JP6063862B2 - ピロロベンゾジアゼピンの合成に有用な中間体 - Google Patents
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Description
R7及びR8は、RAが、クロロ置換基を保有してよいフェニル、ピリジル及びフラニルによって任意選択により置換されているC1〜4飽和アルキルから選択されるORA;クロロ; NH2;並びに-CH2-O-C(=O)Meから独立して選択されるか、
又はR7及びR8は一緒に-O-(CH2)m-O-基を形成し、ここで、mは1又は2であり、
又は前記化合物は、各単量体が独立して式(I)である二量体であり、ここで、各単量体のR7基若しくはR8基は、該単量体を連結する式-X-R''-X-を有する二量体架橋を一緒に形成し、ここで、R''は、O、S、NH、NMe、フェニレン若しくはピリジレンによって中断されていてよいC3〜12飽和アルキレン基であり、ここで、該フェニレン基及びピリジレン基はNH2によって任意選択により置換されており、各Xは、O、S若しくはNHから独立して選択され、
R9は、H、メチル及びメトキシから選択され、
RSは、CF3、(CF2)3CF3、CH3及び
RCは、
(i) RC1が飽和C1〜4アルキル基である-C(=O)-ORC1、
(ii) RC2がメチル若しくはフェニルである-CH2-O-C(=O)RC2、
(iii) RSi1、RSi2、RSi3がC1〜6飽和アルキル基及びフェニル基から独立して選択される-CH2-O-Si-(RSi1)(RSi2)(RSi3)、及び
(iv)各Yが独立してO若しくはSであり、RC3及びRC4が独立して飽和C1〜4アルキル基であるか、又は一緒にC2〜3アルキレンを形成する-C(-YRC3)(-YRC4)
から選択される。
(i)任意選択により置換されているC5〜20アリール基、
(ii)任意選択により置換されているC1〜5アルキル基(C2〜5アルケニル基及びC2〜5アルキニル基を含める)、及び
(iii) H
から選択される。
Molander (Molander及びIto Org. Lett.、2001、3、393〜396)は、アリールトリフレート及びビニルトリフレートに対する鈴木カップリングのパートナーとしてカリウムアルキルトリフルオロボレートを開発した。
(ii) RC2がメチル又はフェニルである-CH2-O-C(=O)RC2、
(iii) RSi1、RSi2、RSi3がC1〜6飽和アルキル基及びフェニル基から独立して選択される-CH2-O-Si-(RSi1)(RSi2)(RSi3)、並びに
(iv)各Yが独立してO又はSであり、RC3及びRC4が独立して飽和C1〜4アルキル基であるか、又は一緒にC2〜3アルキレンを形成する-C(-YRC3)(-YRC4)、
から選択される。
カルバメート系窒素保護基
カルバメート系窒素保護基は、当技術分野においてよく知られている。多数の適当な基は、参照により本明細書に組み込まれるGreene、T.W.及びWuts、G.M.、Protective Groups in Organic Synthesis、第3版、John Wiley & Sons、Inc.、1999の503頁から549頁に記載されている。
-C(=O)NH-、
-C(=O)O-、
-NHC(=O)-、
-OC(=O)-、
-OC(=O)O-、
-NHC(=O)O-、
-OC(=O)NH-、及び
-NHC(=O)NH-
から選択される結合によって接続されていてよい。
-Phe-Lys-、
-Val-Ala-、
-Val-Lys-、
-Ala-Lys-、
-Val-Cit-、
-Phe-Cit-、
-Leu-Cit-、
-Ile-Cit-、
-Phe-Arg-、
-Trp-Cit-
から選択され、
ここで、Citはシトルリンである。
-Phe-Lys-、
-Val-Ala-、
-Val-Lys-、
-Ala-Lys-、
-Val-Cit-
から選択される。
Asn: Trt、Xan、
Asp: Bzl、t-Bu、
Cys: Acm、Bzl、Bzl-OMe、Bzl-Me、Trt、
Glu: Bzl、t-Bu、
Gln: Trt、Xan、
His: Boc、Dnp、Tos、Trt、
Lys: Boc、Z-Cl、Fmoc、Z、Alloc、
Ser: Bzl、TBDMS、TBDPS、
Thr: Bz、
Trp: Boc、
Tyr: Bzl、Z、Z-Br
本発明の他の実施形態において、選択されるアミノ酸は、反応性側鎖官能性を有していないものである。例えば、アミノ酸は、Ala、Gly、Ile、Leu、Met、Phe、Pro及びValから選択することができる。
ここで、アスタリスクはN10位への結合点を示し、波線はL1への結合点を示し、nは0から3であり、Yは共有結合又は官能基であり、Eは例えば酵素作用又は光によって活性化可能な基であり、それによって自己犠牲の単位を発生させる。フェニレン環は、本明細書に記載されている通りの1個、2個又は3個の置換基で任意選択によりさらに置換されている。一実施形態において、フェニレン基は、ハロ、NO2、R又はORで任意選択によりさらに置換されている。好ましくはnは0又は1、最も好ましくは0である。
-C(=O)-
-NH-
-O-
-C(=O)NH-,
-C(=O)O-、
-NHC(=O)-、
-OC(=O)-、
-OC(=O)O-、
-NHC(=O)O-、
-OC(=O)NH-、
-NHC(=O)NH-、
-NHC(=O)NH、
-C(=O)NHC(=O)-、及び
-S-
から選択される官能基であってよい。
-C(=O)NH-、
-C(=O)O-、
-NHC(=O)-、
-OC(=O)-、
-OC(=O)O-、
-NHC(=O)O-、
-OC(=O)NH-、及び
-NHC(=O)NH-
から選択される結合によって接続されていてよい。
ここで、アスタリスクはL1への結合点を示し、nは0から6である。一実施形態において、nは5である。
ここで、アスタリスクはL1への結合点を示し、nは0から6である。一実施形態において、nは5である。
ここで、アスタリスクはL1への結合点を示し、nは0又は1であり、mは0から30である。好ましい実施形態において、nは1であり、mは0から10、1から7、好ましくは3から7、及び最も好ましくは3又は7である。
ここで、アスタリスクはL1への結合点を示し、nは0又は1であり、mは0から30である。好ましい実施形態において、nは1であり、mは0から10、1から7、好ましくは3から7、及び最も好ましくは3又は7である。
-C(=O)OH、
-OH、
-NH2、
-SH、
-C(=O)CH2X、ここで、XはCl、Br又はIであり、
-CHO、
-NHNH2
-C≡CH、及び
-N3(アジ化物)
から選択される基と置き換えられる。
Alloc、Fmoc、Boc、Troc、Teoc、Cbz及びPNZ
からなる群から選択することができる。
Alloc、Fmoc、Boc、Troc、Teoc、Psec、Cbz及びPNZ
から選択されるカルバメート保護基である。
「任意選択により置換されている」という成句は、本明細書で使用される場合、非置換であってよいか又は置換されていてよい親基に関する。
飽和単環式炭化水素化合物:
シクロプロパン(C3)、シクロブタン(C4)、シクロペンタン(C5)、シクロヘキサン(C6)、シクロヘプタン(C7)、メチルシクロプロパン(C4)、ジメチルシクロプロパン(C5)、メチルシクロブタン(C5)、ジメチルシクロブタン(C6)、メチルシクロペンタン(C6)、ジメチルシクロペンタン(C7)及びメチルシクロヘキサン(C7)、
不飽和単環式炭化水素化合物:
