JPWO2011065240A1 - 走査電子顕微鏡 - Google Patents
走査電子顕微鏡 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2011065240A1 JPWO2011065240A1 JP2011543209A JP2011543209A JPWO2011065240A1 JP WO2011065240 A1 JPWO2011065240 A1 JP WO2011065240A1 JP 2011543209 A JP2011543209 A JP 2011543209A JP 2011543209 A JP2011543209 A JP 2011543209A JP WO2011065240 A1 JPWO2011065240 A1 JP WO2011065240A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- focusing lens
- scanning electron
- electron microscope
- permanent magnet
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
- H01J37/143—Permanent magnetic lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
- H01J37/141—Electromagnetic lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
Abstract
Description
本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであり、カラムの温度上昇を抑制し、かつ分解能等の性能を維持しつつ、装置の小型化を達成することができる走査電子顕微鏡を提供するものである。
図1は、通常の走査電子顕微鏡の概略構成図である。通常の走査電子顕微鏡は、電子線2を放出する電子源1、負の電圧を発生するウェネルト電極3、正の電圧を発生するアノード電極4、加速された電子線2を集束する第一集束レンズ6および第二集束レンズ7、試料へのスポット径を調整する対物レンズ12、対物レンズ12を通過する電子線2を制限する対物絞り11、試料を載置する試料台10、を備える。
図2および図3は、本実施形態の走査電子顕微鏡の概略構成図である。本実施形態の走査電子顕微鏡は、先に述べた通常の走査電子顕微鏡と比較して、第一集束レンズ6または第二集束レンズ7が永久磁石型の集束レンズ13、14に置き換わる点が相違する。永久磁石型の集束レンズは小型かつ軽量であるため、図3のように第二集束レンズに永久磁石型を配置するよりも、図2のように第一集束レンズに永久磁石型を配置した方が、重心が低くなるため好ましい。重心が低ければ、装置の安定性が増し、外乱(振動)の影響を受け難くなるからである。
図4〜6は、本実施形態の走査電子顕微鏡に係る偏向器によるアライメントを示した説明図である。ウェネルト電極3またはアノード電極4の加速電圧が変化すると、永久磁石型の集束レンズ13または14を通過した後の電子線2は、クロスオーバーの上下位置が変化する。
本実施形態の走査電子顕微鏡によれば、電磁コイル型の集束レンズのうち一部を永久磁石型の集束レンズへ変更する。
2 電子線
3 ウェネルト電極
4 アノード電極
5 第一のクロスオーバー
6 第一の集束レンズ(電磁コイル型)
7 第二の集束レンズ(電磁コイル型)
8 第二のクロスオーバー
9 第三のクロスオーバー
10 試料台
11 対物絞り
12 対物レンズ
13 第一の集束レンズ(永久磁石型)
14 第二の集束レンズ(永久磁石型)
15 偏向器
Claims (3)
- 電子源から放出された電子線を集束レンズにより集束させて試料上に照射し、試料からの二次電子、反射電子、その他の信号を検出することで、試料を観察する走査電子顕微鏡において、
前記集束レンズは、電磁コイル型および永久磁石型の両方を有することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 前記集束レンズは、最上段が永久磁石型であることを特徴とする請求項1記載の走査電子顕微鏡。
- さらに、前記永久磁石型の集束レンズの下部、同軸および上部の少なくとも1部に、前記電子線の光軸を補正する偏向器を有することを特徴とする請求項1または2記載の走査電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011543209A JP5504277B2 (ja) | 2009-11-26 | 2010-11-12 | 走査電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009268670 | 2009-11-26 | ||
JP2009268670 | 2009-11-26 | ||
PCT/JP2010/070188 WO2011065240A1 (ja) | 2009-11-26 | 2010-11-12 | 走査電子顕微鏡 |
JP2011543209A JP5504277B2 (ja) | 2009-11-26 | 2010-11-12 | 走査電子顕微鏡 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2011065240A1 true JPWO2011065240A1 (ja) | 2013-04-11 |
JP5504277B2 JP5504277B2 (ja) | 2014-05-28 |
Family
ID=44066345
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011543209A Active JP5504277B2 (ja) | 2009-11-26 | 2010-11-12 | 走査電子顕微鏡 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8921784B2 (ja) |
JP (1) | JP5504277B2 (ja) |
KR (1) | KR101318592B1 (ja) |
CN (1) | CN102668013B (ja) |
WO (1) | WO2011065240A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2672502B1 (en) * | 2012-06-06 | 2017-08-09 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | electron beam optical system comprising high brightness electron gun with moving axis condenser lens |
JP6114981B2 (ja) * | 2012-10-17 | 2017-04-19 | 株式会社リガク | X線発生装置 |
JP6340165B2 (ja) * | 2013-04-25 | 2018-06-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子銃、荷電粒子銃およびそれらを用いた荷電粒子線装置 |
KR101456794B1 (ko) * | 2013-08-08 | 2014-11-03 | (주)오로스 테크놀로지 | 빔 스폿 조절이 가능한 주사전자현미경 및 이를 이용한 측정방법 |
KR102234659B1 (ko) | 2013-10-29 | 2021-04-05 | 삼성전자주식회사 | 고에너지 전자 빔을 이용하여 인-셀 오버레이 오프셋을 측정할 수 있는 sem 장치와 그 방법 |
WO2018198222A1 (ja) * | 2017-04-26 | 2018-11-01 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、及び、デバイス製造方法 |
US11094499B1 (en) * | 2020-10-04 | 2021-08-17 | Borries Pte. Ltd. | Apparatus of charged-particle beam such as electron microscope comprising sliding specimen table within objective lens |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2718606A (en) * | 1952-08-02 | 1955-09-20 | Gen Electric | Combination electromagnet-permanent magnet focusing devices |
US2901627A (en) * | 1953-02-19 | 1959-08-25 | Leitz Ernst Gmbh | Method of and apparatus for the electronic magnification of objects |
JPS5225290B2 (ja) * | 1973-06-04 | 1977-07-06 | ||
JPS51105764A (ja) * | 1975-03-14 | 1976-09-18 | Hitachi Ltd | Denkaihoshutsusosagatadenshikenbikyo |
JPS5299765A (en) * | 1976-02-18 | 1977-08-22 | Hitachi Ltd | Transmission type electron lens |
