있지만, 자기장 강도는 감소한다. 한편, 권수는 그대로 코일선 직경을 작게 하면, 자기장 강도를 유지한 채 소형화를 도모할 수는 있지만, 코일선의 저항값이 상승하여, 발열량이 증대한다. 자기장 강도를 유지할 수 없으면, 시료사에 조사되는 전자선의 스폿 직경을 작게 할 수 없어, 주사 전자 현미경의 분해능을 유지할 수 없다. 또한, 발열량의 증대에 의해 칼럼 표면 온도가 상승하면, IEC 등의 각종 규격을 만족할 수 없게 되고, 성능면에서는 온도 드리프트(drift)에 의한 상(像)의 시프트나 포커스 어긋남이 발생한다. 따라서, 전자기 코일형의 집속 렌즈를 소형화하기 위해서는, 자기장 강도의 감소나 발열량의 증대라고 하는 문제를 해결할 필요가 있다.
이와 같은 문제를 해결하기 위해서, 예를 들어 특허문헌 1에서는, 전자기 코일형의 집속 렌즈 대신에, 전자기 코일형보다도 소형인 영구 자석 코일형의 집속 렌즈를 채용하는 구성을 개시하고 있다.
[특허문헌 1] 일본 특허 출원 공개 제2008-204749 호 공보
그러나, 상기 특허문헌 1은, 전자기 코일형의 집속 렌즈는 사용하지 않고, 모두 영구 자석 코일형의 집속 렌즈를 사용하고 있기 때문에, 집속 렌즈의 추가를 시험해 보고, 여자 조건을 변경하고 있다. 즉, 특허문헌 1은, 프로브 전류나 스폿 직경을 변경할 때, 집속 렌즈의 착탈을 행할 필요가 있어, 조작성이 나쁘고, 또한 광축의 어긋남이 발생한다.
본 발명은, 이러한 상황에 감안해서 이루어진 것이며, 칼럼의 온도 상승을 억제하고, 또한 분해능 등의 성능을 유지하면서, 장치의 소형화를 달성할 수 있는 주사 전자 현미경을 제공하는 것이다.
상기 과제를 해결하기 위해서 본 발명은, 복수의 전자기 코일형의 집속 렌즈 중 일부를 영구 자석형의 집속 렌즈로 변경한다.
즉, 본 발명에 의한 주사 전자 현미경은, 전자원으로부터 방출된 전자선을 집속 렌즈에 의해 집속시켜서 시료상 조사하고, 시료로부터의 2차 전자, 반사 전자, 그 밖의 신호를 검출함으로써, 시료를 관찰하는 주사 전자 현미경에 있어서, 상기 집속 렌즈는 전자기 코일형 및 영구 자석형의 양방을 갖는다.
이 경우, 집속 렌즈는 최상단이 영구 자석형이여도 된다. 또한, 영구 자석형의 집속 렌즈의 하부, 동축 및 상부의 적어도 1부에 전자선의 광축을 보정하는 편향기를 구비해도 된다.
본 발명의 주사 전자 현미경에 따르면, 칼럼의 온도 상승을 억제하고, 또한 분해능 등의 성능을 유지하면서, 장치의 소형화를 달성할 수 있다. 이에 의해, 장치의 취급성을 향상시킬 수 있는 동시에, 조작을 간소화시킬 수 있다. 또한, 장치의 소비 전력을 억제할 수 있기 때문에, 환경을 배려한 주사 전자 현미경을 실현할 수 있다.
도 1은 통상의 주사 전자 현미경의 개략 구성도이다.
도 2는 본 발명의 주사 전자 현미경의 개략 구성도이다.
도 3은 본 발명의 주사 전자 현미경의 개략 구성도이다.
도 4는 본 발명의 주사 전자 현미경에 관한 편향기(하단)에 의한 얼라인먼트를 도시한 설명도이다.
도 5는 본 발명의 주사 전자 현미경에 관한 편향기(중단)에 의한 얼라인먼트를 도시한 설명도이다.
도 6은 본 발명의 주사 전자 현미경에 관한 편향기(상단)에 의한 얼라인먼트를 도시한 설명도이다.