シクロプロペン(C3)、シクロブテン(C4)、シクロペンテン(C5)、シクロヘキセン(C6)、メチルシクロプロペン(C4)、ジメチルシクロプロペン(C5)、メチルシクロブテン(C5)、ジメチルシクロブテン(C6)、メチルシクロペンテン(C6)、ジメチルシクロペンテン(C7)及びメチルシクロヘキセン(C7)、並びに
飽和多環式炭化水素化合物:
ノルカラン(C7)、ノルピナン(C7)、ノルボルナン(C7)
から誘導されるものが含まれる。
N1:アジリジン(C3)、アゼチジン(C4)、ピロリジン(テトラヒドロピロール) (C5)、ピロリン(例えば、3-ピロリン、2,5-ジヒドロピロール) (C5)、2H-ピロール又は3H-ピロール(イソピロール、イソアゾール) (C5)、ピペリジン(C6)、ジヒドロピリジン(C6)、テトラヒドロピリジン(C6)、アゼピン(C7)、
O1:オキシラン(C3)、オキセタン(C4)、オキソラン(テトラヒドロフラン) (C5)、オキソール(ジヒドロフラン) (C5)、オキサン(テトラヒドロピラン) (C6)、ジヒドロピラン(C6)、ピラン(C6)、オキセピン(C7)、
S1:チイラン(C3)、チエタン(C4)、チオラン(テトラヒドロチオフェン) (C5)、チアン(テトラヒドロチオピラン) (C6)、チエパン(C7)、
O2:ジオキソラン(C5)、ジオキサン(C6)、及びジオキセパン(C7)、
O3:トリオキサン(C6)、
N2:イミダゾリジン(C5)、ピラゾリジン(ジアゾリジン) (C5)、イミダゾリン(C5)、ピラゾリン(ジヒドロピラゾール) (C5)、ピペラジン(C6)、
N1O1:テトラヒドロオキサゾール(C5)、ジヒドロオキサゾール(C5)、テトラヒドロイソキサゾール(C5)、ジヒドロイソキサゾール(C5)、モルホリン(C6)、テトラヒドロオキサジン(C6)、ジヒドロオキサジン(C6)、オキサジン(C6)、
N1S1:チアゾリン(C5)、チアゾリジン(C5)、チオモルホリン(C6)、
N2O1:オキサジアジン(C6)、
O1S1:オキサチオール(C5)及びオキサチアン(チオキサン) (C6)、及び,
N1O1S1:オキサチアジン(C6)
から誘導されるものが含まれる。
N1:ピロール(アゾール) (C5)、ピリジン(アジン) (C6)、
O1:フラン(オキソール) (C5)、
S1:チオフェン(チオール) (C5)、
N1O1:オキサゾール(C5)、イソオキサゾール(C5)、イソキサジン(C6)、
N2O1:オキサジアゾール(フラザン) (C5)、
N3O1:オキサトリアゾール(C5)、
N1S1:チアゾール(C5)、イソチアゾール(C5)、
N2:イミダゾール(1,3-ジアゾール) (C5)、ピラゾール(1,2-ジアゾール) (C5)、ピリダジン(1,2-ジアジン) (C6)、ピリミジン(1,3-ジアジン) (C6) (例えば、シトシン、チミン、ウラシル)、ピラジン(1,4-ジアジン) (C6)、
N3:トリアゾール(C5)、トリアジン(C6)、及び
N4:テトラゾール(C5)
から誘導されるものが含まれる。
ベンゾフラン(O1)、イソベンゾフラン(O1)、インドール(N1)、イソインドール(N1)、インドリジン(N1)、インドリン(N1)、イソインドリン(N1)、プリン(N4) (例えば、アデニン、グアニン)、ベンズイミダゾール(N2)、インダゾール(N2)、ベンゾオキサゾール(N1O1)、ベンゾイソオキサゾール(N1O1)、ベンゾジオキソール(O2)、ベンゾフラザン(N2O1)、ベンゾトリアゾール(N3)、ベンゾチオフラン(S1)、ベンゾチアゾール(N1S1)、ベンゾチアジアゾール(N2S)から誘導されるC9 (2個の縮合環を有する);
クロメン(O1)、イソクロメン(O1)、クロマン(O1)、イソクロマン(O1)、ベンゾジオキサン(O2)、キノリン(N1)、イソキノリン(N1)、キノリジン(N1)、ベンズオキサジン(N1O1)、ベンゾジアジン(N2)、ピリドピリジン(N2)、キノキサリン(N2)、キナゾリン(N2)、シンノリン(N2)、フタラジン(N2)、ナフチリジン(N2)、プテリジン(N4)から誘導されるC10 (2個の縮合環を有する);
ベンゾジアゼピン(N2)から誘導されるC11 (2個の縮合環を有する);
カルバゾール(N1)、ジベンゾフラン(O1)、ジベンゾチオフェン(S1)、カルボリン(N2)、ペリミジン(N2)、ピリドインドール(N2)から誘導されるC13 (3個の縮合環を有する);及び
アクリジン(N1)、キサンテン(O1)、チオキサンテン(S1)、オキサントレン(O2)、フェノキサチイン(O1S1)、フェナジン(N2)、フェノキサジン(N1O1)、フェノチアジン(N1S1)、チアントレン(S2)、フェナントリジン(N1)、フェナントロリン(N2)、フェナジン(N2)から誘導されるC14 (3個の縮合環を有する)
が含まれる。
C3〜12アルキレン:「C3〜12アルキレン」という用語は、本明細書で使用される場合、脂肪族又は脂環式であってよく、飽和、部分不飽和又は完全不飽和であってよい3個から12個の炭素原子(別段の指定がない限り)を有する炭化水素化合物の二個の水素原子を、両方が同じ炭素原子から又は一方ずつが二個の異なる炭素原子のそれぞれから除去することによって得られる二座部分に関する。したがって、「アルキレン」という用語には、下記で考察されている下位部類のアルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレンなどが含まれる。
別段の指定がない限り、上記に含まれるのは、これらの置換基のよく知られているイオン性形態、塩形態、溶媒和物形態及び保護形態である。例えば、カルボン酸(-COOH)への言及には、そのアニオン性(カルボキシレート)形態(-COO-)、塩又は溶媒和物、並びに従来の保護形態も含まれる。同様に、アミノ基への言及には、アミノ基のプロトン化形態(-N+HR1R2)、塩又は溶媒和物、例えば塩酸塩、並びにアミノ基の従来の保護形態が含まれる。同様に、ヒドロキシル基への言及には、そのアニオン性形態(-O-)、塩又は溶媒和物、並びに従来の保護形態も含まれる。
特定の化合物は、これらに限定されないが、以下「異性体」(又は「異性体形態」)と称される、シス及びトランス形態、E及びZ形態、c、t及びr形態、エンド及びエキソ形態、R、S及びメソ形態、D及びL形態、d及びl形態、(+)及び(-)形態、ケト、エノール及びエノラート形態、syn及びanti形態、向斜及び背斜形態、α及びβ形態、アキシアル及びエクアトリアル形態、舟、椅子、ねじれ、エンベロープ及び半椅子形態、並びにそれらの組合せを含めて、一種又は複数の特別な幾何形態、光学形態、エナンチオマー形態、ジアステレオマー形態、エピマー形態、アトロプ(atropic)形態、立体異性体形態、互変異性体形態、立体配座形態又はアノマー形態で存在することができる。
以下のさらなる実施形態は、必要に応じて互いに組み合わせることができる。
R7及びR8は、RAが、クロロ置換基を保有してよいフェニル、ピリジル及びフラニルによって任意選択により置換されているC1〜4飽和アルキルから選択されるORA;クロロ; NH2;及び-CH2-O-C(=O)Meから独立して選択されるか、又はR7及びR8は一緒に-O-(CH2)m-O-基を形成し、ここで、mは1又は2である。
R9は、H、メチル及びメトキシから選択される。一部の実施形態において、R9は水素である。
RCは、
(i) RC1が飽和C1〜4アルキル基である-C(=O)-ORC1、
(ii) RC2がメチル又はフェニルである-CH2-O-C(=O)RC2、
(iii) RSi1、RSi2、RSi3がC1〜6飽和アルキル基及びフェニル基から独立して選択される-CH2-O-Si-(RSi1)(RSi2)(RSi3)、並びに