FR2520553A1 (fr) * | 1982-01-22 | 1983-07-29 | Cameca | Appareil d'optique electronique comportant des elements en graphite pyrolytique |
JPH06101318B2 (ja) * | 1985-10-16 | 1994-12-12 | 株式会社日立製作所 | イオンマイクロビ−ム装置 |
GB2192092A (en) * | 1986-06-25 | 1987-12-31 | Philips Electronic Associated | Magnetic lens system |
JPH073772B2 (ja) | 1987-02-13 | 1995-01-18 | 日電アネルバ株式会社 | 電子ビ−ム収束装置 |
JP2957610B2 (ja) * | 1989-10-23 | 1999-10-06 | 株式会社日立製作所 | 走査形電子顕微鏡 |
JPH04112440A (ja) * | 1990-08-31 | 1992-04-14 | Nippon Seiki Co Ltd | 観察装置 |
JPH05128986A (ja) | 1991-11-06 | 1993-05-25 | Jeol Ltd | 磁場型レンズ |
KR970005769B1 (ko) * | 1992-08-27 | 1997-04-19 | 가부시끼가이샤 도시바 | 자계 계침형 전자총 |
WO2000041206A1 (fr) * | 1999-01-04 | 2000-07-13 | Hitachi, Ltd. | Dispositif de mappage d'elements, microscope electronique a transmission et a balayage, et procede associe |
JP2003346697A (ja) * | 2002-05-24 | 2003-12-05 | Technex Lab Co Ltd | 永久磁石レンズを使用した走査電子顕微鏡 |
NL1023260C1 (nl) * | 2003-04-24 | 2004-10-27 | Fei Co | Deeltjes-optisch apparaat met een permanent magnetische lens en een elektrostatische lens. |
US8026491B2 (en) | 2006-03-08 | 2011-09-27 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam apparatus and method for charged particle beam adjustment |
JP4928987B2 (ja) * | 2006-03-08 | 2012-05-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線調整方法及び荷電粒子線装置 |
JP4795847B2 (ja) * | 2006-05-17 | 2011-10-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子レンズ及びそれを用いた荷電粒子線装置 |
JP5075375B2 (ja) * | 2006-08-11 | 2012-11-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡 |
JP2008204749A (ja) * | 2007-02-20 | 2008-09-04 | Technex Lab Co Ltd | 永久磁石レンズを使用した走査電子顕微鏡 |
JP5690086B2 (ja) * | 2010-07-02 | 2015-03-25 | 株式会社キーエンス | 拡大観察装置 |
JP5148014B2 (ja) * | 2010-10-27 | 2013-02-20 | 株式会社Param | 電子レンズおよび電子ビーム装置 |
-
2010
- 2010-11-12 JP JP2011543209A patent/JP5504277B2/ja active Active
- 2010-11-12 KR KR1020127013397A patent/KR101318592B1/ko active IP Right Grant
- 2010-11-12 WO PCT/JP2010/070188 patent/WO2011065240A1/ja active Application Filing
- 2010-11-12 CN CN201080052970.6A patent/CN102668013B/zh active Active
- 2010-11-12 US US13/505,517 patent/US8921784B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120211654A1 (en) | 2012-08-23 |
US8921784B2 (en) | 2014-12-30 |
WO2011065240A1 (ja) | 2011-06-03 |
KR101318592B1 (ko) | 2013-10-15 |
JP5504277B2 (ja) | 2014-05-28 |
CN102668013A (zh) | 2012-09-12 |
CN102668013B (zh) | 2015-05-27 |
KR20120085303A (ko) | 2012-07-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5504277B2 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
US8664594B1 (en) | Electron-optical system for high-speed and high-sensitivity inspections | |
JP6310920B2 (ja) | 高ビーム電流および低ビーム電流の両方を用いた、高解像度イメージングのための二重レンズ銃電子ビーム装置 | |
JP6177817B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び走査電子顕微鏡 | |
JP2007335125A (ja) | 電子線装置 | |
JP2010055756A (ja) | 荷電粒子線の照射方法及び荷電粒子線装置 | |
WO2007030819A2 (en) | Electron beam source for use in electron gun | |
US8742342B2 (en) | Electron microscope | |
JP4801573B2 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JP2008234981A (ja) | X線管 | |
JP5478683B2 (ja) | 荷電粒子線の照射方法及び荷電粒子線装置 | |
EP2197016A3 (en) | Electron beam apparatus and method of operating the same | |
JP6204388B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び走査電子顕微鏡 | |
JP2005032588A (ja) | 電子顕微鏡用磁界型対物レンズ | |
JP2002324510A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JP2009076447A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JP6462729B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び走査電子顕微鏡 | |
WO2014030429A1 (ja) | 荷電粒子線装置及び対物レンズ | |
JP5210088B2 (ja) | 電子ビーム装置 | |
JP6163255B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び球面収差補正方法 | |
JP2009009949A (ja) | 走査形電子顕微鏡 | |
JP2004111404A (ja) | 荷電粒子線照射装置 | |
JP2011238387A (ja) | エミッタアレイを用いた電子プローブ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130206 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131009 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20131009 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20131113 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131119 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140304 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140317 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5504277 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |