JP6101976B2 - タングステン酸及び/又はモリブデン酸と高分子との複合体 - Google Patents
タングステン酸及び/又はモリブデン酸と高分子との複合体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6101976B2 JP6101976B2 JP2014521454A JP2014521454A JP6101976B2 JP 6101976 B2 JP6101976 B2 JP 6101976B2 JP 2014521454 A JP2014521454 A JP 2014521454A JP 2014521454 A JP2014521454 A JP 2014521454A JP 6101976 B2 JP6101976 B2 JP 6101976B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- meth
- solution
- acrylate
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims description 167
- CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L tungstic acid Chemical compound O[W](O)(=O)=O CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 title claims description 103
- VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L molybdic acid Chemical compound O[Mo](O)(=O)=O VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L 0.000 title claims description 45
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 171
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 120
- IYDGMDWEHDFVQI-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxotungsten Chemical compound O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.OP(O)(O)=O IYDGMDWEHDFVQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 101
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 96
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 79
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 73
- -1 ester compound Chemical class 0.000 claims description 71
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 64
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 57
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 53
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 38
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 32
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 32
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 32
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 27
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 25
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 21
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 18
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 17
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 16
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 15
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 claims description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 14
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 13
- DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxomolybdenum Chemical compound O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.OP(O)(O)=O DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- CGFYHILWFSGVJS-UHFFFAOYSA-N silicic acid;trioxotungsten Chemical compound O[Si](O)(O)O.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 CGFYHILWFSGVJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 11
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 claims description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 9
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 9
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 9
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims description 9
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 claims description 9
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 claims description 8
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 8
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 8
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 claims description 8
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 claims description 7
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 claims description 7
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 7
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 claims description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 7
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 7
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 claims description 5
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- SKKHNUKNMQLBTJ-UHFFFAOYSA-N 3-bicyclo[2.2.1]heptanyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1CC2C(OC(=O)C(=C)C)CC1C2 SKKHNUKNMQLBTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N molybdate Chemical compound [O-][Mo]([O-])(=O)=O MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 claims description 3
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 3
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 claims description 3
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical group C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- INSRQEMEVAMETL-UHFFFAOYSA-N decane-1,1-diol Chemical compound CCCCCCCCCC(O)O INSRQEMEVAMETL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 6
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 87
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 57
- 239000010408 film Substances 0.000 description 48
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 30
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 25
- 239000011964 heteropoly acid Substances 0.000 description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 16
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 14
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 13
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 13
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 12
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 12
- 150000004804 polysaccharides Chemical class 0.000 description 12
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 10
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 8
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 8
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 7
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 7
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 7
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 7
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 7
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 7
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 7
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 7
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 6
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 6
- 229940088644 n,n-dimethylacrylamide Drugs 0.000 description 6
- YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C=C YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000006702 (C1-C18) alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 5
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 5
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 239000011238 particulate composite Substances 0.000 description 5
- 229920002338 polyhydroxyethylmethacrylate Polymers 0.000 description 5
- RXGUIWHIADMCFC-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpropyl 2-methylpropionate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)C RXGUIWHIADMCFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 4
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 4
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexylamine Chemical compound C1CCCCC1NC1CCCCC1 XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 3
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 3
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 3
- QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-ylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)NC(=O)C=C QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 1-penten-3-one Chemical compound CCC(=O)C=C JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OJVAMHKKJGICOG-UHFFFAOYSA-N 2,5-hexanedione Chemical compound CC(=O)CCC(C)=O OJVAMHKKJGICOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 2-octanone Chemical compound CCCCCCC(C)=O ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZGHFDIIVVIFNPS-UHFFFAOYSA-N 3-Methyl-3-buten-2-one Chemical compound CC(=C)C(C)=O ZGHFDIIVVIFNPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 5-valerolactone Chemical compound O=C1CCCCO1 OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000856 Amylose Polymers 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 2
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N buten-2-one Chemical compound CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NMJJFJNHVMGPGM-UHFFFAOYSA-N butyl formate Chemical compound CCCCOC=O NMJJFJNHVMGPGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPXUHEORWJQRHJ-UHFFFAOYSA-N ethyl isovalerate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)C PPXUHEORWJQRHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007759 kiss coating Methods 0.000 description 2
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N molybdenum trioxide Chemical compound O=[Mo](=O)=O JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N schardinger α-dextrin Chemical compound O1C(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(O)C2O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC2C(O)C(O)C1OC2CO HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 238000010558 suspension polymerization method Methods 0.000 description 2
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten trioxide Chemical compound O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001221 xylan Polymers 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- WDQLRUYAYXDIFW-RWKIJVEZSA-N (2r,3r,4s,5r,6r)-4-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,5-dihydroxy-4-[(2r,3r,4s,5s,6r)-3,4,5-trihydroxy-6-(hydroxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[[(2r,3r,4s,5s,6r)-3,4,5-trihydroxy-6-(hydroxymethyl)oxan-2-yl]oxymethyl]oxan-2-yl]oxy-6-(hydroxymethyl)oxane-2,3,5-triol Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](CO)O[C@@H](O)[C@H](O)[C@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O[C@H]2[C@@H]([C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)[C@H](O)[C@@H](CO[C@H]2[C@@H]([C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)O1 WDQLRUYAYXDIFW-RWKIJVEZSA-N 0.000 description 1
- LUEWUZLMQUOBSB-FSKGGBMCSA-N (2s,3s,4s,5s,6r)-2-[(2r,3s,4r,5r,6s)-6-[(2r,3s,4r,5s,6s)-4,5-dihydroxy-2-(hydroxymethyl)-6-[(2r,4r,5s,6r)-4,5,6-trihydroxy-2-(hydroxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-4,5-dihydroxy-2-(hydroxymethyl)oxan-3-yl]oxy-6-(hydroxymethyl)oxane-3,4,5-triol Chemical compound O[C@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1O[C@@H]1[C@@H](CO)O[C@@H](O[C@@H]2[C@H](O[C@@H](OC3[C@H](O[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H]3O)CO)[C@@H](O)[C@H]2O)CO)[C@H](O)[C@H]1O LUEWUZLMQUOBSB-FSKGGBMCSA-N 0.000 description 1
- QMMJWQMCMRUYTG-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetrachloro-3-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=C(Cl)C(Cl)=CC(Cl)=C1Cl QMMJWQMCMRUYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trifluoro-5-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC(F)=C(F)C=C1F SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYLCUJRJCUXQBQ-UHFFFAOYSA-N 1-hepten-3-one Chemical compound CCCCC(=O)C=C OYLCUJRJCUXQBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)C1=CC=CC=C1 KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GELKGHVAFRCJNA-UHFFFAOYSA-N 2,2-Dimethyloxirane Chemical compound CC1(C)CO1 GELKGHVAFRCJNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDCLFLLKQIRWHA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dichloro-5-fluorophenyl)-2-oxoacetaldehyde Chemical compound FC1=CC(C(=O)C=O)=C(Cl)C=C1Cl UDCLFLLKQIRWHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound COCCOCCOC(C)=O BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAMTXHVZOHPPQR-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)prop-2-enoic acid Chemical compound OCC(=C)C(O)=O AAMTXHVZOHPPQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC(C)=O JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethanol Chemical compound OCCOC=C VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCFAQDTHMIAAN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylprop-2-en-1-one Chemical compound CC(=C)C(=O)C1=CC=CC=C1 KJCFAQDTHMIAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVTXLKJBAYGTJS-UHFFFAOYSA-N 2-methylpenta-1,4-dien-3-one Chemical compound CC(=C)C(=O)C=C XVTXLKJBAYGTJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrahydrofuran Chemical compound CC1CCCO1 JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXURGFRDGROIKG-UHFFFAOYSA-N 3,3-bis(chloromethyl)oxetane Chemical compound ClCC1(CCl)COC1 CXURGFRDGROIKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVGLUKRYMXEQAH-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethyloxetane Chemical compound CC1(C)COC1 RVGLUKRYMXEQAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMSZFQAFWHFSPE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxiran-2-ylmethoxycarbonyl)but-3-enoic acid Chemical compound OC(=O)CC(=C)C(=O)OCC1CO1 NMSZFQAFWHFSPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJQHJNIGWOABDZ-UHFFFAOYSA-N 3-methyloxetane Chemical compound CC1COC1 VJQHJNIGWOABDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUOKXXOKLLKNIE-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethylpent-1-en-3-one Chemical compound CC(C)(C)C(=O)C=C MUOKXXOKLLKNIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxybutan-1-ol Chemical compound OCCCCOC=C HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCC(=O)CC1 VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNOYUTZWILESAI-UHFFFAOYSA-N 4-methylpent-1-en-3-one Chemical compound CC(C)C(=O)C=C SNOYUTZWILESAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000936 Agarose Polymers 0.000 description 1
- 229920000945 Amylopectin Polymers 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002498 Beta-glucan Polymers 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229920002101 Chitin Polymers 0.000 description 1
- 229920001661 Chitosan Polymers 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002558 Curdlan Polymers 0.000 description 1
- 239000001879 Curdlan Substances 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001503 Glucan Polymers 0.000 description 1
- 229920002581 Glucomannan Polymers 0.000 description 1
- 229920001202 Inulin Polymers 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001218 Pullulan Polymers 0.000 description 1
- 239000004373 Pullulan Substances 0.000 description 1