본 발명은, 시료에 전자선을 조사해 시료 표면으로부터의 2차 전자 등을 검출해서 시료 표면의 화상을 취득하는 주사 전자 현미경에 관한 것이다. 이하, 첨부 도면을 참조해서 본 발명의 실시형태에 대해서 설명한다. 단, 본 실시형태는 본 발명을 실현하기 위한 일 예에 지나지 않고, 본 발명의 기술적 범위를 한정하는 것이 아니라는 것에 주의해야 한다. 또한, 각 도면에 있어서 공통인 구성에 대해서는 동일한 도면부호가 부여되어 있다.
<통상의 주사 전자 현미경>
도 1은 통상의 주사 전자 현미경의 개략 구성도이다. 통상의 주사 전자 현미경은 전자선(2)을 방출하는 전자원(1), 음의 전압을 발생하는 웨넬트(Wehnelt) 전극(3), 양의 전압을 발생하는 애노드 전극(4), 가속된 전자선(2)을 집속하는 제1 집속 렌즈(6) 및 제2 집속 렌즈(7), 시료에의 스폿 직경을 조정하는 대물 렌즈(12), 대물 렌즈(12)를 통과하는 전자선(2)을 제한하는 대물 조리개(11), 시료를 올려놓는 시료대(10)를 구비한다.
다음에, 통상의 주사 전자 현미경의 원리에 대해서, 도 1을 참조하면서 설명한다. 장치 내부는 진공 배기되고, 목표의 진공 압력에 도달한 후, 전자원(1)에 고압이 인가된다. 고압으로 인가된 전자원(1)으로부터는 전자선(2)이 방출된다. 방출된 전자선(2)은 웨넬트 전극(3)의 전위에 의해, 집속 작용을 받고, 궤도가 구부려져서 웨넬트 전극(3)과 애노드 전극(4)의 사이에 제1의 크로스오버(5)를 만든다. 그 후, 웨넬트 전극(3)에 의해 가속된 전자선(2)은 애노드 전극(4)을 통과하고, 제1 집속 렌즈(전자기 코일형)(6)에 의해 집속 작용을 받고, 제1 집속 렌즈(6)와 제2 집속 렌즈(전자기 코일형)(7)의 사이에 제2 크로스오버(8)를 만든다. 또한, 제2 집속 렌즈(전자기 코일형)(7)와 대물 렌즈(12)의 사이에 제3 크로스오버(9)를 만든다. 전자선(2)은 대물 렌즈(12)에 의해 집속, 대물 조리개(11)로 제한되어, 시료대(10)에 놓인 시료 표면에 조사된다. 시료 표면에 조사된 전자선(2)은 시료 표면에서 튀어 돌아오는 반사 전자 및 시료 표면으로부터 튀어 나오는 2차 전자 등을 발생시킨다. 이들 반사 전자 및 2차 전자를 시료실 내에 설치되어 있는 검출기에 취입하고, 증폭 회로를 거치고, 또한 디지털 변환한 후 디스플레이에 보내주고, 조작 화면에서 시료 표면의 화상으로서 확인할 수 있다. 또한, 대물 조리개(11)는 도 1에 도시되는 위치 이외에 설치해도 된다.
<본 실시형태의 주사 전자 현미경>
도 2 및 도 3은 본 실시형태의 주사 전자 현미경의 개략 구성도이다. 본 실시형태의 주사 전자 현미경은 위에서 설명한 통상의 주사 전자 현미경과 비교하여, 제1 집속 렌즈(6) 또는 제2 집속 렌즈(7)가 영구 자석형의 집속 렌즈(13, 14)로 대체한 점이 상이하다. 영구 자석형의 집속 렌즈는 소형 이면서 경량이기 때문에, 도 3과 같이 제2 집속 렌즈에 영구 자석형을 배치하는 것보다도, 도 2와 같이 제1 집속 렌즈에 영구 자석형을 배치한 쪽이 무게 중심이 낮아지기 때문에 바람직하다. 무게 중심이 낮으면, 장치의 안정성이 증가하고, 외란(진동)의 영향을 받기 어려워지기 때문이다.