(iv)各Yが独立してO又はSであり、RC3及びRC4が独立して飽和C1〜4アルキル基であるか、又は一緒にC2〜3アルキレンを形成する-C(-YRC3)(-YRC4)
から選択される。
第二態様の方法において、式IIの化合物は、適切な無水物及び無水2,6-ルチジン又は無水2-6-tBu-ピリジンを用いて-35℃以下の温度にて乾燥有機溶媒中、不活性雰囲気下で処理される。
R2は、
(i)任意選択により置換されているC5〜20アリール基、
(ii)任意選択により置換されているC1〜5アルキル基(C2〜5アルケニル基及びC2〜5アルキニル基を含める)、及び
(iii)H
から選択される。
(i)それら自体におけるR2基に関して上記で考察されている通りにそれら自体が置換されていてよいC5〜20アリール基、
(ii)シアノ(-CN)、
(iiii)アミド(-C(=O)-NR1R2)、
(iv)エステル(-C(=O)-OR)、
(v) -OR、
(vi)
(vii) RがC1〜7アルキル基である-Sn(R)3など、さらなる基をカップリングするのに適当なスズ基
が含まれ得る。
RCが-CH2-O-C(=O)RC2又は-CH2-O-Si-(RSi1)(RSi2)(RSi3)であるならば、IIIからIVへの変換は、ニトロ基の還元による。RCが-CH2-O-C(=O)RC2ならば、この還元は、酢酸中の亜鉛を使用することによって実施される。代替物には、Cd/Pbカップル、亜ジチオン酸ナトリウム又は塩化スズIIが含まれる。RCが-CH2-O-Si-(RSi1)(RSi2)(RSi3)ならば、この還元は、弱酸中、例えばエタノール中5%ギ酸中の亜鉛を使用して実施される。RCが-C(-YRC3)(-YRC4)であるならば、この還元は、Cd/Pbカップル、亜ジチオン酸ナトリウム又は塩化スズIIを使用して実施することができる。
R10は、パラジウム不安定である又はパラジウム不安定である部分を含有するカルバメート系窒素保護基である。
PBD B環は、好ましくは、デス-マーチンペルヨージナンを使用して閉環される。
反応の進行は、アルミニウムプレート上に蛍光指標を乗せたMerck Kieselgel 60 F254シリカゲルを使用する薄層クロマトグラフィー(TLC)によってモニタリングした。TLCの可視化は、別段の記述がない限り、UV光又はヨウ素蒸気で達成した。フラッシュクロマトグラフィーは、Merck Kieselgel 60 F254シリカゲルを使用して行った。抽出及びクロマトグラフィーの溶媒は、Fisher Scientific、U.Kから購買し、さらに精製することなく使用した。全ての化学薬品は、Aldrich、Lancaster又はBDHから購入した。
実施例3
(a)
対応する1,2不飽和化合物は全く、NMRによって見ることができなかった。
(ii)乾燥DCM (40mL)中の塩化アセチル(0.61g、0.55mL、7.80mmol、2.6当量)の溶液を、滴下により、乾燥DCM (80mL)中のビス-アルコール34 (2.21g、3.60mmol、1当量)及びトリエチルアミン(0.92g、1.26mL、90.1mmol、3当量)の撹拌溶液に、0℃にて窒素雰囲気下で添加した。反応混合物を室温に温まるままにし、撹拌を一時間続けた。TLC及びLCMSは、反応が完了したことを明らかにした。反応混合物をブライン(2×100mL)で洗浄し、乾燥(MgSO4)させた。減圧下での回転蒸発によるDCMの除去で、粗生成物を得た。フラッシュクロマトグラフィー[1:3のn-ヘキサン/酢酸エチルの勾配溶出]は、純粋なビス-アセテートを黄色の気泡体として与えた(0.81g、36%)。
4-メトキシベンジルクロライド(100g)、3,4-ジヒドロキシ-ベンズアルデヒド(88.2g)及びヨウ化テトラブチルアンモニウム(23.6g)の溶液を、65℃にてアセトン(0.5L)中において固体炭酸カリウム(60g)上で5時間加熱した。反応混合物を酢酸エチル(2L)及び水(2L)の混合物中に注いだ。有機相を炭酸カリウム水溶液(1L)で洗浄し、次いで、1N水酸化ナトリウム(3×300mL)で2回抽出した。水酸化ナトリウムを希釈塩酸(1N)で中和し、酢酸エチル(2L)で逆抽出した。化合物40 (30g)が後処理中に自然発生的に沈殿し、濾過によって単離した。有機層を水及びブラインで洗浄し、次いで硫酸マグネシウム上で乾燥させた。減圧下での回転蒸発で粗生成物がガムとして得られ、これをEtOAc/ヘキサン/ジエチルエーテルから温浸し、真空濾過によって回収し、ヘキサン/ジエチルエーテルの50/50混合物で洗浄した(総収量: 99 g、59.9%、保持時間2.87分、ES-257.16)。
4-クロロベンジルクロライド(67.9g)、3-ヒドロキシ-4-(4-メトキシ-ベンジルオキシ)-ベンズアルデヒド(40) (99g)及びヨウ化テトラブチルアンモニウム(14.1g)の溶液を、還流にてアセトン(0.4L)中において固体炭酸カリウム(39.1g)上で3時間加熱した。
(c) 3-(4-クロロ-ベンジルオキシ)-4-ヒドロキシ-ベンズアルデヒド(42)
酢酸(500mL)中の3-(4-クロロ-ベンジルオキシ)-4-(4-メトキシ-ベンジルオキシ)-ベンズアルデヒド(41) (108g)の溶液を、還流で終夜加熱した。過剰の酢酸を減圧下での回転蒸発によって除去し(硬真空)、生じた残渣を酢酸エチル中に溶かした。有機層を水酸化ナトリウム水溶液(1N; 3×150mL)で抽出した。合わせた無機相を濃塩酸で中和し、酢酸エチルで逆抽出した。有機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させた。生じた油を50/50のジエチルエーテル/ヘキサンで粉砕し、固体生成物42を真空濾過によって回収し、沈殿物をヘキサンで洗浄した(32.6g、44%、保持時間3.08分、ES-261.33)。
過剰な1,5-ジブロモペンタン(100g、3当量)を、アセトン(700mL)中のバニリン(43) (22g)及び炭酸カリウム(30g)の懸濁液に添加した。反応混合物を還流で2.5時間加熱し、次いで、室温で終夜撹拌するままにし、この時TLC及びLC/MSは、反応が完了したことを示した。懸濁液を真空濾過にかけ、生じたアセトン溶液を減圧下で蒸発乾固させた。残渣をシリカゲルのパッドに付し、ヘキサン(2L)中10%酢酸エチル、続いてヘキサン中25%酢酸エチルで洗浄することで生成物を溶出し、減圧下での回転蒸発による過剰の溶媒の除去で、生成物44が油として得られ、これを冷凍庫内に静置すると直ぐに結晶化した(35g、80%の収率)。
アセトン(500mL)中の4-(6-ブロモ-ヘキサノイル)-3-メトキシ-ベンズアルデヒド44 (34.05g)、3-(4-クロロ-ベンジルオキシ)-4-ヒドロキシ-ベンズアルデヒド42 (29.7g)及びヨウ化テトラブチルアンモニウム(4.17g)の溶液を、炭酸カリウム(11.7g)上にて終夜50℃で加熱した。反応混合物を次いで、還流で5時間加熱することで、反応を完了させた。過剰のアセトンを減圧下での回転蒸発によって除去し、生じた残渣を、酢酸エチル(500mL)と水(300mL)との間で分配した。有機相を水酸化ナトリウム水溶液(1N; 2×100mL)、希釈塩酸(1N; 2×100mL)、水、ブラインで順次洗浄し、次いで、硫酸マグネシウム上で乾燥させた。減圧下での回転蒸発による過剰の酢酸エチルの除去で、粗生成物45が油として得られ、これをジエチルエーテル(100mL)で粉砕することで無色の固体が得られ、これを真空濾過によって回収した(47.85g、88 %の収率、保持時間3.75、483 ES+ m/z)。