- 229920002305 Schizophyllan Polymers 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- AKZWRTCWNXHHFR-PDIZUQLASA-N [(3S)-oxolan-3-yl] N-[(2S,3S)-4-[(5S)-5-benzyl-3-[(2R)-2-carbamoyloxy-2,3-dihydro-1H-inden-1-yl]-4-oxo-3H-pyrrol-5-yl]-3-hydroxy-1-phenylbutan-2-yl]carbamate Chemical compound NC(=O)O[C@@H]1Cc2ccccc2C1C1C=N[C@](C[C@H](O)[C@H](Cc2ccccc2)NC(=O)O[C@H]2CCOC2)(Cc2ccccc2)C1=O AKZWRTCWNXHHFR-PDIZUQLASA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAMPNQJDUFQVQO-UHFFFAOYSA-N acetic acid;phthalic acid Chemical compound CC(O)=O.OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O GAMPNQJDUFQVQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZSIFDFXFAXICF-UHFFFAOYSA-N acetolactone Chemical compound O=C1CO1 HZSIFDFXFAXICF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N beta-D-glucose Chemical compound OC[C@H]1O[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-RWOPYEJCSA-N beta-D-mannose Chemical compound OC[C@H]1O[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-RWOPYEJCSA-N 0.000 description 1
- VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N beta-propiolactone Chemical compound O=C1CCO1 VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229950005499 carbon tetrachloride Drugs 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229940078035 curdlan Drugs 0.000 description 1
- 235000019316 curdlan Nutrition 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007416 differential thermogravimetric analysis Methods 0.000 description 1
- UYAAVKFHBMJOJZ-UHFFFAOYSA-N diimidazo[1,3-b:1',3'-e]pyrazine-5,10-dione Chemical compound O=C1C2=CN=CN2C(=O)C2=CN=CN12 UYAAVKFHBMJOJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N diphenyl carbonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N ethenyl (e)-3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=COC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N ethenyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OC=C GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWKUHAIEHRMHKU-UHFFFAOYSA-N ethenyl hex-2-enoate Chemical compound CCCC=CC(=O)OC=C MWKUHAIEHRMHKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001002 functional polymer Polymers 0.000 description 1
- 229940046240 glucomannan Drugs 0.000 description 1
- 125000002791 glucosyl group Chemical group C1([C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O1)CO)* 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 239000011361 granulated particle Substances 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- JYJIGFIDKWBXDU-MNNPPOADSA-N inulin Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)OC[C@]1(OC[C@]2(OC[C@]3(OC[C@]4(OC[C@]5(OC[C@]6(OC[C@]7(OC[C@]8(OC[C@]9(OC[C@]%10(OC[C@]%11(OC[C@]%12(OC[C@]%13(OC[C@]%14(OC[C@]%15(OC[C@]%16(OC[C@]%17(OC[C@]%18(OC[C@]%19(OC[C@]%20(OC[C@]%21(OC[C@]%22(OC[C@]%23(OC[C@]%24(OC[C@]%25(OC[C@]%26(OC[C@]%27(OC[C@]%28(OC[C@]%29(OC[C@]%30(OC[C@]%31(OC[C@]%32(OC[C@]%33(OC[C@]%34(OC[C@]%35(OC[C@]%36(O[C@@H]%37[C@@H]([C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O%37)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%36)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%35)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%34)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%33)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%32)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%31)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%30)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%29)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%28)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%27)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%26)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%25)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%24)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%23)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%22)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%21)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%20)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%19)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%18)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%17)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%16)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%15)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%14)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%13)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%12)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%11)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O%10)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O9)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O8)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O7)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O6)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O5)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O4)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O3)O)[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 JYJIGFIDKWBXDU-MNNPPOADSA-N 0.000 description 1
- 229940029339 inulin Drugs 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 238000000879 optical micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N pentyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C=C ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- PDDXOPNEMCREGN-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxomolybdenum;hydrate Chemical compound O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.OP(O)(O)=O PDDXOPNEMCREGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920005640 poly alpha-1,3-glucan Polymers 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920003216 poly(methylphenylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 229960000380 propiolactone Drugs 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116423 propylene glycol diacetate Drugs 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 235000019423 pullulan Nutrition 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFXYFBGIUFBOJW-UHFFFAOYSA-N theophylline Chemical compound O=C1N(C)C(=O)N(C)C2=C1NC=N2 ZFXYFBGIUFBOJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 125000005425 toluyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L1/00—Compositions of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives
- C08L1/08—Cellulose derivatives
- C08L1/10—Esters of organic acids, i.e. acylates
- C08L1/12—Cellulose acetate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
- C08L33/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
- C08L33/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F120/00—Homopolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F120/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F120/10—Esters
- C08F120/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F120/14—Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F120/00—Homopolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F120/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F120/10—Esters
- C08F120/20—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols, e.g. 2-hydroxyethyl (meth)acrylate or glycerol mono-(meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/32—Phosphorus-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D129/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal, or ketal radical; Coating compositions based on hydrolysed polymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D129/02—Homopolymers or copolymers of unsaturated alcohols