우선, 제1 집속 렌즈(13)에 영구 자석형을 채용할 경우(도 2)에 대해서 설명한다. 이 경우, 상술한 통상의 주사 전자 현미경과 마찬가지로, 웨넬트 전극(3)에 의해 가속된 전자선(2)은 애노드 전극(4)을 통과하고, 제1 집속 렌즈(영구 자석형)(13)에 의해 집속 작용을 받고, 제1 집속 렌즈(영구 자석형)(13)와 제2 집속 렌즈(전자기 코일형)(7)의 사이에 제2 크로스오버(8)를 만든다.
단, 영구 자석형의 제1 집속 렌즈(13)는 전자기 코일형과 같이 전류 제어가 가능하지 않고, 제2 크로스오버(8)의 상하 위치를 임의로 변경할 수는 없다. 그러나, 제2 집속 렌즈(전자기 코일형)(7)와 대물 렌즈(12)의 사이에 만들어지는 제3 크로스오버(9)의 상하 위치에 관해서는, 제2 집속 렌즈(전자기 코일형)(7)를 전류 제어함으로써 변경 가능하다.
다음에, 제2 집속 렌즈(14)에 영구 자석형을 채용할 경우(도 3)에 대해서 설명한다. 이 경우도, 웨넬트 전극(3)에 의해 가속된 전자선(2)은 애노드 전극(4)을 통과하고, 제1 집속 렌즈(전자기 코일형)(6)에 의해 집속 작용을 받고, 제1 집속 렌즈(6)와 제2 집속 렌즈(영구 자석형)(14) 사이에 제2 크로스오버(8)를 만든다. 이 제2 크로스오버(8)의 상하 위치는 제1 집속 렌즈(전자기 코일형)(6)의 전류 제어에 의해 변경 가능하다. 그러나, 제2 집속 렌즈(14)와 대물 렌즈(12) 사이에서 얻어지는 제3 크로스오버(9)의 상하 위치에 관해서는, 영구 자석형의 제2 집속 렌즈(14)를 전류 제어할 수 없기 때문에, 임의로 변경할 수는 없다. 따라서, 시료상에서의 프로브 전류의 스폿 직경을 조정하기 위해서는, 제1 집속 렌즈(전자기 코일형)(6)의 전류 제어에 의해 행한다.
이상의 설명과 같이, 본 실시형태에서는, 전자선(2)의 기동에 따라 배치되는 복수의 전자기 코일형의 집속 렌즈 중, 일부를 영구 자석형의 집속 렌즈로 변경한다.
이와 같은 구성에 의해, 시료상에서의 스폿 직경 및 프로브 전류를 조정하는 기능을 유지하면서, 주사 전자 현미경의 소형화, 조작의 간소화를 실현하는 것이 가능하다. 동시에, 적어도 한개분의 전자기 코일형의 집속 렌즈의 발열량을 삭감할 수 있어, 환경에 적합한 주사 전자 현미경을 실현할 수 있다.
<본 실시형태의 주사 전자 현미경의 얼라인먼트>
도 4 내지 도 6은 본 실시형태의 주사 전자 현미경에 관한 편향기에 의한 얼라인먼트를 도시한 설명도이다. 웨넬트 전극(3) 또는 애노드 전극(4)의 가속 전압이 변화되면, 영구 자석형의 집속 렌즈(13 또는 14)를 통과한 후의 전자선(2)은 크로스오버의 상하 위치가 변화된다.
고가속 전압의 경우에는, 전자선(2)은 강한 가속을 받아서 직진하기 쉽기 때문에, 긴초점으로 되고 또한 광축 어긋남을 일으키기 어렵다. 그러나, 저가속 전압의 경우에는, 전자선(2)은 단초점으로 되고 또한 광축 어긋남을 일으키기 쉽다. 이 광축 어긋남을 보정하기 위해서, 본 실시형태에서는, 영구 자석형의 집속 렌즈의 하부(하측)(도 4), 동축(집속 렌즈와 같은 중심축)(도 5) 또는 상부(상측)(도 6)에 편향기(15)를 배치한다.