発煙硝酸(100mL)を、滴下により、酢酸(450mL)中の化合物45 (45g)の懸濁液に添加した。反応の温度を、氷浴を使用して10℃から25℃の間に保持した。反応の過程で、懸濁液は溶液になり、TLCは反応が完了したことを示した。反応混合物を、破砕氷及び水の混合物に慎重に注ぎ、生じた沈殿物を真空濾過によって回収し、ジクロロメタン中に溶解し、硫酸マグネシウム上で乾燥させた。減圧下での回転蒸発による溶媒の除去で粗生成物が得られ、これをカラムクロマトグラフィー(シリカゲル;勾配、80%ジクロロメタン/20%ヘキサンから100%ジクロロメタン)によって精製した。純粋な画分を合わせ、過剰の溶出液を減圧下での回転蒸発によって除去することで、純粋生成物46が得られた(20g、37.4%)。MSによる不十分なイオン化。保持時間3.90分。TLC: Rf 0.20 (DCM)。1H NMR (400MHz, CDCl3) δ 10.46 (s, 1H), 10.43 (s, 1H), 7.63 (s, 1H), 7.59 (s, 1H), 7.48 (s, 1H), 7.44-7.33 (m, 5H), 5.23 (s, 2H), 4.23 (t, J=6.4Hz, 2H), 4.18 (t, J=6.4Hz, 2H), 3.99 (s, 3H), 2.09-1.98 (m, 4H), 1.81-1.71 (m, 2H)。
水(200mL)中の亜塩素酸ナトリウム(15g)及びリン酸二水素ナトリウム(6.46g) (NaH2PO4)の溶液を、THF (200mL)及びジクロロメタン(10mL)中の化合物46 (19g)の溶液に、室温で添加した。過酸化水素(60%のw/w、22.23mL)を直ちに、激しく撹拌した二相混合物に添加した。反応混合物のpHをおよそ3.5に低下させるのに十分な塩酸(1N、50mL)の添加によって反応を開始した。反応混合物はガス(酸素)を発生し、出発原料は溶解し、反応混合物の温度は35℃に上昇した。LC/MSが、反応が完了したことを明らかにした後、反応混合物を氷浴中で冷却し、塩酸(1N)を添加することで、pHを1から2の間に低下させた。反応混合物を次いで、酢酸エチル(500mL)で抽出し、有機相をブライン(300mL)、及びメタ重亜硫酸ナトリウム(水300mL中20g)の溶液で洗浄した。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、過剰の溶媒を減圧下での回転蒸発によって除去した。粗生成物をジエチルエーテル中に懸濁し、純粋生成物を真空濾過によって回収した(18g、90%の収率、LC/MS3.08分、m/zES-602.87)。
ジメチルホルムアミド(1mL)を慎重に、ジクロロメタン(250mL)中の化合物47 (17.8g)塩化オキサリル(7.7mL)の溶液に添加し、反応を終夜進行するままにした。揮発性物質を減圧下での回転蒸発、続いてジエチルエーテルでの倍散によって除去した。残渣をジクロロメタン(200mL)中に再溶解し、滴下により、ジクロロメタン中の4-ヒドロキシプロリンメチルエステル(22.3g)の懸濁液に、トリエチルアミン(20.5mL)の存在下にて-40℃で添加した。添加後、冷却浴の除去によって、反応混合物がゆっくり室温に戻るままにした。反応混合物を塩酸水溶液(1N、100mL)飽和重炭酸ナトリウム(2×100mL)、ブライン(100mL)で順次に洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させた。過剰の溶媒の除去で、化合物48が得られた(26.76g、定量的収量、LC/MS 2.80分、m/z ES+ 859.09)。
TCCA (10.1g)を、乾燥ジクロロメタン(400mL)中の化合物48 (26.76g)、TEMPO (195mg)及び酢酸ナトリウム(7.15g)の撹拌溶液に、10℃で添加した。反応混合物を1.5時間室温で激しく撹拌し、この時点でTLC (酢酸エチル)は、材料の完全な消費を明らかにした。反応混合物をセライトに通して濾過し、濾液をメタ重亜硫酸ナトリウム水溶液(1N、200mL)、水(200mL)、飽和重炭酸ナトリウム(150mL)、ブライン(100mL)で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させた。減圧下での回転蒸発で、生成物11が得られた(24g、収率90%、LC/MS 3.42分、m/z ES+ 854.97)。
トリフル酸無水物(45.5g)を、滴下により10分かけて、乾燥ジクロロメタン(350mL)中の化合物49 (23g)の激しく撹拌した懸濁液に、2,6-ルチジン(19.3mL)の存在下にて-60℃(アセトン/乾燥氷浴)で添加した。反応混合物の温度を慎重に、-50℃から-45℃の間に上昇させた。反応がこの温度範囲で40分の時間にわたって行われるのを観察した。水を直接反応フラスコに添加することによって、反応物をクエンチした。冷反応混合物を水(300mL)、続いてクエン酸(0.5N、200mL)、飽和重炭酸ナトリウム(200mL)及び飽和ブライン(100mL)で洗浄した。ジクロロメタン層を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、減圧下での回転蒸発で粗生成物が得られた。粗生成物をフラッシュクロマトグラフィー(シリカゲル;勾配溶出: 20%酢酸エチル/80%ヘキサンから50%酢酸エチル/50%ヘキサン)によって精製した。純粋な画分を合わせ、過剰の溶出液の除去で純粋生成物50が得られた(11g、36%の収率、保持時間3.67、ES+1119 m/z)。
テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0) (682mg)を、トルエン(220mL)、エタノール(110mL)及び水(110mL)の混合物中のトリフレート50 (11g)、4-エトキシベンゼンボロン酸(4.24g)及び炭酸ナトリウム(5.4g)に添加した。反応混合物を5時間、アルゴン雰囲気下にて32℃で撹拌するままにした。この時間の間、生成物が反応混合物から沈殿するのが観察された。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させた。濾過後、過剰の酢酸エチルを、減圧下での回転蒸発によって除去した。粗製カップリング生成物を、フラッシュカラムクロマトグラフィー(シリカゲル; 50/50の酢酸エチル/ヘキサンから70/30の酢酸エチル/ヘキサンの勾配)によって精製した。純粋な画分を合わせ、過剰の溶出液の除去で、純粋生成物51がオレンジ色の固体として得られた(8.6g、82%の収率、LC/MS 3.72分、m/z ES+ 1063.25)。
水素化ホウ素リチウム(6.4mg)を、一度に、乾燥THF (5mL)中のメチルエステル51 (100mg)の懸濁液に、室温で添加した。懸濁液は溶液になり、新規のオレンジ色の沈殿物の形成が観察された。30分後、反応混合物のアリコットをフラスコから除去し、ミニ後処理にかけ、この材料のTLCは、反応が完了したことを明らかにした。大部分の反応混合物を冷却し(氷浴)、過剰の水素化ホウ素リチウムをアセトン(1mL)の添加によってクエンチした。クエンチした反応混合物を酢酸エチルで抽出し、水及びブラインで洗浄した。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、過剰の酢酸エチルを減圧下での回転蒸発によって除去することで、生成物52が得られた(75mg; 79%、LC/MS 3.52分、m/z ES+ 1007.25)。