- C09D129/04—Polyvinyl alcohol; Partially hydrolysed homopolymers or copolymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C09D133/062—Copolymers with monomers not covered by C09D133/06
- C09D133/066—Copolymers with monomers not covered by C09D133/06 containing -OH groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/24—Homopolymers or copolymers of amides or imides
- C09D133/26—Homopolymers or copolymers of acrylamide or methacrylamide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/32—Phosphorus-containing compounds
- C08K2003/321—Phosphates
- C08K2003/328—Phosphates of heavy metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2201/00—Properties
- C08L2201/10—Transparent films; Clear coatings; Transparent materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2203/00—Applications
- C08L2203/16—Applications used for films
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
近年活発に研究開発が進められている有機EL、LED照明、またはレーザー素子では、生成する光を効率良く取り出したり、または閉じ込めたりする必要があるため、これらに用いる光学素材の屈折率は重要な要素となる。前記の光学デバイスでは、薄層や複雑な形状に微細な加工が要求されており、このような光学デバイスに適用する高分子としては、フォトレジストのような高分子が適している。
また、高分子と金属酸化物微粒子との複合体とすることで、その屈折率を変調する方法としては、高分子に、高分子と屈折率が異なる金属酸化物微粒子を混合して、高分子中に金属酸化物微粒子を分散させる方法が挙げられる。この方法によれば、用いる高分子の機能性を保持でき、その屈折率の変調幅を任意で調整することが可能である。一方、この方法による場合には、高分子中に金属酸化物微粒子を均一に分散させることが困難であり、用いる高分子の性質によっては、この方法を適用することができないという欠点がある。
さらに、本発明者は、リンタングステン酸等の溶解液に、成形されたフィルムのような高分子を浸漬することによって得たものも、同様に高い透明性を有するとともに、タングステン酸等の含有量に応じて、任意の屈折率を有することを見出した。
本発明はこのような状況下なされたものであり、タングステン酸及び/またはモリブデン酸と高分子との複合体を容易に製造する方法と、その方法により得られ、構成する高分子の機能が保持され、高い透明性と所望の屈折率を有する複合体を提供する。
なお、本発明でいう高い透明性を有するとは、高分子がもともと有する特定波長における透過率が、タングステン酸及び/またはモリブデン酸との複合体を形成した後でも、大きく減少しない、すなわち透過減少率が小さいこと意味する。金属塩が微粒子として存在していた従来技術では、このような小さい透過減少率を達成させることは困難であった。
[1] タングステン酸及びモリブデン酸から選ばれる1種以上と、エーテル結合及びエステル結合から選ばれる1以上を有する数平均分子量1,000〜10,000,000の高分子を含む複合体であって、前記複合体におけるタングステン酸及びモリブデン酸から選ばれる1種以上の含有量が0.01〜95重量%である、複合体。
[2]前記複合体における、前記高分子とタングステン酸及びモリブデン酸から選ばれる1種以上の合計量の重量割合が、90重量%以上である、[1]に記載の複合体。
[3] 前記高分子が、下記式(I)で表される化合物及び官能基数が2以上の多官能アクリレートから選ばれる1種以上を重合して得られる重合体であって、エステル結合及びエーテル結合から選ばれる1以上を有する重合体、多糖及びその誘導体からなる群から選ばれる1種以上である、[1]または[2]に記載の複合体。
[4] 前記式(I)で表される化合物が、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ノルボルニル及び(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、スチレン及びビニルアセテートから選ばれる1種以上である、[3]に記載の複合体。
[5] 前記1分子中の官能基数が2以上の多官能アクリレートが、メチレンビスアクリルアミド、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、デカンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート及びトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートから選ばれる1以上である、[3]に記載の複合体。
[6] 前記高分子が、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリスチレン−co−ポリメタクリル酸メチル及びポリメタクリル酸2−ヒドロキシエチル、三酢酸セルロースから選ばれる1種以上である、[1]または[2]に記載の複合体。
[7] 粒子状またはフィルム状の形態である、[1]〜[6]のいずれかに記載の複合体。
[8] 前記複合体の透過減少率が10%以下である、[1]〜[7]のいずれかに記載の複合体。
[9] タングステン酸のヘテロポリ酸及びその塩並びにモリブデン酸のヘテロポリ酸及びその塩から選ばれる1種以上と、エーテル結合及びエステル結合から選ばれる1以上を有する数平均分子量1,000〜10,000,000の高分子とを含む原料を、水酸基を1個および/またはカルボニル基を1〜3個有し、分子量が34〜300であり、常圧下における沸点が250℃以下である常温で液体の有機化合物から選ばれる一種以上からなる溶媒に溶解させて溶解液を得る工程と、前記溶解液から前記溶媒を留去する工程を含む、タングステン酸及びモリブデン酸から選ばれる1種以上と前記高分子を含む原料との複合体の製造方法。
[10] 前記原料が、下記式(I)で表される化合物から選ばれる1種以上を重合して得られる重合体であって、エステル結合及びエーテル結合から選ばれる1以上を有する重合体を含む、[9]に記載の方法。
[11] 前記重合体が、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリ酢酸ビニルから選ばれる1種以上である、[9]または[10]に記載の方法。
[12] 前記溶解液から溶媒を留去する工程が、前記溶解液を塗布した基材上で行われる、[9]〜[11]のいずれかに記載の方法。
[13] 前記溶媒がエステル系化合物、アルコール系化合物、ケトン系化合物、ラクトン系化合物、グリコールモノエーテルモノエステル系化合物及びグリコールジエステル系化合物から選ばれる1種以上の化合物である、[9]〜[12]のいずれかに記載の方法。
[14] 前記溶媒が酢酸エチル、メタノール及びエタノールから選ばれる1種以上である、[9]〜[13]のいずれかに記載の方法。
[15] 前記溶解液を得る工程と、前記溶解液から前記溶媒を留去する工程の間に、前記溶解液を造粒する工程を含む、[9]〜[14]のいずれかに記載の方法。
[16]タングステン酸のヘテロポリ酸及びその塩並びにモリブデン酸のヘテロポリ酸及びその塩から選ばれる1種以上と、水溶性高分子とを含む原料を、水およびアルコール系化合物から選ばれる1以上に溶解させて溶解液を得る工程と、前記溶解液から前記溶媒を留去する工程を含む、タングステン酸及びモリブデン酸から選ばれる1種以上と前記水溶性高分子を含む原料との複合体の製造方法。
[17] 前記水溶性高分子が、ポリビニルアルコールである、[16]に記載の製造方法。
[18] 前記溶解液を得る工程と、前記溶解液から前記溶媒を留去する工程の間に、前記溶解液を造粒する工程を含む、[16]または[17]に記載の方法。
[19]タングステン酸のヘテロポリ酸及びその塩並びにモリブデン酸のヘテロポリ酸及びその塩から選ばれる1種以上を、水酸基を1個および/またはカルボニル基を1〜3個有し、分子量が34〜300であり、常圧下における沸点が250℃以下である常温で液体の有機化合物から選ばれる一種以上からなる溶媒に溶解させて第一の溶解液を得る工程と、エーテル結合及びエステル結合から選ばれる1以上を有する数平均分子量1,000〜10,000,000の高分子とを含む原料を、炭素数1〜3のハロゲン化アルキル及び環状エーテルから選ばれる1以上からなる溶媒に溶解させて第二の溶解液を得る工程と、前記第一の溶解液と第二の溶解液を混合し、混合後の溶解液から前記溶媒を留去する工程を含む、タングステン酸及びモリブデン酸から選ばれる1種以上と前記高分子を含む原料との複合体の製造方法。
[20]前記第一の溶解液を構成する溶媒がエステル系化合物およびアルコール系化合物から選ばれる1以上であり、前記第二の溶解液を構成する溶媒がジクロロメタン及びトリクロロメタンから選ばれる1以上であり、前記高分子が多糖またはその誘導体である、[19]に記載の製造方法。
[21]前記多糖またはその誘導体が、三酢酸セルロースである、[20]に記載の製造方法。
[22] 前記溶解液を得る工程と、前記第一の溶解液と第二の溶解液の混合する工程と、混合後の溶解液から前記溶媒を留去する工程の間に、前記混合後の溶解液を造粒する工程を含む、[19]〜[21]のいずれかに記載の方法。
[23] タングステン酸のヘテロポリ酸及びその塩並びにモリブデン酸のヘテロポリ酸及びその塩から選ばれる1種以上を、溶媒としての重合性化合物に溶解させて溶解液を得る工程と、前記溶解液中の重合性化合物を重合させる工程を含む、タングステン酸及びモリブデン酸から選ばれる1種以上と、前記重合性化合物の重合体と、からなる複合体の製造方法。
[24] 前記重合性化合物が、下記式(I)で表される化合物、ビニルケトン系化合物及びグリシジルエステル系化合物から選ばれる化合物である、[23]に記載の方法。
[25] 前記重合性化合物が、前記式(I)で表される化合物である、[24]に記載の方法。
[26] 前記溶解液を得る工程と、前記溶解液中の重合性化合物を重合させる工程の間に、前記溶解液を造粒する工程を含む、[23]〜[25]のいずれかに記載の方法。
[27] タングステン酸のヘテロポリ酸及びその塩並びにモリブデン酸のヘテロポリ酸及びその塩から選ばれる1種以上を、水酸基を1個および/またはカルボニル基を1〜3個有し、分子量が34〜300であり、常圧下における沸点が250℃以下である常温で液体の有機化合物から選ばれる一種以上からなる溶媒に溶解させて溶解液を得る工程と、該溶解液に、エーテル結合及びエステル結合から選ばれる1種以上を有する数平均分子量1,000〜10,000,000の高分子を浸漬する工程と、浸漬後の溶解液から前記溶媒を留去する工程を含むタングステン酸及びモリブデン酸から選ばれる1種以上と前記高分子を含む原料との複合体の製造方法。
[28] 前記高分子が、下記式(I)で表される化合物であり、前記溶媒がアルコール系化合物である、[27]に記載の製造方法。
[29]
前記高分子が、粒子状またはフィルム状の形態である、[27]または[28]に記載の製造方法。
[30] [9]〜[29]のいずれかに記載の製造方法により得られる複合体。
本発明の複合体では、タングステン酸及びモリブデン酸から選ばれる1種以上は粒子として存在しているものではなく、本発明の複合体は固溶体を形成しているものである。なお、本発明でいう固溶体とは、タングステン酸等が複合体において粒子としてではなく均一に存在しているものである。
本発明の複合体には、タングステン酸及び/またはモリブデン酸が複合体の全量に対して0.01〜95重量%存在する。
このときの存在状態は、複合体において、ほぼ均一の割合で存在していることが考えられる。
なお、本発明でいうタングステン酸とは、三酸化タングステン(WO3)を意味し、モリブデン酸とは、三酸化モリブデンMoO3を意味する。
複合体中のタングステン酸とモリブデン酸の重量%は、示差熱熱重量分析(TG−DTA)を用い、酸素存在下で550℃まで加熱した際の重量残率測定によって求めることができる。
本発明の複合体がこのような重量%を有することで、膜として得る複合体の良好な光透過率を得つつ、屈折率を所望のものに調整できる。
本発明の複合体において、タングステン酸及びモリブデン酸の含有量は、後述する複合体の製造方法において、溶媒に溶解させるタングステン酸及びモリブデン酸から選ばれる1種以上のヘテロポリ酸塩の濃度を調整することで、調整できる。
タングステン酸やモリブデン酸はそれぞれ単独で複合体に含まれていてもよく、それらの2種が含まれていてもよい。
タングステン酸とモリブデン酸の2種を複合体に含有させる場合には、それらのモル比がタングステン酸:モリブデン酸=1:9〜9:1の割合で含有させる態様を挙げることができる。
本発明の複合体を構成する原料に含まれる高分子は、エーテル結合及びエステル結合から選ばれる1以上を有する数平均分子量1,000〜10,000,000の高分子である。
なお、本発明の複合体を構成する原料に含まれる上記のエーテル結合及びエステル結合から選ばれる1以上を有する数平均分子量1,000〜10,000,000の高分子の割合は、複合体における高分子の全量に対して通常20重量%以上であり、30重量%以上であることが好ましく、50重量%以上であることが特に好ましい。
エーテル結合及びエステル結合から選ばれる1以上を有し、上記の数平均分子量を有する高分子であることで、前記溶媒に溶解させることができ、形成される複合体において、タングステン酸及び/またはモリブデン酸が微小かつ均一に存在することにより透明性を示すようになる。
前記高分子は、後述する溶媒への溶解性と、得られる複合体からなるフィルムの透明性に加え、複合体作成時のハンドリング性を良好にする観点から、数平均分子量は2,000〜5,000,000であるものがより好ましく、5,000〜3,000,000であるものがさらに好ましい。
下記式(I)で表される化合物や官能基数が2以上の多官能アクリレートから選ばれる1種以上を重合して得られ、エーテル結合やエステル結合を分子中に有する重合体を用いると、この重合体は金属イオンと錯形成可能になることから、複合体中に前記タングステン酸等が均一に存在するようになる。
本発明でいう数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定により求められたポリスチレン換算の分子量である。
なお、本発明でいう「(メタ)アクリル酸」は、アクリル酸及びメタクリル酸の総称であり、いずれか一方又は両方を意味する。
(メタ)アクリル酸エステルとして、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸n−ペンチル、(メタ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸n−ヘプチル、(メタ)アクリル酸n−オクチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸ステアリルなどの(メタ)アクリル酸脂肪族炭化水素(たとえば炭素数が1以上18以下のアルキル)エステル;(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ノルボルニル、(メタ)アクリル酸イソボルニルなどの(メタ)アクリル酸脂環式炭化水素エステル;(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸トルイルなどの(メタ)アクリル酸芳香族炭化水素エステル;(メタ)アクリル酸ベンジルなどの(メタ)アクリル酸アラルキルエステルが挙げられる。
ビニルエーテルとして、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、およびヒドロキシブチルビニルエーテル等が挙げられる。