도 4 및 도 5에서는, 광축 어긋남 발생 이후의 전자선(2)에 보정 자기장을 적용시켜 광축 어긋남을 보정하고 있는 것에 반해, 도 6에서는, 광축 어긋남 방향과 역방향의 보정 자기장을 미리 전자선에 적용시켜 광축 어긋남을 보정하고 있다. 또한, 도 5에서는, 편향기(15)를 영구 자석형의 집속 렌즈(13, 14)와 동축상에 배치하는 구성상, 영구 자석형의 집속 렌즈의 구멍 직경이 필연적으로 커져, 자기장 강도가 감소할 우려가 있다. 따라서, 편향기의 제어상 및 구성상, 도 4가 가장 바람직한 실시형태이다. 또한, 도 4 내지 도 6의 편향기는 자계식이지만, 전계식으로 해도 된다. 또한, 도 4 내지 도 6의 편향기를 복수 조합해도 된다.
일반적으로, 영구 자석형의 집속 렌즈는 제조 과정에 있어서 부품 개수가 많아지고, 개개의 편차를 억제하는 것이 어렵다. 따라서, 영구 자석형의 집속 렌즈를 사용한 주사 전자 현미경은 광축 어긋남이 일어나기 쉽고, 장치의 성능상 문제가 있었다. 따라서, 본 실시형태에서는, 이 문제를 해결하기 위해, 광축 어긋남을 보정하는 편향기(15)를 설치하고 있다.
이와 같이, 편향기(15)에 광축 어긋남을 상쇄할 만한 전계 또는 자계를 인가함으로써, 전자선(2)을 보정하고, 정상 궤도로 되는 전자선(16)을 얻을 수 있다. 이에 의해, 가속 전압에 의하지 않고 양호한 화상을 취득하는 것이 가능해진다.
<정리>
본 실시형태의 주사 전자 현미경에 따르면, 전자기 코일형의 집속 렌즈 중 일부를 영구 자석형의 집속 렌즈로 변경한다.
이렇게 함으로써, 전자기 코일형의 집속 렌즈에 의해 시료 상에서의 스폿 직경 및 프로브 전류를 조정하는 기능을 유지하면서, 영구 자석형의 집속 렌즈에 의해 주사 전자 현미경의 소형화, 조작의 간소화를 실현하는 것이 가능하다. 동시에, 적어도 1개분의 전자기 코일형의 집속 렌즈의 발열량을 삭감할 수 있고, 환경에 적합한 주사 전자 현미경을 실현할 수 있다.
또한, 본 실시형태의 주사 전자 현미경에 따르면, 영구 자석형의 집속 렌즈의 하부, 동축 또는 상부에 편향기를 배치한다.
이렇게 함으로써, 전자선의 광축 어긋남을 보정하고, 가속 전압에 의하지 않고 양호한 화상을 취득하는 것이 가능해진다.
이상의 설명과 같이, 본 실시형태의 주사 전자 현미경은 종래형의 주사 전자 현미경과 비교해서 소형화에 특화되어 있기 때문에, 그 사용 용도는 종래형과 마찬가지로 전문적인 연구·검사용으로서는 물론, 학교 교육의 일환, 개인의 취미용으로서도 다방면에 미칠 수 있다.
또한, 본 실시형태에서는, 주사 전자 현미경의 성능을 유지한 채 소형화하는 방법에 대해서 설명했지만, 장치 자체의 크기를 그대로 하면, 자기장 강도의 향상, 분해능의 향상, 발열량의 감소 등 주사 전자 현미경의 성능을 향상시킬 수 있는 것은 물론이다.
1 : 전자원
2 : 전자선
3 : 웨넬트 전극
4 : 애노드 전극
5 : 제1 크로스오버
6 : 제1 집속 렌즈(전자기 코일형)
7 : 제2 집속 렌즈(전자기 코일형)
8 : 제2 크로스오버
9 : 제3 크로스오버
10 : 시료대
11 : 대물 조리개
12 : 대물 렌즈
13 : 제1 집속 렌즈(영구 자석형)
14 : 제2 집속 렌즈(영구 자석형)
15 : 편향기

