JP4988216B2 - 収差補正装置を搭載した荷電粒子線装置 - Google Patents
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Description
(1)1段目の静電型多極子レンズにより、入射電子線を所定の基準軌道(xとy軌道)に分離する。
(2)2段目と3段目の複合型多極子レンズによりx軌道、y軌道に分離された電子線の収差を各々除去する。
(3)4段目の静電型多極子レンズにより、x軌道、y軌道に分離された電子線を一つに合成する。
本発明は、収差補正の性能を落とすことなく、収差補正器を用いた荷電粒子線装置を安価に提供できうる技術を提供することを目的とする。
図1には、色収差を補正可能な走査電子顕微鏡(SEM)についての実施例を示す。図1には、SEMの電子光学系の主要要素を含めて表している。電子源1から射出された電子線は、集束レンズ6と7でビーム電流量を調整した後、対物レンズ17に対し適切な位置にクロスオーバーを結ぶ。これをさらに対物レンズ17で試料表面18に縮小投影しビームプローブとする。ビームプローブを偏向コイル15、16によって試料表面で走査することで、電子線照射によって発生する二次電子量を、試料表面各々位置毎に配列し画像化して所謂“走査電子顕微鏡像(SEM像)”を得ることができる。二次電子検出器と試料を保持する試料ステージ、またビーム開き角度を制限するための絞り装置など本発明の説明に主要ではない装置を図1では省略した。
Claims (14)
- 荷電粒子ビームを試料に対して走査する照射光学系と、当該試料を載置する試料ステージと、前記荷電粒子ビームの照射により前記試料から発生する2次荷電粒子を検出する検出光学系とを備えた走査荷電粒子顕微鏡において、
前記照射光学系は、荷電粒子銃と、対物レンズと、前記荷電粒子線銃と対物レンズとの間に配置された収差補正器とを備え、
当該収差補正器は、一対の静磁型多極子レンズと、該一対の静磁型多極子レンズの間に配置された一対の複合型多極子レンズとを含む多段構造を有し、
前記静磁型多極子レンズおよび複合型多極子レンズは、環状に配置された複数の極子と、
当該複数の極子に備えられた第1のコイルと、前記複数の極子に備えられた第1のコイル間に共通電流を供給する第1の電流導入端子とを有し、
前記第1のコイルは励起する多極子場に応じた巻き数で各々の前記極子に配置され、
前記複合型多極子レンズは更に、電圧導入端子と、該電圧導入端子に印加された電圧を前記複数の極子間に分配する電気配線とを有し、
前記第1の電流導入端子に電流を供給し、前記第1のコイルを介して前記複数の極子に前記共通電流を供給する第1の電流源と、前記電圧導入端子に電圧を供給し、前記電気配線を介して前記複数の極子に電圧を分配する電圧源とを備えたことを特徴とする走査荷電粒子顕微鏡。 - 請求項1に記載の走査荷電粒子顕微鏡において、
前記第1の電流源および電圧源は、同一の電源により構成されることを特徴とする走査荷電粒子顕微鏡。 - 請求項1に記載の走査荷電粒子顕微鏡において、
前記収差補正器を制御する収差補正器制御手段を備え、
該収差補正器制御手段は、前記荷電粒子ビームの加速電圧に応じて、前記複合型多極子レンズの動作を、静磁場型多極子レンズの動作に切り替えることを特徴とする走査荷電粒子顕微鏡。 - 請求項1に記載の走査荷電粒子顕微鏡において、
前記電圧源を制御する電圧源制御手段を備え、
該電圧源制御手段は、前記荷電粒子ビームの加速電圧が所定値以上の場合、前記電圧導入端子への電圧供給を止めることを特徴とする走査荷電粒子顕微鏡。 - 請求項1に記載の走査荷電粒子顕微鏡において、
前記静磁型多極子レンズおよび複合型多極子レンズは、
前記複数の極子に備えられる第2のコイルと、該複数の極子に備えられる第2のコイル間に共通電流を供給する第2の電流導入端子とを備えたことを特徴とする走査荷電粒子顕微鏡。 - 請求項1に記載の走査荷電粒子顕微鏡において、
前記静磁型多極子レンズおよび複合型多極子レンズは、
前記複数の極子に備えられる第3のコイルと、該複数の極子に備えられる第3のコイル間に共通電流を供給する第3の電流導入端子とを備えたことを特徴とする走査荷電粒子顕微鏡。 - 請求項6に記載の走査荷電粒子顕微鏡において、
前記静磁型多極子レンズに備えられた前記第1のコイル、第2のコイルおよび第3のコイルが備えられた極子は、各々、2極子レンズ、4極子レンズ及び8極子レンズを構成することを特徴とする走査荷電粒子顕微鏡。 - 請求項6に記載の走査荷電粒子顕微鏡において、
前記複合型多極子レンズに備えられた前記第1のコイル、第2のコイルおよび第3のコイルが備えられた極子は、各々、4極子レンズ、8極子レンズ及び12極子レンズを構成することを特徴とする走査荷電粒子顕微鏡。 - 回路パターンが形成された試料に対して荷電粒子線を照射し、当該照射により発生する二次電子または反射電子を検出器により検出し、該検出器の検出信号を用いて前記回路パターンの測長または検査を行う機能を備えた走査荷電粒子線装置において、
前記荷電粒子線照射および前記二次電子または反射電子の検出機能を備えた走査荷電粒子顕微鏡と、前記検出信号を用いて前記測長または検査を行う機能を備えた情報処理手段とを備え、
前記走査荷電粒子顕微鏡は、荷電粒子銃と、対物レンズと、前記荷電粒子線銃と対物レンズとの間に配置された収差補正器とを備え、
当該収差補正器は、一対の静磁型多極子レンズと、該一対の静磁型多極子レンズの間に配置された一対の複合型多極子レンズとを含む多段構造を有し、
前記静磁型多極子レンズおよび複合型多極子レンズは、環状に配置された複数の極子と、
当該複数の極子に備えられた第1のコイルと、前記複数の極子に備えられた第1のコイル間に共通電流を供給する第1の電流導入端子とを有し、
前記第1のコイルは励起する多極子場に応じた巻き数で各々の前記極子に配置され、
前記複合型多極子レンズは更に、電圧導入端子と、該電圧導入端子に印加された電圧を前記複数の極子間に分配する電気配線とを有し、
前記第1の電流導入端子に電流を供給し、前記第1のコイルを介して前記複数の極子に前記共通電流を供給する第1の電流源と、前記電圧導入端子に電圧を供給し、前記電気配線を介して前記複数の極子に電圧を分配する電圧源とを備えたことを特徴とする走査荷電粒子線装置。 - 請求項9に記載の走査荷電粒子線装置において、