ビニルエステルとして、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、およびビニルシンナメート等が挙げられる。
(メタ)アクリル酸エステルのうち、コストおよび入手しやすさの点から、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸ノルボルニル、(メタ)アクリル酸ベンジル、ビニルアセテートが好ましい。
(メタ)アクリルアミド誘導体としては、(メタ)アクリルアミド、アルキルの炭素数が1〜5のN置換低級アルキル(メタ)アクリルアミドや、アリールの炭素数が6〜18のN置換アリール(メタ)アクリルアミドや、アラルキルの炭素数が7〜18のN置換アラルキル(メタ)アクリルアミド、複素環の炭素数が4〜5のN置換複素環(メタ)アクリルアミドが挙げられる。N置換低級アルキル(メタ)アクリルアミドの具体例としてN−エチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、前記N置換複素環(メタ)アクリルアミドとしてN−アクリロイルモルホリン等が挙げられる。
このような(メタ)アクリルアミド誘導体のうち、好ましく用いられるのは、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−アクリロイルモルホリン、N−イソプロピルアクリルアミドである。
また、式(I)で表される化合物として、式(I)中のR1が、グリシジル基である(メタ)アクリル酸グリシジルを挙げることもできる。
これらの中で好ましいのは、エチレングリコールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレートである。
本発明の複合体を構成する高分子のうち、前記式(I)で表される化合物及び官能基数が2以上の多官能アクリレートから選ばれる1種以上を重合して得られる重合体であって、エステル結合及びエーテル結合から選ばれる1以上を有する重合体は、前記式(I)で表される化合物及び前記1分子中に(メタ)アクリロイル基を2個以上含む多官能アクリレートから選ばれる1種以上の化合物のうち、少なくともエステル結合あるいはエーテル結合を分子中で生じさせるものを1種以上選択して、それを(共)重合することによって得ることができる。
前述した化合物を適宜組み合わせ、重合して得られる高分子がレジスト材料として用いられるものであってもよい。
重合方法としては、公知の方法を挙げることができ、用いるモノマーに応じて、例えばラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合等の方法を用いることができる。
なお、本発明でいう水溶性高分子とは、水への溶解度が、40℃の水100gに0.5g以上溶解する高分子をいう。本発明ではそのような要件を満たす高分子を水溶性高分子ともいう。上記の高分子のうち、ポリビニルアルコールおよびポリエチレングリコールが水溶性高分子として好ましく例示できる。このようなポリビニルアルコールの平均分子量として13,000〜440,000が例示でき、この平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定により測定することができる。また、このようなポリビニルアルコールのケン化度としては、30〜99.5mol%が例示できる。ケン化度は滴定法により測定することができる。
そのような多糖として、セルロース、アミロース、β−1,4−キトサン、キチン、β−1,4−マンナン、β−1,4−キシラン、イヌリン、α−1,3−グルカン、β−1,3−グルカン(カードラン、シゾフィラン)、プルラン、デキストラン、グルコマンナン、アミロペクチン、アガロース、シクロデキストリン(α、β、γを含む)、シクロソフォロース等を例示することができるが、好ましくは高純度の多糖を容易に得ることの出来るセルロース、アミロース、β−1,4−キシラン、β−1,3−グルカン、シクロデキストリン等である。
また、これらの誘導体としては、ウレタン結合を形成したカルバメート誘導体、エステル結合を形成したエステル誘導体、エーテル結合を形成したエーテル誘導体が挙げられる。
この中でも、後述する溶媒への溶解性の観点から、エステル誘導体であることが好ましく、その中でもセルロースのエステル誘導体であることが好ましく、脂肪酸セルロースエステルが特に好ましい。
脂肪酸セルロースエステルとは、セルロースの水酸基の一部または全部が脂肪酸によりエステル化されたものを指し、例えば、セルロースアセテート(以下、酢酸セルロースともいう)、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、硝酸セルロース等のセルロースエステル類が挙げられる。これらの内セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートが好ましく、特にセルロースアセテートが有用である。そのセルロースアセテートのうち、特に好ましいのは三酢酸セルロースである。一方、脂肪酸とセルロースのグルコース単位の有する水酸基とからなるエステル結合が平均1〜2.9個、即ち置換度1〜2.9であるものも用いることができる。
具体的な組み合わせとして、複数のモノマーを用いた共重合体としては、(メタ)アクリル酸メチルとスチレンを共重合させた共重合体や、(メタ)アクリル酸と2−ヒドロキシメチルアクリル酸を共重合させた共重合体や、エチレンと酢酸ビニルを共重合させた共重合体が挙げられる。
一方、重合体を複数用いる場合には、具体的にはポリメタクリル酸メチルとポリ酢酸ビニルの組み合わせやポリメタクリル酸2−ヒドロキシエチルとポリビニルアルコールの組み合わせや、ポリメタクリル酸メチルとポリスチレンの組み合わせや、ポリ酢酸ビニルとポリメタクリル酸2−ヒドロキシエチルの組み合わせを挙げることができる。
本発明の複合体の第一の製造方法は、タングステン酸のヘテロポリ酸塩及びモリブデン酸のヘテロポリ酸及びその塩から選ばれる1種以上と、エーテル結合及びエステル結合から選ばれる1以上を有する重量平均分子量1,000〜10,000,000の高分子とを含む原料を、カルボニル基を1〜3個有し、分子量が34〜300であり、常圧下における沸点が250℃以下である常温で液体の有機化合物からなる溶媒に溶解させて溶解液を得る工程と、前記溶解液から前記溶媒を留去する工程を含む。
第一の製造方法で用いる高分子としては、前記式(I)で表される化合物及び官能基数が2以上の多官能アクリレートから選ばれる1種以上を重合して得られる重合体であって、エステル結合及びエーテル結合から選ばれる1以上を有する重合体、多糖及びその誘導体からなる群から選ばれる1種以上であることが好ましい。これらの各高分子は前述したものを適宜用いることができる。
第二の方法によれば、複合体を構成する高分子として、水溶性高分子を用いることができる。
水溶性高分子としては、ポリビニルアルコールを挙げることができる。
第三の方法によれば、第二の溶解液を作製するための溶媒として、第一の溶解液とは異なる特定の溶媒を用いることで、複合体を形成する高分子として、多糖系のものを用いることができる。
第四の製造方法によれば、溶媒として前述した重合性化合物を用いることができ、それを重合させることでタングステン酸等との複合体を作製できる。
重合性化合物としては、前記式(I)で表される化合物を挙げることができ、それらの中でも、前記第一の製造方法で挙げたものを好ましく用いることができる。
第五の方法によれば、予め成形されたフィルム等の高分子を、タングステン酸等の溶解液に含浸させるという単純な操作で、前述した優れた複合体を得ることができる。含浸する時間については特に制限はないが、通常0.5〜48時間かける。
第五の方法に用いられる高分子は上述した第一〜第四の製造方法で用いられるものと同じものを用いることができる。
本発明の複合体の第一の製造方法で用いられる溶媒としては、前記タングステン酸のヘテロポリ酸及びその塩及びモリブデン酸のヘテロポリ酸及びその塩を溶解し、かつ、前記高分子を溶解するものが用いられる。
本発明の複合体の第一の製造方法で用いられる溶媒は、水酸基を1個あるいはカルボニル基を1〜3個有し、分子量が34〜300であり、常圧下における沸点が250℃以下である常温で液体の有機化合物である。このような有機化合物は、前述した高分子をその種類に応じて良好に溶解することができる。
このような有機化合物として、非重合性化合物と重合性化合物が挙げられる。
非重合性化合物としては、エステル系化合物、アルコール系化合物、ケトン系化合物、ラクトン系化合物、グリコールモノエーテルモノエステル系化合物、グリコールジエステル系化合物、アミド系化合物が挙げられる。
なお、水については、その純度を高める観点から蒸留水が好ましく用いられる。
このようなアルコール系化合物は、上記の高分子のうち、特にポリ(メタ)アクリル酸エステルを溶解するのに好ましく用いられる。さらには、リンタングステン酸やリンモリブデン酸を溶解するのにも好ましく用いられる。
このようなケトン系化合物は、前記の多糖またはその誘導体、特にエステル誘導体を溶解するのに好ましく用いられる。
これらのハロゲン化アルキルは、前記の多糖またはその誘導体、特にエステル誘導体を溶解するのに好ましく用いられる。
環状エーテルとしては、テトラヒドロフラン(THF)を用いることが好ましく、その他にTHFを主成分としてその他の環状エーテルを併用することもできる。例えば、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、イソブチレンオキシド、エピクロルヒドリン等の3員環エーテル、オキセタン、3,3−ジメチルオキセタン、3−メチルオキセタン、3,3−ビス(クロルメチル)オキセタン等の4員環エーテル、メチルテトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン等の5員環エーテルを併用してもよい。
これらの化合物は、前記高分子を重合する際に用いられるものと同様のものを用いることができる。
グリシジルエステル系化合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、エタクリル酸グリシジル、イタコン酸グリシジル等が挙げられる。
本発明の複合体の製造方法では、溶媒への溶解性から、ヘテロポリ酸としてリンタングステン酸を用いることが好ましい。
そして、その操作を経て得られた溶液から前記溶媒を留去することによって、本発明の複合体を得ることができる。溶媒の留去としては、乾燥や減圧による溶媒留去が挙げられる。
なお、前記第一、第三の製造方法において、高分子を含む原料における、前記エーテル結合及びエステル結合から選ばれる1以上を有する数平均分子量1,000〜10,000,000の高分子の割合は、通常70重量%以上であり、80重量%以上であることが好ましく、90重量%以上であることが特に好ましい。ここで、前記原料には複数の前記高分子を含有させてもよい。
また、前記高分子を含む原料に含まれるものとして、例えば、前記エーテル結合及びエステル結合から選ばれる1以上を有する数平均分子量1,000〜10,000,000の高分子以外の高分子、例えばスチレン系の樹脂や、公知の界面活性剤等が挙げられる。
ポリカーボネート樹脂と、前記式(I)で表される化合物を重合させて得られる重合体や、(メタ)アクリル酸系の化合物を重合させて得られる高分子との割合については特に制限されないが、複合体の透明性の観点から例えばポリカーボネート樹脂を1としたときに、1以上である態様を挙げることができる。
一方、前記高分子の溶液と、前記タングステン酸等の溶液を、予め別々の溶液として準備する場合には、それぞれの溶液において、高分子の濃度を5〜20重量%程度、タングステン酸等の濃度を10〜80重量%程度になるように調製する。
高分子を複数用いる場合には、高分子の溶解液にジシクロヘキシルアミンのような有機アミンや水酸化ナトリウムのような無機塩基を加えることで、複数の高分子を良好に混合できる。例えばポリアクリル酸系の高分子とポリスチレン系の高分子を混合する場合には、このような塩基を用いることが好ましい。
溶媒としての前記重合性化合物に対する前記タングステン酸等の割合は、溶解液におけるタングステン酸等が、通常10〜95重量%となるように調製する。
溶解液中の前記重合性化合物を重合させる方法としては、公知の方法を用いることができ、そのような方法として、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合を挙げることができる。
重合法としては、光重合法を用いるこができ、その際には公知の光重合開始剤を用いることができる。
なお、前記重合性化合物を重合させる際には、必要に応じて可塑剤、酸化防止剤、光安定剤などの添加剤を添加してもよい。
その中でも、前記式(I)で表される化合物を用いることがより好ましく、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸、メタクリル酸2−ヒドロキシエチルのような(メタ)アクリル酸系化合物、ビニルアセテート、N,N−ジメチルアクリルアミドのような(メタ)アクリルアミド誘導体を用いることが特に好ましい。
フィルムの膜厚としては、通常0.05〜100μmである。
塗布される基板の例には、白板ガラス、青板ガラス、シリカコート青板ガラス、石英ガラス、サファイアガラス、単結晶サファイアなどの透明ガラス基板;ポリカーボネート、ポリエステル、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの合成樹脂製シート、フィルムまたは基板;アルミニウム板、銅板、ニッケル板、ステンレス板などの金属基板;その他セラミック板、シリコン板、GaN板、SiN板、SiC板、GaAs板等が含まれる。
塗布された溶液から溶媒を留去する方法としては乾燥が挙げられ、その乾燥は、室温〜300℃、より好ましくは高分子が変質しない室温〜250℃の環境下で行うことができ、これを減圧下(例えば1×10-6〜100kPa)で行ってもよい。
このようなアニーリング処理をすることで、複合体の硬度を高め、耐水、耐溶媒性を高めることができる。前記高分子として水溶性高分子やアルコール系化合物に溶解する高分子を用いた場合には、より顕著な効果が得られる。
これにより、例えば屈折率の異なる複数の透明基材を張り合わせて複数層の材料を作製する際に、その屈折率を所望のものに調整することが可能となる。
本発明の複合体が粒子状の態様の場合も、透明性に優れ、屈折率を所望の範囲に調整することができる。
粒子状の態様では、走査型電子顕微鏡で確認できる直径として0.2〜50μmのものや、粒子の造粒時の条件を適宜変えることで、200μm程度の直径のものも得ることができる。
上記の第一から第三の製造方法において、タングステン酸等と高分子が溶解された溶解液を得る工程の後に、該溶解液を造粒させる工程を経て、造粒した粒子から溶媒を留去することで粒子状の複合体を得ることができる。
そのような工程として懸濁蒸発法を挙げることができる。懸濁蒸発法において、界面活性剤を用いてもよい。
懸濁蒸発法の具体的な手順は以下の通りである。
溶解液を造粒する工程としては、当該溶解液を、当該溶解液が不溶な溶媒に滴下して、撹拌することを挙げることができる。
造粒後、溶媒を留去する工程では、減圧乾燥により行う方法を挙げることができる。
シリコーンオイルとしては、市販品を用いることができ、未変性のものや、変性のもののいずれを用いることができる。
未変性のシリコーンオイルとしては、メチルシリコーンオイル、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、環状ジメチルシリコーンオイルなどを用いることができる。
変性シリコーンオイルとしては、両末端型、片末端型、側鎖型、側鎖両末端型のものを挙げることができる。
そのような方法としては、懸濁重合法を挙げることができる。懸濁重合法において、任意の添加剤を用いることもできる。
透過減少率はタングステン酸等の含有量が0重量%の高分子単独の特定波長(600nm)での透過率を基準とし、それからの透過率の減少率をパーセント表記で表すものである(下記式参照)。
透過率減少率(%)=(T0―T1)/T0×100
T0=高分子単独の透過率(%)
T1=タングステン酸等を含む複合体の透過率(%)
本発明の複合体では、上記の特定波長における透過減少率が30%以下になる。好ましい態様では10%以下になる。さらに、本発明の複合体では、上記の特定波長における透過減少率が5%以下になる態様も挙げられる。