Claims (6)

  1. 전자원으로부터 방출된 전자선을 집속 렌즈에 의해 집속시켜서 시료 위로 조사하여, 상기 시료로부터의 2차 전자 또는 반사 전자를 검출함으로써, 상기 시료를 관찰하는 주사 전자 현미경으로서,
    가속 전압을 변경하도록 구성된 웨넬트(Wehnelt) 전극 또는 애노드 전극; 및
    상기 전자선을 제한하도록 구성된 대물 조리개를 포함하며,
    상기 집속 렌즈는 전자기 코일형 및 영구 자석형의 양방을 가지고,
    상기 영구 자석형 집속 렌즈는 상기 전자원으로부터 방출된 상기 전자선을 집속시키기 위해 상기 주사 전자 현미경 내에 정렬되며,
    상기 전자기 코일형 집속 렌즈는 상기 영구 자석형 집속 렌즈에 의해 집속된 상기 전자선을 집속시키기 위해 상기 주사 전자 현미경 내의 상기 영구 자석형 집속 렌즈 뒤에 정렬되고,
    상기 전자기 코일형 집속 렌즈는 상기 전자기 코일형 집속 렌즈 및 대물 렌즈 사이에 형성된 크로스오버의 상하 위치를 변경하고, 상기 시료 상의 스폿 직경을 조정하며, 프로브 전류를 조정하기 위해 제어되도록 구성되는, 주사 전자 현미경.
  2. 제1항에 있어서, 상기 집속 렌즈는 최상단이 영구 자석형인 것을 특징으로 하는 주사 전자 현미경.
  3. 제1항 있어서, 상기 영구 자석형 집속 렌즈의 하부, 동축 및 상부의 적어도 일부에 상기 전자선의 광축을 보정하는 편향기를 더 갖는 것을 특징으로 하는 주사 전자 현미경.
  4. 제2항에 있어서, 상기 영구 자석형 집속 렌즈의 하부, 동축 및 상부의 적어도 일부에 상기 전자선의 광축을 보정하는 편향기를 더 갖는 것을 특징으로 하는 주사 전자 현미경.
  5. 전자원으로부터 방출된 전자선을 집속 렌즈에 의해 집속시켜서 시료 위로 조사하여, 상기 시료로부터의 2차 전자 또는 반사 전자를 검출함으로써, 상기 시료를 관찰하는 주사 전자 현미경으로서,
    가속 전압을 변경하도록 구성된 웨넬트(Wehnelt) 전극 또는 애노드 전극; 및
    상기 전자선을 제한하도록 구성된 대물 조리개를 포함하며,
    상기 집속 렌즈는 전자기 코일형 및 영구 자석형의 양방을 가지고,
    상기 전자기 코일형 집속 렌즈는 상기 전자원으로부터 방출된 상기 전자선을 집속시키기 위해 상기 주사 전자 현미경 내에 정렬되며,
    상기 영구 자석형 집속 렌즈는 상기 전자기 코일형 집속 렌즈에 의해 집속된 상기 전자선을 집속시키기 위해 상기 주사 전자 현미경 내의 상기 전자기 코일형 집속 렌즈 뒤에 정렬되고,
    상기 전자기 코일형 집속 렌즈는 상기 전자기 코일형 집속 렌즈 및 대물 렌즈 사이에 형성된 크로스오버의 상하 위치를 변경하고, 상기 시료 상의 스폿 직경을 조정하며, 프로브 전류를 조정하기 위해 제어되도록 구성되는, 주사 전자 현미경.
  6. 제5항에 있어서, 상기 영구 자석형의 집속 렌즈의 하부, 동축 및 상부의 적어도 일부에 상기 전자선의 광축을 보정하는 편향기를 더 갖는 것을 특징으로 하는 주사 전자 현미경.
KR1020127013397A 2009-11-26 2010-11-12 주사 전자 현미경 KR101318592B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2009-268670 2009-11-26
JP2009268670 2009-11-26
PCT/JP2010/070188 WO2011065240A1 (ja) 2009-11-26 2010-11-12 走査電子顕微鏡

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120085303A KR20120085303A (ko) 2012-07-31
KR101318592B1 true KR101318592B1 (ko) 2013-10-15

Family

ID=44066345

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020127013397A KR101318592B1 (ko) 2009-11-26 2010-11-12 주사 전자 현미경

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8921784B2 (ko)
JP (1) JP5504277B2 (ko)
KR (1) KR101318592B1 (ko)
CN (1) CN102668013B (ko)
WO (1) WO2011065240A1 (ko)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2672502B1 (en) * 2012-06-06 2017-08-09 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH electron beam optical system comprising high brightness electron gun with moving axis condenser lens
JP6114981B2 (ja) * 2012-10-17 2017-04-19 株式会社リガク Ｘ線発生装置
JP6340165B2 (ja) * 2013-04-25 2018-06-06 株式会社日立ハイテクノロジーズ 電子銃、荷電粒子銃およびそれらを用いた荷電粒子線装置
KR101456794B1 (ko) * 2013-08-08 2014-11-03 (주)오로스 테크놀로지 빔 스폿 조절이 가능한 주사전자현미경 및 이를 이용한 측정방법
KR102234659B1 (ko) 2013-10-29 2021-04-05 삼성전자주식회사 고에너지 전자 빔을 이용하여 인-셀 오버레이 오프셋을 측정할 수 있는 sem 장치와 그 방법
WO2018198222A1 (ja) * 2017-04-26 2018-11-01 株式会社ニコン 露光装置、露光方法、及び、デバイス製造方法
US11094499B1 (en) * 2020-10-04 2021-08-17 Borries Pte. Ltd. Apparatus of charged-particle beam such as electron microscope comprising sliding specimen table within objective lens

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4508967A (en) * 1982-01-22 1985-04-02 Cameca Electronic optical apparatus comprising pyrolytic graphite elements
US4806766A (en) * 1986-06-25 1989-02-21 U.S. Philips Corporation Magnetic lens system

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2718606A (en) * 1952-08-02 1955-09-20 Gen Electric Combination electromagnet-permanent magnet focusing devices
US2901627A (en) * 1953-02-19 1959-08-25 Leitz Ernst Gmbh Method of and apparatus for the electronic magnification of objects
JPS5225290B2 (ko) * 1973-06-04 1977-07-06
JPS51105764A (ja) * 1975-03-14 1976-09-18 Hitachi Ltd Denkaihoshutsusosagatadenshikenbikyo
JPS5299765A (en) 1976-02-18 1977-08-22 Hitachi Ltd Transmission type electron lens
JPH06101318B2 (ja) * 1985-10-16 1994-12-12 株式会社日立製作所 イオンマイクロビ−ム装置
JPH073772B2 (ja) * 1987-02-13 1995-01-18 日電アネルバ株式会社 電子ビ−ム収束装置
JP2957610B2 (ja) * 1989-10-23 1999-10-06 株式会社日立製作所 走査形電子顕微鏡
JPH04112440A (ja) 1990-08-31 1992-04-14 Nippon Seiki Co Ltd 観察装置
JPH05128986A (ja) * 1991-11-06 1993-05-25 Jeol Ltd 磁場型レンズ
KR970005769B1 (ko) * 1992-08-27 1997-04-19 가부시끼가이샤 도시바 자계 계침형 전자총
JP3687541B2 (ja) * 1999-01-04 2005-08-24 株式会社日立製作所 元素マッピング装置、走査透過型電子顕微鏡および元素マッピング方法
JP2003346697A (ja) * 2002-05-24 2003-12-05 Technex Lab Co Ltd 永久磁石レンズを使用した走査電子顕微鏡
NL1023260C1 (nl) * 2003-04-24 2004-10-27 Fei Co Deeltjes-optisch apparaat met een permanent magnetische lens en een elektrostatische lens.
US8026491B2 (en) 2006-03-08 2011-09-27 Hitachi High-Technologies Corporation Charged particle beam apparatus and method for charged particle beam adjustment
JP4928987B2 (ja) 2006-03-08 2012-05-09 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線調整方法及び荷電粒子線装置
JP4795847B2 (ja) 2006-05-17 2011-10-19 株式会社日立ハイテクノロジーズ 電子レンズ及びそれを用いた荷電粒子線装置
JP5075375B2 (ja) * 2006-08-11 2012-11-21 株式会社日立ハイテクノロジーズ 走査電子顕微鏡
JP2008204749A (ja) * 2007-02-20 2008-09-04 Technex Lab Co Ltd 永久磁石レンズを使用した走査電子顕微鏡
JP5690086B2 (ja) * 2010-07-02 2015-03-25 株式会社キーエンス 拡大観察装置
US20130134322A1 (en) * 2010-10-27 2013-05-30 Param Corporation Electron lens and the electron beam device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4508967A (en) * 1982-01-22 1985-04-02 Cameca Electronic optical apparatus comprising pyrolytic graphite elements
US4806766A (en) * 1986-06-25 1989-02-21 U.S. Philips Corporation Magnetic lens system

Also Published As

Publication number Publication date
CN102668013A (zh) 2012-09-12
JP5504277B2 (ja) 2014-05-28
WO2011065240A1 (ja) 2011-06-03
US8921784B2 (en) 2014-12-30
US20120211654A1 (en) 2012-08-23
KR20120085303A (ko) 2012-07-31
JPWO2011065240A1 (ja) 2013-04-11
CN102668013B (zh) 2015-05-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101318592B1 (ko) 주사 전자 현미경
JP6554288B2 (ja) 荷電粒子線装置
US6555816B1 (en) Scanning electron microscope and sample observation method using the same
JP6310920B2 (ja) 高ビーム電流および低ビーム電流の両方を用いた、高解像度イメージングのための二重レンズ銃電子ビーム装置
JP5492306B2 (ja) 電子ビーム装置
JP2011029185A (ja) 絞りユニットを有する粒子ビーム装置および粒子ビーム装置のビーム電流を調整する方法
WO2017002243A1 (ja) 収差補正方法、収差補正システムおよび荷電粒子線装置
US12027342B2 (en) Charged particle beam device and axis adjustment method thereof
JP2006324119A (ja) 電子銃
US10373802B2 (en) Transmission scanning microscopy including electron energy loss spectroscopy and observation method thereof
JP4801573B2 (ja) 走査電子顕微鏡
JP4896626B2 (ja) 走査電子顕微鏡
JP4759733B2 (ja) 電子顕微鏡
JP2005032588A (ja) 電子顕微鏡用磁界型対物レンズ
JP2002184336A (ja) 荷電粒子線顕微鏡装置、荷電粒子線応用装置、荷電粒子線顕微方法、荷電粒子線検査方法、及び電子顕微鏡装置
JP2007035386A (ja) 電子線装置及び該装置を用いたデバイス製造方法
JP2003346697A (ja) 永久磁石レンズを使用した走査電子顕微鏡
WO2014030429A1 (ja) 荷電粒子線装置及び対物レンズ
JP2009076447A (ja) 走査電子顕微鏡
JP6163255B2 (ja) 荷電粒子線装置及び球面収差補正方法
JP5210088B2 (ja) 電子ビーム装置
JP7481378B2 (ja) 収差補正装置および電子顕微鏡
JP2011238387A (ja) エミッタアレイを用いた電子プローブ装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160921

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170920

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180920

Year of fee payment: 6