亜鉛粉末(5g)を、エタノール(15mL)中のビスニトロアルコール52 (1g)の溶液、続いてエタノール(5%のv/v; 40mL)中のギ酸の溶液に添加した。反応混合物を室温で撹拌するままにし、TLC及びLC/MSによって詳しくモニタリングした。15分後、出発原料又は中間体の痕跡量も検出されなかったので、反応は完了したと判断した。混合物をデカントし、脱脂綿に通して濾過した。濾液を酢酸エチル(300mL)と飽和NaHCO3水溶液(300mL)との間で分配した。pHを塩基性に調節した。有機層をブライン(200mL)でさらに洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させた。過剰の溶媒を減圧下での回転蒸発によって除去することで、生成物53が得られた(600mg; 64%、LC/MS 3.45分、m/z ES+ 947.29)。
テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0) (21.6mg)を、トルエン(5mL)、エタノール(2.5mL)及び水(2.5mL)の混合物中のトリフレート32 (230mg)、トランス-プロペニルボロン酸(52.3mg)及び炭酸ナトリウム(129mg)に添加した。反応混合物を3時間アルゴン雰囲気下にて32℃で撹拌するままにした。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させた。濾過後、過剰の酢酸エチルを減圧下での回転蒸発によって除去した。粗製カップリング生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィー(シリカゲル; 50%/50%の酢酸エチル/ヘキサンから80%/20%の酢酸エチル/ヘキサンの勾配)によって精製した。純粋な画分を合わせ、過剰の溶出液の除去で、純粋な生成物54がオレンジの固体として得られた(110mg、61.4%の収率、LC/MS 3.52分、m/z ES+ 764.92)。反応を、より大きなスケールで反復することで、7.21gの鈴木カップリング生成物が得られた。1H NMR (400MHz, CD3OD). δ 7.78 (s, 2H) 6.92 (s, 2H), 5.98 (d, 2H), 5.89 (s, 2H), 5.46-5.55 (m, 2H), 5.10 (dd, 2H), 4.37 (t, 4H), 3.93-4.00 (m, 6H), 3.86 (s, 6H), 3.19-3.26 (m,2H), 2.80 (dd, 2H), 2.45-2.51 (m, 2H), 1.77 (d, 6H OCH3)。
ビス-エステル54 (7.21g)を、固体として一度に、乾燥テトラヒドロフラン(300mL)中の水素化ホウ素リチウム(622mg)の溶液に、0℃(氷浴)で添加した。氷浴を除去し、反応混合物を室温に達するままにした。1時間後、(酢酸エチル水でミニ後処理に続く) TLCは、反応が完了していないことを明らかにしたので、追加の水素化ホウ素リチウム(0.75当量)を添加した。反応混合物をさらに2.5時間撹拌するままにし、この時、(ミニ後処理に続く) TLCは、反応が完了していることを明らかにした。残留水素化ホウ素リチウムを大過剰の酢酸エチル(氷浴)でクエンチし、反応混合物を50分間撹拌するままにした。有機相を水、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させた。硫酸マグネシウムを真空濾過によって除去し、酢酸エチルを減圧下での回転蒸発によって除去することで、ジオール55が得られ(5.46g、82%の収率)、これを、さらに精製することなく次の反応に使用した(LC/MS 3.17分、m/z ES+ 708.84)。1H NMR (400MHz, CD3OD). δ 7.78 (s, 2H) 6.85 (s, 2H), 5.97 (d, 2H), 5.77 (s, 2H), 5.61-5.53 (m, 2H), 4.75-4.82 (m, 2H), 4.38 (t, 4H), 3.89-4.00 (m, 12H), 3.01-3.08 (m, 2H) 2.46-2.51 (m, 4H), 1.77 (d, 6H OCH3)。
乾燥ジクロロメタン(40mL)中の塩化アセチル(1.64mL)の溶液を、滴下により、ジクロロメタン(200mL)中のビスアルコール55 (6.2g)の溶液に、トリエチルアミン(3.68mL)の存在下にて0℃で添加した。反応混合物を室温に温まるままにし、反応をTLC及びLC/MSによってモニタリングした。反応が完了した時、有機相を水、クエン酸(0.5N)、飽和炭酸水素ナトリウム及びブラインで順次に洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、過剰ジクロロメタンを減圧下での回転蒸発によって除去した。残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル; 60%酢酸エチル/40%ヘキサンから70%酢酸エチル/30%ヘキサンの勾配)にかけた。純粋な画分を合わせ、過剰の溶出液の除去で、ビス-アセテート56が得られた(2.50g、36%の収率、LC/MS 3.60分、m/z ES+ 792.63)。1H NMR (400MHz, CDCl3) δ 7.77 (d, J=3.4Hz, 2H), 6.89 (s, 2H), 5.99 (d, J=15.2Hz, 2H), 5.78 (s, 2H), 5.65-5.45 (m, J=15.4, 6.8Hz, 2H), 5.02-4.86 (m, J=9.7, 5.5Hz, 2H), 4.57 (s, 2H), 4.37 (t, J=5.9Hz, 4H), 4.00 (s, 6H), 3.10-2.92 (m, J=10.7Hz, 2H), 2.60 (dd, J=16.3, 3.1Hz, 2H), 2.52-2.43 (m, 2H), 2.10 (s, 6H), 1.78 (d, J=6.7Hz, 4H)。
亜鉛粉末(10g)を、エタノール(20mL)及び酢酸エチル(20mL)中のビス-ニトロ化合物56 (2.5g)の溶液、続いてエタノール中のギ酸の溶液(5% v/v; 100mL)に添加した。反応は発熱性であり、温度が33℃まで上昇し、温度を15℃に氷浴で下げ、TLC及びLC/MSによって密接にモニタリングしながら、反応混合物を撹拌するままにした。30分後、痕跡量の出発原料が無いか、又は中間体が検出されたので、反応を完了したと見なした。混合物をデカントし、脱脂綿に通して濾過した。濾液を酢酸エチル(300mL)と飽和NaHCO3水溶液(300mL)との間で分配した。有機層をさらにブライン(200mL)で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させた。過剰の溶媒を減圧下での回転蒸発によって除去することで、生成物57が得られた(2.09g; 90%の収率、LC/MS 3.35分、m/z ES+ 732.06)。1H NMR (400MHz, CDCl3) δ 6.76 (s, 2H), 6.45 (s, 2H), 6.33 (s, 2H), 6.12 (d, J=15.3Hz, 2H), 5.54 (dq, J=13.2, 6.6Hz, 2H), 4.90 (td, J=9.6, 4.5Hz, 2H), 4.48 (s, 4H), 4.42-4.33 (m, 4H), 4.23 (t, J=6.1Hz, 4H), 3.79 (s, 6H), 2.95 (dd, J=16.0, 10.4Hz, 2H), 2.55 (dd, J=16.2, 3.5Hz, 2H), 2.42-2.32 (m, 2H), 2.07 (s, 6H), 1.81 (d, J=6.6Hz, 6H)。