例えば、複合体を構成する高分子としてポリ(メタ)アクリル酸を用い、分散させる側の高分子としてポリカーボネートを用いた場合には、当該ポリカーボネート樹脂に、所望の屈折率を付与することができる。
(複合体及びフィルムの作製)
数平均分子量120,000のポリメタクリル酸メチルを酢酸エチルに溶解して、ポリメタクリル酸メチルの10重量%溶液を調製し、また、リンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)を酢酸エチルに溶解し、リンタングステン酸の40重量%溶液を調製した。
得られた両方の溶液を混合し、形成される複合体全量に対して、リンタングステン酸の含有量が、0−92重量%となるように混合溶液を調製した。この際、溶液が白濁した場合には、メタノールを加えて溶液を透明にした。
調製した混合溶液の100μLを白板ガラス基板に滴下し、1000rpm、20secの条件でスピンコートすることで、ポリメタクリル酸メチルとリンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムを作製することができた。
(屈折率の測定)
実施例1と同様の操作により、リンタングステン酸(26.5重量%)、ポリメタクリル酸メチル(8.7重量%)の酢酸エチル溶液(リンタングステン酸の重量分率:71重量%(タングステン酸量で68.6重量%))を調製した。この溶液の300μLを2.5×2.5cmのガラス基板にキャストし、500、1000、2000rpmの回転速度でスピンコートを行って、3種類の膜厚(5.75μ:実施例2、3.97μm:実施例3、2.73μm:実施例4)のフィルムを作製した。
得られた各フィルムについて、プリズムカプラ(SPA−4000:Sairon Technology,Inc)を用い、ガラス基板屈折率を1.52として、測定波長633nmで屈折率を測定した。結果を表1に示す。
なお、表1中、屈折率の理論値は、以下の式(1)に従って算出した。タングステン酸とポリメタクリル酸メチルの密度及び屈折率は、以下の数値を用いた。
ポリメタクリル酸メチルの密度:1.190、屈折率:1.489
また、理論屈折率と、タングステン酸の含有量(重量%)の関係を示すグラフを図1に示す。
(透過率の測定)
実施例1と同様の操作により、酢酸エチル溶液中のリンタングステン酸の含有量(重量%)を、形成される複合体全量におけるリンタングステン酸の含有量が、それぞれ、16重量%(実施例5)、27重量%(実施例6)、42重量%(実施例7)、66重量%(実施例8)、70重量%(実施例9)、76重量%(実施例10)、80重量%(実施例11)、90重量%(実施例12)、92重量%(実施例13)になるように変更して、各フィルムを作製した。
また、参考例として、リンタングステン酸の含有量(重量%)を0のものと、100のものを調製して、フィルムを作製した。
各フィルムについて、紫外可視分光光度計(V−560、日本分光株式会社)を用いて透過率の測定を行った。結果を図2に示す。
(高分子として共重合体を用いた例)
数平均分子量150,000のポリスチレン−co−ポリメタクリル酸メチル(ポリスチレン含有量40モル%)を酢酸エチルに溶解させ10重量%溶液を調製し、また、リンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)を酢酸エチルに溶解し、リンタングステン酸の40重量%溶液を調製した。
得られた両方の溶液を混合し、形成される複合体全量に対して、リンタングステン酸の含有量が、50重量%(タングステン酸量で48.3重量%)となるように混合溶液を調製した。この際、溶液が白濁したので、メタノールを加えて溶液を透明にした。
調製した混合溶液の100μLを白板ガラス基板に滴下し、1000rpm、20secの条件でスピンコートすることで、ポリスチレン−co−ポリメタクリル酸メチルとリンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムを作製することができた。
なお、白濁した溶液にメタノールを加えずそのままスピンコートして得た複合体も透明であった。
(高分子として重合体を混合して用いた例1)
数平均分子量120,000のポリメタクリル酸メチルと数平均分子量100,000のポリ酢酸ビニルを重量比1:1で酢酸エチルに溶解させ10重量%(ポリメタクリル酸メチル5重量%、ポリ酢酸ビニル5重量%)溶液を調製し、また、リンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)を酢酸エチルに溶解し、リンタングステン酸の40重量%溶液を調製した。
得られた両方の溶液を混合し、形成される複合体全量に対して、リンタングステン酸の含有量が、50重量%(タングステン酸量で48.3重量%)となるように混合溶液を調製した。
調製した混合溶液の100μLを白板ガラス基板に滴下し、1000rpm、20secの条件でスピンコートすることで、ポリメタクリル酸メチルとポリ酢酸ビニル、リンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムを作製することができた。
(高分子として重合体を混合して用いた例2)
数平均分子量300,000のポリメタクリル酸2−ヒドロキシエチルをメタノールに溶解させ10重量%溶液を調製し、数平均分子量25,000のポリビニルアルコールを蒸留水に溶解させ1重量%溶液を調製し、また、リンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)をメタノールに溶解し、リンタングステン酸の40重量%溶液を調製した。
得られた3種類の溶液を混合し、ポリメタクリル酸2-ヒドロキシエチルとポリビニルアルコールを重量比で2:1とし、形成される複合体全量に対して、リンタングステン酸の含有量が、40重量%(タングステン酸量で38.6重量%)となるように混合溶液を調製した。
調製した混合溶液の100μLを白板ガラス基板に滴下し、1000rpm、20secの条件でスピンコートすることで、ポリメタクリル酸2−ヒドロキシエチルとポリビニルアルコール、リンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムを作製することができた。
(高分子として多糖誘導体を用いた例)
三酢酸セルロースをジクロロメタンに溶解させ3重量%溶液を調製し、また、リンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)をメタノールに溶解し、リンタングステン酸の40重量%溶液を調製した。
得られた両方の溶液を混合し、形成される複合体全量に対して、リンタングステン酸の含有量が、60重量%(タングステン酸量で58.0重量%)となるように混合溶液を調製した。
調製した混合溶液の300μLを白板ガラス基板に滴下し、自然乾燥させることで、三酢酸セルロース、リンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムを作製することができた。
(高分子として水溶性高分子を用いた例1)
数平均分子量25,000のポリビニルアルコールを蒸留水に溶解させ1重量%溶液を調製し、また、リンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)を蒸留水に溶解し、リンタングステン酸の40重量%溶液を調製した。
得られた両方の溶液を混合し、形成される複合体全量に対して、リンタングステン酸の含有量が、50重量%(タングステン酸量で48.3重量%)となるように混合溶液を調製した。
調製した混合溶液の100μLを白板ガラス基板に滴下し、3000rpm、40secの条件でスピンコートすることで、ポリビニルアルコール、リンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムを作製することができた。
(高分子として水溶性高分子を用いた例2)
数平均分子量25,000のポリアクリル酸をメタノールに溶解させ10重量%溶液を調製し、また、リンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)をメタノールに溶解し、リンタングステン酸の40重量%溶液を調製した。
得られた両方の溶液を混合し、形成される複合体全量に対して、リンタングステン酸の含有量が、50重量%(タングステン酸量で48.3重量%)となるように混合溶液を調製した。
調製した混合溶液の100μLを白板ガラス基板に滴下し、1000rpm、20secの条件でスピンコートすることで、ポリアクリル酸、リンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムを作製することができた。
(高分子として水溶性高分子を用いた例3)
数平均分子量300,000のポリメタクリル酸2−ヒドロキシエチルをメタノールに溶解させ10重量%溶液を調製し、また、リンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)をメタノールに溶解し、リンタングステン酸の40重量%溶液を調製した(この際、リンタングステン酸の30水和物を加熱処理して脱水したものを用いてもよい)。
得られた両方の溶液を混合し、形成される複合体全量に対して、リンタングステン酸の含有量が、10、25、40、50、60、75及び88重量%(タングステン酸量で、それぞれ9.7、24.2、38.6、48.3、58.0、72.5、85.0重量%)とそれぞれなるように混合溶液を調製した。
調製した各混合溶液の100μLを白板ガラス基板に滴下し、1000rpm、20secの条件でスピンコートすることで、ポリメタクリル酸2−ヒドロキシエチル、リンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムをそれぞれ作製することができた。
(高分子として水溶性高分子を用いた例4)
数平均分子量5,000のポリエチレングリコールをメタノールに溶解させ10重量%溶液を調製し、また、リンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)をメタノールに溶解し、リンタングステン酸の40重量%溶液を調製した。
得られた両方の溶液を混合し、形成される複合体全量に対して、リンタングステン酸の含有量が、60重量%(タングステン酸量で58.0重量%)となるように混合溶液を調製した。
調製した混合溶液の100μLを白板ガラス基板に滴下し、1000rpm、20secの条件でスピンコートすることで、ポリエチレングリコール、リンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムを作製することができた。
(樹脂混合系)
<ポリメタクリル酸メチル/ポリスチレン混合系1>
リンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3,421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)を酢酸エチルに溶解し、リンタングステン酸の40重量%溶液を調製した。このリンタングステン酸の酢酸エチル溶液にジシクロヘキシルアミンをモル比が1:1となるように加え、混合した。ここに数平均分子量120,000のポリメタクリル酸メチルを7.5重量%と数平均分子量400,000のポリスチレンを2.5重量%含む酢酸エチル混合溶液を、形成される複合体全量に対してリンタングステン酸の含有量が50重量%(タングステン酸量で48.3重量%)となるように加え、混合溶液を調製した。
調製した混合溶液の300μLを白板ガラス基板に滴下し、自然乾燥させることで、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ジシクロヘキシルアミン、リンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムを作製した。得られた複合体フィルムは透明性を示した。
(ジメチルアセトアミドを溶媒とした系(アミド系溶媒))
数平均分子量120,000のポリメタクリル酸メチルとリンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)をジメチルアセトアミドに溶解させそれぞれ5重量%の溶液を調製した。これらの溶液を形成される複合体全量に対するリンタングステン酸の含有量が50重量%(タングステン酸量で48.3重量%)となるように加え、混合溶液を調製した。
調製した混合溶液200μLを白板ガラス基板に滴下し、自然乾燥させることで、ポリメタクリル酸メチルとリンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムを作製することができた。
(メチルエチルケトンを溶媒とした系(ケトン系溶媒))
数平均分子量120,000のポリメタクリル酸メチルとリンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)をメチルエチルケトンに溶解させそれぞれ5重量%の溶液を調製した。これらの溶液を形成される複合体全量に対するリンタングステン酸の含有量が50重量%(タングステン酸量で48.3重量%)となるように加え、混合溶液を調製した。
調製した混合溶液200μLを白板ガラス基板に滴下し、自然乾燥させることで、ポリメタクリル酸メチルとリンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムを作製することができた。
(γ-ブチロラクトンを溶媒とした系(ラクトン系溶媒))
数平均分子量120,000のポリメタクリル酸メチルとリンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)をγ-ブチロラクトンに溶解させ、それぞれ5重量%の溶液を調製した。これらの溶液を形成される複合体全量に対するリンタングステン酸の含有量が50重量%(タングステン酸量で48.3重量%)となるように加え、混合溶液を調製した。
調製した混合溶液200μLを白板ガラス基板に滴下し、自然乾燥させることで、ポリメタクリル酸メチルとリンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムを作製することができた。
(ポリN−イソプロピルアクリルアミドをポリマーとした系)
ポリN-イソプロピルアクリルアミドとリンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)をメタノールに溶解させそれぞれ5重量%の溶液を調製した。これらの溶液を形成される複合体全量に対するリンタングステン酸の含有量が50重量%(タングステン酸量で48.3重量%)となるように加え、混合溶液を調製した。
調製した混合溶液200μLを白板ガラス基板に滴下し、自然乾燥させることで、ポリN-イソプロピルアクリルアミドとリンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムを作製することができた。
(メタクリル酸2−エチルヘキシルを溶媒とした系:重合性化合物を溶媒として用いた実施例)
数平均分子量300,000のポリメタクリル酸2-ヒドロキシエチルとリンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)をメタクリル酸2−エチルヘキシルに溶解させ、それぞれ5重量%溶液を調製した。これらの溶液を形成される複合体全量に対するリンタングステン酸の含有量が50重量%(タングステン酸量で48.3重量%)となるように加え、混合溶液を調製した。
調製した混合溶液の300μLを白板ガラス基板に滴下し、自然乾燥させることで、ポリメタクリル酸2−ヒドロキシエチルとリンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムを作製することができた。
(メタクリル酸2−ヒドロキシエチルで重合した系)
リンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)をメタクリル酸2−ヒドロキシエチルに溶解させ、50重量%溶液を調製した。