前記第1の電流源および電圧源は、同一の電源により構成されることを特徴とする走査荷電粒子線装置。 - 請求項10に記載の走査荷電粒子線装置において、
前記収差補正器を制御する収差補正器制御手段を備え、
該収差補正器制御手段は、前記荷電粒子ビームの加速電圧に応じて、前記複合型多極子レンズの動作を、静磁場型多極子レンズの動作に切り替えることを特徴とする走査荷電粒子顕微鏡。 - 請求項10に記載の走査荷電粒子線装置において、
前記電圧源を制御する電圧源制御手段を備え、
該電圧源制御手段は、前記荷電粒子ビームの加速電圧が所定値以上の場合、前記電圧導入端子への電圧供給を止めることを特徴とする走査荷電粒子線装置。 - 請求項10に記載の走査荷電粒子線装置において、
前記情報処理手段は、前記荷電粒子ビームの加速電圧が所定値以上の場合、前記電圧導入端子への電圧供給を止めることを特徴とする走査荷電粒子線装置。 - 請求項13に記載の走査荷電粒子線装置において、
前記情報処理手段に対し、前記所定値を入力するのに使用される情報入力手段と、当該情報入力手段による入力の結果が表示される画面表示手段とを有することを特徴とする走査荷電粒子線装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006026500A JP4988216B2 (ja) | 2006-02-03 | 2006-02-03 | 収差補正装置を搭載した荷電粒子線装置 |
US11/698,819 US7619218B2 (en) | 2006-02-03 | 2007-01-29 | Charged particle optical apparatus with aberration corrector |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006026500A JP4988216B2 (ja) | 2006-02-03 | 2006-02-03 | 収差補正装置を搭載した荷電粒子線装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007207634A JP2007207634A (ja) | 2007-08-16 |
JP4988216B2 true JP4988216B2 (ja) | 2012-08-01 |
Family
ID=38333103
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006026500A Expired - Fee Related JP4988216B2 (ja) | 2006-02-03 | 2006-02-03 | 収差補正装置を搭載した荷電粒子線装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7619218B2 (ja) |
JP (1) | JP4988216B2 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5044813B2 (ja) * | 2007-02-19 | 2012-10-10 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | 集束イオンビーム装置及び荷電粒子光学系の調整方法 |
WO2008113079A1 (en) * | 2007-03-15 | 2008-09-18 | Multibeam Systems, Inc. | Charged particle optics with azimuthally-varying third-order aberrations for generation of shaped beams |
JP5078431B2 (ja) * | 2007-05-17 | 2012-11-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子ビーム装置、その収差補正値算出装置、及びその収差補正プログラム |
WO2010004555A1 (en) * | 2008-07-10 | 2010-01-14 | Given Imaging Ltd. | Localization of capsule with a synthetic source of quadrupoles and dipoles |
JP5237734B2 (ja) * | 2008-09-24 | 2013-07-17 | 日本電子株式会社 | 収差補正装置および該収差補正装置を備える荷電粒子線装置 |
JP5502595B2 (ja) * | 2010-05-18 | 2014-05-28 | 日本電子株式会社 | 球面収差補正装置および球面収差補正方法 |
JP5677081B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2015-02-25 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
DE102011009954A1 (de) * | 2011-02-01 | 2012-08-02 | Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh | Korrektor |
JP5777984B2 (ja) * | 2011-09-08 | 2015-09-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 多極子測定装置 |
CN102867546B (zh) * | 2012-09-11 | 2015-01-21 | 中国科学技术大学 | 简化十二极场磁铁装置及其制造方法 |
TWI461653B (zh) * | 2013-02-06 | 2014-11-21 | Inotera Memories Inc | 測量樣本尺寸的方法 |
CN103345957B (zh) * | 2013-06-26 | 2015-10-21 | 中国科学技术大学 | 一种圆孔径反对称简化六极场磁铁装置及其制造方法 |
JP6077960B2 (ja) * | 2013-07-24 | 2017-02-08 | 日本電子株式会社 | 球面収差補正装置、球面収差補正方法、および荷電粒子線装置 |
JP6254445B2 (ja) | 2014-01-09 | 2017-12-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子ビーム装置 |
JP6267543B2 (ja) * | 2014-02-28 | 2018-01-24 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 収差補正器及びそれを用いた荷電粒子線装置 |
US9715991B2 (en) | 2014-04-04 | 2017-07-25 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam device and spherical aberration correction method |
JP6276101B2 (ja) * | 2014-04-17 | 2018-02-07 | 日本電子株式会社 | 多極子レンズ、収差補正装置、および電子顕微鏡 |
TWI506666B (zh) * | 2014-08-08 | 2015-11-01 | Nat Univ Tsing Hua | 桌上型電子顯微鏡及其複合多極-聚焦可調式磁透鏡 |
WO2018122953A1 (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 収差補正器および電子顕微鏡 |
WO2019043759A1 (ja) * | 2017-08-28 | 2019-03-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 多極子レンズ及びそれを用いた収差補正器、荷電粒子線装置 |
CN116864359A (zh) * | 2017-09-29 | 2023-10-10 | Asml荷兰有限公司 | 用于带电粒子束检查的样本预充电方法和设备 |
JP7076362B2 (ja) * | 2018-12-06 | 2022-05-27 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置、静電レンズ |
CN113711330A (zh) * | 2019-04-19 | 2021-11-26 | Asml荷兰有限公司 | 电流源装置和方法 |
US11501946B2 (en) * | 2021-03-01 | 2022-11-15 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3968334B2 (ja) * | 2002-09-11 | 2007-08-29 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線照射方法 |
JP4313691B2 (ja) * | 2003-02-14 | 2009-08-12 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子光学装置 |
US7015481B2 (en) | 2003-02-14 | 2006-03-21 | Jeol Ltd. | Charged-particle optical system |
JP4133602B2 (ja) * | 2003-06-06 | 2008-08-13 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子ビーム装置における収差補正方法および荷電粒子ビーム装置 |
JP4276929B2 (ja) * | 2003-11-18 | 2009-06-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線色収差補正装置および該収差補正装置を搭載した荷電粒子線装置 |
JP4328192B2 (ja) * | 2003-12-12 | 2009-09-09 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子光学系における多極場発生装置および収差補正装置 |
JP4248387B2 (ja) * | 2003-12-17 | 2009-04-02 | 日本電子株式会社 | 収差自動補正方法及び装置 |
JP4328257B2 (ja) * | 2004-04-14 | 2009-09-09 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子ビーム装置の収差自動補正方法及び装置 |
EP1610358B1 (en) * | 2004-06-21 | 2008-08-27 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Aberration correction device and method for operating same |
-
2006
- 2006-02-03 JP JP2006026500A patent/JP4988216B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-01-29 US US11/698,819 patent/US7619218B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007207634A (ja) | 2007-08-16 |
US20070181806A1 (en) | 2007-08-09 |
US7619218B2 (en) | 2009-11-17 |
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A621 | Written request for application examination |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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