乾燥ジクロロメタン中のクロロギ酸アリルの溶液を、滴下により、乾燥ジクロロメタン中のビス-アニリン57及びピリジンの溶液に、-78℃で添加した。反応混合物を-78℃で2時間撹拌するままにし、次いで室温に戻るままにした。反応混合物を硫酸銅II水溶液、水、飽和炭酸水素ナトリウム及びブラインで順次に洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、真空下で濾過し、過剰のジクロロメタンを減圧下での回転蒸発によって除去した。TLC及びLC/MSは、所望のモノAlloc生成物59及びビス-Alloc生成物58の両方の存在を明らかにした。生成混合物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル; 40%酢酸エチル/60%ヘキサンから70%酢酸エチル/30%ヘキサンの勾配)にかけた。ビス-alloc生成物を含有する純粋な画分を回収し、過剰の溶出液を減圧下での回転蒸発によって除去することで、化合物58が得られた(956mg、37%の収率)。所望のモノAlloc生成物59を含有する純粋な画分も回収して合わせ、過剰の溶出液を減圧下での回転蒸発によって除去することで、生成物が得られた(580mL、25%の収率)。化合物59 LC/MS 3.58分、ES+ 817.02、化合物58 LC/MS 3.80分、ES+ 901.14. 1H NMR (58) (400MHz, CDCl3) δ 8.60 (s, 2H), 7.83 (s, 2H), 6.78 (s, 2H), 6.38 (s, 2H), 6.08 (d, J=15.4Hz, 2H), 5.94 (ddt, J=17.1, 10.5, 5.7Hz, 2H), 5.54 (dq, J=13.5, 6.7Hz, 2H), 5.34 (dq, J=17.2, 1.5Hz, 2H), 5.27-5.17 (m, 2H), 4.90 (td, J=9.5, 4.6Hz, 2H), 4.62 (dd, J=5.7, 1.2Hz, 4H), 4.46-4.20 (m, 8H), 3.81 (s, 6H), 2.94 (dd, J=15.7, 10.5Hz, 2H), 2.52 (dd, J=16.1, 3.5Hz, 2H), 2.40 (p, J=6.0Hz, 2H), 2.06 (s, 6H), 1.78 (dd, J=6.7, 0.9Hz, 6H). 1H NMR (59) (400MHz, CDCl3) δ 8.60 (s, 1H), 7.85 (s, 1H), 6.80 (s, 1H), 6.72 (s, 1H), 6.42 (s, 1H), 6.37 (s, 1H), 6.33 (s, 1H), 6.08 (dd, J=15.4, 6.1Hz, 2H), 6.00-5.87 (m, 1H), 5.62-5.44 (m, 2H), 5.34 (dd, J=17.2, 1.4Hz, 1H), 5.23 (dd, J=10.4, 1.2Hz, 1H), 4.88 (qd, J=9.5, 4.5Hz, 2H), 4.67-4.57 (m, 2H), 4.50-4.25 (m, 8H), 4.22 (t, J=6.3Hz, 2H), 3.82 (s, 3H), 3.76 (s, 3H), 3.00-2.85 (m, 2H), 2.58-2.47 (m, 2H), 2.37 (p, J=6.1Hz, 2H), 2.06 (s, 6H), 1.81-1.73 (m, 6H)。
炭酸カリウム(6.6mL中10当量)の水溶液を、メタノール(40mL)中のアセテート58の溶液に添加した。LC/MS及びTLCは、反応が1時間後に完了したことを明らかにした。反応混合物をジクロロメタン、水、クエン酸(0.5N)及びブラインで順次に洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥させた。生成混合物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル; 80%酢酸エチル/20%ヘキサンから90%酢酸エチル/10%ヘキサンの勾配)にかけた。純粋な画分を合わせ、過剰の溶出液の除去で、化合物60が得られた(66mg、79%の収率) LC/MS 3.35分、ES+ 816.88。1H NMR (400MHz, CDCl3) δ 8.57 (s, 2H), 7.76 (s, 2H), 6.82 (s, 2H), 6.36 (s, 2H), 6.10 (d, J=15.3Hz, 2H), 5.97 (ddt, J=17.2, 10.5, 5.7Hz, 2H), 5.59 (dq, J=13.6, 6.8Hz, 2H), 5.36 (dq, J=17.2, 1.5Hz, 2H), 5.26 (ddd, J=10.5, 2.5, 1.2Hz, 2H), 4.78 (td, J=10.4, 4.5Hz, 2H), 4.64 (dt, J=5.7, 1.4Hz, 4H), 4.43 (s, 2H), 4.32 (t, J=6.0Hz, 4H), 3.92-3.74 (m, J=8.0Hz, 10H), 3.03 (dd, J=15.8, 10.8Hz, 2H), 2.47-2.37 (m, 4H), 1.81 (dd, J=6.7, 1.0Hz, 6H)。
デス-マーチンペルヨージナン(57mg、0.13mmol、2.2当量)を、一度に、無水DCM (2mL)中のビス-alloc (60) (50mg、0.061mmol、1当量)及び無水ピリジン(31mg、32μL、0.31mmol、5当量)の溶液に、アルゴン雰囲気下にて室温で添加した。反応混合物を室温で20分間撹拌するままにした。反応混合物を次いで、DCMで希釈し、Na2S5O2水溶液(50mL)、飽和NaHCO3 (50mL)、水(50mL)、ブライン(50mL)で洗浄し、乾燥(MgSO4)させた。DCMを減圧下での回転蒸発によって除去した。残渣を無水DCM (4mL)中に溶解し、触媒的量のDMAP (0.75mg、0.0061mmol、0.1当量)で処理し、室温で2時間撹拌した。DCMを減圧下での回転蒸発によって除去することで、粗生成物を得た。フラッシュクロマトグラフィー[1:3のn-ヘキサン/酢酸エチルの勾配溶出]は、純粋な環化生成物を白色の固体(2)として与えた(3.3mg、7%)。1H NMR (400MHz, CD3OD). δ 7.25 (s, 2H) 6.90 (s, 2H), 6.72-6.78 (m, 2H), 6.24-6.28 (d, 2H), 5.72-5.83 (m, 4H), 5.53-5.62 (m, 2H), 5.11-5.20 (m, 4H), 4.62-4.67 (m, 2H), 4.42-4.48 (m, 6H), 3.81-3.92 (m,10H), 3.07-3.13 dd, 2H), 2.79-2.82 (d, 2H), 2.32-2.38 (m, 2H), 1.83-1.85 (d, 6H OCH3). 分析データ: RT 6.65分; MS (ES-) 811。
乾燥トリエチルアミン(0.206mL)を、乾燥テトラヒドロフラン(20mL)中のモノ-alloc保護ビス-アニリン59 (560mg)及びトリホスゲン(72mg)の撹拌溶液に、不活性雰囲気下で添加した。反応混合物を40℃で加熱し、試料を除去し、メタノールで処理した。LC/MSは、遊離アミン基が反応性イソシアネート中間体に変換されるのが成功したことを示す、カルバミン酸メチルへの完全な変換を明らかにした。乾燥テトラヒドロフラン(20mL)中のalloc-val-ala-PABOH (381mg)及びトリエチルアミン(0.14mL)の溶液を、反応槽中に40℃で急速に注入した。反応混合物を室温で終夜撹拌するままにし、この後、試料を除去し、メタノールで処理した。LC/MSは、全てのイソシアネートが消費されたことを示す、痕跡量のカルバミン酸メチルが無いことを明らかにした。反応混合物を蒸発乾固させることで、粗生成物が得られ、これをカラムクロマトグラフィー(シリカゲル;クロロホルムから2%メタノール/98%クロロホルムの勾配)によって精製した。純粋な画分を回収して合わせ、減圧下での回転蒸発による過剰の溶出液の除去で、純粋な生成物62が得られた(691mg、84%の収率)。LC/MS 3.73分、ES+1220.21。
炭酸カリウムの水溶液(4.8mLの水中770mg)を、メタノール(29mL)中のビス-アセテート62 (680mg)の溶液に、室温で添加した。脱アセチル化は、LC/MSによってモニタリングされた通り、30分以内に完了した。反応混合物をジクロロメタン(200mL)で希釈し、有機相をクエン酸(0.5N、100mL)、水(200mL)及びブライン(100mL)で順次に洗浄した。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、懸濁液を濾過し(真空濾過)、過剰の溶媒を減圧下での回転蒸発によって除去した。残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル; 1.5%メタノール/98.5%クロロホルムから3.5%メタノール96.5%クロロホルムの勾配)にかけた。純粋な画分を合わせ、減圧下での回転蒸発による過剰の溶出液の除去で、ジオール63が得られた(530mg、84%の収率)。LC/MS 3.40分、ES+ 1136.49。
デス-マーチンペルヨージナン(373mg、4当量)を、一度に、乾燥ジクロロメタン(10mL)中の63 (250mg)及びピリジン(0.36mL、20当量)の溶液に、室温で添加した。TLC (5%メタノール/クロロホルム)による綿密なモニタリングは、30分後に出発原料の消失を明らかにした。反応物を、メタ重亜硫酸ナトリウム及び炭酸水素ナトリウムの溶液、続いてブラインで後処理した。ジクロロメタン層を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、真空濾過した。ジクロロメタン溶液を次いで、触媒的量のDMAP (c. 10mg)で処理し、TLC/LC/MSによって観察されるように主な生成物スポットを一つに合体させた。溶液を蒸発によって濾過し、ジクロロメタンを減圧下での回転によって除去した。生じた残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル; 1.5%メタノール/98.5%クロロホルムから3%メタノール/97%クロロホルムの勾配)にかけた。純粋な画分を回収し、減圧下での回転蒸発による溶出液の除去で、所望の環化生成物64が得られた(62mg、25%の収率)。LC/MS 3.35分、ES+1132.19、ES-1130.25。
Pd(PPh3)4 (1.9mg)を、乾燥DCM (3mL)中のalloc化合物(64) (62mg)及びピロリジン(22.6μL)の溶液に、アルゴン雰囲気下で添加した。溶液を室温で1.5時間撹拌した。溶媒を減圧下で蒸発させた。フラッシュカラムクロマトグラフィー[3%メタノール/97%クロロホルムから/90%クロロホルム10%メタノールの勾配溶出]による精製で、生成物を白色の粉末として得た(26mg、50%)。LC/MS: RT 2.70分MS (ES+) 946.17。
N,N-ジイソプロピルジエチルアミンi(2.6μL)の溶液を、乾燥DCM (4mL)中のアミンジペプチド65 (13mg)及びマレイミド-dPeg (登録商標) 4-NHSエステル(8.5mg)の溶液に添加した。溶液を室温で24時間撹拌した。反応混合物を減圧下で蒸発させ、残渣をセミ分取用TLC (10%メタノール/90%クロロホルム)にかけることで、所望のマレイミド66の純粋な試料が得られた。LC-MS保持時間2.87分ES+ 1344.29。
本発明の実施形態として例えば以下を挙げることができる。
[実施形態1]
式Iの化合物
R 7 及びR 8 は、R A が、クロロ置換基を保有してよいフェニル、ピリジル及びフラニルによって任意選択により置換されているC 1〜4 飽和アルキルから選択されるOR A ;クロロ;NH 2 ;-CH 2 -O-C(=O)Meから独立して選択されるか、
又はR 7 及びR 8 は一緒に-O-(CH 2 ) m -O-基を形成し、ここで、mは1又は2であり、
又は前記化合物は、各単量体が独立して式(I)である二量体であり、ここで、各単量体のR 7 基又はR 8 基は、単量体を連結する式-X-R''-X-を有する二量体架橋を一緒に形成し、ここで、R''は、O、S、NH、NMe、フェニレン又はピリジレンによって中断されていてよいC 3〜12 飽和アルキレン基であり、ここで、フェニレン基及びピリジレン基はNH 2 によって任意選択により置換されており、各XはO、S又はNHから独立して選択され、
R 9 は、H、メチル及びメトキシから選択され、
R S は、CF 3 、(CF 2 ) 3 CF 3 、CH 3 及び
R C は、
(i) R C1 が飽和C 1〜4 アルキル基である-C(=O)-OR C1 、
(ii) R C2 がメチル又はフェニルである-CH 2 -O-C(=O)R C2 、
(iii) R Si1 、R Si2 、R Si3 がC 1〜6 飽和アルキル基及びフェニル基から独立して選択される-CH 2 -O-Si-(R Si1 )(R Si2 )(R Si3 )、及び
(iv)各Yが独立してO又はSであり、R C3 及びR C4 が独立して飽和C 1〜4 アルキル基であるか、又は一緒にC 2〜3 アルキレンを形成する-C(-YR C3 )(-YR C4 )
から選択される]
であって、以下の式IBの対応する化合物
[実施形態2]
R 7 及びR 8 が独立してOR A であり、ここで、R A はフェニル、ピリジル及びフラニルによって任意選択により置換されているC 1〜4 飽和アルキルから選択される、実施形態1に記載の化合物。
[実施形態3]
R A が非置換C 1〜4 飽和アルキルである、実施形態1又は2に記載の化合物。
[実施形態4]
R A がメチルである、実施形態3に記載の化合物。
[実施形態5]
各XがOである二量体である、実施形態1から4のいずれか一項に記載の化合物。
[実施形態6]
R”がC 3 、C 5 又はC 7 飽和アルキレン基である二量体である、実施形態1から5のいずれか一項に記載の化合物。
[実施形態7]
R S がCF 3 である、実施形態1から6のいずれか一項に記載の化合物。
[実施形態8]
R C1 がメチルである、実施形態1から7のいずれか一項に記載の化合物。
[実施形態9]
-Si-(R Si1 )(R Si2 )(R Si3 )がTBDMSである、実施形態1から8のいずれか一項に記載の化合物。
[実施形態10]
実施形態1から9のいずれか一項に記載の式Iの化合物
[実施形態11]
反応が-40℃以下の温度で実施される、実施形態10に記載の方法。
[実施形態12]
式IIIの化合物
R 2 は、
(i)任意選択により置換されているC 5〜20 アリール基、
(ii)任意選択により置換されているC 1〜5 アルキル基、及び
(iii)H
から選択される]
であって、式IIIBの対応する化合物
[実施形態13]
実施形態12に記載の式IIIの化合物
(i)式Iの化合物と適切なアリールホウ素誘導体との間の鈴木カップリング、
(ii)適切なアルケン、アクリルアミド若しくはアクリレートとのヘックカップリング、
(iii)適切な有機スズ試薬とのスティルカップリング
(iv)適切なアルキンとの薗頭カップリング、又は
(v)トリエチルシランを使用する水素化物イオン移動
によって合成する方法。
[実施形態14]
式IVの化合物
R D は、
(ii) R C2 がメチル又はフェニルである-CH 2 -O-C(=O)R C2 、
(iii) R Si1 、R Si2 、R Si3 がC 1〜6 飽和アルキル基及びフェニル基から独立して選択される-CH 2 -O-Si-(R Si1 )(R Si2 )(R Si3 )、及び
(iv)各Yが独立してO又はSであり、R C3 及びR C4 が独立して飽和C 1〜4 アルキル基であるか、又は一緒にC 2〜3 アルキレンを形成する-C(-YR C3 )(-YR C4 )
から選択される]
であって、式IVBの対応する化合物
[実施形態15]
-Si-(R Si1 )(R Si2 )(R Si3 )がTBDMSである、実施形態14に記載の化合物。
[実施形態16]
R C2 がメチルである、実施形態14に記載の化合物。
[実施形態17]
実施形態14から16のいずれか一項に記載の式IVの化合物
(i) R C が-C(=O)-OR C1 であるならば、-C(=O)-OR C1 から-CH 2 -O-C(=O)R C2 又は-CH 2 -O-Si-(R Si1 )(R Si2 )(R Si3 )への変換、続いて
(ii) R C が-CH 2 -O-C(=O)R C2 であるならば、酢酸中の亜鉛によるニトロ基の還元、又はR C が-CH 2 -O-Si-(R Si1 )(R Si2 )(R Si3 )であるならば、エタノール中の5%ギ酸中の亜鉛を使用するニトロ基の還元、
(iii) R C が-C(-YR C3 )(-YR C4 )であるならば、Cd/Pbカップル、亜ジチオン酸ナトリウム又は塩化スズIIを使用するニトロ基の還元
によって合成する方法。
[実施形態18]
式Vの化合物
R 10 は、カルバメート系窒素保護基であり、これはパラジウム不安定及び/若しくは以下の基
であって、式VBの対応する化合物
[実施形態19]
R 10 が、
[実施形態20]
R 10 が以下の式
である実施形態18に記載の化合物。
[実施形態21]
実施形態18から20のいずれか一項に記載の式Vの化合物
[実施形態22]
式VIの化合物
R 10 は、実施形態19から21のいずれか一項で定義されている通りである]
であって、式VIBの対応する化合物
[実施形態23]
実施形態22に記載の式VIの化合物
(a) (i) R D が-CH 2 -O-C(=O)Meである場合、メタノール水溶液中の炭酸カリウムを用いる、若しくは水素化トリエチルホウ素リチウムを用いるアセテート保護基の除去、
(ii) R D が-CH 2 -O-Si-(R Si1 )(R Si2 )(R Si3 )である場合、THF中のTBAF、THF水溶液中の酢酸、DMF中のCsF、若しくはピリジン中のHFを使用するシリルエーテル保護基の除去、及び
(b)ステップ(a)の生成物の酸化、又は
(c) R D が-C(-YR C3 )(-YR C4 )である場合、それぞれ酸、若しくはHg (II)塩との反応を用いるアセタール保護基又はチオアセタール保護基の除去
によって合成する方法。
[実施形態24]
酸化がデス-マーチンペルヨージナンで実施される、実施形態23に記載の方法。
Claims (22)
- 式Iの化合物
R7は、RAが、クロロ置換基を保有してよいフェニル、ピリジル及びフラニルによって任意選択により置換されているC1〜4飽和アルキルから選択されるORA;クロロ;NH2;-CH2-O-C(=O)Meから選択され、
前記化合物は、各単量体が独立して式(I)である二量体であり、ここで、各単量体のR8基は、単量体を連結する式-X-R''-X-を有する二量体架橋を一緒に形成し、ここで、R''は、O、S、NH、NMe、フェニレン又はピリジレンによって中断されていてよいC3〜12飽和アルキレン基であり、ここで、フェニレン基及びピリジレン基はNH2によって任意選択により置換されており、各XはO、S又はNHから独立して選択され、
R9は、H、メチル及びメトキシから選択され、
RSは、CF3、(CF2)3CF3、CH3及び
RCは、
(i) RC1が飽和C1〜4アルキル基である-C(=O)-ORC1、
(ii) RC2がメチル又はフェニルである-CH2-O-C(=O)RC2、
(iii) RSi1、RSi2、RSi3がC1〜6飽和アルキル基及びフェニル基から独立して選択される-CH2-O-Si-(RSi1)(RSi2)(RSi3)、及び
(iv)各Yが独立してO又はSであり、RC3及びRC4が独立して飽和C1〜4アルキル基であるか、又は一緒にC2〜3アルキレンを形成する-CH(-YRC3)(-YRC4)
から選択される]。 - R7がORAであり、ここで、RAはフェニル、ピリジル及びフラニルによって任意選択により置換されているC1〜4飽和アルキルから選択される、請求項1に記載の化合物。
- RAが非置換C1〜4飽和アルキルである、請求項1又は2に記載の化合物。
- RAがメチルである、請求項3に記載の化合物。
- 各XがOである、請求項1から4のいずれか一項に記載の化合物。
- R”がC3、C5又はC7飽和アルキレン基である、請求項1から5のいずれか一項に記載の化合物。
- RSがCF3である、請求項1から6のいずれか一項に記載の化合物。
- RC1がメチルである、請求項1から7のいずれか一項に記載の化合物。
- -Si-(RSi1)(RSi2)(RSi3)がTBDMSである、請求項1から8のいずれか一項に記載の化合物。
- 反応が-40℃以下の温度で実施される、請求項10に記載の方法。
- -Si-(RSi1)(RSi2)(RSi3)がTBDMSである、請求項14に記載の化合物。
- RC2がメチルである、請求項14に記載の化合物。
- 請求項14から16のいずれか一項に記載の式IVの化合物
(i) RCが-C(=O)-ORC1であるならば、-C(=O)-ORC1から-CH2-O-C(=O)RC2又は-CH2-O-Si-(RSi1)(RSi2)(RSi3)への変換、続いて
(ii) RCが-CH2-O-C(=O)RC2であるならば、酢酸中の亜鉛によるニトロ基の還元、又はRCが-CH2-O-Si-(RSi1)(RSi2)(RSi3)であるならば、エタノール中の5%ギ酸中の亜鉛を使用するニトロ基の還元、
(iii) RCが-CH(-YRC3)(-YRC4)であるならば、Cd/Pbカップル、亜ジチオン酸ナトリウム又は塩化スズIIを使用するニトロ基の還元
によって合成する方法であって、
式IIIの化合物が、請求項13に記載の方法を含む方法により式IIの化合物
- 請求項20に記載の式VIの化合物
(a) (i) RDが-CH2-O-C(=O)Meである場合、メタノール水溶液中の炭酸カリウムを用いる、若しくは水素化トリエチルホウ素リチウムを用いるアセテート保護基の除去、
(ii) RDが-CH2-O-Si-(RSi1)(RSi2)(RSi3)である場合、THF中のTBAF、THF水溶液中の酢酸、DMF中のCsF、若しくはピリジン中のHFを使用するシリルエーテル保護基の除去、及び
(b)ステップ(a)の生成物の酸化、又は
(c) RDが-CH(-YRC3)(-YRC4)である場合、それぞれ酸、若しくはHg (II)塩との反応を用いるアセタール保護基又はチオアセタール保護基の除去
によって合成する方法であって、
式Vの化合物が、請求項19に記載の方法を含む方法により式IIの化合物
- 酸化がデス-マーチンペルヨージナンで実施される、請求項21に記載の方法。
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