調製したリンタングステン酸のメタクリル酸2−ヒドロキシエチル溶液に、重合開始剤としてアゾビスイゾブチロニトリルをメタクリル酸2−ヒドロキシエチルに対して0.5重量%加え、60℃で6時間加熱することで、ポリメタクリル酸2−ヒドロキシエチルとリンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムを作製することができた。なお、複合体全量に対するリンタングステン酸の含有量については、30重量%、50重量%、70重量%(タングステン酸量でそれぞれ29.0、48.3、67.6重量%)の種類を作製した。
<N,N−ジメチルアクリルアミドで重合した系>
リンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)をメタノールに溶解し、リンタングステン酸の40重量%溶液を調製した。
調製したリンタングステン酸のメタノール溶液を複合体全量に対してタングステン酸の含有量が50重量%(タングステン酸量で48.3重量%)となるよう加え、重合開始剤としてアゾビスイゾブチロニトリルをN,N−ジメチルアクリルアミドに対して0.5重量%加えた。60℃で6時間加熱することで、ポリN,N−ジメチルアクリルアミドとリンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムを作製することができた。
実施例29と同様の手順により、モノマーとしてメタクリル酸メチル(実施例30)、メタクリル酸(実施例31)、アクリル酸エチル(実施例32)、メタクリル酸メチルとメタクリル酸2−ヒドロキシエチルの混合物(1:1:重量比)(実施例33)を用いて、それぞれ複合体全量に対するリンタングステン酸の含有量が50重量%(タングステン酸量で48.3重量%)である複合体からなるフィルムを作製することができた。
(含浸によるポリマー/金属塩複合化の実施例)
リンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)をメタノールに溶解し、リンタングステン酸の40重量%溶液を調製した。調製したリンタングステン酸のメタノール/水(10:1)溶液にポリメタクリル酸メチルを室温下で1日浸漬させた。取り出して表面をメタノールで洗浄して乾燥させることで、リンタングステン酸が23重量%(タングステン酸量で22.2重量%)含まれたポリメタクリル酸メチル/リンタングステン酸複合体が形成された(複合重量の確認は熱重量分析によっておこなった)。
(粒子状の複合体の製造:懸濁蒸発法)
数平均分子量120,000のポリメタクリル酸メチル2.7gとリンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)2.7g、片末端サイラプレーン(FM−DA11、アズマックス)3.0g、水0.5gをメタノール25gに溶解し複合溶液を得た。この複合溶液をジメチルシリコーンオイル(信越化学 KF-968-100CS)300mLに添加し、室温、300rpmで30分間かき混ぜることで造粒させた。その後、40℃の油浴で3時間かき混ぜた。溶液を遠心分離(5000rpm)にて回収し、n−ヘキサンで2回洗浄した。減圧乾燥させることで、ポリメタクリル酸メチル、リンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなる無色透明の粒子を作製することができた。
<粒子状の複合体の製造:懸濁重合法>
メタクリル酸メチル2.5gとエチレングリコールジメタクリレート2.5g、リンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)5.0g、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル0.05gを混合し、複合溶液を得た。この複合溶液をジメチルシリコーンオイル(信越化学 KF-968-100CS)100mLに添加し、窒素ガス通気下において40℃、250rpmで6時間かき混ぜて造粒させた後に重合させた。生成した粒子をガラスフィルターを用いて吸引ろ過して回収し、n−ヘキサンで2回洗浄した。減圧乾燥させることでメタクリル酸メチル、エチレングリコールジメタクリレート、リンタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなる無色透明の粒子を作製することができた。
<リンモリブデン酸を用いた複合体の作製>
数平均分子量120,000のポリメタクリル酸メチルを酢酸エチルに溶解させ10重量%溶液を調製し、リンモリブデン酸の水和物(H3[PMo12O40]・nH2O n≒30、Mw:2366(30水和物の理論値)、MoO3含有率:73モル%)をメタノールに溶解し、リンモリブデン酸の50重量%溶液を調製した。
得られた両方の溶液を混合し、形成される複合体全量に対して、リンモリブデン酸の濃度が、50重量%となるように混合溶液を調製した。
調製した混合溶液の100μLを白板ガラス基板に滴下し、1000rpm、20secの条件でスピンコートすることで、ポリメタクリル酸メチルとリンモリブデン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムを作製することができた。
<リンタングステン酸ナトリウムを用いた複合体の作製>
数平均分子量300,000のポリメタクリル酸2−ヒドロキシエチルをメタノールに溶解させ10重量%溶液を調製し、リンタングステン酸ナトリウムの30水和物(Na3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3486(30水和物の理論値)、WO3含有率:83モル%)をメタノールに溶解し、リンタングステン酸ナトリウムの50重量%溶液を調製した。
得られた両方の溶液を混合し、形成される複合体全量に対して、リンタングステン酸ナトリウムの濃度が、50重量%となるように混合溶液を調製した。
調製した混合溶液の100μLを白板ガラス基板に滴下し、1000rpm、20secの条件でスピンコートすることで、ポリメタクリル酸2−ヒドロキシエチルとリンタングステン酸ナトリウムの複合体が形成されるとともに、その複合体からなるフィルムを作製することができた。
<ケイタングステン酸を用いた複合体の作製>
数平均分子量300,000のポリメタクリル酸2−ヒドロキシエチルをメタノールに溶解させ10重量%溶液を調製し、ケイタングステン酸の26水和物(H4[SiW12O40]・nH2O n≒26、Mw:3316(26水和物の理論値)、WO3含有率:84モル%)をメタノールに溶解し、ケイタングステン酸の50重量%溶液を調製した。
得られた両方の溶液を混合し、形成される複合体全量ポリマーに対して、ケイタングステン酸の濃度が、30、50、70重量%となるようにそれぞれの混合溶液を調製した。
調製した混合溶液の100μLを白板ガラス基板に滴下し、1000rpm、20secの条件でスピンコートすることで、ポリメタクリル酸2−ヒドロキシエチルとケイタングステン酸の複合体が形成されるとともに、その複合体からなるケイタングステン酸の含有量が3種類のフィルムを作製することができた。
<重合法として、光重合を用いた例:メタクリル酸メチルの光重合>
リンタングステン酸の30水和物(H3[PW12O40]・nH2O n≒30、Mw:3421(30水和物の理論値)、WO3含有率:81モル%)をメタクリル酸2−ヒドロキシエチルに溶解させ、50重量%溶液を調製した。
調製したリンタングステン酸のメタクリル酸2−ヒドロキシエチル溶液に、重合開始剤としてIrgacure362をメタクリル酸2−ヒドロキシエチルに対して0.5重量%加え、UV光(245nm)を1時間照射することで、ポリメタクリル酸2−ヒドロキシエチルとリンタングステン酸の複合体を作製することができた。複合体全量に対するタングステン酸の濃度は50重量%であった。
ポリメタクリル酸2−ヒドロキシエチルとリンタングステン酸の複合体(リンタングステン酸含有量:5〜80重量%(タングステン酸量で4.8〜77.3重量%))を130℃で10分間加熱することで、複合体の硬度が高くなり、耐水、耐溶媒性の向上が確認された。
Claims (12)
- リンタングステン酸、リンモリブデン酸及びケイモリブデン酸から選ばれる1種以上と、下記式(I)で表される化合物及び1分子中の官能基数が2以上の多官能アクリレートから選ばれる1種以上を重合して得られる重合体であって、エステル結合及びエーテル結合から選ばれる1以上を有する重合体及び脂肪酸セルロースエステルからなる群から選ばれる1種以上の数平均分子量1,000〜10,000,000の高分子を含む複合体であって、
前記複合体におけるタングステン酸及びモリブデン酸から選ばれる1種以上の含有量が0.01〜95重量%であり、
前記高分子とタングステン酸及びモリブデン酸から選ばれる1種以上の合計量の重量割合が、90重量%以上であり、粒子状またはフィルム状の形態である、複合体からなる光学素材。
(式(I)中、Xは単結合、−COO−、−CONR3−または−NHCO−で表される結合基を表し、R1及びR3は、それぞれ独立して、水素、任意の水素がヒドロキシル基で置換されていてもよい炭素数1〜18のアルキル基、炭素数1〜18のアルケニル基または任意の水素がメチル基で置換されていてもよい炭素数6〜18のアリール基、炭素数7〜18のアラルキル基、炭素数3〜18の複素環基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基、重合度2〜20のポリエチレンオキサイドまたはグリシジル基を表し、R2は、水素またはメチルを表し、R1及びR3はエーテル結合を介して結合してもよい。) - 前記式(I)で表される化合物が、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ブ
チル、(メタ)アクリル酸ノルボルニル及び(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル及びスチレンから選ばれる1種以上である、請求項1に記載の光学素材。 - 前記1分子中の官能基数が2以上の多官能アクリレートが、メチレンビスアクリルアミド、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、デカンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート及びトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートから選ばれる1以上である、請求項1または2に記載の光学素材。
- 前記高分子が、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリスチレン−co−ポリメタクリル酸メチル及びポリメタクリル酸2−ヒドロキシエチル、三酢酸セルロースから選ばれる1種以上である、請求項1に記載の光学素材。
- 前記複合体の透過減少率が10%以下である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学素材。
- リンタングステン酸、ケイタングステン酸、リンモリブデン酸およびケイモリブデン酸またはそれらの塩から選ばれる1種以上を、水酸基を1個および/またはカルボニル基を1〜3個有し、分子量が34〜300であり、常圧下における沸点が250℃以下である常温で液体の有機化合物から選ばれる一種以上からなる溶媒に溶解させて第一の溶解液を得る工程と、数平均分子量1,000〜10,000,000の脂肪酸セルロースエステルを含む原料を、炭素数1〜3のハロゲン化アルキル及び環状エーテルから選ばれる1以上からなる溶媒に溶解させて第二の溶解液を得る工程と、前記第一の溶解液と第二の溶解液を混合する工程と、混合後の溶解液から前記溶媒を留去する工程を含む、リンタングステン酸、ケイタングステン酸、リンモリブデン酸およびケイモリブデン酸またはそれらの塩から選ばれる1種以上と前記脂肪酸セルロースエステルを含む原料との複合体からなる光学素材の製造方法であって、
複合体における前記脂肪酸セルロースエステルとタングステン酸及びモリブデン酸から選ばれる1種以上の合計量の重量割合が、90重量%以上であり、複合体が粒子状またはフィルム状の形態である、前記製造方法。 - 前記第一の溶解液を構成する溶媒がエステル系化合物およびアルコール系化合物から選ばれる1以上であり、前記第二の溶解液を構成する溶媒がジクロロメタン及びトリクロロメタンから選ばれる1以上である、請求項6に記載の製造方法。
- 前記脂肪酸セルロースエステルが、三酢酸セルロースである、請求項6または7に記載の製造方法。
- 前記溶解液を得る工程と、前記第一の溶解液と第二の溶解液の混合する工程と、混合後の溶解液から前記溶媒を留去する工程の間に、前記混合後の溶解液を造粒する工程を含む、請求項6〜8のいずれか一項に記載の方法。
- リンタングステン酸、ケイタングステン酸、リンモリブデン酸およびケイモリブデン酸またはそれらの塩から選ばれる1種以上を、溶媒としての重合性化合物に溶解させて溶解液を得る工程と、前記溶解液中の重合性化合物を重合させる工程を含む、リンタングステ
ン酸、ケイタングステン酸、リンモリブデン酸およびケイモリブデン酸またはそれらの塩から選ばれる1種以上と、前記重合性化合物の重合体と、からなる複合体からなる光学素材の製造方法であって、
前記重合性化合物が下記式(I)で表される化合物、ビニルケトン系化合物及びグリシジルエステル系化合物から選ばれ、
複合体における前記重合体とタングステン酸及びモリブデン酸から選ばれる1種以上の合計量の重量割合が、90重量%以上であり、複合体が粒子状の形態であり、前記溶解液を得る工程と、前記溶解液中の重合性化合物を重合させる工程の間に、前記溶解液を造粒する工程を含む、前記製造方法。
(式(I)中、Xは単結合、−COO−、−CONR3−または−NHCO−で表される結合基を表し、R1及びR3は、それぞれ独立して、水素、任意の水素がヒドロキシル基で置換されていてもよい炭素数1〜18のアルキル基、炭素数1〜18のアルケニル基または任意の水素がメチル基で置換されていてもよい炭素数6〜18のアリール基、炭素数7〜18のアラルキル基、炭素数3〜18の複素環基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基、重合度2〜20のポリエチレンオキサイド、またはグリシジル基を表し、R2は、水素またはメチルを表し、R1及びR3はエーテル結合を介して結合してもよい。) - 前記重合性化合物が、前記式(I)で表される化合物である、請求項10に記載の方法。
- リンタングステン酸、ケイタングステン酸、リンモリブデン酸およびケイモリブデン酸またはそれらの塩から選ばれる1種以上を、アルコール系化合物からなる溶媒に溶解させて溶解液を得る工程と、該溶解液に、下記式(I)で表される化合物を重合して得られる数平均分子量1,000〜10,000,000の高分子を浸漬する工程と、浸漬後の溶解液から前記溶媒を留去する工程を含むリンタングステン酸、ケイタングステン酸、リンモリブデン酸およびケイモリブデン酸から選ばれる1種以上と前記高分子を含む原料との複合体からなる光学素材の製造方法であって、
複合体における前記高分子とタングステン酸及びモリブデン酸から選ばれる1種以上の合計量の重量割合が、90重量%以上であり、複合体が粒子状またはフィルム状の形態である、前記製造方法。
(式(I)中、Xは単結合、−COO−、−CONR3−または−NHCO−で表される結合基を表し、R1及びR3は、それぞれ独立して、水素、任意の水素がヒドロキシル基で置換されていてもよい炭素数1〜18のアルキル基、炭素数1〜18のアルケニル基または任意の水素がメチル基で置換されていてもよい炭素数6〜18のアリール基、炭素数7〜18のアラルキル基、炭素数3〜18の複素環基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基、重合度2〜20のポリエチレンオキサイドまたはグリシジル基を表し、R2は、水素またはメチルを表し、R1及びR3はエーテル結合を介して結合してもよい。)
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012137177 | 2012-06-18 | ||
JP2012137177 | 2012-06-18 | ||
JP2013028739 | 2013-02-18 | ||
JP2013028739 | 2013-02-18 | ||
PCT/JP2013/066582 WO2013191130A1 (ja) | 2012-06-18 | 2013-06-17 | タングステン酸及び/又はモリブデン酸と高分子との複合体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2013191130A1 JPWO2013191130A1 (ja) | 2016-05-26 |
JP6101976B2 true JP6101976B2 (ja) | 2017-03-29 |
Family
ID=49768726
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014521454A Active JP6101976B2 (ja) | 2012-06-18 | 2013-06-17 | タングステン酸及び/又はモリブデン酸と高分子との複合体 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10131777B2 (ja) |
JP (1) | JP6101976B2 (ja) |
KR (1) | KR101720850B1 (ja) |
CN (1) | CN104411774A (ja) |
TW (1) | TWI503363B (ja) |
WO (1) | WO2013191130A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9418836B2 (en) * | 2014-01-14 | 2016-08-16 | Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. | Polyoxometalate and heteropolyoxometalate compositions and methods for their use |
JP6557812B2 (ja) * | 2014-05-08 | 2019-08-14 | 熊本県 | 複合粒子およびその製造方法 |
EP3351571B1 (en) * | 2015-09-15 | 2022-01-05 | Ricoh Company, Ltd. | Polymer, resin composition, light control material, optical waveguide material, athermal optical element, color display element, and optical material |
JP6802957B2 (ja) * | 2016-06-07 | 2020-12-23 | 凸版印刷株式会社 | 光硬化性組成物および硬化物 |
CN110903580B (zh) * | 2019-11-27 | 2022-08-09 | 桂林理工大学 | 一种硅钼酸增容改性的聚乙烯醇/淀粉复合材料及其制备方法 |
CN112391133B (zh) * | 2020-11-04 | 2021-12-28 | 吉林大学 | 一种杂多酸增强的聚丙烯酸酯胶黏剂及其制备方法 |
CN113061220B (zh) * | 2021-06-03 | 2021-09-21 | 北京石油化工学院 | 杂多酸混合物及其应用 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4691045A (en) | 1984-12-06 | 1987-09-01 | Nippon Shokubai Kagaku Co., Ltd. | Hydroxyl group-containing (meth)acrylate oligomer, prepolymer therefrom, and method for use thereof |
JPS61134350A (ja) | 1984-12-06 | 1986-06-21 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレ−トオリゴマ−およびその製法 |
JPS61187917A (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-21 | ユ−オ−ピ− インコ−ポレイテツド | ポリマーブレンドされたガス分離膜並びにその製造法並びにそれを使用した水素感知装置及び水素分離装置 |
US5364729A (en) * | 1993-06-25 | 1994-11-15 | Xerox Corporation | Toner aggregation processes |
JP3909780B2 (ja) | 1995-12-14 | 2007-04-25 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 高分子−金属酸化物超微粒子複合体およびその製造方法 |
JP2001035509A (ja) * | 1999-07-19 | 2001-02-09 | Agency Of Ind Science & Technol | イオン伝導性膜 |
CN1260751C (zh) * | 2001-06-01 | 2006-06-21 | 松下电器产业株式会社 | 高分子电解质复合体和用它的电解电容器及制造方法 |
JP2005154710A (ja) * | 2003-03-10 | 2005-06-16 | Toray Ind Inc | 高分子固体電解質とその製造方法、およびそれを用いた固体高分子型燃料電池 |
JP2006022291A (ja) | 2004-06-11 | 2006-01-26 | Olympus Corp | 光学材料用組成物及び光学材料 |
US7498112B2 (en) * | 2005-12-20 | 2009-03-03 | Xerox Corporation | Emulsion/aggregation toners having novel dye complexes |
CN100360609C (zh) * | 2006-05-18 | 2008-01-09 | 吉林大学 | 多金属氧簇/聚合物透明杂化材料的制备方法 |
JP5010184B2 (ja) * | 2006-06-07 | 2012-08-29 | 電気化学工業株式会社 | 光学用成形体 |
KR100843569B1 (ko) * | 2007-06-26 | 2008-07-03 | 연세대학교 산학협력단 | 수소이온 전도성 복합 트리블록 공중합체 전해질막 및 그제조방법 |
CN100595958C (zh) * | 2007-12-13 | 2010-03-24 | 东华大学 | 一种燃料电池用有机/无机复合质子交换膜的制备方法 |
CN101497728A (zh) * | 2008-01-31 | 2009-08-05 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 一种多酸-聚合物复合膜及其制备方法和用途 |
BRPI0905108A2 (pt) * | 2009-03-26 | 2011-01-11 | Univ Estadual Paulista Julio De Mesquita Jr Unesp | materiais fotocrÈmicros de matriz polimérica e respectivos método de obtenção e uso |
CN101864163B (zh) * | 2010-06-08 | 2012-04-04 | 南通大学 | 复合质子交换膜的制备方法 |
CN102315463A (zh) * | 2011-08-05 | 2012-01-11 | 上海交通大学 | 一种柔性无机/有机复合质子交换膜制备方法 |
-
2013
- 2013-06-17 CN CN201380032384.9A patent/CN104411774A/zh active Pending
- 2013-06-17 US US14/408,519 patent/US10131777B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2013-06-17 KR KR1020147035305A patent/KR101720850B1/ko active IP Right Grant
- 2013-06-17 TW TW102121402A patent/TWI503363B/zh not_active IP Right Cessation
- 2013-06-17 WO PCT/JP2013/066582 patent/WO2013191130A1/ja active Application Filing
- 2013-06-17 JP JP2014521454A patent/JP6101976B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20150013811A (ko) | 2015-02-05 |
CN104411774A (zh) | 2015-03-11 |
KR101720850B1 (ko) | 2017-03-28 |
US10131777B2 (en) | 2018-11-20 |
JPWO2013191130A1 (ja) | 2016-05-26 |
US20150197628A1 (en) | 2015-07-16 |
TWI503363B (zh) | 2015-10-11 |
TW201406848A (zh) | 2014-02-16 |
WO2013191130A1 (ja) | 2013-12-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6101976B2 (ja) | タングステン酸及び/又はモリブデン酸と高分子との複合体 | |
Egen et al. | Heterostructures of polymer photonic crystal films | |
US9180486B2 (en) | Method for preparing a porous anti-reflection thin film composed of hollow polymeric nanoparticles | |
Yoshida et al. | Sol− gel-processed SiO2/TiO2/poly (vinylpyrrolidone) composite materials for optical waveguides | |
Zehm et al. | Synthesis of diblock copolymer nanoparticles via RAFT alcoholic dispersion polymerization: Effect of block copolymer composition, molecular weight, copolymer concentration, and solvent type on the final particle morphology | |
Gallei | Functional Polymer Opals and Porous Materials by Shear‐Induced Assembly of Tailor‐Made Particles | |
Weaver et al. | Stimulus-responsive water-soluble polymers based on 2-hydroxyethyl methacrylate | |
Luo et al. | Double hydrophilic block copolymer monolayer protected hybrid gold nanoparticles and their shell cross-linking | |
Egen et al. | Tuning the properties of photonic films from polymer beads by chemistry | |
JP6189413B2 (ja) | ハシゴ状シルセスキオキサン高分子を含む光学フィルム用樹脂組成物 | |
KR101675833B1 (ko) | 광결정 습도 센서 및 이의 제조 방법 | |
Tian et al. | Synthesis of agarose-graft-poly [3-dimethyl (methacryloyloxyethyl) ammonium propanesulfonate] zwitterionic graft copolymers via ATRP and their thermally-induced aggregation behavior in aqueous media | |
KR20190042541A (ko) | 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법 | |
EP3385070B1 (en) | Antireflective film and manufacturing method therefor | |
TWI797144B (zh) | 膜形成用組成物、膜的製造方法及光感測器的製造方法 | |
Li et al. | Fabrication of silicon/polymer composite nanopost arrays and their sensing applications | |
Jiang et al. | A Novel Temperature‐Dependent Hydrogel Emulsion with Sol/Gel Reversible Phase Transition Behavior Based on Polystyrene‐co‐poly (N‐isopropylacrylamide)/Poly (N‐isopropylacrylamide) Core–Shell Nanoparticle | |
Huang et al. | Semisoft colloidal crystals in ionic liquids | |
Komatsu et al. | Facile preparation of 2-methylene-1, 3-dioxepane-based thermoresponsive polymers and hydrogels | |
CN104628975A (zh) | 一种药用两亲性共聚物网络及其制备方法 | |
JP7061756B2 (ja) | フォトクロミック色素含有ナノカプセル及びその製造方法 | |
CN104470961B (zh) | 共聚物、单体组合物、树脂溶液及树脂膜 | |
Shin et al. | Fabrication of contact lens containing high‐performance wire grid polarizer | |
CN116699747B (zh) | 一种体光栅的制备方法及体光栅 | |
Liu et al. | Photonic bandgap of inverse opals prepared from core-shell spheres |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160315 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20160512 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160713 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20161011 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161125 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20161125 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20161219 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170117 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170206 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6101976 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |